JPH0539770U - プラズマト―チ用ケ―ブル - Google Patents
プラズマト―チ用ケ―ブルInfo
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- JPH0539770U JPH0539770U JP9544791U JP9544791U JPH0539770U JP H0539770 U JPH0539770 U JP H0539770U JP 9544791 U JP9544791 U JP 9544791U JP 9544791 U JP9544791 U JP 9544791U JP H0539770 U JPH0539770 U JP H0539770U
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- JP
- Japan
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- wire
- frequency current
- cable
- plasma torch
- wires
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- Granted
Links
- 244000309464 bull Species 0.000 claims description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 239000012209 synthetic fiber Substances 0.000 description 2
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 2
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Arc Welding In General (AREA)
- Insulated Conductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高周波電流用ワイヤ―を他の電線と隔離する
ことにより絶縁層の薄いものとして全体的に小径のケ―
ブルとすると共に、テ―プを用いて各ワイヤ―および電
線等全体を固定することにより安定した取り扱い易いケ
―ブルを提供しようとするものである。 【構成】 中心部にプラズマガス用導管1が配置され、
その外周に少なくとも高周波電流用ワイヤ―2と他の電
線3,4との間に絶縁性のダミ―チュ―ブ5が介在され
た高周波電流用ワイヤ―2とパワ―用電線3と制御用電
線4が配置されており、またこれら全体の外周がテ―プ
6で固定されていて、これが外套7で覆われたプラズマ
ト―チ用ケ―ブル。
ことにより絶縁層の薄いものとして全体的に小径のケ―
ブルとすると共に、テ―プを用いて各ワイヤ―および電
線等全体を固定することにより安定した取り扱い易いケ
―ブルを提供しようとするものである。 【構成】 中心部にプラズマガス用導管1が配置され、
その外周に少なくとも高周波電流用ワイヤ―2と他の電
線3,4との間に絶縁性のダミ―チュ―ブ5が介在され
た高周波電流用ワイヤ―2とパワ―用電線3と制御用電
線4が配置されており、またこれら全体の外周がテ―プ
6で固定されていて、これが外套7で覆われたプラズマ
ト―チ用ケ―ブル。
Description
【0001】
本考案は、プラズマト―チに使用される高周波電流用ワイヤ―とパワ―用電線 と制御用電線とプラズマガス用導管等が内挿されたケ―ブルに関するものである 。
【0002】
従来のこの種のケ―ブルは、図2に示すように、外套11内に高周波電流用ワ イヤ―12とパワ―用電線13と制御用電線14とプラズマガス用導管15等が 適宜な位置を取りながら相互に移動可能に挿通されていた。
【0003】
上記のようなプラズマト―チ用ケ―ブルであると、高周波電流用ワイヤ―12 からの高圧電流が他の電線に大きく影響を及ぼすことから、該高周波電流用ワイ ヤ―12の耐電圧絶縁性を高める必要があり必然的に絶縁層の厚いものを使用す ることになることからケ―ブルが大径となると共に各ワイヤ―および電線が相互 に移動して不安定な取り扱い難いケ―ブルとなる、という問題がある。
【0004】 本考案は、上記のような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とする ところは、高周波電流用ワイヤ―を他の電線と隔離することにより絶縁層の薄い ものとして全体的に小径のケ―ブルとすると共に、テ―プを用いて各ワイヤ―お よび電線等全体を固定することにより安定した取り扱い易いケ―ブルを提供しよ うとするものである。
【0005】
上記目的を達成するために、本考案におけるプラズマト―チ用ケ―ブルは、中 心部にプラズマガス用導管を配置し、その外周に少なくとも高周波電流用ワイヤ ―と他の電線との間に絶縁性のダミ―チュ―ブを介在させて高周波電流用ワイヤ ―とパワ―用電線と制御用電線を配置し、これら全体の外周にテ―プを巻回し、 これを外套で覆ったことを特徴とするものである。
【0006】
上記のように構成されたプラズマト―チ用ケ―ブルであるので、高周波電流用 ワイヤからの高圧電流の影響はそれに隣接する絶縁性のダミ―チュ―ブによって 弱められ、他の電線等に高圧電流の影響を及ぼさない。また、プラズマガス用導 管の外周の各ワイヤ―および電線は全体としてテ―プで固定されているので、こ れらワイヤ―および電線が相互に移動することもない。
【0007】
図1を参照して本考案の実施例について説明をする。 図1は本考案に係るプラズマト―チ用ケ―ブルの断面図であり、1はプラズマ ガス用導管であってケ―ブルの中心部に配置されている。該プラズマガス用導管 1の外周には、絶縁層で覆われた2本の高周波電流用ワイヤ2と、4本のパワ― 用電線3と、2本の制御用電線4が配置されている。
