JPH05369B2 - - Google Patents
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- JPH05369B2 JPH05369B2 JP5588189A JP5588189A JPH05369B2 JP H05369 B2 JPH05369 B2 JP H05369B2 JP 5588189 A JP5588189 A JP 5588189A JP 5588189 A JP5588189 A JP 5588189A JP H05369 B2 JPH05369 B2 JP H05369B2
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C5/00—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing the same number of carbon atoms
- C07C5/02—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing the same number of carbon atoms by hydrogenation
- C07C5/10—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing the same number of carbon atoms by hydrogenation of aromatic six-membered rings
- C07C5/11—Partial hydrogenation
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は炭素−水素結合を持つ原料化合物とア
セチレン類とを直接反応させることによる置換オ
レフインの新規な製造方法に関するものである。
置換オレフインは、例えばプラスチツクや合成繊
維などの高分子物質や医・農薬等のフアインケミ
カルスの製造原料として有用な物質である。した
がつて、本発明の置換オレフインの製造方法を用
いて高分子物質の原料製造や、さまざまな化学製
品の原料製造を行なうことが可能である。
セチレン類とを直接反応させることによる置換オ
レフインの新規な製造方法に関するものである。
置換オレフインは、例えばプラスチツクや合成繊
維などの高分子物質や医・農薬等のフアインケミ
カルスの製造原料として有用な物質である。した
がつて、本発明の置換オレフインの製造方法を用
いて高分子物質の原料製造や、さまざまな化学製
品の原料製造を行なうことが可能である。
炭化水素とアセチレン類を直接反応させて置換
オレフインを製造する方法としては、エチレン
性、又はアセチレン性の炭素−水素結合とアセチ
レンとの反応によるものを除外すると、ロジウム
カルボニル錯体触媒を用いる方法（ケミストリー
レターズ、1979年、339ページ）が唯一知られて
いるものである。しかし、この方法は芳香族炭化
水素にしか適用できない。しかも220℃もの高温
と、一酸化炭素圧５〜30Kg／cm2という厳しい条件
を必要とするため、この条件下で容易に重合反応
を行なう無置換ないし一置換アセチレンに適用す
ることはできず、原料としては二置換アセチレン
に限定される。従つて、この方法で製造されるオ
レフインは三置換オレフインに限られる。
オレフインを製造する方法としては、エチレン
性、又はアセチレン性の炭素−水素結合とアセチ
レンとの反応によるものを除外すると、ロジウム
カルボニル錯体触媒を用いる方法（ケミストリー
レターズ、1979年、339ページ）が唯一知られて
いるものである。しかし、この方法は芳香族炭化
水素にしか適用できない。しかも220℃もの高温
と、一酸化炭素圧５〜30Kg／cm2という厳しい条件
を必要とするため、この条件下で容易に重合反応
を行なう無置換ないし一置換アセチレンに適用す
ることはできず、原料としては二置換アセチレン
に限定される。従つて、この方法で製造されるオ
