JPH11246590A - トリフルオロメチルウラシル誘導体の製造方法 - Google Patents
トリフルオロメチルウラシル誘導体の製造方法Info
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- JPH11246590A JPH11246590A JP10044031A JP4403198A JPH11246590A JP H11246590 A JPH11246590 A JP H11246590A JP 10044031 A JP10044031 A JP 10044031A JP 4403198 A JP4403198 A JP 4403198A JP H11246590 A JPH11246590 A JP H11246590A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】工業的製造方法として有用なトリフルオロメチ
ルウラシル誘導体（式３）の製造方法を提供する。 【解決手段】ＦＳＯ2 ＣＦ2 ＣＯＯＣＨ3 等の化合物
（式１）とハロゲン化ウラシル誘導体（式２）をハロゲ
ン化銅等の存在下に有機溶媒中で反応させる。 【化１】
ルウラシル誘導体（式３）の製造方法を提供する。 【解決手段】ＦＳＯ2 ＣＦ2 ＣＯＯＣＨ3 等の化合物
（式１）とハロゲン化ウラシル誘導体（式２）をハロゲ
ン化銅等の存在下に有機溶媒中で反応させる。 【化１】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬として有用な
トリフルオロメチルウラシル誘導体の製造方法に関す
る。
トリフルオロメチルウラシル誘導体の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】トリメチルウラシルおよびその誘導体
は、医薬として、特に制癌剤、抗ウイルス剤としての有
用性が期待され、種々のトリフルオロメチルウラシル誘
導体の合成方法が開発されている。
は、医薬として、特に制癌剤、抗ウイルス剤としての有
用性が期待され、種々のトリフルオロメチルウラシル誘
導体の合成方法が開発されている。
【０００３】これまでに報告されたトリフルオロメチル
ウラシル誘導体の合成例としては、（１）ヨードウリジ
ン誘導体と、ＣＦ3 Ｂｒとを金属銅の存在下に反応させ
る方法（特開平２−７２１９０）、（２）ヨードウリジ
ン誘導体と、ＣＦ3 Ｉとを金属銅の存在下に反応させる
方法(Kobayashi,J.Chem.Soc.Perkin Trans.,1,2755-276
1(1980))、（３）ウリジン誘導体にＣＦ3 Ｎ（Ｎ→Ｏ）
ＳＯ2 ＣＦ3 を反応させて−ＣＦ3 基を導入する方法(U
memoto,Bull.Chem.Soc.Japan.,59,447-452(1986)) 、
（４）ウリジン誘導体に、トリフルオロ酢酸−ＸｅＦ2
を反応させて−ＣＦ3 基を導入する方法(Tanabe,J.Org.
Chem.,53,4582-4585(1988)) 、などが提案されている。
ウラシル誘導体の合成例としては、（１）ヨードウリジ
ン誘導体と、ＣＦ3 Ｂｒとを金属銅の存在下に反応させ
る方法（特開平２−７２１９０）、（２）ヨードウリジ
ン誘導体と、ＣＦ3 Ｉとを金属銅の存在下に反応させる
方法(Kobayashi,J.Chem.Soc.Perkin Trans.,1,2755-276
1(1980))、（３）ウリジン誘導体にＣＦ3 Ｎ（Ｎ→Ｏ）
ＳＯ2 ＣＦ3 を反応させて−ＣＦ3 基を導入する方法(U
memoto,Bull.Chem.Soc.Japan.,59,447-452(1986)) 、
（４）ウリジン誘導体に、トリフルオロ酢酸−ＸｅＦ2
を反応させて−ＣＦ3 基を導入する方法(Tanabe,J.Org.
