JPH0537470Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この考案は、半導体の原材料であるウエハの加
工処理工程における現像や洗浄工程に使用される
ウエハ等の現像・洗浄装置に関するものである。

［従来の技術］ 従来、ウエハに半導体のパターンを焼き付ける
ための加工処理工程においては、その表面の洗浄
処理、現像剤の塗布工程、現像剤の洗流し工程な
どウエハの表面に処理液を塗布した後、それを乾
燥させる工程やその処理液の不要部分を洗流し洗
浄する工程が多く含まれている。これらの工程を
処理する装置として第２図にその断面を示すよう
な装置が知られている。

第２図において、処理室２１は上蓋２２と下蓋
２３とで形成されている。この処理室２１の中に
は被処理物であるウエハ２４を載置保持する回転
載置台２５が設けられており、この回転載置台２
５は軸２５ａを中心にした回転が可能になつてい
る。また上蓋２２の上部には回転載置台２５に載
置されたウエハ２４の上に例えば現像剤を滴下す
るための処理液供給用の供液パイプ２６が設けら
れている。

通常、下蓋２３は図示しない上下駆動機構によ
り上下方向（矢印ＵまたはＤ方向）に移動可能で
あつて、下蓋２３が破線にて示すようにその上縁
が上蓋２２の下縁に接する位置にあるときは処理
室２１を閉鎖状態にしてこの室内を洗浄や現像等
の処理工程を可能にしている。また実線に示す位
置にあるときは処理室２１を開放状態にして、図
示しない搬送機構により、ウエハ２４の処理室２
１への搬入（矢印Ｒ方向）または、処理が終わつ
た回転載置台２５上のウエハ２４を外部へ搬出
（矢印Ｌ方向）できる状態にしている。

ウエハ２４が処理室２１へ搬送されて回転載置
台２５上に保持され、かつ処理室２１が閉鎖状態
になると、供液パイプ２６より処理液例えば現像
液がウエハ２４上に滴下される。同時に回転載置
台２５は回転を始めて、この回転が、滴下された
処理液をウエハ２４の表面に一様に塗布するよう
に作用する。この後、処理液の滴下を停止して塗
布工程は終了するが、回転載置台２５の回転は継
続させて処理液に対するスピン乾燥を行い、ウエ
ハ２４を乾燥させる。

この乾燥工程後に処理室２１を開放してウエハ
２４を搬出して次の処理工程へ送る。

［考案が解決しようとする課題］ 上記したような従来の装置において、塗布工程
にある時、余分の処理液はウエハ２４の上から周
囲に飛散し、その一部は上蓋２２，下蓋２３の内
周壁に付着する。上蓋２２に付着したものはその
蓋２２の壁を伝わつてひさし２２ａ上に溜まる
が、乾燥工程後に処理室２１を開放してウエハ２
４を搬出する際、ひさし２２ａ上に溜つた処理液
が搬出中のウエハ２４の上に落ちて、この処理工
程を無駄にしたり、製品歩留まりを悪くしてしま
うことがある。これを避けるため上蓋２２，下蓋
２３や上下方向の移動寸法を大きくする等の方法
がとられていた。しかし、これらの寸法を大きく
とることは、装置の小形化を困難にしていた。

この考案は、このような問題を解決するために
なされたもので、処理室からのウエハ等の被処理
物搬出に当たつて処理液等の滴下を防止して、効
率的なウエハ等の現像・洗浄装置を提供すること
を目的としている。

［課題を解決するための手段］ この考案は、上蓋と下蓋で形成される処理室
と、上蓋と下蓋の少なくとも一方を上下させて処
理室を開放もしくは密封する上下手段と、処理室
内に設けられてウエハ等を載置保持する回転載置
台と、この回転載置台を回転させる回転手段と、
回転載置台に載置されたウエハ等の上に所用の処
理液を滴下する処理液供給手段と、処理室の開放
時にウエハ等を移送する搬送手段とを備えたウエ
ハ等の現像・洗浄装置において、上蓋はその下部
壁内に周縁を囲繞して設けられる通路空間と、こ
の通路空間に沿つて設けられ通路空間から記処理
室へ通ずるスリツトと、通路空間に通じる少なく
とも一つの排出口とを外側に有し、かつこの排出
口に接続され処理室内を吸引するバキユーム手段
とを具備したことを特徴としている。

［作用］ このように構成することにより、回転載置台に
保持されたウエハ等から飛散し、上蓋に付着する
処理液をバキユーム手段で上蓋の下縁で吸引し、
外部に排出させることができ、被処理物の搬出時
においてウエハ等の被処理物の上に処理液が滴下
することを防止できる。

［実施例］ 以下、図面を参照しながらこの考案の一実施例
を説明する。

第１図ａ，ｂはこの実施例の断面図であり、同
図ａは同図ｂのＢ−Ｂ切断面の断面図で、同図ｂ
は同図ａのＡ−Ａ切断面の断面図である。

同図ａ，ｂにおいて、処理室１は上蓋２と下蓋
３とで形成されている。この処理室１の中には被
処理物である例えばウエハ４を載置保持する回転
載置台５が設けられており、この回転載置台５は
図示しない回転駆動機構により、軸５ａを中心に
した回転が可能になつている。また上蓋２の上部
には回転載置台５に載置されたウエハ４の上に図
示しない処理液供給装置より送られる処理液、例
えば現像剤を滴下するための供液パイプ６が設け
られている。