レフインは三置換オレフインに限られる。
本発明は、炭化−水素結合を持つ原料化合物と
アセチレン類から温和な条件下で直接的に置換オ
レフインを工業的に有利に製造しうる方法を提供
することを課題とする。
アセチレン類から温和な条件下で直接的に置換オ
レフインを工業的に有利に製造しうる方法を提供
することを課題とする。
本発明者らは、前記課題を解決すべく、鋭意研
究を重ねた結果、少なくとも１つの炭素−水素結
合をもつ化合物が、遷移金属錯体の存在下及び光
の照射下に、温和な条件でアセチレン類と迅速に
反応して置換オレフインを与えるという新規な事
実を発見し、これに基づき本発明を完成するに至
つた。
究を重ねた結果、少なくとも１つの炭素−水素結
合をもつ化合物が、遷移金属錯体の存在下及び光
の照射下に、温和な条件でアセチレン類と迅速に
反応して置換オレフインを与えるという新規な事
実を発見し、これに基づき本発明を完成するに至
つた。
すなわち、本発明によれば、少なくとも１つ以
上の炭素−水素結合をもつ原料化合物を遷移金属
錯体の共存下に光を照射しつつアセチレン類を反
応させることを特徴とする置換オレフインの製造
方法が提供される。
上の炭素−水素結合をもつ原料化合物を遷移金属
錯体の共存下に光を照射しつつアセチレン類を反
応させることを特徴とする置換オレフインの製造
方法が提供される。
本発明で用いる原料化合物は、炭素−水素結合
（シグマ結合）を少なくとも１個有する有機化合
物であり、芳香族、脂肪族及び複素環化合物を問
わず使用できる。また、このような化合物は、各
種置換基を含むことができる。このような置換基
の具体例としては、例えば、アルコキシ基、アリ
ーロキシ基、アシル基、アシロキシ基、アルコキ
シカルボニル基、シアノ基、ビス（ヒドロカルビ
ル）アミノ基、ビス（ヒドロカルビル）アミノカ
ルボニル基、ハロゲン原子等が挙げられる。
（シグマ結合）を少なくとも１個有する有機化合
物であり、芳香族、脂肪族及び複素環化合物を問
わず使用できる。また、このような化合物は、各
種置換基を含むことができる。このような置換基
の具体例としては、例えば、アルコキシ基、アリ
ーロキシ基、アシル基、アシロキシ基、アルコキ
シカルボニル基、シアノ基、ビス（ヒドロカルビ
ル）アミノ基、ビス（ヒドロカルビル）アミノカ
ルボニル基、ハロゲン原子等が挙げられる。
本発明に用いられる原料化合物を例示すると、
ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、プロピル
ベンゼン、デシルベンゼン、ｏ−、ｍ−又はｐ−
キシレン、ナフタレン、α−又はβ−メチルナフ
タレン、α−又はβ−ヘキシルナフタレン、ｏ
−、ｍ−又はｐ−ジブチルベンゼン、テトラリ
ン、アントラセン、９，10−ジヘキルアントラセ
ン、アニソール、ジフエニルエーテル、ブトキシ
ベンゼン、ベンゾニトリル、安息香酸メチル、ベ
ンゾフエノン、スチレン、チオフエン、フラン、
メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、
ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカ
ン、シクロプロパン、シクロペンタン、シクロヘ
キサン、シクロオクタン、シクロドデカン、デカ
リン、プロピレン、ブテン、ヘキセン、デセン、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、アセト
ニトリル、１−フルオロヘキサン、プロピオン酸
メチル、酢酸エチル、γ−ブチロラクトン、フエ
ニルエチルエーテル、１−オクタノール等が挙げ
られる。
ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、プロピル
ベンゼン、デシルベンゼン、ｏ−、ｍ−又はｐ−
キシレン、ナフタレン、α−又はβ−メチルナフ
タレン、α−又はβ−ヘキシルナフタレン、ｏ
−、ｍ−又はｐ−ジブチルベンゼン、テトラリ