Chem.,53,4582-4585(1988)) 、などが提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが従来の合成方
法は、工業的製法としては、反応が簡便でない、原料調
達が困難である、副生成物が生成し収率が低い、などの
問題があった。
法は、工業的製法としては、反応が簡便でない、原料調
達が困難である、副生成物が生成し収率が低い、などの
問題があった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の問題を
解決するためになされたものであり、下式１で表される
化合物と下式２で表されるハロゲン化ウラシル誘導体を
ハロゲン化銅（Ｉ）または金属銅の存在下に有機溶媒中
で反応させることを特徴とする下式３で表されるトリフ
ルオロメチルウラシル誘導体の製造方法を提供する。た
だし、式中の記号は以下の意味を示す。 Ｒ：炭素数１〜５のアルキル基。 Ｒ1 ：窒素原子の保護基または水素原子。 Ｒ2 ：ヘテロ原子を有する１価置換基。 Ｘ：ハロゲン原子。
解決するためになされたものであり、下式１で表される
化合物と下式２で表されるハロゲン化ウラシル誘導体を
ハロゲン化銅（Ｉ）または金属銅の存在下に有機溶媒中
で反応させることを特徴とする下式３で表されるトリフ
ルオロメチルウラシル誘導体の製造方法を提供する。た
だし、式中の記号は以下の意味を示す。 Ｒ：炭素数１〜５のアルキル基。 Ｒ1 ：窒素原子の保護基または水素原子。 Ｒ2 ：ヘテロ原子を有する１価置換基。 Ｘ：ハロゲン原子。
【０００６】
【化３】
【０００７】
【発明の実施の形態】式１で表される化合物において、
Ｒは炭素数１〜５のアルキル基を示し、メチル基、エチ
ル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、およびｓｅｃ−ブチル基が好まし
く、特にメチル基が好ましい。
Ｒは炭素数１〜５のアルキル基を示し、メチル基、エチ
ル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、およびｓｅｃ−ブチル基が好まし
く、特にメチル基が好ましい。
【０００８】本発明に用いるハロゲン化ウラシル誘導体
は式２で表される。式中、Ｒ1 は窒素原子の保護基また
は水素原子を示し、窒素原子の保護基の具体例として、
アセチル基、ｎ−プロピオニル基、ピバロイル基、ベン
ゾイル基、ｐ−フェニルベンゾイル基、ベンジル基、ｐ
−メトキシベンジル基、トリチル基、４，４' −ジメト
キシトリチル基、メトキシエトキシメチル基、アリール
オキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ま
たはｔ−ブトキシカルボニル基などが挙げられる。
は式２で表される。式中、Ｒ1 は窒素原子の保護基また
は水素原子を示し、窒素原子の保護基の具体例として、
アセチル基、ｎ−プロピオニル基、ピバロイル基、ベン
ゾイル基、ｐ−フェニルベンゾイル基、ベンジル基、ｐ
−メトキシベンジル基、トリチル基、４，４' −ジメト
キシトリチル基、メトキシエトキシメチル基、アリール
オキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ま
たはｔ−ブトキシカルボニル基などが挙げられる。
【０００９】Ｒ2 はヘテロ原子を有する１価置換基を示
し、下式４で表される５単糖誘導体残基が好ましい。た
だし、式中の記号は以下の意味を示す。 Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 ：それぞれ同一であっても異なってい
てもよく、水素原子、ハロゲン原子、または−ＯＲ6
（ここでＲ6 は、水酸基の保護基、水素原子、またはハ
ロゲン原子を示す。）。また、式４中に−ＯＲ6 が２個
以上存在する場合、それらは同一であっても異なってい
てもよく、２個のＲ6 が共同して環を形成していてもよ
い。
し、下式４で表される５単糖誘導体残基が好ましい。た
だし、式中の記号は以下の意味を示す。 Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 ：それぞれ同一であっても異なってい
てもよく、水素原子、ハロゲン原子、または−ＯＲ6
