JPH0543439Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0543439Y2 JPH0543439Y2 JP1987135114U JP13511487U JPH0543439Y2 JP H0543439 Y2 JPH0543439 Y2 JP H0543439Y2 JP 1987135114 U JP1987135114 U JP 1987135114U JP 13511487 U JP13511487 U JP 13511487U JP H0543439 Y2 JPH0543439 Y2 JP H0543439Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- arm
- displacement
- fixed part
- movable
- thin flexible
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は微動回転ステージ、特に、X線露光装
置のマスクステージに適用可能な小形、高剛性の
微動回転ステージに関する。
置のマスクステージに適用可能な小形、高剛性の
微動回転ステージに関する。
〔技術環境〕
近年の半導体製造用露光装置は高精度化する傾
向にある。とくにX線露光装置はマクとウエハを
10〜50μmの微小なギヤツプを介して保持し、位
置合わせマークを用いて0.1μm以下の微小位置合
わせを行なつて0.5μm以下の微細パターンを転写
するものであり、最近とくに注目されている。マ
スクを保持するマスクステージには中央部の露光
領域に穴を設けた形状の微動回転ステージが装備
されていて、0.5mrad程度にプリアライメントさ
れたマスクを5μrad程度の精度で微動回転しなけ
ればならない。したがつて微動回転ステージは大
ストローク:1mradで高分解能:1μrad、さらに
高剛性、小型であることが必要である。
向にある。とくにX線露光装置はマクとウエハを
10〜50μmの微小なギヤツプを介して保持し、位
置合わせマークを用いて0.1μm以下の微小位置合
わせを行なつて0.5μm以下の微細パターンを転写
するものであり、最近とくに注目されている。マ
スクを保持するマスクステージには中央部の露光
領域に穴を設けた形状の微動回転ステージが装備
されていて、0.5mrad程度にプリアライメントさ
れたマスクを5μrad程度の精度で微動回転しなけ
ればならない。したがつて微動回転ステージは大
ストローク:1mradで高分解能:1μrad、さらに
高剛性、小型であることが必要である。
従来の微動回転ステージは、実願昭60−39155
(実開昭61−154322号公報参照)に示されている
ように、固定部1と可動部2と両者を連結する4
個の薄肉可撓部3と可動部の突出し部に接触した
ピエゾ素子4とを含んで構成される。
(実開昭61−154322号公報参照)に示されている
ように、固定部1と可動部2と両者を連結する4
個の薄肉可撓部3と可動部の突出し部に接触した
ピエゾ素子4とを含んで構成される。
第2図は従来の微動回転ステージの一実施例を
示す平面図である。第2図に示す微動回転ステー
ジは、固定部1と可動部2は4個の薄肉可撓部3
で一体に形成されている。4個の薄肉可撓部は、
円形の可動部の中心に対して回転対象に配置さ
れ、可動部2の突出部10と固定部1の間にピエ
ゾ素子4が点接触で連結している。ピエゾ素子4
に電圧を加えるとΔlの変位を発生し、作用点と
回転中心との距離をrとすると可動部2は薄肉可
撓部3を案内としてΔl/rradの回転変位を得るこ とができる。ピエゾ素子4は固定部1と可動部2
の突出部10に点接触する構造となつているので
可動部2の突出部10とピエゾ素子4の端面に角
度変位が発生しても、ピエゾ素子4の微小直線変
位をステイツクスリツプのない滑らかな微小回転
変位に変換できる。ピエゾ素子4のストロークは
15μm程度であり、r=50mmとすると、0.3mrad
の回転ストロークとなる。したがつて回転ストロ
ークを大きくする場合、ピエゾ素子4のストロー
クを大きくするか、直線変位の作用点を回転中心
に近づけてrを小さくする必要がある。
示す平面図である。第2図に示す微動回転ステー
ジは、固定部1と可動部2は4個の薄肉可撓部3
で一体に形成されている。4個の薄肉可撓部は、
円形の可動部の中心に対して回転対象に配置さ
れ、可動部2の突出部10と固定部1の間にピエ
ゾ素子4が点接触で連結している。ピエゾ素子4
に電圧を加えるとΔlの変位を発生し、作用点と
回転中心との距離をrとすると可動部2は薄肉可
撓部3を案内としてΔl/rradの回転変位を得るこ とができる。ピエゾ素子4は固定部1と可動部2