ン、アントラセン、９，10−ジヘキルアントラセ
ン、アニソール、ジフエニルエーテル、ブトキシ
ベンゼン、ベンゾニトリル、安息香酸メチル、ベ
ンゾフエノン、スチレン、チオフエン、フラン、
メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、
ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカ
ン、シクロプロパン、シクロペンタン、シクロヘ
キサン、シクロオクタン、シクロドデカン、デカ
リン、プロピレン、ブテン、ヘキセン、デセン、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、アセト
ニトリル、１−フルオロヘキサン、プロピオン酸
メチル、酢酸エチル、γ−ブチロラクトン、フエ
ニルエチルエーテル、１−オクタノール等が挙げ
られる。
本発明で用いるアセチレン類は少なくとも１つ
のエチニル結合を有する化合物であり、各種置換
基を含むことができる。このような置換基の具体
例としては例えば、アルキル基、アルケニル基、
アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ア
シル基、アシロキシ基、アルコキシカルボニル
基、シアノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
のエチニル結合を有する化合物であり、各種置換
基を含むことができる。このような置換基の具体
例としては例えば、アルキル基、アルケニル基、
アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ア
シル基、アシロキシ基、アルコキシカルボニル
基、シアノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
本発明に好適に用いられるアセチレン類とし
は、アセチレン、プロピン、ブチン、ペンチン、
ヘキシン、ヘプチン、オクチン、ノニン、デシ
ン、シクロヘキシン、シクロヘプチン、シクロオ
クチン、シクロドデシン、ビシクロ［６，４，
０］−３−ドデシン、ブテンイン、デセンイン、
フエニルアセチレン、ｏ−，ｍ−又はｐ−トリル
アセチレン、α−又はβ−エチニルナフタレン、
フエニルプロピン、フエニルデシン、１−フエニ
ル−２−シクロヘキシルアセチレン、エチルエチ
ニルエーテル、フエニルエチニルエーテル、エチ
ニルフエニルケトン、エチニルメチルケトン、プ
ロピオール酸メチル、酢酸エチニル、安息香酸ピ
ロピニル、シアノプロピン、シアノデシン、クロ
ロアセチレンなどが例示される。
は、アセチレン、プロピン、ブチン、ペンチン、
ヘキシン、ヘプチン、オクチン、ノニン、デシ
ン、シクロヘキシン、シクロヘプチン、シクロオ
クチン、シクロドデシン、ビシクロ［６，４，
０］−３−ドデシン、ブテンイン、デセンイン、
フエニルアセチレン、ｏ−，ｍ−又はｐ−トリル
アセチレン、α−又はβ−エチニルナフタレン、
フエニルプロピン、フエニルデシン、１−フエニ
ル−２−シクロヘキシルアセチレン、エチルエチ
ニルエーテル、フエニルエチニルエーテル、エチ
ニルフエニルケトン、エチニルメチルケトン、プ
ロピオール酸メチル、酢酸エチニル、安息香酸ピ
ロピニル、シアノプロピン、シアノデシン、クロ
ロアセチレンなどが例示される。
原料化合物とアセチレン類の量関係は、通常、
原料化合物とアセチレン類のモル比で１〜1000の
範囲で実施され、好ましくは30〜600の範囲であ
る。
原料化合物とアセチレン類のモル比で１〜1000の
範囲で実施され、好ましくは30〜600の範囲であ
る。
本発明で用いる遷移金属錯体触媒においてその
遷移金属成分としてはロジウムの使用が好適であ
るが、イリジウム又はコバルトの使用も可能であ
る。
遷移金属成分としてはロジウムの使用が好適であ
るが、イリジウム又はコバルトの使用も可能であ
る。
本発明の遷移金属錯体触媒に用いる配位子は、