（ここでＲ6 は、水酸基の保護基、水素原子、またはハ
ロゲン原子を示す。）。また、式４中に−ＯＲ6 が２個
以上存在する場合、それらは同一であっても異なってい
てもよく、２個のＲ6 が共同して環を形成していてもよ
い。
【００１０】
【化４】
【００１１】Ｒ6 が水酸基の保護基である場合、Ｒ6 の
具体例としては、アセチル基、ｎ−プロピオニル基、ピ
バロイル基、ベンゾイル基、およびｐ−フェニルベンゾ
イル基等のアシル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジ
ル基、トリチル基、４，４’−ジメトキシトリチル基、
メトキシエトキシメチル基、アリールオキシカルボニル
基、テトラヒドロフラニル基、メチル基、ｔ−ブチル
基、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル
基、トリイソプロピルシリル基、またはジフェニルメチ
ルシリル基等が挙げられ、アセチル基が好ましい。ま
た、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5がハロゲン原子である場合には、
フッ素原子が好ましい。
具体例としては、アセチル基、ｎ−プロピオニル基、ピ
バロイル基、ベンゾイル基、およびｐ−フェニルベンゾ
イル基等のアシル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジ
ル基、トリチル基、４，４’−ジメトキシトリチル基、
メトキシエトキシメチル基、アリールオキシカルボニル
基、テトラヒドロフラニル基、メチル基、ｔ−ブチル
基、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル
基、トリイソプロピルシリル基、またはジフェニルメチ
ルシリル基等が挙げられ、アセチル基が好ましい。ま
た、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5がハロゲン原子である場合には、
フッ素原子が好ましい。
【００１２】Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 としては、水素原子また
はＲ6 がアセチル基である場合の−ＯＲ6 が好ましい。
Ｘは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子が好まし
く、特にヨウ素原子が好ましい。
はＲ6 がアセチル基である場合の−ＯＲ6 が好ましい。
Ｘは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子が好まし
く、特にヨウ素原子が好ましい。
【００１３】式２で表されるハロゲン化ウラシル誘導体
としては、下式２ａで表される化合物が好ましい。ただ
し、式２ａ中のＸ、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 は、上記と同
じ意味を示す。式２ａの具体例としては、表１中の化合
物が挙げられる。
としては、下式２ａで表される化合物が好ましい。ただ
し、式２ａ中のＸ、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 は、上記と同
じ意味を示す。式２ａの具体例としては、表１中の化合
物が挙げられる。
【００１４】
【化５】
【００１５】ハロゲン化銅（Ｉ）としては、臭化銅
（Ｉ）またはヨウ化銅（Ｉ）が好ましい。本発明に用い
る臭化銅（Ｉ）、ヨウ化銅（Ｉ）、または金属銅は、純
度９５〜９９．９９９９％のものを使用するのが好まし
い。ハロゲン化銅（Ｉ）または金属銅は、反応前に精製
をして、純度を向上させてもよい。ハロゲン化銅（Ｉ）
または金属銅は、式２で表されるハロゲン化ウラシル誘
導体に対して、０．０００１〜１００倍重量を用いるの
が好ましく、特に０．００１〜１０倍重量を用いるのが
好ましい。
（Ｉ）またはヨウ化銅（Ｉ）が好ましい。本発明に用い
る臭化銅（Ｉ）、ヨウ化銅（Ｉ）、または金属銅は、純
度９５〜９９．９９９９％のものを使用するのが好まし
い。ハロゲン化銅（Ｉ）または金属銅は、反応前に精製
をして、純度を向上させてもよい。ハロゲン化銅（Ｉ）
