JPH0538877A

JPH0538877A - 光記録媒体

Info

Publication number: JPH0538877A
Application number: JP3218072A
Authority: JP
Inventors: Chieko Mihara; 知恵子三原; Takeshi Santo; 剛三東; Hiroyuki Sugata; 裕之菅田
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1991-08-05
Filing date: 1991-08-05
Publication date: 1993-02-19

Abstract

(57)【要約】【目的】耐光性及び繰り返し再生耐久性の良い光記録
媒体を提供する。【構成】有機色素薄膜中に、下記一般式［Ｉ］で表わ
される化合物を含有する光記録媒体。また、前記化合物
は下引層、記録補助層、保護層又は接着剤層の少なくと
も１つに含有されていていてもよい。【化１】（Ｒ₁ ，Ｒ₂ ，Ｒ₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅ ，Ｒ₆ ，Ｒ₇ ，Ｒ₈ は
水素原子又は１価の有機残基を表わし、Ｒ₁ ，Ｒ₂ ，Ｒ
₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅ ，Ｒ₆ ，Ｒ₇ ，Ｒ₈は各々異っていても
または同じでもよい。Ｒ₁ とＲ₂ ，Ｒ₃ とＲ₄ ，Ｒ₅ と
Ｒ₆ ，Ｒ₇ とＲ₈の組み合せで、５員環，６員環又は７
員環を形成してもよい。Ａは芳香族環又は複素環を表わ
し、そして全ての芳香族環および複素環は水酸基，ハロ
ゲン基又は１価の有機残基によって置換されていてもよ
い。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光、特に半導体
レーザによる光学的書き込み記録に適した光学的記録媒
体に関し、詳しくは光ディスクまたは光カード技術に用
いうる改善された光記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、光ディスクおよび光カードは、
基体の上に設けた薄い記録層に形成された光学的に検出
可能な小さな（例えば、約１μｍ）ピットをらせん状又
は円形および直線状のトラック形態にして高密度情報を
記憶することができる。

【０００３】この様な光ディスクおよび光カードに情報
を書き込むには、レーザ感応層（記録層）の表面に集束
したレーザを走査し、このレーザ光線が照射された表面
のみがピットを形成し、このピットをらせん状又は円形
および直線状トラックの形態で形成する。レーザ感応層
（記録層）は、レーザ・エネルギーを吸収して光学的に
検出可能なピットを形成できる。例えば、ヒートモード
記録方式では、レーザ感応層は熱エネルギーを吸収し、
その個所に蒸発又は融解により小さな凹部（ピット）を
形成できる。また、別のヒートモード記録方式では、照
射されたレーザ・エネルギーの吸収により、その個所に
光学的に検出可能な濃度差を有するピットを形成でき
る。

【０００４】ここで、反射率の高い記録層として有機色
素薄膜を用いることにより、記録ピットの光学的コント
ラストを高く設定することができる。例えば、有機色素
薄膜として、レーザ光に対する光吸収の大きいポリメチ
ン系色素、アズレン系色素、シアニン系色素、ピリリウ
ム系色素等を用いると、金属光沢（反射率１０〜５０
％）を示す光吸収反射膜が得られ、レーザ記録が可能で
反射読み出しが可能な光学記録媒体になる。特に、レー
ザ光源として発振波長７００〜９００ｎｍの半導体レー
ザを用いると、装置の小型化，低コスト化が可能となる
利点を有している。しかしながら、有機色素薄膜は、一
般に熱および光に対して、物質変化しやすい等の原因か
ら、記録再生特性および保存安定性が低下するという問
題があった。

【０００５】このような問題に対し、すでに特開昭６０
−２３６１３１号公報、特開昭６０−２５９４９８号公
報、特開昭６２−３００８８号公報、特開昭６２−３２
１３２号公報、特開昭６３−７４６８９号公報、特開昭
６３−２２６６４２号公報、特開平１−３１６９３号公
報、特開平１−３８４９０号公報、特開平１−１１３４
８２号公報等に、有機色素薄膜にトリアリールアミン系
化合物のアミニウム塩、ジイモニウム塩を色素の安定化
剤として含有させる方法が提案されている。