その少なくとも１つが、一般式R1R2R3Ｐ（式中、
R1，R2，R3は、アルキル基、アリール基、アラ
ルキル基又はシクロアルキル基を示し、R1，R2，
R3は互いに同じであつても異なつていても良い）
及び一般式R4R5Ｐ−Ａ−PR6R7（式中、R4，R5，
R6，R7は、アルキル基、アリール基、アラルキ
ル基又はシクロアルキル基を示し、R4，R5，R6、
R7は互いに同じであつても異なつていてもよく、
またＡはアルキレン基、シクロアルキレン基、ア
リーレン基、アラルキレン基又はフエロセニレン
基を示す）で表わされるモノ又はビスホスフイン
類であることが望ましい。また、前記一般式で例
示される配位子において、アルキル基、アリール
基、アラルキル基、シクロアルキル基の炭素数は
特に制約されないが、通常、その炭素数は20以下
である。
その少なくとも１つが、一般式R1R2R3Ｐ（式中、
R1，R2，R3は、アルキル基、アリール基、アラ
ルキル基又はシクロアルキル基を示し、R1，R2，
R3は互いに同じであつても異なつていても良い）
及び一般式R4R5Ｐ−Ａ−PR6R7（式中、R4，R5，
R6，R7は、アルキル基、アリール基、アラルキ
ル基又はシクロアルキル基を示し、R4，R5，R6、
R7は互いに同じであつても異なつていてもよく、
またＡはアルキレン基、シクロアルキレン基、ア
リーレン基、アラルキレン基又はフエロセニレン
基を示す）で表わされるモノ又はビスホスフイン
類であることが望ましい。また、前記一般式で例
示される配位子において、アルキル基、アリール
基、アラルキル基、シクロアルキル基の炭素数は
特に制約されないが、通常、その炭素数は20以下
である。
本発明で用いる好ましい配位子の具体例を示す
と、例えば、トリメチルホスフイン、トリエチル
ホスフイン、トリブチルホスフイン、トリオクチ
ルホスフイン、トリシクロヘキシルホスフイン、
トリベンジルホスフイン、トリフエニルホスフイ
ン、１，２−ビス（ジメチルホスフイノ）エタ
ン、１，４−ビス（ジメチルホスフイノ）ブタ
ン、１，２−ビス（ジブチルホスフイノ）エタ
ン、１，２−ビス（ジシクロヘキシルホスフイ
ノ）エタン、α，α′−ビス（ジメチルホスフイ
ノ）−ｏ−キシレン、１，２−ビス（ジメチルホ
スフイノ）シクロヘキサンなどが例示される。
と、例えば、トリメチルホスフイン、トリエチル
ホスフイン、トリブチルホスフイン、トリオクチ
ルホスフイン、トリシクロヘキシルホスフイン、
トリベンジルホスフイン、トリフエニルホスフイ
ン、１，２−ビス（ジメチルホスフイノ）エタ
ン、１，４−ビス（ジメチルホスフイノ）ブタ
ン、１，２−ビス（ジブチルホスフイノ）エタ
ン、１，２−ビス（ジシクロヘキシルホスフイ
ノ）エタン、α，α′−ビス（ジメチルホスフイ
ノ）−ｏ−キシレン、１，２−ビス（ジメチルホ
スフイノ）シクロヘキサンなどが例示される。
本発明では、これらのホスフイン配位子の遷移
金属錯体が好適な触媒として使用されるが、その
形態は限定的でなく、これらホスフインが１つ以
上配位したものであれば、いかなる形態のもので
も用いることができる。これらを例示すると、例
えば、RhCl（R1R2R3Ｐ）3（R1〜R3は前記と同じ。
以下同様）、RhCl（CO）（R1R2R3Ｐ）2，RhBr
（CO）（R1R2R3Ｐ）2，HRh（CO）（R1R2R3Ｐ）3，
HRh（CO）2（R1R2R3Ｐ）2，RhCl（CO）（R4R5Ｐ
−Ａ−PR6R7）（R4〜R7及びＡは前記と同じ、以
下同様）、IrCl（R1R2R3Ｐ）3，IrCl（CO）（R1R2R3
Ｐ）2，IrBr（CO）（R1R2R3Ｐ）2，IrH5（R1R2R3
Ｐ）2，IrH3（CO）（R1R2R3Ｐ）2，IrCl（CO）（R4
R5Ｐ−Ａ−PR6R7），Cp′RhH2（R1R2R3Ｐ），
Cp′IrH2（R1R2R3Ｐ），Co2（CO）6（R1R2R3Ｐ），
CpCoI2（R1R2R3Ｐ），CoBr2（R1R2R3Ｐ）2，CoCl
（R1R2R3Ｐ）3，CoH（N2）（R1R2R3Ｐ）3，CoH3