または金属銅は、式２で表されるハロゲン化ウラシル誘
導体に対して、０．０００１〜１００倍重量を用いるの
が好ましく、特に０．００１〜１０倍重量を用いるのが
好ましい。
【００１６】本発明においては、式１で表される化合物
と式２で表されるハロゲン化ウラシル誘導体をハロゲン
化銅（Ｉ）または金属銅の存在下に反応させる。式１で
表される化合物は、式２で表されるハロゲン化ウラシル
誘導体に対して、０．１〜５０倍モル用いるのが好まし
く、特に１〜１０倍モル用いるのが好ましい。
と式２で表されるハロゲン化ウラシル誘導体をハロゲン
化銅（Ｉ）または金属銅の存在下に反応させる。式１で
表される化合物は、式２で表されるハロゲン化ウラシル
誘導体に対して、０．１〜５０倍モル用いるのが好まし
く、特に１〜１０倍モル用いるのが好ましい。
【００１７】反応は有機溶媒中で行う。有機溶媒として
は非プロトン性極性溶媒が好ましく、特に収率の点か
ら、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、１，３
−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）、１−メ
チル−２−ピロリジノン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキ
シド（ＤＭＳＯ）、スルホラン、ジメチルアセトアミ
ド、またはヘキサメチルホスホリックトリアミド（ＨＭ
ＰＡ）等が好ましい。有機溶媒の量は、式２で表される
ハロゲン化ウラシル誘導体に対して、０．１〜１０００
倍重量が好ましく、特に１〜２００倍重量が好ましい。
は非プロトン性極性溶媒が好ましく、特に収率の点か
ら、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、１，３
−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）、１−メ
チル−２−ピロリジノン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキ
シド（ＤＭＳＯ）、スルホラン、ジメチルアセトアミ
ド、またはヘキサメチルホスホリックトリアミド（ＨＭ
ＰＡ）等が好ましい。有機溶媒の量は、式２で表される
ハロゲン化ウラシル誘導体に対して、０．１〜１０００
倍重量が好ましく、特に１〜２００倍重量が好ましい。
【００１８】本発明における反応では、式２におけるハ
ロゲン原子（Ｘ）が、トリフルオロメチル化される。ト
リフルオロメチル化反応は、常圧で実施可能である。反
応温度は、０℃〜溶媒還流程度の温度を採用するのが好
ましく、特に２０℃〜溶媒還流の温度が好ましい。反応
時間は、０．１〜１００時間が好ましく、特に０．５〜
５０時間が好ましい。また、反応は、アルゴンや窒素等
の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。
ロゲン原子（Ｘ）が、トリフルオロメチル化される。ト
リフルオロメチル化反応は、常圧で実施可能である。反
応温度は、０℃〜溶媒還流程度の温度を採用するのが好
ましく、特に２０℃〜溶媒還流の温度が好ましい。反応
時間は、０．１〜１００時間が好ましく、特に０．５〜
５０時間が好ましい。また、反応は、アルゴンや窒素等
の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。
【００１９】本発明の製造方法では、式３で表されるト
リフルオロメチルウラシル誘導体が生成する。式３中
に、窒素原子の保護基、または水酸基の保護基が存在す
る場合には、必要に応じて脱保護反応を行ってもよい。
脱保護反応の方法および条件は、通常の有機合成法で採
用される方法および条件が採用できる。また、式３で表
されるトリフルオロメチルウラシル誘導体を高純度のも
のとしたい場合には、精製を行ってもよい。精製方法と
しては、蒸留法、クロマトグラフ法、またはこれらの組
み合わせによる方法等が挙げられる。
リフルオロメチルウラシル誘導体が生成する。式３中
に、窒素原子の保護基、または水酸基の保護基が存在す
る場合には、必要に応じて脱保護反応を行ってもよい。
脱保護反応の方法および条件は、通常の有機合成法で採
用される方法および条件が採用できる。また、式３で表