【0008】 そして、前記高周波電流用ワイヤ2の両端には絶縁性のダミ―チュ―ブ5がそ れぞれ配置されていて、高周波電流用ワイヤ2を他の電線3,4と隔離するよう になっている。なお、前記パワ―用電線3,制御用電線4はケ―ブル内のバラン ス上4本或は2本に分割して配置したが、その数は適宜のものであってもよい。
【0009】 また、前記プラズマガス用導管1の外周に配置された各ダミ―チュ―ブ5,各 ワイヤ―2および電線3,4は全体としてその外周がコットン織りの布テ―プ6 で巻回されていて、前記各ダミ―チュ―ブ5,各ワイヤ―2および電線3,4等 が相互に移動しないように固定されている。また、この布テ―プ6は外套7によ って保護されていて、この外套7がケ―ブルの外表面となっている。
【0010】 以上のような構成からなる実施例において、高周波電流用ワイヤ2からの高圧 電流の影響はそれに隣接する絶縁性のダミ―チュ―ブ5によって弱められ、他の 電線3,4等に高圧電流の影響を及ぼさないようになるので、高周波電流用ワイ ヤ2自身を従来にもののように耐電圧性を高めるよう絶縁層を厚くして径を大き くする必要がなくなり、絶縁層の薄い小径のものが使用できる。また、プラズマ ガス用導管1の外周で各ダミ―チュ―ブ5,各ワイヤ―2および電線3,4は全 体として布テ―プ6で固定されているので、これらワイヤ―および電線等が相互 に移動することもない。
【0011】 なお、上記実施例においては、ダミ―チュ―ブ5を高周波電流用ワイヤ2の両 端のみに配置したものとして説明をしたが、このダミ―チュ―ブ5は両高周波電 流用ワイヤ2間にも追加して配置してもよい。 また、前記各ダミ―チュ―ブ5,各ワイヤ―2および電線3,4等の周囲に合 成繊維系絶縁性充填材8を充填すれば、該合成繊維系絶縁性充填材8がこれらチ ュ―ブ,ワイヤ―および電線の相互の移動を一層阻止しかつ、相互の絶縁性を増 すこともできる。
【0012】
本考案に係るプラズマト―チ用ケ―ブルは、高周波電流用ワイヤ―をダミ―チ ュ―ブにより他の電線と隔離するようにしたので、該高周波電流用ワイヤ―の耐 電圧を高める必要はなく絶縁層が薄くてすむことから高周波電流用ワイヤ―は小 径となり、全体的にも小径のケ―ブルとすることができる。
【0013】 また、ワイヤ―,チュ―ブおよび電線の外周は全体としてテ―プで固定されて いるので、これらワイヤ―および電線等が相互に移動することがないことから安 定した取り扱い易いケ―ブルとなる。
【図1】本考案に係るプラズマト―チ用ケ―ブルの断面
図である。
図である。
【図2】従来例のプラズマト―チ用ケ―ブルの断面図で
ある。
ある。
1 プラズマガス用導管 2 高周波電流用ワイヤ― 3 パワ―用電線 4 制御用電線 5 ダミ―チュ―ブ 6 テ―プ 7 外套
Claims (1)
- 【請求項1】 高周波電流用ワイヤ―とパワ―用電線と
制御用電線とプラズマガス用導管とが挿通されるプラズ
マト―チ用ケ―ブルにおいて、中心部にプラズマガス用
導管を配置し、その外周に少なくとも高周波電流用ワイ
ヤ―と他の電線との間に絶縁性のダミ―チュ―ブを介在
させて高周波電流用ワイヤ―とパワ―用電線と制御用電
線を配置し、これら全体の外周にテ―プを巻回し、これ
を外套で覆ったことを特徴とするプラズマト―チ用ケ―
ブル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9544791U JPH0753814Y2 (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | プラズマト―チ用ケ―ブル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9544791U JPH0753814Y2 (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | プラズマト―チ用ケ―ブル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0539770U true JPH0539770U (ja) | 1993-05-28 |
| JPH0753814Y2 JPH0753814Y2 (ja) | 1995-12-13 |
Family
ID=14137951
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9544791U Expired - Lifetime JPH0753814Y2 (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | プラズマト―チ用ケ―ブル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0753814Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020059809A1 (ja) * | 2018-09-20 | 2020-03-26 | 積水化学工業株式会社 | プラズマ照射装置 |
-
1991
- 1991-10-25 JP JP9544791U patent/JPH0753814Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020059809A1 (ja) * | 2018-09-20 | 2020-03-26 | 積水化学工業株式会社 | プラズマ照射装置 |
| JPWO2020059809A1 (ja) * | 2018-09-20 | 2021-03-25 | 積水化学工業株式会社 | プラズマ照射装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0753814Y2 (ja) | 1995-12-13 |
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