（R1R2R3Ｐ）3，CpCo（R1R2R3Ｐ）2，AcCo（CO）3
（R1R2R3Ｐ）などが挙げられる。なお、前記式
中、Cpはシクロペンタジエニル基、Cp′はペンタ
メチルシクロペンタジエニル基、Acはアセチル
基を示す。また反応に用いられる錯体は、任意の
金属化合物と、モノ又はビスホスフイン類とを反
応糸で処理して、その場（in siti）で形成させて
用いてもよい。なおこれら遷移金属錯体触媒の使
用量は、アセチレンに対して1/10〜1/10000モル
比の範囲で使用されるが、一般に1/200以下で十
分である。
金属錯体が好適な触媒として使用されるが、その
形態は限定的でなく、これらホスフインが１つ以
上配位したものであれば、いかなる形態のもので
も用いることができる。これらを例示すると、例
えば、RhCl（R1R2R3Ｐ）3（R1〜R3は前記と同じ。
以下同様）、RhCl（CO）（R1R2R3Ｐ）2，RhBr
（CO）（R1R2R3Ｐ）2，HRh（CO）（R1R2R3Ｐ）3，
HRh（CO）2（R1R2R3Ｐ）2，RhCl（CO）（R4R5Ｐ
−Ａ−PR6R7）（R4〜R7及びＡは前記と同じ、以
下同様）、IrCl（R1R2R3Ｐ）3，IrCl（CO）（R1R2R3
Ｐ）2，IrBr（CO）（R1R2R3Ｐ）2，IrH5（R1R2R3
Ｐ）2，IrH3（CO）（R1R2R3Ｐ）2，IrCl（CO）（R4
R5Ｐ−Ａ−PR6R7），Cp′RhH2（R1R2R3Ｐ），
Cp′IrH2（R1R2R3Ｐ），Co2（CO）6（R1R2R3Ｐ），
CpCoI2（R1R2R3Ｐ），CoBr2（R1R2R3Ｐ）2，CoCl
（R1R2R3Ｐ）3，CoH（N2）（R1R2R3Ｐ）3，CoH3
（R1R2R3Ｐ）3，CpCo（R1R2R3Ｐ）2，AcCo（CO）3
（R1R2R3Ｐ）などが挙げられる。なお、前記式
中、Cpはシクロペンタジエニル基、Cp′はペンタ
メチルシクロペンタジエニル基、Acはアセチル
基を示す。また反応に用いられる錯体は、任意の
金属化合物と、モノ又はビスホスフイン類とを反
応糸で処理して、その場（in siti）で形成させて
用いてもよい。なおこれら遷移金属錯体触媒の使
用量は、アセチレンに対して1/10〜1/10000モル
比の範囲で使用されるが、一般に1/200以下で十
分である。
本発明の反応においては、前記遷移金属錯体触
媒の存在とともに、光の照射が必須であるが、そ
の波長領域はいわゆる紫外、可視光領域であれば
よく、水銀灯や、キセノンランプ、太陽光等によ
る光照射が好ましく用いられる。また、これらの
光源にフイルターを装着して特定の波長領域の光
に制限して実施することも、本発明の有利な態様
に含まれる。
媒の存在とともに、光の照射が必須であるが、そ
の波長領域はいわゆる紫外、可視光領域であれば
よく、水銀灯や、キセノンランプ、太陽光等によ
る光照射が好ましく用いられる。また、これらの
光源にフイルターを装着して特定の波長領域の光
に制限して実施することも、本発明の有利な態様
に含まれる。
本発明の反応は特に溶媒を使用することなく、
反応に供すべき原料化合物自身をアセチレン類に
対して大過剰に用いることにより容易に実施され
る。しかし溶媒を用いることは本反応の生起にと
つて障害となるものではなく、必要に応じて溶媒
中で実施される。これらの溶媒の選択は反応させ
るべき原料化合物とアセチレン類の反応性を考慮
して、不活性な溶媒、たとえばパーフルオロアル
カンを用いることができる。
反応に供すべき原料化合物自身をアセチレン類に
対して大過剰に用いることにより容易に実施され
る。しかし溶媒を用いることは本反応の生起にと
つて障害となるものではなく、必要に応じて溶媒
中で実施される。これらの溶媒の選択は反応させ
るべき原料化合物とアセチレン類の反応性を考慮
して、不活性な溶媒、たとえばパーフルオロアル
カンを用いることができる。
本発明の反応は、０℃以下でも進行するが、好
ましい速度を達するために250℃までの温度で加
熱することもできる。原料化合物の構造にもよる