されるトリフルオロメチルウラシル誘導体を高純度のも
のとしたい場合には、精製を行ってもよい。精製方法と
しては、蒸留法、クロマトグラフ法、またはこれらの組
み合わせによる方法等が挙げられる。
【００２０】本発明により製造される式３で表されるト
リフルオロメチルウラシル誘導体は、制癌剤、または抗
ウイルス剤などの医薬として用いられうる。式３で表さ
れるトリフルオロメチルウラシル誘導体としては、下式
３ａで表される化合物が好ましい。ただし、式３ａ中の
Ｒ3 、Ｒ4 、およびＲ5 は、上記と同じ意味を示す。
リフルオロメチルウラシル誘導体は、制癌剤、または抗
ウイルス剤などの医薬として用いられうる。式３で表さ
れるトリフルオロメチルウラシル誘導体としては、下式
３ａで表される化合物が好ましい。ただし、式３ａ中の
Ｒ3 、Ｒ4 、およびＲ5 は、上記と同じ意味を示す。
【００２１】
【化６】
【００２２】式２ａおよび式３ａの具体例としては、表
１中の化合物が挙げられる。ただし、表１中のＸの欄
は、化合物２ａのみに関する。また、表１中のＰｈはフ
ェニル基を示す。
１中の化合物が挙げられる。ただし、表１中のＸの欄
は、化合物２ａのみに関する。また、表１中のＰｈはフ
ェニル基を示す。
【００２３】
【表１】
【００２４】
【実施例】［例１］ ３’，５’−ジ−Ｏ−アセチル−５−トリフルオロメチ
ル−２’−デオキシウリジン（式３ａにおけるＲ1 が水
素原子であり、Ｒ3 およびＲ4 が−ＯＣＯＣＨ3 であ
り、Ｒ5 が水素原子である化合物）の合成例 ２００ｍｌの四つ口フラスコに、３’，５’−ジ−Ｏ−
アセチル−５−ヨ−ド−２’−デオキシウリジン（式２
ａにおけるＸがヨウ素原子であり、Ｒ1 が水素原子であ
り、Ｒ3 およびＲ4 が−ＯＣＯＣＨ3 であり、Ｒ5 が水
素原子である化合物）９．５０ｇ（２１．７ｍｍｏ
ｌ）、ヨウ化銅（Ｉ）０．９９ｇ（５．２ｍｍｏｌ）、
フルオロスルホニルジフルオロ酢酸メチル９．５９ｇ
（４９．９ｍｍｏｌ）および溶媒としてＤＭＦを７０ｍ
ｌ入れ、窒素ガス雰囲気下に１００℃で３時間撹拌し
た。反応終了後、反応液をろ過し、ろ液を氷水に注いだ
後、エーテルと酢酸エチルを加えて抽出を行い、有機層
を水洗、乾燥した。
ル−２’−デオキシウリジン（式３ａにおけるＲ1 が水
素原子であり、Ｒ3 およびＲ4 が−ＯＣＯＣＨ3 であ
り、Ｒ5 が水素原子である化合物）の合成例 ２００ｍｌの四つ口フラスコに、３’，５’−ジ−Ｏ−
アセチル−５−ヨ−ド−２’−デオキシウリジン（式２
ａにおけるＸがヨウ素原子であり、Ｒ1 が水素原子であ
り、Ｒ3 およびＲ4 が−ＯＣＯＣＨ3 であり、Ｒ5 が水
素原子である化合物）９．５０ｇ（２１．７ｍｍｏ
ｌ）、ヨウ化銅（Ｉ）０．９９ｇ（５．２ｍｍｏｌ）、
フルオロスルホニルジフルオロ酢酸メチル９．５９ｇ
（４９．９ｍｍｏｌ）および溶媒としてＤＭＦを７０ｍ
ｌ入れ、窒素ガス雰囲気下に１００℃で３時間撹拌し
た。反応終了後、反応液をろ過し、ろ液を氷水に注いだ
後、エーテルと酢酸エチルを加えて抽出を行い、有機層
を水洗、乾燥した。
【００２５】最後に、カラムクロマトグラフィにより精
製を行い（担体：シリカゲル、溶離液（容積比）はエタ
ノール／クロロホルム＝１／３０）、３’，５’−ジ−
Ｏ−アセチル−５−トリフルオロメチル−２’−デオキ
シウリジンを４．２１ｇ（収率５１％）得た。得られた
化合物のスペクトルデータを以下に示す。1 H-NMR(CDCl3,TMS)δ(ppm):2.05(s,3H),2.10(s,3H),2.3
0-2.60(m,2H),4.20-4.50(m,3H),5.10-5.35(m,1H),6.10-
6.40(dd,1H,J=8Hz),8.00(1H,s),9.30(brs,1H)．19 F-NMR(CDCl3,CFCl3)δ(ppm):-67.0 ． MS m/e:380(M+) ．
製を行い（担体：シリカゲル、溶離液（容積比）はエタ
ノール／クロロホルム＝１／３０）、３’，５’−ジ−
Ｏ−アセチル−５−トリフルオロメチル−２’−デオキ
シウリジンを４．２１ｇ（収率５１％）得た。得られた
化合物のスペクトルデータを以下に示す。1 H-NMR(CDCl3,TMS)δ(ppm):2.05(s,3H),2.10(s,3H),2.3