【０００６】しかしながら、これらのアミニウム塩、ジ
イモニウム塩は、それらの中性体であるトリアリールア
ミン系化合物の銀塩酸化あるいは電解酸化により、一電
子酸化体あるいは二電子酸化体にかえた化合物である。
しかし、それらの一電子酸化状態・二電子酸化状態の間
の明確な区別が難しく、純度を定量化しにくいという製
造上の問題点があった。

【０００７】また、化合物によっては、一電子酸化状態
・二電子酸化状態が非常に不安定で酸化を試みてもトリ
アリールアミン系化合物の中性体のまま変化しない化合
物だったり、酸化されるはずが、分解してしまうなど、
製造上の安定性にも問題点があった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の様な欠点を解決した安定性・純度のよいトリアリール
アミン系化合物を用いた光記録媒体を提供するものであ
る。

【０００９】さらに、本発明の目的は、耐光性および繰
り返し再生耐久性の良い色素安定化剤を用いた光記録媒
体を提供するものである。

【００１０】また、本発明で使用するトリアリールアミ
ン系化合物は、従来のアミニウム塩、ジイモニウム塩化
合物と比較すると、酸化工程が不要となることで、コス
トの低減も可能となるだけでなく、構造上の対イオンが
不要となることで、分子量も小さくなり、単位重量当り
の吸光度および反射率を大きくすることができ、より高
感度化を可能とした光記録媒体を提供するものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、有機色
素薄膜中に、下記一般式［Ｉ］で表わされる化合物を含
有することを特徴とする光記録媒体である。

【００１２】

【化５】

【００１３】（式中、Ｒ₁ ，Ｒ₂ ，Ｒ₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅ ，
Ｒ₆ ，Ｒ₇ ，Ｒ₈ は水素原子または１価の有機残基を表
わす。Ｒ₁ ，Ｒ₂ ，Ｒ₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅ ，Ｒ₆ ，Ｒ₇ ，Ｒ
₈ は各々異っていてもまたは同じであってもよい。ま
た、Ｒ₁ とＲ₂ ，Ｒ₃ とＲ₄ ，Ｒ₅ とＲ₆ ，Ｒ₇ とＲ₈
の組み合せで、５員環，６員環または７員環を形成して
もよい。Ａは芳香族環または複素環を表わし、そして全
ての芳香族環および複素環は水酸基，ハロゲン基または
１価の有機残基によって置換されていてもよい。）

【００１４】また、本発明は、有機色素薄膜、下引層、
記録補助層、保護層または接着剤層の少なくとも１つ
に、前記一般式［Ｉ］で表わされる化合物を含有するこ
とを特徴とする光記録媒体である。

【００１５】以下、本発明を詳細に説明する。一般式
［Ｉ］において、Ｒ₁ 〜Ｒ₈ は、水素原子または１価の
有機残基を示す。１価の有機残基としては、広範なもの
から選択することができるが、特にアルキル基（メチル
基，エチル基，ｎ−プロピル基，ｉｓｏ−プロピル基、
ｎ−ブチル基，ｉｓｏ−ブチル基，ｔ−ブチル基，ｎ−
アミル基，ｔ−アミル基，ｎ−ヘキシル基，ｎ−オクチ
ル基，ｔ−オクチル基，２−エチルヘキシル基など）、
さらに置換アルキル基としては（２−ヒドロキシエチル
基，３−ヒドロキシプロピル基，４−ヒドロキシブチル
基，２−アセトキシエチル基，カルボキシメチル基，２
−カルボキシエチル基，３−カルボキシプロピル基，メ
トキシエチル基，エトキシエチル基，メトキシプロピル
基）、アルケニル基としては（ビニル基，プロペニル
基，ブテニル基，ペンテニル基，ヘキセニル基，ヘプテ
ニル基，オクテニル基など）、アリール基としては（フ
ェニル基，トリル基，キシリル基，エチルフェニル基，
メトキシフェニル基，クロロフェニル基，ニトロフェニ
ル基，ジメチルアミノフェニル基，ジエチルアミノフェ
ニル基，α−ナフチル基，β−ナフチル基など）、アラ
ルキル基としては（例えば、ベンジル基，ｐ−クロロベ
ンジル基，ｐ−メチルベンジル基，２−フェニルメチル
基，２−フェニルプロピル基，３−フェニルプロピル
基，α−ナフチルメチル基，β−ナフチルエチル基な
ど）、アルキニル基としては（プロパギル基，ブチニル
基，ペンチニル基，ヘキシニル基など）などが好まし
い。Ｒ₁ 〜Ｒ₈ は各々異なっていても又は同じであって
もよい。