が、一般的に好ましい温度領域は０℃〜150℃で
ある。
ましい速度を達するために250℃までの温度で加
熱することもできる。原料化合物の構造にもよる
が、一般的に好ましい温度領域は０℃〜150℃で
ある。
反応後の生成物の分離は、反応液を蒸留、再結
晶、クロマトグラフイー等を付することによつて
容易に実施される。
晶、クロマトグラフイー等を付することによつて
容易に実施される。
本発明によれば、前記のように温和な条件で炭
素−水素結合を有する原料化合物とアセチレン類
から直接的に置換オレフインが得られ、その産業
的意義は多大である。
素−水素結合を有する原料化合物とアセチレン類
から直接的に置換オレフインが得られ、その産業
的意義は多大である。
次に本発明を実施例により更に詳細に説明す
る。
る。
実施例 １
RhCl（CO）〔Ｐ（CH3）3〕20.7mM濃度で含むベ
ンゼン30ml、フエニルアセチレン0.1mlの混合溶
液を、100Wの内部照射型高圧水銀灯を用いて照
射し、室温で19.5時間反応させた。ガスクロマト
グラフイーにより分析した結果、１，１−ジフエ
ニルエチレンがRh錯体基準で558％／Rhの収率
で生成していることが確認された。
ンゼン30ml、フエニルアセチレン0.1mlの混合溶
液を、100Wの内部照射型高圧水銀灯を用いて照
射し、室温で19.5時間反応させた。ガスクロマト
グラフイーにより分析した結果、１，１−ジフエ
ニルエチレンがRh錯体基準で558％／Rhの収率
で生成していることが確認された。
実施例 ２
光源を外部照射型500W高圧水銀灯に代えて、
実施例１と同様の反応を行つた。反応時間３時間
の時点で１，１−ジフエニルエチレンの収率は、
200％／Rhであつた。
実施例１と同様の反応を行つた。反応時間３時間
の時点で１，１−ジフエニルエチレンの収率は、
200％／Rhであつた。
実施例 ３
照射光の透過率が10％以上で波長領域が325nm
以上となるフイルターを光源に装着して実施例２
と同様の反応を行つた。１，１−ジフエニルエチ
レンの収率は162％／Rhであつた。
以上となるフイルターを光源に装着して実施例２
と同様の反応を行つた。１，１−ジフエニルエチ
レンの収率は162％／Rhであつた。
実施例 ４
フエニルアセチレンに代わりβ−フエネチルア
セチレンを用いて実施例１と同様の反応を行つ
た。ガスクロマトグラフイーで分析した結果、
２，４−ジフエニル−１−ブテン、、シス−１，
４−ジフエニル−１−ブテン、トランス−１，４
−ジフエニル−１−ブテンがそれぞれ176％／
Rh，32％／Rh，35％／Rhの収率で生成している
ことが確認された。
セチレンを用いて実施例１と同様の反応を行つ
た。ガスクロマトグラフイーで分析した結果、
２，４−ジフエニル−１−ブテン、、シス−１，
４−ジフエニル−１−ブテン、トランス−１，４
−ジフエニル−１−ブテンがそれぞれ176％／
Rh，32％／Rh，35％／Rhの収率で生成している
ことが確認された。
実施例 ５
フエニルアセチレンの代わりにプロピオール酸
エチルを用いて実施例１と同様の反応を行つた。
ガスクロマトグラフイーで分析した結果、アトロ
パ酸エチル、シス−桂皮酸エチルがそれぞれ17
％／Rh，３％／Rhの収率で生成していることが
確認された。
エチルを用いて実施例１と同様の反応を行つた。
ガスクロマトグラフイーで分析した結果、アトロ
パ酸エチル、シス−桂皮酸エチルがそれぞれ17
％／Rh，３％／Rhの収率で生成していることが
確認された。
実施例 ６
フエニルアセチレンに代わりに１−フエニルプ
ロピンを用いて実施例１と同様の反応を行なつ
た。ガスクロマトグラフイーで分析した結果、
１，１−ジフエニルプロペン、シス−１，２−ジ
フエニルプロペンがそれぞれ５％／Rh，25％／
Rhの収率で生成していることが確認された。
ロピンを用いて実施例１と同様の反応を行なつ
た。ガスクロマトグラフイーで分析した結果、
１，１−ジフエニルプロペン、シス−１，２−ジ
フエニルプロペンがそれぞれ５％／Rh，25％／