の突出部10に点接触する構造となつているので
可動部2の突出部10とピエゾ素子4の端面に角
度変位が発生しても、ピエゾ素子4の微小直線変
位をステイツクスリツプのない滑らかな微小回転
変位に変換できる。ピエゾ素子4のストロークは
15μm程度であり、r=50mmとすると、0.3mrad
の回転ストロークとなる。したがつて回転ストロ
ークを大きくする場合、ピエゾ素子4のストロー
クを大きくするか、直線変位の作用点を回転中心
に近づけてrを小さくする必要がある。
上述した従来の微動回転ステージは、可動部2
の突出部10に直接ピエゾ素子4を点接触させて
いるので、回転ストロークはピエゾ素子4の発生
変位と作用点の回転中心からの距離で決定される
ので大きなストロークを得られないという欠点が
あつた。
の突出部10に直接ピエゾ素子4を点接触させて
いるので、回転ストロークはピエゾ素子4の発生
変位と作用点の回転中心からの距離で決定される
ので大きなストロークを得られないという欠点が
あつた。
X線露光装置のマスクステージに適用する場
合、可動部の中央部に露光用の穴が必要で、ピエ
ゾ素子4の作用点と回転中心までの距離が小さく
てできないので、0.3mrad程度のストロークしか
得られず、これはマスクステージの回転ステージ
としては十分ではなかつた。また、ピエゾ素子4
の積層枚数を多くして発生変位を大きくすると比
較的大きなストロークは得られるが、ステージが
大きくなり、ステージ全体の剛性が高くできない
という欠点があつた。
合、可動部の中央部に露光用の穴が必要で、ピエ
ゾ素子4の作用点と回転中心までの距離が小さく
てできないので、0.3mrad程度のストロークしか
得られず、これはマスクステージの回転ステージ
としては十分ではなかつた。また、ピエゾ素子4
の積層枚数を多くして発生変位を大きくすると比
較的大きなストロークは得られるが、ステージが
大きくなり、ステージ全体の剛性が高くできない
という欠点があつた。
本考案の微動回転ステージは固定部と、該固定
部から放射状に突出した少なくとも3個以上の薄
肉可撓部と、該薄肉可撓部の他端で支持した可動
部と、前記固定部と前記可動部の間にあり、前記
可動部の求心方向に第1の弾性ヒンジを介して連
結されたアーム部と、該アーム部と前記固定部の
間にあつて前記アーム部の第1の弾性ヒンジと直
角方向に変位を発生可能でそれぞれ少なくとも1
個ずつの弾性ヒンジを介して前記アーム部と前記
固定部に連結した2個のリニアアクチユエータ、
あるいは圧力保持された2個のピエゾ素子とを含
んで構成される。
部から放射状に突出した少なくとも3個以上の薄
肉可撓部と、該薄肉可撓部の他端で支持した可動
部と、前記固定部と前記可動部の間にあり、前記
可動部の求心方向に第1の弾性ヒンジを介して連
結されたアーム部と、該アーム部と前記固定部の
間にあつて前記アーム部の第1の弾性ヒンジと直
角方向に変位を発生可能でそれぞれ少なくとも1
個ずつの弾性ヒンジを介して前記アーム部と前記
固定部に連結した2個のリニアアクチユエータ、
あるいは圧力保持された2個のピエゾ素子とを含
んで構成される。
また、前記固定部と、前記可動部と、前記3個
以上の薄肉可撓部部と、アームと、弾性ヒンジ部
分とを一体で形成して形成される。
以上の薄肉可撓部部と、アームと、弾性ヒンジ部
分とを一体で形成して形成される。
次に、本考案の実施例について、図面を参照し
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
第1図は本考案の一実施例を示す平面図であ
る。
る。
第1図に示す微動回転ステージは中空の固定部
1と、固定部1の内側にある中空円板状の可動部
2とがあつてこの両部材を連結し放射状に配置し
た4個の薄肉可撓部3と、可動部2の外壁に第1
の弾性ヒンジ6を介して連結したアーム部8と、
これと固定部1の隙間に第2の弾性ヒンジ7を介
して圧入されたピエゾ素子4と、第2の弾性ヒン
ジ7に対向し距離aずらした位置に第3の弾性ヒ
ンジ9を介して圧入されたピエゾ素子5とを含ん
で構成される。
1と、固定部1の内側にある中空円板状の可動部
2とがあつてこの両部材を連結し放射状に配置し
た4個の薄肉可撓部3と、可動部2の外壁に第1
の弾性ヒンジ6を介して連結したアーム部8と、
これと固定部1の隙間に第2の弾性ヒンジ7を介
して圧入されたピエゾ素子4と、第2の弾性ヒン
ジ7に対向し距離aずらした位置に第3の弾性ヒ
ンジ9を介して圧入されたピエゾ素子5とを含ん
で構成される。
薄肉可撓部3は可動部2の中心軸zに対して回
転対称に配置され、入力アーム8は中心軸zを通
る直線状に配置されている。また、第2の弾性ヒ
ンジ7と、第3の弾性ヒンジ9とは回転半径方向