【００１６】また、Ｒ₁ とＲ₂ ，Ｒ₃ とＲ₄ ，Ｒ₅ とＲ
₆ およびＲ₇ とＲ₈の組み合せで、置換もしくは未置換
の５員環，６員環または７員環を形成してもよい。置換
もしくは未置換の複素５員環としては、ピロリジン環、
置換もしくは未置換の６員環としては、ピペリジン環，
モルホリン環，テトラヒドロピリジン環、置換もしくは
未置換の７員環としては、シクロヘキシルアミン環など
である。

【００１７】Ａはベンゼン環またはナフタレン環などの
芳香族環、複素環を表わし、芳香族環としては（例え
ば、

【００１８】

【化６】

【００１９】など）、複素環としては（例えば、

【００２０】

【化７】

【００２１】など）が挙げられる。これらの芳香族環、
複素環は、低級アルキル基，アルコキシ基，ハロゲン
基，水酸基，ニトロ基，シアノ基などで置換されていて
もよい。

【００２２】本発明における一般式［Ｉ］で表わされる
化合物の製造方法は、米国特許明細書３２５１８８１
号，米国特許明細書３５７５８７１号，米国特許明細書
３４８４４６７号および特開昭６１−６９９９１号等に
記載された方法を利用することが出来る。例えば、次の
過程により製造することが出来る。

【００２３】

【化８】

【００２４】上記ウルマン反応及び還元反応により得た
アミノ体を選択的置換化によりアルキル化，アルケニル
化，アラルキル化，アルキニル化，環化などにより置換
化した最終生成物を使用すればよい。Ｒ₁ からＲ₈ が非
対称となる場合には、このアルキル化を多段階に行う必
要があり、コスト的にはＲ₁ からＲ₈ が同一の場合が好
ましい。

【００２５】次に、本発明による一般式［Ｉ］で表わさ
れる化合物の具体例を下記に列挙するが、これらに制御
されるものではない。なお、簡略化のために、Ａが

【００２６】

【化９】

【００２７】で、Ｒ₁ ，Ｒ₂ ，Ｒ₃ ，Ｒ₄ がエチル基
で、Ｒ₅ ，Ｒ₆ ，Ｒ₇ ，Ｒ₈ がメチル基の場合は、

【００２８】

【化１０】

【００２９】と表わす。

【００３０】また、Ａが

【００３１】

【化１１】

【００３２】で、Ｒ₁ とＲ₂ ，Ｒ₃ とＲ₄ ，Ｒ₅ とＲ
₆ ，Ｒ₇ とＲ₈ の組み合わせで、５員環を形成する場合
は、

【００３３】

【化１２】

【００３４】と表わす。

【００３５】

【化１３】

【００３６】

【化１４】

【００３７】

【化１５】

【００３８】

【化１６】

【００３９】

【化１７】

【００４０】

【化１８】

【００４１】

【化１９】

【００４２】

【化２０】

【００４３】

【化２１】

【００４４】

【化２２】

【００４５】

【化２３】

【００４６】

【化２４】

【００４７】

【化２５】

【００４８】

【化２６】

【００４９】

【化２７】

【００５０】

【化２８】

【００５１】

【化２９】

【００５２】

【化３０】

【００５３】

【化３１】

【００５４】

【化３２】

【００５５】

【化３３】

【００５６】

【化３４】

【００５７】

【化３５】

【００５８】このようなトリアリールアミン系化合物は
アミニウム塩、ジイモニウム塩化合物のような赤外領域
における大きな吸収ピークはない。しかし、酸化還元電
位を測定すると、そのアミニウム塩、ジイモニウム塩と
同じ酸化還元電位を有している。従って、色素と併用す
る際には、色素の酸化劣化、あるいは還元劣化に対して
中性体のトリアリールアミン系化合物は、アミニウム
塩、ジイモニウム塩化合物と同等の効果を示すことが認
められた。また、色素に対し同じ体積あるいは重量％添
加した場合には、分子量が小さく、有効成分が多く含ま
れることから、色素の酸化・還元劣化に対してより優れ
た抑制効果を示すことが認められた。

【００５９】本発明の光記録媒体は、図１に示す様に、
基板１の上に前記一般式［Ｉ］で表わされるトリアリー
ルアミン系化合物を含有する記録層２を設けることによ
り形成することができる。

【００６０】基板としては、ポリカーボネート、ポリエ
ステル、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、フェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリイミドなどの
プラスチック、ガラスあるいは金属類などを用いること
ができる。

【００６１】記録層として、前記一般式［Ｉ］で表わさ
れるトリアリールアミン系化合物と併用される有機色素
薄膜を形成する近赤外吸収色素としては、一般的に知ら
れている色素が用いられ、例えばシアニン系色素，メロ
シアニン系色素，クロコニウム系色素，スクアリウム系
色素，アズレニウム系色素，ポリメチン系色素，ナフト
キノン系色素，ピリリウム系色素，フタロシアニン系色
素，トリフェニルメタン系色素，キサンテン系色素，ア
ントラキノン系色素，ジオキサジン系色素，テトラヒド
ロコリン系色素，トリフェノチアジン系色素，フェナン
スレン系色素、ナフタロシアニン系色素，ナフトラクタ
ム系色素，アミニウム塩・ジイモニウム塩系色素，金属
キレート錯体系染料などがある。あるいは金属および金
属化合物など、例えばＡｌ，Ｔｅ，Ｂｉ，Ｓｎ，Ｉｎ，
Ｓｅ，ＳｎＯ，ＴｅＯ₂ ，Ａｓ，Ｃｄなど、あるいは紫
外線吸収剤などと混合分散あるいは積層してもよい。

【００６２】記録層２は塗布法あるいは蒸着法等の種々
の方法により基板１上に形成される。塗布法を用いる場
合には、トリアリールアミン系化合物を有機溶媒中に溶
解あるいは分散した溶液を基板１上に塗布することによ
って形成することができる。また、必要に応じて成膜性
および塗膜安定性を考慮してバインダーを記録層中に混
合して成膜することもできる。

【００６３】塗布の際に使用できる有機溶媒は、前述の
トリアリールアミン系化合物を分散状態とするか、或い
は溶解状態とするかによって異なるが、一般にはアルコ
ール系、ケトン系、アミド系、エーテル系、エステル
系、脂肪族ハロゲン化炭化水素系、芳香族系、脂肪族炭
化水素系などの溶媒を用いることができる。

【００６４】また、バインダーとしては、例えばニトロ
セルロース，エチルセルロース，ポリスチレン，ポリビ
ニルピロリドン，ポリメチルメタクリレート，ポリアミ
ドなどが挙げられる。また、必要により、ワックス、高
級脂肪酸、アミド類（例えば、オレイルアミド）を添加
剤として用いる。

【００６５】以上のバインダーにジオクチルフタレー
ト，ジブチルフタレート，トリクレジルフォスフェート
等の可塑剤、鉱油，植物油等の油剤、更にアルキルベン
ゼンスルホン酸ソーダ，ポリオキシエチレンアルキルフ
ェニルエーテル等の分散剤及びその他の添加剤を適宜混
合させ記録層の成膜性，塗膜安定性を高めることができ
る。

【００６６】塗工は、浸漬コーティング法、スプレーコ
ーティング法、スピンナーコーティング法、ビードコー
ティング法、マイヤーバーコーティング法、ブレードコ
ーティング法、ローラーコーティング法、グラビアコー
ティング法などのコーティング法を用いて行うことがで
きる。

【００６７】記録層２中の前記一般式［Ｉ］で表わされ
るトリアリールアミン系化合物の含有量は通常５〜７０
重量％、好ましくは１０〜５０重量％が望ましい。５重
量％未満では光劣化制御効果が不十分であり、７０重量
％をこえると有機色素の量が少なくなり、十分な光吸収
性とレーザ光に対して十分な光反射率を得ることができ
ない。

【００６８】また、記録層２の膜厚は１００Å〜２０μ
ｍ、好ましくは２００Å〜１μｍが適当である。

【００６９】さらに、本発明の光学記録媒体は、図２に
示すように、記録層２上に記録及び再生レーザー光に対
して透明な保護層３を設けることができる。該保護層３
は、基板１側から光を照射する場合は不透明でも差支え
ない。

【００７０】また、図３に示すように、基板１と記録層
２の間に下引層４を設けても良い。また、図４に示す様
に、保護層３及び下引層４を共に用いることも可能であ
る。

【００７１】下引き層は（ａ）接着性の向上、（ｂ）水
またはガスなどのバリヤー、（ｃ）記録層の保存安定性
の向上、（ｄ）反射率の向上、（ｅ）溶剤からの基板の
保護および（ｆ）プレグルーブの形成などを目的として
設けられる。（ａ）の目的に対しては高分子材料、例え
ばアイオノマー樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニル系樹
脂、天然高分子、シリコーン、液状ゴムなどの種々の材
料もしくはシランカップリング剤などの種々の物質を用
いることができ、（ｂ），（ｃ）の目的に対しては上記
高分子材料以外に無機化合物、例えばＳｉＯ₂ ，ＭｇＦ
₂ ，ＳｉＯ，ＴｉＯ₂ ，ＺｎＯ，ＴｉＮ，ＳｉＮなど、
金属または半金属、例えばＺｎ，Ｃｕ，Ｓ，Ｎｉ，Ｃ
ｒ，Ｇｅ，Ｓｅ，Ｃｄ，Ａｇ，Ａｌなどを用いることが
できる。（ｄ）の目的に対しては金属、例えばＡｌ，Ａ
ｇなど、または金属光沢を有する有機薄膜、例えばシア
ニン染料、メチン染料、アズレン系染料などを用いるこ
とができる。そして（ｅ），（ｆ）の目的に対しては紫
外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などを用い
ることができる。下引き層の膜厚は５０Å〜１００μ
ｍ、好ましくは２００Å〜３０μｍが適当である。

【００７２】また、保護層は、キズ、ホコリ、汚れなど
からの保護および記録層の保存安定性の向上および反射
率の向上を目的として設けられ、その材料としては下引
き層と同じ材料を使用することができる。保護層の膜厚
は１００Å以上、好ましくは１０００Å以上が適当であ
る。

【００７３】この際、下引層および／または保護層中に
は本発明の一般式［Ｉ］のトリアリールアミン系化合物
が含有されていてもよい。また、下引き層または保護層
には安定剤、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面
活性剤、可塑剤などが含有されていてもよい。

【００７４】さらに、本発明による光学記録媒体の別の
構成としては、図１から図４に示した同一構成の２枚の
記録媒体（場合によりその１枚を基板のみとして）を用
い記録層２を内側に配置して密封したいわゆるエアーサ
ンドイッチ構造にしてもよいし、保護層３を介して接着
したいわゆる密着構造（貼り合せ構造）にしてもよい。
密着構造の場合には、その接着層中に本発明の一般式
［Ｉ］で表わされるトリアリールアミン系化合物が含有
されていてもよい。

【００７５】以上の様に、本発明においては、有機色素
薄膜、下引層、記録補助層、保護層または接着剤層の少
なくとも１つに、一般式［Ｉ］で表わされるトリアリー
ルアミン系化合物が含有されてもよいが、その含有量は
１〜７０重量％、好ましくは１０〜５０重量％の範囲が
好ましい。