0-2.60(m,2H),4.20-4.50(m,3H),5.10-5.35(m,1H),6.10-
6.40(dd,1H,J=8Hz),8.00(1H,s),9.30(brs,1H)．19 F-NMR(CDCl3,CFCl3)δ(ppm):-67.0 ． MS m/e:380(M+) ．
【００２６】［例２］ ３’，５’−ジ−Ｏ−アセチル−５−トリフルオロメチ
ル−２’−デオキシウリジン（式３ａにおけるＲ1 が水
素原子であり、Ｒ3 およびＲ4 が−ＯＣＯＣＨ3 であ
り、Ｒ5 が水素原子である化合物）の合成例 ヨウ化銅（Ｉ）を金属銅に変更した以外は、例１と同様
に反応を行い、３’，５’−ジ−Ｏ−アセチル−５−ト
リフルオロメチル−２’−デオキシウリジンを４．３５
ｇ（収率５３％）得た。
ル−２’−デオキシウリジン（式３ａにおけるＲ1 が水
素原子であり、Ｒ3 およびＲ4 が−ＯＣＯＣＨ3 であ
り、Ｒ5 が水素原子である化合物）の合成例 ヨウ化銅（Ｉ）を金属銅に変更した以外は、例１と同様
に反応を行い、３’，５’−ジ−Ｏ−アセチル−５−ト
リフルオロメチル−２’−デオキシウリジンを４．３５
ｇ（収率５３％）得た。
【００２７】［例３］ ２’，３’，５’−トリ−Ｏ−アセチル−５−トリフル
オロメチル−ウリジン（式３ａにおけるＲ1 が水素原子
であり、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 が−ＯＣＯＣＨ3 である
化合物）の合成例 例１において３’，５’−ジ−Ｏ−アセチル−５−ヨー
ド−２’−デオキシウリジンの代わりに２’，３’，
５’−トリ−Ｏ−アセチル−５−ヨードウリジンを用
い、同様の反応で２’，３’，５’−トリ−Ｏ−アセチ
ル−５−トリフルオロメチル−ウリジンを得た。19 F-NMR(CDCl3,CFCl3)δ(ppm):-68.0 ．
オロメチル−ウリジン（式３ａにおけるＲ1 が水素原子
であり、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 が−ＯＣＯＣＨ3 である
化合物）の合成例 例１において３’，５’−ジ−Ｏ−アセチル−５−ヨー
ド−２’−デオキシウリジンの代わりに２’，３’，
５’−トリ−Ｏ−アセチル−５−ヨードウリジンを用
い、同様の反応で２’，３’，５’−トリ−Ｏ−アセチ
ル−５−トリフルオロメチル−ウリジンを得た。19 F-NMR(CDCl3,CFCl3)δ(ppm):-68.0 ．
【００２８】［例４］ ５’−Ｏ−アセチル−２’，３’−ジデオキシ−５−ト
リフルオロメチル−ウリジン（式３ａにおけるＲ1 が水
素原子であり、Ｒ3 が−ＯＣＯＣＨ3 であり、Ｒ4 およ
びＲ5 が水素原子である化合物）の合成例 例１において３’，５’−ジ−Ｏ−アセチル−５−ヨー
ド−２’−デオキシウリジンの代わりに５’−Ｏ−アセ
チル−２’，３’−ジデオキシ−５−ヨードウリジンを
用い、同様の反応で５’−Ｏ−アセチル−２’，３’−
ジデオキシ−５−トリフルオロメチル−ウリジンを得
た。19 F-NMR(CDCl3,CFCl3)δ(ppm):-66.3 ．
リフルオロメチル−ウリジン（式３ａにおけるＲ1 が水
素原子であり、Ｒ3 が−ＯＣＯＣＨ3 であり、Ｒ4 およ
びＲ5 が水素原子である化合物）の合成例 例１において３’，５’−ジ−Ｏ−アセチル−５−ヨー
ド−２’−デオキシウリジンの代わりに５’−Ｏ−アセ
チル−２’，３’−ジデオキシ−５−ヨードウリジンを
用い、同様の反応で５’−Ｏ−アセチル−２’，３’−
ジデオキシ−５−トリフルオロメチル−ウリジンを得
た。19 F-NMR(CDCl3,CFCl3)δ(ppm):-66.3 ．
【００２９】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、入手容易な
原料および試薬を用いて、特別な反応操作や条件を採用
することなく、目的とするトリフルオロメチルウラシル
誘導体を合成できる。本発明の方法は、大容量の方法と
して採用しうる方法であり、反応の再現性もよく、副生
成物の生成も抑制されることから、工業的製造方法とし
て有用な方法である。
原料および試薬を用いて、特別な反応操作や条件を採用
することなく、目的とするトリフルオロメチルウラシル
誘導体を合成できる。本発明の方法は、大容量の方法と