にaの長さだけずらして配置されていて、ピエゾ
素子4および5以外の部品はすべて一体に形成さ
れ、ピエゾ素子4および5は可動部2の接線方向
に変位を発生する姿勢で隙間なく圧入保持されて
いる。
転対称に配置され、入力アーム8は中心軸zを通
る直線状に配置されている。また、第2の弾性ヒ
ンジ7と、第3の弾性ヒンジ9とは回転半径方向
にaの長さだけずらして配置されていて、ピエゾ
素子4および5以外の部品はすべて一体に形成さ
れ、ピエゾ素子4および5は可動部2の接線方向
に変位を発生する姿勢で隙間なく圧入保持されて
いる。
ピエゾ素子4および5に同方向の電圧を加える
と、それぞれΔlの微小直線変位を発生し、ピエ
ゾ素子4および5の一端に設けた第2の弾性ヒン
ジ7および第3の弾性ヒンジ9を介してアーム部
8に伝達される。二つの弾性ヒンジ7および9は
アーム部8にaの長さだけずれて対向し配置され
ているので、ピエゾ素子4および5の変位Δlに
よつてアーム部8に偶力Fを発生しアーム部8を
回転させる。この時、アーム部8の回転中心から
第1の弾性ヒンジ6までの距離をbとすると、第
1の弾性ヒンジ6においては変位Δlは拡大され
てΔl2b/aとなる。可動部2は4個の薄肉可撓部3 によつて固定部1に支持されているので、回転方
向以外には拘束されていて、アーム部8の拡大変
位を変換してΔl2b/arradの回転変位を得る。アー ム部8の傾きにともない第1の弾性ヒンジ6には
回転トルクと引張力を受けるが、回転変位1mrad
程度ではきわめて小さい力であり、弾性ヒンジ内
で傾きを許容し、薄肉可撓部3の回転案内による
高精度な回転変位を得ることができる。
と、それぞれΔlの微小直線変位を発生し、ピエ
ゾ素子4および5の一端に設けた第2の弾性ヒン
ジ7および第3の弾性ヒンジ9を介してアーム部
8に伝達される。二つの弾性ヒンジ7および9は
アーム部8にaの長さだけずれて対向し配置され
ているので、ピエゾ素子4および5の変位Δlに
よつてアーム部8に偶力Fを発生しアーム部8を
回転させる。この時、アーム部8の回転中心から
第1の弾性ヒンジ6までの距離をbとすると、第
1の弾性ヒンジ6においては変位Δlは拡大され
てΔl2b/aとなる。可動部2は4個の薄肉可撓部3 によつて固定部1に支持されているので、回転方
向以外には拘束されていて、アーム部8の拡大変
位を変換してΔl2b/arradの回転変位を得る。アー ム部8の傾きにともない第1の弾性ヒンジ6には
回転トルクと引張力を受けるが、回転変位1mrad
程度ではきわめて小さい力であり、弾性ヒンジ内
で傾きを許容し、薄肉可撓部3の回転案内による
高精度な回転変位を得ることができる。
また、ピエゾ素子4および5は弾性ヒンジ7お
よび9を介して固定部1に圧入保持されているの
で、回転運動にともなつてアーム部8が傾いても
ピエゾ素子4および5の両端には片当たりや隙間
が発生することがないので、バツクラツシユやス
テイツクスリツプのない滑らかで再現性の良い回
転変位を得ることができる。
よび9を介して固定部1に圧入保持されているの
で、回転運動にともなつてアーム部8が傾いても
ピエゾ素子4および5の両端には片当たりや隙間
が発生することがないので、バツクラツシユやス
テイツクスリツプのない滑らかで再現性の良い回
転変位を得ることができる。
さらに可動部2と薄肉可撓部3とアーム部を一
体で締結部なく形成しているので、ねじなどによ
る接合部のズレが発生せず、高剛性な動特性を得
ることができる。
体で締結部なく形成しているので、ねじなどによ
る接合部のズレが発生せず、高剛性な動特性を得
ることができる。
前記駆動方法の他に、ピエゾ素子4および5に
異なる方向の電圧を加えたり、大きさの異なる電
圧を加えることにより、分解能をさらに小さくす
ることも可能である。
異なる方向の電圧を加えたり、大きさの異なる電
圧を加えることにより、分解能をさらに小さくす
ることも可能である。
本考案の微動回転ステージは可動部から突出し
た突出部を直接1個のピエゾ素子で駆動するた
め、1mrad程度の比較的大きな回転変位を得る場
合、ピエゾ素子を長くして変位を大きくしたり、
ピエゾ素子の作用点を回転中心に近づける代わり
に、ピエゾ素子などのリニアアクチユエータを2
個設けたアーム部で変位を拡大して駆動すること
によつて、高分解能でかつ、1mrad程度の比較的
大きな微動回転変位を得ることができるので、X
線露光装置のマスクステージなどに搭載でき、マ
スクのプリアライメント精度をラフにできるとい
う効果がある。
た突出部を直接1個のピエゾ素子で駆動するた
め、1mrad程度の比較的大きな回転変位を得る場
合、ピエゾ素子を長くして変位を大きくしたり、
ピエゾ素子の作用点を回転中心に近づける代わり
に、ピエゾ素子などのリニアアクチユエータを2
個設けたアーム部で変位を拡大して駆動すること
によつて、高分解能でかつ、1mrad程度の比較的
大きな微動回転変位を得ることができるので、X
線露光装置のマスクステージなどに搭載でき、マ
スクのプリアライメント精度をラフにできるとい
う効果がある。
さらに、アーム部に2個のピエゾ素子を設ける
ことによつて変位を拡大しているため、露光エリ
アを確保する場合のように可動部が中空であつて
も、2個のピエゾ素子に加える電圧を制御するこ
とによつて、回転変位の分解能や最大変位を選定
することができるので、小型で高剛性であるとい
う特徴を失わずに高精度の微動回転ステージを実
現できるという効果がある。
ことによつて変位を拡大しているため、露光エリ
アを確保する場合のように可動部が中空であつて
も、2個のピエゾ素子に加える電圧を制御するこ
とによつて、回転変位の分解能や最大変位を選定
することができるので、小型で高剛性であるとい
う特徴を失わずに高精度の微動回転ステージを実
現できるという効果がある。
第1図は本考案の一実施例を示す平面図、第2
図は従来の微動回転ステージの一実施例を示す平
面図である。 1……固定部、2……可動部、3……薄肉可撓
部、4,5……ピエゾ素子(リニアアクチユエー
タ)、6,7,9……弾性ヒンジ、8……アーム
部、10……突出部。
図は従来の微動回転ステージの一実施例を示す平
面図である。 1……固定部、2……可動部、3……薄肉可撓
部、4,5……ピエゾ素子(リニアアクチユエー
タ)、6,7,9……弾性ヒンジ、8……アーム
部、10……突出部。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 1 固定部と、該固定部から放射状に突出した少
なくとも3個以上の薄肉可撓部と、該薄肉可撓
部の他端で支持した可動部と、前記固定部と前
記可動部の間にあり、前記可動部の求心方向に
第1の弾性ヒンジを介して連結されアーム部
と、該アーム部と前記固定部の間にあつて前記
アーム部の第1の弾性ヒンジと直角方向に変位
を発生可能でそれぞれ少なくとも1個ずつの弾
性ヒンジを介して前記アーム部と前記固定部に
連結した2個のリニアアクチユエータとを含む
ことを特徴とする微動回転ステージ。 2 上記固定部と、薄肉可撓部と、可動部と、ア
ーム部とを一体で形成しリニアアクチユエータ
が圧入されていることを特徴とする実用新案登
録請求の範囲第1項記載の微動回転ステージ。 3 上記2個のリニアアクチユエータがピエゾ素
子であることを特徴とする実用新案登録請求の
範囲第1項記載の微動回転ステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987135114U JPH0543439Y2 (ja) | 1987-09-03 | 1987-09-03 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987135114U JPH0543439Y2 (ja) | 1987-09-03 | 1987-09-03 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6440089U JPS6440089U (ja) | 1989-03-09 |
| JPH0543439Y2 true JPH0543439Y2 (ja) | 1993-11-01 |
Family
ID=31394458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987135114U Expired - Lifetime JPH0543439Y2 (ja) | 1987-09-03 | 1987-09-03 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0543439Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7239369B2 (en) | 2002-09-30 | 2007-07-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
-
1987
- 1987-09-03 JP JP1987135114U patent/JPH0543439Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6440089U (ja) | 1989-03-09 |
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