Rhの収率で生成していることが確認された。
実施例 ７
フエニルアセチレンに代わりにトラン（１，２
−ジフエニルアセチレン）を用いて実施例１と同
様の反応を行つた。反応時間4.5時間でガスクロ
マトグラフイーで分析した結果、トリフエニルエ
チレンが４％／Rhの収率で生成していることが
確認された。
−ジフエニルアセチレン）を用いて実施例１と同
様の反応を行つた。反応時間4.5時間でガスクロ
マトグラフイーで分析した結果、トリフエニルエ
チレンが４％／Rhの収率で生成していることが
確認された。
実施例 ８
ベンゼンの代わりにｎ−ヘキサンを用いて実施
例１と同様の反応を行なつた。ガスクロマトグラ
フイーで分析した結果、２−フエニル−１−オク
テンが60％／Rhの収率で生成していることが確
認された。
例１と同様の反応を行なつた。ガスクロマトグラ
フイーで分析した結果、２−フエニル−１−オク
テンが60％／Rhの収率で生成していることが確
認された。
実施例 ９
ベンゼンの代わりにシクロヘキサンを用いて実
施例１と同様の反応を行つた。ガスクロマトグラ
フイーで分析した結果、α−シクロヘキシルスチ
レンが20％／Rhの収率で生成しているこが確認
された。
施例１と同様の反応を行つた。ガスクロマトグラ
フイーで分析した結果、α−シクロヘキシルスチ
レンが20％／Rhの収率で生成しているこが確認
された。
実施例 10
ベンゼンの代わりにジエチルエーテルを用いて
実施例１と同様の反応を行なつた。ガスクロマト
グラフイーで分析した結果、α−（２−エトキシ
エチル）スチレンが46％／Rhの収率で生成して
いることが確認された。
実施例１と同様の反応を行なつた。ガスクロマト
グラフイーで分析した結果、α−（２−エトキシ
エチル）スチレンが46％／Rhの収率で生成して
いることが確認された。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 少なくとも１つ以上の炭素−水素結合をもつ
原料化合物を遷移金属錯体の共存下に光を照射し
つつアセチレン類を反応させることを特徴とする
置換オレフインの製造方法。 ２ 該遷移金属錯体が、ロジウム、イリジウム及
びコバルトの中から選ばれる少なくとも１種の金
属錯体である請求項１の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5588189A JPH02235824A (ja) | 1989-03-08 | 1989-03-08 | 置換オレフィンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5588189A JPH02235824A (ja) | 1989-03-08 | 1989-03-08 | 置換オレフィンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02235824A JPH02235824A (ja) | 1990-09-18 |
| JPH05369B2 true JPH05369B2 (ja) | 1993-01-05 |
Family
ID=13011440
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5588189A Granted JPH02235824A (ja) | 1989-03-08 | 1989-03-08 | 置換オレフィンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02235824A (ja) |
-
1989
- 1989-03-08 JP JP5588189A patent/JPH02235824A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02235824A (ja) | 1990-09-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |