JPH0729494B2 - 光情報記録媒体 - Google Patents
光情報記録媒体Info
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- JPH0729494B2 JPH0729494B2 JP61043747A JP4374786A JPH0729494B2 JP H0729494 B2 JPH0729494 B2 JP H0729494B2 JP 61043747 A JP61043747 A JP 61043747A JP 4374786 A JP4374786 A JP 4374786A JP H0729494 B2 JPH0729494 B2 JP H0729494B2
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- Japan
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- recording medium
- carbon atoms
- recording
- recording layer
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
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- G—PHYSICS
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- G11B7/2467—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes azo-dyes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、レーザ、特に半導体レーザによる書き込み、
再生記録がなされる光メモリ媒体に関する。
再生記録がなされる光メモリ媒体に関する。
一般に光ディスクは、基板上に設けた薄膜記録層に形成
された光学的に検出可能な小さな（例えば約１μｍ）ピ
ットをらせん状又は円形のトラック形態にして高密度情
報を記憶することができる。この様なディスクに情報を
書込むには、レーザ感応層の表面に集束したレーザを走
査し、このレーザ光線が照射された表面のみにピットを
形成し、このピットをらせん状又は円形トラック等の形
態で形成する。この感応層はレーザエネルギーを吸収し
て光学的に検出可能なピットを形成できる。例えばヒー
トモード記録方式では記録層がレーザエネルギーを吸収
してその照射部分が局部的に加熱され融解蒸発あるいは
凝集等の物理的変化を起こし非照射部分との間に光学的
差異（例えば反射率、吸収率等）を生じさせて読み取る
ことによって検出される。この様な光記録媒体としてこ
れまでアルミニウム蒸着膜などの金属薄膜、ビスマス薄
膜、テルル系薄膜やカルコゲナイド系非晶質ガラス膜な
どの無機物質が提案されている。
された光学的に検出可能な小さな（例えば約１μｍ）ピ
ットをらせん状又は円形のトラック形態にして高密度情
報を記憶することができる。この様なディスクに情報を
書込むには、レーザ感応層の表面に集束したレーザを走
査し、このレーザ光線が照射された表面のみにピットを
形成し、このピットをらせん状又は円形トラック等の形
態で形成する。この感応層はレーザエネルギーを吸収し
て光学的に検出可能なピットを形成できる。例えばヒー
トモード記録方式では記録層がレーザエネルギーを吸収
してその照射部分が局部的に加熱され融解蒸発あるいは
凝集等の物理的変化を起こし非照射部分との間に光学的
差異（例えば反射率、吸収率等）を生じさせて読み取る
ことによって検出される。この様な光記録媒体としてこ
れまでアルミニウム蒸着膜などの金属薄膜、ビスマス薄
膜、テルル系薄膜やカルコゲナイド系非晶質ガラス膜な
どの無機物質が提案されている。
これらは、蒸着法、スパッタ法などにより薄膜が得ら
れ、近赤外域でも光吸収を有するため半導体レーザが使
用できるという長所があるが、反面反射率が大きく、し
かも熱伝導率が大きく比熱も大きい等の欠点がある。特
に反射率が大きいということは、レーザ光のエネルギー
を有効に利用できないので記録に要する光エネルギーが
大きくなり、大出力レーザ光源を必要とする。その結
果、記録装置が大型かつ高価になると云う欠点がある。
また、テルル、ビスマス、セレン等の薄膜では毒性を有
するという欠点がある。このような事から、近年吸収性
の選択ができ、吸収率が大きく、さらに熱伝導が小さ
く、加えて生産性が良く且つ毒性が低いことから色素薄
膜を記録層として適用した光学メモリ媒体の研究提案が
なされて来ている。代表的色素としてはシアニン系色素
（特開昭58−112790）、アントラキノン系色素（特開昭
58−224448）、ナフトキノン系色素（特開昭58−22479
3）、及びフタロシアニン系色素（特開昭60−48396）等
があり、これらを単独又は自己酸化性樹脂との併用から
成る化合物をスピンナー塗布、ディッピング法、プラズ
マ法又は真空蒸着法等により、基板上に形成した光記録
媒体である。この色素薄膜系は上記長所を有し、特にシ
アニン系色素は構造的に近赤外に吸収波長をもたせるこ
とが可能であり、しかも溶剤に対する溶解性及び融点が
低い等の長所を有することから多く検討がなされてい
る。反面、光劣化、熱に対して不安定及び湿度劣化等が
あり、長期保存性及び再生安定性（読み出し光に対する
安定性）等に問題があると従来言われており、これらの
問題について種々の改良案が出されている。具体的に
は、記録層上に保護膜を設けること（特開昭55−22961,
57−66541）、酸素による退色防止物質を混合すること
（特開昭59−55795）、長波長域に光吸収を有する金属
錯体を添加すること（特開昭59−215892）等が提案され
ている。しかしながら、これらの提案によっても問題を
十分に解決しておらず、更に添加剤による成膜性や反射
率、吸収率の低下という問題が生じる。
れ、近赤外域でも光吸収を有するため半導体レーザが使
用できるという長所があるが、反面反射率が大きく、し
かも熱伝導率が大きく比熱も大きい等の欠点がある。特
に反射率が大きいということは、レーザ光のエネルギー
を有効に利用できないので記録に要する光エネルギーが
大きくなり、大出力レーザ光源を必要とする。その結
果、記録装置が大型かつ高価になると云う欠点がある。
また、テルル、ビスマス、セレン等の薄膜では毒性を有
するという欠点がある。このような事から、近年吸収性
の選択ができ、吸収率が大きく、さらに熱伝導が小さ
く、加えて生産性が良く且つ毒性が低いことから色素薄
膜を記録層として適用した光学メモリ媒体の研究提案が
なされて来ている。代表的色素としてはシアニン系色素
（特開昭58−112790）、アントラキノン系色素（特開昭
58−224448）、ナフトキノン系色素（特開昭58−22479
3）、及びフタロシアニン系色素（特開昭60−48396）等
があり、これらを単独又は自己酸化性樹脂との併用から
成る化合物をスピンナー塗布、ディッピング法、プラズ
マ法又は真空蒸着法等により、基板上に形成した光記録
媒体である。この色素薄膜系は上記長所を有し、特にシ
アニン系色素は構造的に近赤外に吸収波長をもたせるこ
とが可能であり、しかも溶剤に対する溶解性及び融点が
低い等の長所を有することから多く検討がなされてい
る。反面、光劣化、熱に対して不安定及び湿度劣化等が
あり、長期保存性及び再生安定性（読み出し光に対する
安定性）等に問題があると従来言われており、これらの
問題について種々の改良案が出されている。具体的に
は、記録層上に保護膜を設けること（特開昭55−22961,
57−66541）、酸素による退色防止物質を混合すること
（特開昭59−55795）、長波長域に光吸収を有する金属
錯体を添加すること（特開昭59−215892）等が提案され
ている。しかしながら、これらの提案によっても問題を
十分に解決しておらず、更に添加剤による成膜性や反射
率、吸収率の低下という問題が生じる。
こうしたことから、記録密度及び反射性の点より下記一
般式に示すシアニン系色素を用いた塗布型記録媒体が注
目されている。
般式に示すシアニン系色素を用いた塗布型記録媒体が注
目されている。
〔但し、式中のＡはO,S,Se,C、Ｘはハロゲン陰イオン,B
F4 -,ClO4 -、Ｒはアルキルを示す〕 しかしながら、上記一般式で表わされるシアニン系色素
についても成膜性、熱光安定性に欠けるという本質的な
問題を有する。成膜性については、メチン連鎖数（ｎ）
の増加により溶剤溶解性が低下すること、両端の複素環
の種類及び置換基の種類により溶解性が変わることが知
られている。熱光安定性については、メチン連鎖数が増
加する程、熱，光に対して不安定になり、酸化劣化も起
こり易くなること、複素環の種類により熱，光に対する
安定性が異なることが知られている。
F4 -,ClO4 -、Ｒはアルキルを示す〕 しかしながら、上記一般式で表わされるシアニン系色素
についても成膜性、熱光安定性に欠けるという本質的な
問題を有する。成膜性については、メチン連鎖数（ｎ）
の増加により溶剤溶解性が低下すること、両端の複素環
の種類及び置換基の種類により溶解性が変わることが知
られている。熱光安定性については、メチン連鎖数が増
加する程、熱，光に対して不安定になり、酸化劣化も起
こり易くなること、複素環の種類により熱，光に対する
安定性が異なることが知られている。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、高い反射率
と高い記録感度を有し、光学的信号の書き込み、再生を
安定して行なうことが可能で、かつ再生時の光や日光、
湿度に対する安定性の高い無公害の光情報記録媒体を提
供しようとするものである。
と高い記録感度を有し、光学的信号の書き込み、再生を
安定して行なうことが可能で、かつ再生時の光や日光、
湿度に対する安定性の高い無公害の光情報記録媒体を提
供しようとするものである。
本発明は、下記一般式（Ｉ）、（II）にて表わされる有
機色素を少なくとも１種含む記録層を備えることを特徴
とする光情報記録媒体である。
機色素を少なくとも１種含む記録層を備えることを特徴
とする光情報記録媒体である。
ただし、式（Ｉ）、（II）中のR1は炭素数１〜６のアル
キル基、アリル基、アラルキル基またはフェニル基、 Ａは、 ［R2は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキ
ル基、フェニル基、アラルキル基、アリル基、 （Ph;フェニル基）または （R3;炭素数１〜６のアルキル基）］、 Ｘは、パークロレート、フルオロボレート、アイオダイ
ド、クロライド、ブロマイド、ｐ−トルエンスルフォネ
ートから選ばれる陰イオン、 Ｙは、不飽和結合を有する炭素数２〜20の官能基、 ｎは、０または1,2の整数 を示し、 式（Ｉ）中のZ1は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１
〜18のアルキル基、アリル基、ニトロ基、ヒドロキシル
基、カルボキシル基、−OCF3、−OSF3、−R4OH、−R4CO
H、−R4COOH、−R4CR5、−R4COR5、−R4COOR5、−CO
R5、−COOR5、 −CH＝CH−CN、−NH2N（R5）２、−NHCOCH3、 （R4;炭素数１〜20のアルキレン基、R5;炭素数１〜18の
アルキル基）、 ｍは、１または２の整数、 を示し、 式（II）中のZ2は、インドールを構成するベンゼン環に
付加されるベンゼン環を示す。
キル基、アリル基、アラルキル基またはフェニル基、 Ａは、 ［R2は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキ
ル基、フェニル基、アラルキル基、アリル基、 （Ph;フェニル基）または （R3;炭素数１〜６のアルキル基）］、 Ｘは、パークロレート、フルオロボレート、アイオダイ
ド、クロライド、ブロマイド、ｐ−トルエンスルフォネ
ートから選ばれる陰イオン、 Ｙは、不飽和結合を有する炭素数２〜20の官能基、 ｎは、０または1,2の整数 を示し、 式（Ｉ）中のZ1は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１
〜18のアルキル基、アリル基、ニトロ基、ヒドロキシル
基、カルボキシル基、−OCF3、−OSF3、−R4OH、−R4CO
H、−R4COOH、−R4CR5、−R4COR5、−R4COOR5、−CO
R5、−COOR5、 −CH＝CH−CN、−NH2N（R5）２、−NHCOCH3、 （R4;炭素数１〜20のアルキレン基、R5;炭素数１〜18の
アルキル基）、 ｍは、１または２の整数、 を示し、 式（II）中のZ2は、インドールを構成するベンゼン環に
付加されるベンゼン環を示す。
本発明に用いる有機色素は、メチン連鎖中に 等で表わされるシクロ環等を導入することにより、特開
昭59−85791号に開示された のようなメチン連鎖のみから構成されたシアニン色素に
比べて耐熱性、耐光性が向上し、より耐保存性、再生劣
化特性に優れた記録層を形成できる。前記シクロ環等に
導入されるR2は、既述のとおりであるが、特にハロゲン
原子を用いた場合、Cl,Br又はアルキル基を用いた場
合、炭素数１〜３のもの基が好ましい。しかしながら、
シクロ環等を導入することにより、有機色素の溶解製が
低下する。このため、溶剤が限定され、均一な膜を形成
することが困難となり、媒体特性を十分に満足すること
が難しくなる。
昭59−85791号に開示された のようなメチン連鎖のみから構成されたシアニン色素に
比べて耐熱性、耐光性が向上し、より耐保存性、再生劣
化特性に優れた記録層を形成できる。前記シクロ環等に
導入されるR2は、既述のとおりであるが、特にハロゲン
原子を用いた場合、Cl,Br又はアルキル基を用いた場
合、炭素数１〜３のもの基が好ましい。しかしながら、
シクロ環等を導入することにより、有機色素の溶解製が
低下する。このため、溶剤が限定され、均一な膜を形成
することが困難となり、媒体特性を十分に満足すること
が難しくなる。
そこで、本発明に用いる有機色素ではインドールにＹと
して不飽和結合を有する炭素数２〜20の官能基を導入す
ることによって溶解性、基板への成膜性、基板との濡れ
性を補なうことができる。特に基板との濡れ性の向上
は、記録層の密着強度を高める。また、前記Ｙの導入に
よりその有機色素を含む記録層の高密度化も可能とな
る。かかる不飽和結合を有する炭素数２〜20の官能基と
しては、例えば未置換又は置換基をもつアリル基、ビニ
ル基、アリリデン基、アリルオキシ基、クロトノイル
基、スチリル基、ビニリデン基、ビニレン基、ジエン
基、メチリジン基、アクリロイル基、メタクリロイル
基、イソプロペニル基、エチニル基、ブテニル基等を挙
げることができる。こうした官能基は、炭素数が多くな
ると成膜性が良好となるが、耐湿性が低下する恐れがあ
るため、直鎖の炭素数が２〜９有するものが好ましい。
して不飽和結合を有する炭素数２〜20の官能基を導入す
ることによって溶解性、基板への成膜性、基板との濡れ
性を補なうことができる。特に基板との濡れ性の向上
は、記録層の密着強度を高める。また、前記Ｙの導入に
よりその有機色素を含む記録層の高密度化も可能とな
る。かかる不飽和結合を有する炭素数２〜20の官能基と
しては、例えば未置換又は置換基をもつアリル基、ビニ
ル基、アリリデン基、アリルオキシ基、クロトノイル
基、スチリル基、ビニリデン基、ビニレン基、ジエン
基、メチリジン基、アクリロイル基、メタクリロイル
基、イソプロペニル基、エチニル基、ブテニル基等を挙
げることができる。こうした官能基は、炭素数が多くな
ると成膜性が良好となるが、耐湿性が低下する恐れがあ
るため、直鎖の炭素数が２〜９有するものが好ましい。
また、本発明に用いる有機色素はインドールを構成する
ベンゼン環に（Ｚ）ｍ（ｍ＝１〜４の整数）を導入する
ことにより、分光特性、耐光性、化学的安定性が改善さ
れる。こうしたＺは記述したとおりであるが、直鎖状の
炭素数の多いものを導入すると溶解性、成膜性が改善さ
れる。但し、前述したインドールに導入されたＹが、色
素の溶解性、成膜性の向上を受けもつため、前記Ｚとし
てベンゼン環等の溶解性に寄与しないものも導入するこ
とが可能となる。いずれにしてもＺの導入にあたって
は、前記A,Yとの兼ね合いで選択することが望ましい。
また、インドールを構成するベンゼン環へのＺの導入に
あたっては、４位、５位、６位いずれでも可能である
が、特に５位が最も置換し易く好ましい。
ベンゼン環に（Ｚ）ｍ（ｍ＝１〜４の整数）を導入する
ことにより、分光特性、耐光性、化学的安定性が改善さ
れる。こうしたＺは記述したとおりであるが、直鎖状の
炭素数の多いものを導入すると溶解性、成膜性が改善さ
れる。但し、前述したインドールに導入されたＹが、色
素の溶解性、成膜性の向上を受けもつため、前記Ｚとし
てベンゼン環等の溶解性に寄与しないものも導入するこ
とが可能となる。いずれにしてもＺの導入にあたって
は、前記A,Yとの兼ね合いで選択することが望ましい。
また、インドールを構成するベンゼン環へのＺの導入に
あたっては、４位、５位、６位いずれでも可能である
が、特に５位が最も置換し易く好ましい。
以上、上記A,Y,Z等を導入した本発明の有機色素は、特
開昭58−56239、特開昭58−112790、特開昭58−21909
1、特開昭58−194595、特開昭59−150795、特開昭59−1
24045号に開示された例えば 等の色素に比べて分光特性（高反射性など）に優れ、化
学的安定性、耐光性及び溶剤溶解性、成膜性、基板との
濡れ性に優れる。従って、かかる有機色素を含む記録層
を形成することにより成膜不良による再生信号波形のノ
イズ成分の減少、耐湿性等の耐環境性及び再生劣化特性
が格段に向上された光情報記録媒体を得ることができ
る。
開昭58−56239、特開昭58−112790、特開昭58−21909
1、特開昭58−194595、特開昭59−150795、特開昭59−1
24045号に開示された例えば 等の色素に比べて分光特性（高反射性など）に優れ、化
学的安定性、耐光性及び溶剤溶解性、成膜性、基板との
濡れ性に優れる。従って、かかる有機色素を含む記録層
を形成することにより成膜不良による再生信号波形のノ
イズ成分の減少、耐湿性等の耐環境性及び再生劣化特性
が格段に向上された光情報記録媒体を得ることができ
る。
上記一般式にて表わされる色素を具体的に例示すると、
下記構造式（１）〜（60）に示すもの等が挙げられる。
下記構造式（１）〜（60）に示すもの等が挙げられる。
上記一般式で表わされる色素を含む記録層は、該色素を
酢酸エチル、トルエン、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、塩化メチレン、クロロホ
ルム、ジクロルエタン、テトラヒドロフラン、アルコー
ル等の溶剤に溶解してスピンナー法、ディッピング法、
ドクターブレード法、ロールコータ法等により基板上に
薄膜を形成することにより得られる。この記録層の厚さ
は、薄い程、記録感度が高くなるが、反射率が膜厚に依
存するために、100nm〜1000nm、好ましくは30nm〜500nm
の範囲にすることが適切である。また、基板としてはポ
リエステル、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポ
リオレフィン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リアミド樹脂、ポリイミド樹脂等のプラスチックの板及
びフィルム、又はガラス、金属類等を用いることができ
る。
酢酸エチル、トルエン、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、塩化メチレン、クロロホ
ルム、ジクロルエタン、テトラヒドロフラン、アルコー
ル等の溶剤に溶解してスピンナー法、ディッピング法、
ドクターブレード法、ロールコータ法等により基板上に
薄膜を形成することにより得られる。この記録層の厚さ
は、薄い程、記録感度が高くなるが、反射率が膜厚に依
存するために、100nm〜1000nm、好ましくは30nm〜500nm
の範囲にすることが適切である。また、基板としてはポ
リエステル、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポ
リオレフィン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リアミド樹脂、ポリイミド樹脂等のプラスチックの板及
びフィルム、又はガラス、金属類等を用いることができ
る。
記録層は上述した方法により形成される。更に色素にバ
インダ樹脂を１〜40重量％、好ましくは３〜20重量％添
加することにより、膜形成することもでき、成膜性、耐
熱性、耐湿性を向上させることができる。ここに用いる
バインダ樹脂としては、例えばアクリル系、エステル
系、ニトロセルロース、エチレン、プロピレン、カーボ
ネート、エチレンテレフタレート、ウレタン系、エポキ
シ系、ブチラール、塩化ビニル、酢酸ビニル、スチレン
等の樹脂が挙げられ、又これらの共重合体等からなり複
合化することもできる。
インダ樹脂を１〜40重量％、好ましくは３〜20重量％添
加することにより、膜形成することもでき、成膜性、耐
熱性、耐湿性を向上させることができる。ここに用いる
バインダ樹脂としては、例えばアクリル系、エステル
系、ニトロセルロース、エチレン、プロピレン、カーボ
ネート、エチレンテレフタレート、ウレタン系、エポキ
シ系、ブチラール、塩化ビニル、酢酸ビニル、スチレン
等の樹脂が挙げられ、又これらの共重合体等からなり複
合化することもできる。
また、上記バインダ樹脂の代りに他の色素を混入させる
か、又は色素層を重ねた多層構造にすることによって成
膜性の向上や耐熱、耐湿、耐光性を向上させることがで
き、ひいては高密度、高感度で再生劣化等のない耐久性
の優れた光情報記録媒体を得ることができる。この場
合、他の色素を積層して耐熱性、耐湿性、耐光性を向上
させることも可能である。ここに用いる色素としては、
例えばシアニン色素、メロシアニン色素、アントラキノ
ン色素、トリフェニルメタン色素、キサンテン系色素、
フタロシアニン系色素等を挙げることができる。
か、又は色素層を重ねた多層構造にすることによって成
膜性の向上や耐熱、耐湿、耐光性を向上させることがで
き、ひいては高密度、高感度で再生劣化等のない耐久性
の優れた光情報記録媒体を得ることができる。この場
合、他の色素を積層して耐熱性、耐湿性、耐光性を向上
させることも可能である。ここに用いる色素としては、
例えばシアニン色素、メロシアニン色素、アントラキノ
ン色素、トリフェニルメタン色素、キサンテン系色素、
フタロシアニン系色素等を挙げることができる。
例えば下記一般式（Ａ），（Ｂ）にて表わされるアミン
化合物や下記一般式（Ｃ）にて表わされるジチオレート
金属錯体を添加し、光、酸素、水分による記録層の光学
特性の劣化を防止することも可能である。
化合物や下記一般式（Ｃ）にて表わされるジチオレート
金属錯体を添加し、光、酸素、水分による記録層の光学
特性の劣化を防止することも可能である。
但し、式中のR1,R2,R4,R5は炭素数１〜６のアルキル基
は、R3は −Ｏ−R, で、Ｒは炭素数１〜６のアルキル基を示す。
は、R3は −Ｏ−R, で、Ｒは炭素数１〜６のアルキル基を示す。
但し、式中のＲは水素原子又は炭素数１〜６のアルキル
基、Ｘは過塩素酸イオン、弗化硼素酸イオン、ヘキサフ
ルオロ酸イオン等の陰イオン、ｍは０又は1,2の整数、
Ａは前記ｍ＝0,1の時、 （ｎ＝１又は２）、ｍ＝２の時 を示す。こうしたアミン化合物としては、例えば市販さ
れているIRG−002,IRG−003（いずれも日本化薬（株）
製商品名）等がある。
基、Ｘは過塩素酸イオン、弗化硼素酸イオン、ヘキサフ
ルオロ酸イオン等の陰イオン、ｍは０又は1,2の整数、
Ａは前記ｍ＝0,1の時、 （ｎ＝１又は２）、ｍ＝２の時 を示す。こうしたアミン化合物としては、例えば市販さ
れているIRG−002,IRG−003（いずれも日本化薬（株）
製商品名）等がある。
但し、式中のR1〜R4はアルキル基又はフェニル基、X,Y
は水素、アルキル基、ハロゲン基、ＭはNi,Co,Fe,Cr等
の金属を示すものである。かかる金属錯体としては、例
えばPA1001〜1006（いずれも三井東圧ファイン（株）製
商品名）、Ni−ビス（ｏ−キシレン−4,5ジオール）テ
トラ（ｔ−ブチル）アンモニウム塩等がある。
は水素、アルキル基、ハロゲン基、ＭはNi,Co,Fe,Cr等
の金属を示すものである。かかる金属錯体としては、例
えばPA1001〜1006（いずれも三井東圧ファイン（株）製
商品名）、Ni−ビス（ｏ−キシレン−4,5ジオール）テ
トラ（ｔ−ブチル）アンモニウム塩等がある。
なお、上記一般式の色素を含む記録層の他に必要に応じ
て中間層、保護層を設けることができる。中間層は、接
着性の向上と共に酸素、水分からの保護の目的で設けら
れ、主に樹脂又は無機化合物から形成される。樹脂とし
ては、例えば塩化ビニル、酢酸ビニル、アクリル、エス
テル、ニトロセルロース、カーボネート、エポキシ、エ
チレン、プロピレン、ブチラール等の単独もしくは共重
合体等を用いることができ、必要に応じて酸化防止剤、
紫外光吸収剤、レベリング剤や撥水剤等を含有させるこ
とが可能である。これらは、スピンナー法、ディッピン
グ法、ドクターブレード法により形成される。無機化合
物としては、例えばSiO2,SiO,Al2O3,SnO2,MgF2等が用い
られ、イオンビーム、電子ビーム、スパッタ法により薄
膜が形成される。前記保護層も中間層と同様の構成をと
り、光、酸素、水分からの記録層の保護、傷、ホコリ等
からの保護のために用いられる。
て中間層、保護層を設けることができる。中間層は、接
着性の向上と共に酸素、水分からの保護の目的で設けら
れ、主に樹脂又は無機化合物から形成される。樹脂とし
ては、例えば塩化ビニル、酢酸ビニル、アクリル、エス
テル、ニトロセルロース、カーボネート、エポキシ、エ
チレン、プロピレン、ブチラール等の単独もしくは共重
合体等を用いることができ、必要に応じて酸化防止剤、
紫外光吸収剤、レベリング剤や撥水剤等を含有させるこ
とが可能である。これらは、スピンナー法、ディッピン
グ法、ドクターブレード法により形成される。無機化合
物としては、例えばSiO2,SiO,Al2O3,SnO2,MgF2等が用い
られ、イオンビーム、電子ビーム、スパッタ法により薄
膜が形成される。前記保護層も中間層と同様の構成をと
り、光、酸素、水分からの記録層の保護、傷、ホコリ等
からの保護のために用いられる。
次に、本発明の光情報記録媒体の構成例について図面を
参照して説明する。
参照して説明する。
第１図は、光情報記録媒体の基本構成を示すもので、基
板１上に一般式の色素を含む記録層２を設けた構造であ
る。記録、再生はレーザ光３を集光レンズにより記録層
２上に0.8〜1.5μｍの大きさのスポットに集光して行な
われる。記録再生のレーザ光３は、記録層２から照射し
てもよいが、基板１が透明な材料からなる場合には基板
１側から照射する方が一般的に汚れやゴミの影響を少な
くできる。
板１上に一般式の色素を含む記録層２を設けた構造であ
る。記録、再生はレーザ光３を集光レンズにより記録層
２上に0.8〜1.5μｍの大きさのスポットに集光して行な
われる。記録再生のレーザ光３は、記録層２から照射し
てもよいが、基板１が透明な材料からなる場合には基板
１側から照射する方が一般的に汚れやゴミの影響を少な
くできる。
第２図は、基板１と記録層２の間に中間層４を、記録層
２上に保護層５を夫々設けた構造のものである。
２上に保護層５を夫々設けた構造のものである。
第３図は、同一構成の２枚の媒体を記録層２が互に対向
するようにスペーサ６を介して配置させたものである。
なお、第３図中の７はエアーギャップ、８はスピンドル
穴である。かかる構成によれば、特性的に良好であり、
更に記録層２への汚れやゴミの影響を抑制できる利点を
有する。
するようにスペーサ６を介して配置させたものである。
なお、第３図中の７はエアーギャップ、８はスピンドル
穴である。かかる構成によれば、特性的に良好であり、
更に記録層２への汚れやゴミの影響を抑制できる利点を
有する。
更に、前述した第１図〜第３図の構成において、Al,Ag
等及びその他の反射膜を基板と記録層の間に設けてもよ
い。
等及びその他の反射膜を基板と記録層の間に設けてもよ
い。
以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
実施例１ 上述した構造式（７）の色素をジクロルメタンで溶解
し、２％溶液とした後、この溶液をスピンナーコータで
厚さ1.2mmのガラス基板上に塗布、乾燥して厚さ75nmの
記録層を形成して記録媒体を得た。
し、２％溶液とした後、この溶液をスピンナーコータで
厚さ1.2mmのガラス基板上に塗布、乾燥して厚さ75nmの
記録層を形成して記録媒体を得た。
得られた記録媒体の記録層の反射率を分光光度計で測定
したところ、波長830nmにおいて基板側で41％であっ
た。また、前記記録媒体上に波長830nmの半導体レーザ
出力光を直径1.2μｍのスポット径に集光し、線束6m/se
c、出力7mWで基板側から1MHzの信号の書込みを行なった
ところ、記録感度は2.5nJ/スポット、再生CN値は55dBで
あった。
したところ、波長830nmにおいて基板側で41％であっ
た。また、前記記録媒体上に波長830nmの半導体レーザ
出力光を直径1.2μｍのスポット径に集光し、線束6m/se
c、出力7mWで基板側から1MHzの信号の書込みを行なった
ところ、記録感度は2.5nJ/スポット、再生CN値は55dBで
あった。
実施例２ 上述した構造式（11）の色素をメチルエチルケトンで溶
解して２％溶液とした後、この溶液を紫外線硬化型レジ
ンで下地処理された厚さ1.2mmのアクリル板の該下地レ
ジン上にスピンナーコータで塗布し、乾燥して70nmの記
録層を形成して記録媒体を得た。
解して２％溶液とした後、この溶液を紫外線硬化型レジ
ンで下地処理された厚さ1.2mmのアクリル板の該下地レ
ジン上にスピンナーコータで塗布し、乾燥して70nmの記
録層を形成して記録媒体を得た。
得られた記録媒体の記録層の反射率は、波長830nmにお
いて基板側で40％であった。また、前記記録媒体に実施
例１と同様、半導体レーザにより書込み再生を行なった
ところ、記録感度は2.2nJ/スポット、再生CN値は55dBで
あった。
いて基板側で40％であった。また、前記記録媒体に実施
例１と同様、半導体レーザにより書込み再生を行なった
ところ、記録感度は2.2nJ/スポット、再生CN値は55dBで
あった。
実施例３ 上述した構造式（25）の色素をメチルエチルケトンで溶
解して２％溶液とした後、この溶液を紫外線硬化型レジ
ンで下地処理された厚さ1.2mmのアクリル板の該下地レ
ジン上にスピンナーコータで塗布し、乾燥して厚さ75nm
の記録層を形成して記録媒体を得た。
解して２％溶液とした後、この溶液を紫外線硬化型レジ
ンで下地処理された厚さ1.2mmのアクリル板の該下地レ
ジン上にスピンナーコータで塗布し、乾燥して厚さ75nm
の記録層を形成して記録媒体を得た。
得られた記録媒体の記録層の反射率は、波長830nmにお
いて基板側で38％であった。また、前記記録媒体に実施
例１と同様、半導体レーザにより書込み再生を行なった
ところ、記録感度は2.3nJ/スポット、再生CN値は54dBで
あった。
いて基板側で38％であった。また、前記記録媒体に実施
例１と同様、半導体レーザにより書込み再生を行なった
ところ、記録感度は2.3nJ/スポット、再生CN値は54dBで
あった。
実施例４ 上述した構造式（44）の色素にバインダ樹脂としてのア
クリル樹脂（三菱レーヨン社製商品名：ダイヤナールBR
−60）を15重量％添加し、これをメチルエチルケトンで
溶解して３％溶液とした後、この溶液を紫外線硬化型レ
ジンで下地処理された厚さ1.2mmのアクリル板の該下地
レジン上にスピンナーコータで塗布し、乾燥して厚さ85
nmの記録層を形成して記録媒体を得た。
クリル樹脂（三菱レーヨン社製商品名：ダイヤナールBR
−60）を15重量％添加し、これをメチルエチルケトンで
溶解して３％溶液とした後、この溶液を紫外線硬化型レ
ジンで下地処理された厚さ1.2mmのアクリル板の該下地
レジン上にスピンナーコータで塗布し、乾燥して厚さ85
nmの記録層を形成して記録媒体を得た。
得られた記録媒体の記録層の反射率は、波長830nmにお
いて基板側で33％であった。また、前記記録媒体に実施
例１と同様、半導体レーザにより書込み再生を行なった
ところ、記録感度は2.8nJ/スポット、再生CN値は53dBで
あった。
いて基板側で33％であった。また、前記記録媒体に実施
例１と同様、半導体レーザにより書込み再生を行なった
ところ、記録感度は2.8nJ/スポット、再生CN値は53dBで
あった。
実施例５ 上述した構造式（７）の色素と赤外線吸収剤（日本化薬
社製商品名:IRG−003）とを重量比で4:1の割合にて混合
し、これをメチルエチルケトンで溶解した３％溶液とし
た後、この溶液を紫外線硬化型レジンで下地処理された
厚さ1.2mmのアクリル板の該下地レジン上にスピンナー
コータで塗布し、乾燥して厚さ70nmの記録層を形成して
記録媒体を得た。
社製商品名:IRG−003）とを重量比で4:1の割合にて混合
し、これをメチルエチルケトンで溶解した３％溶液とし
た後、この溶液を紫外線硬化型レジンで下地処理された
厚さ1.2mmのアクリル板の該下地レジン上にスピンナー
コータで塗布し、乾燥して厚さ70nmの記録層を形成して
記録媒体を得た。
得られた記録媒体の記録層の反射率は、波長830nmにお
いて基板側で38％であった。また、前記記録媒体に実施
例１と同様、半導体レーザにより書込み再生を行なった
ところ、記録感度は2.6nJ/スポット、再生CN値は54dBで
あった。
いて基板側で38％であった。また、前記記録媒体に実施
例１と同様、半導体レーザにより書込み再生を行なった
ところ、記録感度は2.6nJ/スポット、再生CN値は54dBで
あった。
実施例６ 上述した構造式（30）の色素と下記構造式（61）の色素
とを重量比で2:1の割合にて混合し、これを実施例２と
同様に溶解し、厚さ1.2mmのアクリル板上にスピンナー
コータで塗布し、乾燥して厚さ75nmの記録層を形成して
記録媒体を得た。
とを重量比で2:1の割合にて混合し、これを実施例２と
同様に溶解し、厚さ1.2mmのアクリル板上にスピンナー
コータで塗布し、乾燥して厚さ75nmの記録層を形成して
記録媒体を得た。
得られた記録媒体の記録層の反射率は、波長830nmにお
いて基板側で40％であった。また、前記記録媒体に実施
例１と同様、半導体レーザにより書込み再生を行なった
ところ、記録感度は2.1nJ/スポット、再生CN値は55dBで
あった。
いて基板側で40％であった。また、前記記録媒体に実施
例１と同様、半導体レーザにより書込み再生を行なった
ところ、記録感度は2.1nJ/スポット、再生CN値は55dBで
あった。
実施例７ 上述した構造式（51）の色素をガラス基板上に塗布し、
乾燥して厚さ60nmの記録層を形成した後、この記録層上
に下記構造式（62）のアルミニウムナフタシアニンを真
空度1.0×10-5torrの条件下で真空加熱蒸着して厚さ30n
mの反射製保護層を形成し、記録媒体を得た。
乾燥して厚さ60nmの記録層を形成した後、この記録層上
に下記構造式（62）のアルミニウムナフタシアニンを真
空度1.0×10-5torrの条件下で真空加熱蒸着して厚さ30n
mの反射製保護層を形成し、記録媒体を得た。
得られた記録媒体の記録層の反射率は、波長830nmにお
いて基板側で43％であった。また、前記記録媒体に実施
例１と同様、半導体レーザにより書込み再生を行なった
ところ、記録感度は2.3nJ/スポット、再生CN値は52dBで
あった。
いて基板側で43％であった。また、前記記録媒体に実施
例１と同様、半導体レーザにより書込み再生を行なった
ところ、記録感度は2.3nJ/スポット、再生CN値は52dBで
あった。
比較例１ 下記構造式（Ｉ）の色素をメチルエチルケトンで溶解し
て２％溶液とした後、この溶液を紫外線硬化型レジンで
下地処理された厚さ1.2mmのアクリル板の該下地レジン
上にスピンナーコータで塗布し、乾燥して厚さ80nmの記
録層を形成して記録媒体を得た。
て２％溶液とした後、この溶液を紫外線硬化型レジンで
下地処理された厚さ1.2mmのアクリル板の該下地レジン
上にスピンナーコータで塗布し、乾燥して厚さ80nmの記
録層を形成して記録媒体を得た。
得られた記録媒体の記録層の反射率は、波長830nmにお
いて基板側で35％であった。また、前記記録媒体に実施
例１と同様、半導体レーザにより書込み再生を行なった
ところ、記録感度は2.8nJ/スポット、再生CN値は52dBで
あった。
いて基板側で35％であった。また、前記記録媒体に実施
例１と同様、半導体レーザにより書込み再生を行なった
ところ、記録感度は2.8nJ/スポット、再生CN値は52dBで
あった。
比較例２ 下記構造式（II）の色素をジクロルメタンで溶解して２
％溶液とした後、この溶液を紫外線硬化型レジンで下地
処理された厚さ1.2mmのガラス板の該下地レジン上にス
ピンナーコータで塗布し、乾燥して厚さ70nmの記録層を
形成して記録媒体を得た。
％溶液とした後、この溶液を紫外線硬化型レジンで下地
処理された厚さ1.2mmのガラス板の該下地レジン上にス
ピンナーコータで塗布し、乾燥して厚さ70nmの記録層を
形成して記録媒体を得た。
得られた記録媒体の記録層の反射率は、波長830nmにお
いて基板側で32％であった。また、前記記録媒体に実施
例１と同様、半導体レーザにより書込み再生を行なった
ところ、記録感度は2.4nJ/スポット、再生CN値は52dBで
あった。
いて基板側で32％であった。また、前記記録媒体に実施
例１と同様、半導体レーザにより書込み再生を行なった
ところ、記録感度は2.4nJ/スポット、再生CN値は52dBで
あった。
比較例３ 下記構造式（III）の色素をメチルエチルケトンで溶解
して２％溶液とした後、この溶液を紫外線硬化型レジン
で下地処理された厚さ1.2mmのアクリル板の該下地レジ
ン上にスピンナーコータで塗布し、乾燥して厚さ70nmの
記録層を形成して記録媒体を得た。
して２％溶液とした後、この溶液を紫外線硬化型レジン
で下地処理された厚さ1.2mmのアクリル板の該下地レジ
ン上にスピンナーコータで塗布し、乾燥して厚さ70nmの
記録層を形成して記録媒体を得た。
得られた記録媒体の記録層の反射率は、波長830nmにお
いて基板側で39％であった。また、前記記録媒体に実施
例１と同様、半導体レーザにより書込み再生を行なった
ところ、記録感度は2.2nJ/スポット、再生CN値は54dBで
あった。
いて基板側で39％であった。また、前記記録媒体に実施
例１と同様、半導体レーザにより書込み再生を行なった
ところ、記録感度は2.2nJ/スポット、再生CN値は54dBで
あった。
比較例４ 下記構造式（IV）の色素をジクロメタンで溶解して２％
溶液とした後、この溶液を紫外線硬化型レジンで下地処
理された厚さ1.2mmのガラス板の該下地レジン上にスピ
ンナーコータで塗布し、乾燥して厚さ70nmの記録層を形
成して記録媒体を得た。
溶液とした後、この溶液を紫外線硬化型レジンで下地処
理された厚さ1.2mmのガラス板の該下地レジン上にスピ
ンナーコータで塗布し、乾燥して厚さ70nmの記録層を形
成して記録媒体を得た。
得られた記録媒体の記録層の反射率は、波長830nmにお
いて基板側で30％であった。また、前記記録媒体に実施
例１と同様、半導体レーザにより書込み再生を行なった
ところ、記録感度は3.1nJ/スポット、再生CN値は51dBで
あった。
いて基板側で30％であった。また、前記記録媒体に実施
例１と同様、半導体レーザにより書込み再生を行なった
ところ、記録感度は3.1nJ/スポット、再生CN値は51dBで
あった。
更に、本実施例１〜７及び比較例１〜４により得られた
記録媒体を50℃、相対湿度95％の雰囲気下に500時間放
置し、放置前後の反射率低下率を測定する耐熱・湿性試
験を行なった、また、各記録媒体に25℃、60％の雰囲気
で500Wのタングステン光を50cm隔てて100時間照射し、
同様に反射率低下率を測定する耐光試験を行なった。各
記録媒体の再生劣化について、促進テストとしてレーザ
出力1mWの連続光を30分間照射した後のCN値の変化を測
定した。以上の結果を下記表に示す。
記録媒体を50℃、相対湿度95％の雰囲気下に500時間放
置し、放置前後の反射率低下率を測定する耐熱・湿性試
験を行なった、また、各記録媒体に25℃、60％の雰囲気
で500Wのタングステン光を50cm隔てて100時間照射し、
同様に反射率低下率を測定する耐光試験を行なった。各
記録媒体の再生劣化について、促進テストとしてレーザ
出力1mWの連続光を30分間照射した後のCN値の変化を測
定した。以上の結果を下記表に示す。
〔発明の効果〕 以上詳述した如く、本発明によれば高い反射率と高い記
録感度を有し、光学的信号の書き込み、再生を安定して
行なうことが可能で、かつ再生光や日光、湿度を対する
安定性の高い無公害の光情報記録媒体を提供できる。
録感度を有し、光学的信号の書き込み、再生を安定して
行なうことが可能で、かつ再生光や日光、湿度を対する
安定性の高い無公害の光情報記録媒体を提供できる。
第１図〜第３図は、夫々本発明の光情報記録媒体を示す
概略図である。 １……基板、２……記録層、３……レーザ光、４……中
間層、５……保護層、６……スペーサ。
概略図である。 １……基板、２……記録層、３……レーザ光、４……中
間層、５……保護層、６……スペーサ。
Claims (1)
- 【請求項１】下記一般式（Ｉ）、（II）にて表わされる
有機色素を少なくとも１種含む記録層を備えることを特
徴とする光情報記録媒体。 ただし、式（Ｉ）、（II）中のR1は炭素数１〜６のアル
キル基、アリル基、アラルキル基またはフェニル基、 Ａは、 ［R2は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキ
ル基、フェニル基、アラルキル基、アリル基、 （Ph;フェニル基）または （R3;炭素数１〜６のアルキル基）］、 Ｘは、パークロレート、フルオロボレート、アイオダイ
ド、クロライド、ブロマイド、ｐ−トルエンスルフォネ
ートから選ばれる陰イオン、 Ｙは、不飽和結合を有する炭素数２〜20の官能基、 ｎは、０または1,2の整数 を示し、 式（Ｉ）中のZ1は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１
〜18のアルキル基、アリル基、ニトロ基、ヒドロキシル
基、カルボキシル基、−OCF3、−OSF3、−R4OH、−R4CO
H、−R4COOH、−R4CR5、−R4COR5、−R4COOR5、−CO
R5、−COOR5、 −CH＝CH−CN、−NH2N（R5）２、−NHCOCH3、 （R4;炭素数１〜20のアルキレン基、R5;炭素数１〜18の
アルキル基）、 ｍは、１または２の整数、 を示し、 式（II）中のZ2は、インドールを構成するベンゼン環に
付加されるベンゼン環を示す。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61043747A JPH0729494B2 (ja) | 1986-02-28 | 1986-02-28 | 光情報記録媒体 |
| DE19873706266 DE3706266A1 (de) | 1986-02-28 | 1987-02-26 | Aufzeichnungstraeger fuer optische informationen |
| US07/380,690 US4987021A (en) | 1986-02-28 | 1989-07-13 | Optical information recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61043747A JPH0729494B2 (ja) | 1986-02-28 | 1986-02-28 | 光情報記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62201288A JPS62201288A (ja) | 1987-09-04 |
| JPH0729494B2 true JPH0729494B2 (ja) | 1995-04-05 |
Family
ID=12672352
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61043747A Expired - Lifetime JPH0729494B2 (ja) | 1986-02-28 | 1986-02-28 | 光情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0729494B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6063467A (en) * | 1997-02-24 | 2000-05-16 | Fuji Electric Co., Ltd. | Optical recording medium |
| US6103331A (en) * | 1997-09-26 | 2000-08-15 | Fuji Electric Co., Ltd. | Optical recording medium comprising organic dye thin film |
| JP3097628B2 (ja) * | 1997-11-11 | 2000-10-10 | 富士電機株式会社 | 光記録媒体 |
-
1986
- 1986-02-28 JP JP61043747A patent/JPH0729494B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62201288A (ja) | 1987-09-04 |
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| JPS62173294A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JP2630381B2 (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPH0729494B2 (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPH0729496B2 (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPH0729495B2 (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPH0729493B2 (ja) | 光情報記録媒体 | |
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