また、上蓋２の最下縁のひさし２ａに接する壁
内にはその周縁を囲繞して通路空間２ｂが設けら
れており、さらに通路空間２ｂから処理室１に通
じるスリツト２ｃがひさし２ａの上に設けられて
いる。通路空間２ｂは上蓋２の外側に設けられて
いる排出口２ｄにも側路２ｅを介して接続されて
いる。

この実施例は排出口２ｄが上蓋２の外側に三個
設けられている実施例であるが、これらの排出口
２ｄは図示しないバキユーム装置にパイプ等を介
して接続されている。

下蓋３は図示しない上下駆動機構により上下方
向（矢印ＵまたはＤ方向）に移動可能であつて、
下蓋３が破線にて示すその上縁が上蓋２の下縁に
接する位置にあるときは処理室１を閉鎖状態にし
てこの室内を洗浄や現像等の処理工程を可能にし
ている。また実線に示す位置にあるときは処理室
１を開放状態にして、図示しない搬送機構によ
り、ウエハ４の処理室１への搬入（矢印Ｒ方向）
または、処理が終わつた回転載置台５上のウエハ
４を外部に搬出（矢印Ｌ方向）できる状態にして
いる。

このように構成された実施例の装置は、ウエハ
４が処理室１へ搬入されて回転載置台５上に保持
され、かつ処置室１が閉鎖状態になると、供液パ
イプ６より処理液例えば現像液がウエハ４上に滴
下される。同時に回転載置台５は回転を始めて、
この回転が、滴下された処理液をウエハ４の表面
に一様に塗布するように作用する。

このとき、回転載置台５の回転により余分の処
理液はウエハ４の上から周囲に飛散し、その一部
は上蓋２，下蓋３の内周壁に付着し、上蓋２に付
着したものは壁を伝わつてひさし２ａ上に溜まる
が、溜まつた処理液にはバキユーム装置の吸引力
が排出口２ｄ、通路空間２ｂ、スリツト２ｃを介
して作用し、処理液はスリツト２ｃからバキユー
ム装置側に吸引される。つまり処理液はひさし２
ａ上に実際には溜まることなく排出されて、ひさ
し２ａ付近は常時乾燥に近い状態になつている。

このため、ウエハ４を外部に搬出するに当たつ
て上蓋２の壁の下を通過する際に処理液がウエハ
４に落ちることを防止できる。

なお、この考案は上記実施例に限定されるもの
でなく、要旨を変更しない範囲で変形して実施で
きる。

例えば、上記実施例は下蓋３を上下させても処
理室１を閉鎖または開放させるものを説明した
が、上蓋２を上下させてもよく、また実施例では
排出口を三個設けたものを説明したが、一個でも
また必要に応じて複数個のものが実施できる。

また、この考案の装置は現像剤の塗布だけでな
く、その前工程であるウエハ等の洗浄にも、パタ
ーン焼き付け後の現像処理等この考案の要旨の範
囲の用途のものに適用できる。

［考案の効果］ この考案によれば、処理液の液垂れを防止でき
るので、その処理工程が無駄工程になることが無
く、液垂れによる製品歩留まりの低下をも防ぐこ
ともできる。

また、この考案よる装置は液垂れ防止機能が完
全であるので、処理液の上蓋への多量飛散にも対
応でき、回転載置台の高速回転が可能、つまり処
理工程の高速化が図れる。

また、同じ理由で上蓋、下蓋の寸法や上下移動
寸法を小さく設定できるので、装置の小形化が期
待できる。

【図面の簡単な説明】

第１図ａ，ｂはそれぞれこの考案一実施例の縦
縦断面図および横断面図、第２図は従来の装置の
縦断面図である。 １……処理室、２……上蓋、２ａ……ひさし、
２ｂ……通路空間、２ｃ……スリツト、２ｄ……
排出口、２ｅ……側路、３……下蓋、４……ウエ
ハ、５……回転載置台、６……供液パイプ。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 上蓋と下蓋で形成される処理室と、前記上蓋と
   下蓋の少なくとも一方を上下させて前記処理室を
   開放もしくは密封する上下手段と、前記処理室内
   に設けられてウエハ等を載置保持する回転載置台
   と、この回転載置台を回転させる回転手段と、前
   記回転載置台に載置されたウエハ等の上に所用の
   処理液を滴下する処理液供給手段と、処理室の開
   放時にウエハ等を移送する搬送手段とを備えたウ
   エハ等の現像・洗浄装置において、 前記上蓋はその下部壁内に周縁を囲繞して設け
   られる通路空間と、この通路空間に沿つて設けら
   れ通路空間から前記処理室へ通ずるスリツトと、
   前記通路空間に通じる少なくとも一つの排出口と
   を外側に有し、かつこの排出口に接続され前記処
   理室内を吸引するバキユーム手段とを具備したこ
   とを特徴とするウエハ等の現像・洗浄装置。