【００７６】本発明の光学記録媒体は、ヘリウム−ネオ
ンレーザ（発振波長６３３ｎｍ) などのガスレーザの照
射によって記録することも可能であるが、好ましくは７
５０ｎｍ以上の波長を有するレーザ、特にガリウム−ア
ルミニウム−ヒ素半導体レーザ（発振波長８３０ｎｍ)
などの近赤外あるいは赤外領域に発振波長を有するレー
ザ光線の照射によって記録する方法が適している。ま
た、読み出しのためには、前述のレーザ光線を用いるこ
とができる。この際、書込みと読み出しを同一波長のレ
ーザで行なうことができ、また異なる波長のレーザで行
なうこともできる。

【００７７】

【実施例】次に、本発明を実施例に従って詳細に説明す
るが、これらに限定されるものではない。実施例１直径１３０ｍｍφ、厚さ１．２ｍｍのポリメチルメタク
リレート（以下、ＰＭＭＡと記す）基板上に紫外線硬化
樹脂（２Ｐ法）により５０μｍのプレグループを設け、
その上にポリメチン色素（日本化薬製ＩＲ−８２０）の
有機色素と前記トリアリールアミン系化合物Ｎｏ．
［Ｉ］−（４）を重量比８５：１５で１，２−ジクロロ
エタンに溶解させた液を、スピン塗布により厚さ９００
Åの記録層を設けた。このようにして得た媒体の内周側
と外周側に０．３ｍｍのスペーサーをはさみ、紫外線硬
化性樹脂接着剤で他のＰＭＭＡ基板と貼合せエアーサン
ドイッチ構造の光記録媒体を得た。

【００７８】これを１８００ｒｐｍに回転させ、波長８
３０ｎｍの半導体レーザーを用いて、基板側より記録パ
ワー８ｍＷ、記録周波数２ＭＨｚで書き込みを行った。
次に、読み出しパワー０．６ｍＷで再生し、Ｃ／Ｎ比を
スペクトル解析により測定した。続いて、１０万回の読
み出し（再生くり返し）を行った後のＣ／Ｎ比を測定し
た。また、日立分光光度計を用いて反射率を測定した。

【００７９】更に、前記条件で作成した光記録媒体に、
１ＫＷ／ｍ² のキセノンランプ光を２００時間照射し耐
光安定性試験を行い、反射率およびＣ／Ｎ比を測定し
た。結果を表−１に示す。

【００８０】

【表１】

【００８１】実施例２〜８実施例１と同様の基板上に、実施例１と同様の方法で、
下記に挙げる色素と前記トリアリールアミン系化合物を
用いて、表−２の組成からなる光記録媒体を作成し、実
施例１と同様の試験を行った。その結果を表−３に示
す。

【００８２】

【化３６】

【００８３】

【化３７】

【００８４】

【表２】

【００８５】（注）重量比は、有機色素：化合物［Ｉ］
の比を示す。

【００８６】比較例１〜３実施例２，３および４で用いた化合物［Ｉ］を除いた以
外は実施例２，３及び４と同様の方法で、光記録媒体を
作成し、評価した。結果を表−３に示す。

【００８７】

【表３】

【００８８】実施例９〜１３ウォーレットサイズの厚さ０．４ｍｍポリカーボネート
（以下、「ＰＣ」と略記する）基板上に熱プレス法によ
りプレグループを設け、その上に下記に示す有機系色素
および化合物［Ｉ］を、表−４に示す組成でジアセトン
アルコール中に混合させた液を、バーコート法により塗
布した後、乾燥して９００Åの記録層を得た。さらに、
その上にエチレン−酢ビドライフィルムを介してウォー
レットサイズの厚さ０．３ｍｍＰＣ基板を熱ロール法に
より貼り合せ密着構造の光記録媒体を作製した。

【００８９】こうして作製した各実施例の光記録媒体を
Ｘ−Ｙ方向に駆動するステージ上に取り付け、発振波長
８３０ｎｍの半導体レーザを用いて、厚さ０．４ｍｍの
ＰＣ基板側より有機薄膜記録層に、記録パワー３．５ｍ
Ｗで記録パルス６０μｓｅｃでＹ軸方向に情報を書き込
み、読み出しパワー０．２ｍＷで再生し、そのコントラ
スト比

【００９０】

【数１】

【００９１】を測定した。また、反射率も同じ装置を用
いて測定した。

【００９２】さらに、前記条件で作製した同一光記録媒
体を実施例１と同様の条件の耐光安定性試験を行い、そ
の後の反射率およびコントラスト比を測定した。その結
果を表−５に示す。

【００９３】化合物Ｎｏ．（ＩＸ）ＩＲ−８２０日本化
薬（製）

【００９４】

【化３８】

【００９５】

【化３９】

【００９６】

【表４】

【００９７】比較例４，５実施例１０と１３で化合物［Ｉ］を除いた以外は実施例
１０と１３と同様の方法で、光記録媒体を作成し、評価
した。結果を表−５に示す。

【００９８】

【表５】

【００９９】実施例１４実施例９と同じ色素化合物（Ｘ）を用い、記録層中に化
合物［Ｉ］を添加しないで実施例９と同じバーコード法
で塗布し、乾燥後９００Åの記録層を得た。さらに、そ
の上に三井デュポン（株）エバフレックスＥＶ−２６０
および化合物［Ｉ］−（１０）を重量化７０：３０でｍ
−キシレン２０ｗｔ％溶液としたものを、２０００回転
で６０秒間スピナー塗布し、厚さ８μｍの接着層を設け
た。この上にウォーレットサイズの厚さ０．３ｍｍのＰ
Ｃ基板を重ね合わせ、熱ロール法により密着構造の光学
記録媒体を作製した。

【０１００】このようにして作製した光学記録媒体を実
施例９と同様の方法で測定し評価をを行なった。この結
果を表−６に示す、さらに、再生光劣化時間（０．２ｍ
Ｗの再近ビームを照射しつづけた時、その場所の反射率
が１０％低下するまでの時間）を測定した。その結果も
合せて表−６に示す。

【０１０１】実施例１５実施例９と同じ色素化合物（Ｘ）を用い、記録層中に化
合物［Ｉ］を添加しないで実施例９と同じバーコード法
で塗布し、乾燥後９００Åの記録層を得た。さらに、こ
の上に紫外線硬化型シリコーン樹脂（東芝シリコーン
（製）ＴＵＶ−６０５０）に化合物［Ｉ］−（８）を重
量比９：１の割合で混合した溶液を、５００回転：６０
秒間でスピナー塗布し、次いで窒素雰囲気下で１６０Ｗ
／ｃｍ高圧水銀ランプを用い、照射距離１３ｃｍで紫外
線を３０秒間照射して上記紫外線硬化型シリコーン樹脂
を硬化し、記録補助層を形成した。記録層・記録補助層
の形成された基板と、保護基材として厚さ０．３ｍｍの
ポリカーボネート基板とをエチレン−酢酸ビニル共重合
体系ホットメルト接着剤（ヒロダイン７５００，ヒロダ
イン工業社製）を用い、熱ロール法により密着構造の光
学記録媒体を作製した。

【０１０２】このようにして作製した光学記録媒体を、
実施例１４と同様の方法で初期の反射率およびコントラ
スト、耐光試験後の反射率およびコントラスト、また再
生光劣化時間を測定し評価した。その結果も表−６に示
す。

【０１０３】実施例１６ウォーレットサイズの厚さ０．４ｍｍＰＣ基板上に熱プ
レス法によりプレグルーブを設け、その上に下引き層と
してコルコートＮ−１０３Ｘ（コルコート（株）製）に
化合物［Ｉ］−（１２７）を重量比９０：１０の割合で
混合したものを、１０００回転：６０秒でスピナー塗布
し、６０℃，１時間乾燥した。その上に有機色素化合物
（Ｘ）をジアセトンアルコール中に混合させた液をバー
コート法により塗布した後、乾燥して９００Åの記録層
を得た。この上に実施例９と同様にして、エチレン−酢
ビニルドライフィルムを介して、厚さ０．３ｍｍＰＣ基
板と熱ロール法により貼り合わせ密着構造の光学記録媒
体を作製した。

【０１０４】このようにして作製した光学記録媒体を実
施例１４と同様の方法で、初期の反射率およびコントラ
スト、耐光試験後の反射率およびコントラスト、また再
生劣化時間を測定し、評価した。結果を表−６に示す。

【０１０５】比較例６実施例１４において、化合物［Ｉ］を除いた以外は、実
施例１４と同様の方法で光学記録媒体を作成し、評価し
た。結果を表−６に示す。

【０１０６】

【表６】

【０１０７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の一般式
［Ｉ］で表わさせる化合物を用いた光記録媒体は、一般
式［Ｉ］の化合物の純度・安定性がよいことにより、耐光安定性が向上した。再生光劣化時間が著しく長くなった。繰り返し再生耐久がよくなった。等の効果が得られた。

【０１０８】また、一般式［Ｉ］の化合物の製造におい
て、酸化工程が不要となることで、コストの低限も可能
となった。さらに、一般式［Ｉ］の化合物は構造上の対
イオンが不要となることで、分子量も小さくなり、単位
重量あたりの吸光度および反射率が大きくなり、より高
感度化を可能とした。また、一般式［Ｉ］の化合物は脂
肪族炭化水素への溶解性が向上したことにより、記録層
だけでなく接着層、下引層等にも光安定化剤として添加
できるようになった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光学的記録媒体の一実施態様を示す断
面図である。

【図２】本発明の光学的記録媒体の他の実施態様を示す
断面図である。

【図３】本発明の光学的記録媒体の他の実施態様を示す
断面図である。

【図４】本発明の光学的記録媒体の他の実施態様を示す
断面図である。

【符号の説明】

１基板２記録層３保護層４下引層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】有機色素薄膜中に、下記一般式［Ｉ］で
表わされる化合物を含有することを特徴とする光記録媒
体。【化１】（式中、Ｒ₁ ，Ｒ₂ ，Ｒ₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅ ，Ｒ₆ ，Ｒ₇ ，
Ｒ₈ は水素原子または１価の有機残基を表わす。Ｒ₁ ，
Ｒ₂ ，Ｒ₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅ ，Ｒ₆ ，Ｒ₇ ，Ｒ₈ は各々異っ
ていてもまたは同じであってもよい。また、Ｒ₁とＲ
₂ ，Ｒ₃ とＲ₄ ，Ｒ₅ とＲ₆ ，Ｒ₇ とＲ₈ の組み合せ
で、５員環，６員環または７員環を形成してもよい。Ａ
は芳香族環または複素環を表わし、そして全ての芳香族
環および複素環は水酸基，ハロゲン基または１価の有機
残基によって置換されていてもよい。）
【請求項２】Ａが【化２】（ｎは１または２を示す）で表わされる請求項１記載の
光記録媒体。
【請求項３】Ａが【化３】で表わされる請求項１記載の光記録媒体。
【請求項４】有機色素薄膜、下引層、記録補助層、保
護層または接着剤層の少なくとも１つに、下記一般式
［Ｉ］で表わされる化合物を含有することを特徴とする
光記録媒体。【化４】（式中、Ｒ₁ ，Ｒ₂ ，Ｒ₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅ ，Ｒ₆ ，Ｒ₇ ，
Ｒ₈ は水素原子，ハロゲン基または１価の有機残基を表
わす。Ｒ₁ ，Ｒ₂ ，Ｒ₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅ ，Ｒ₆ ，Ｒ₇ ，Ｒ
₈ は各々異っていてもまたは同じであってもよい。ま
た、Ｒ₁ とＲ₂ ，Ｒ₃ とＲ₄ ，Ｒ₅ とＲ₆ ，Ｒ₇ とＲ₈
の組み合せで、５員環，６員環または７員環を形成して
もよい。Ａは芳香族環または複素環を表わし、そして全
ての芳香族環および複素環は水酸基，ハロゲン基または
１価の有機残基によって置換されていてもよい。）