して採用しうる方法であり、反応の再現性もよく、副生
成物の生成も抑制されることから、工業的製造方法とし
て有用な方法である。
Claims (5)
- 【請求項１】下式１で表される化合物と下式２で表され
るハロゲン化ウラシル誘導体をハロゲン化銅（Ｉ）また
は金属銅の存在下に有機溶媒中で反応させることを特徴
とする下式３で表されるトリフルオロメチルウラシル誘
導体の製造方法。 【化１】 ただし、式中の記号は以下の意味を示す。 Ｒ：炭素数１〜５のアルキル基。 Ｒ1 ：窒素原子の保護基または水素原子。 Ｒ2 ：ヘテロ原子を有する１価置換基。 Ｘ：ハロゲン原子。 - 【請求項２】ハロゲン化銅（Ｉ）が、臭化銅（Ｉ）また
はヨウ化銅（Ｉ）である請求項１記載の製造方法。 - 【請求項３】有機溶媒が非プロトン性極性溶媒である請
求項１または２記載の製造方法。 - 【請求項４】Ｒがメチル基である請求項１、２、または
３記載の製造方法。 - 【請求項５】Ｒ2 が下式４で表される５単糖誘導体残基
である請求項１、２、３、または４記載の製造方法。 【化２】 ただし、式中の記号は以下の意味を示す。Ｒ3 、Ｒ4 、
Ｒ5 ：それぞれ同一であっても異なっていてもよく、水
素原子、ハロゲン原子、または−ＯＲ6 （ここでＲ6
は、水酸基の保護基、水素原子、またはハロゲン原子を
示す。）。また、式４中に−ＯＲ6 が２個以上存在する
場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、２
個のＲ6 が共同して環を形成していてもよい。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10044031A JPH11246590A (ja) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | トリフルオロメチルウラシル誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10044031A JPH11246590A (ja) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | トリフルオロメチルウラシル誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11246590A true JPH11246590A (ja) | 1999-09-14 |
Family
ID=12680282
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10044031A Pending JPH11246590A (ja) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | トリフルオロメチルウラシル誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11246590A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007055170A1 (ja) | 2005-11-09 | 2007-05-18 | Tosoh Corporation | パーフルオロアルキル基を有する核酸塩基類およびその製造方法 |
-
1998
- 1998-02-25 JP JP10044031A patent/JPH11246590A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007055170A1 (ja) | 2005-11-09 | 2007-05-18 | Tosoh Corporation | パーフルオロアルキル基を有する核酸塩基類およびその製造方法 |
| US7884202B2 (en) | 2005-11-09 | 2011-02-08 | Tosoh Corporation | Nucleobase having perfluoroalkyl group and process for producing the same |
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