JPH0545062U - 竪型光輝焼鈍炉の入口シール装置 - Google Patents
竪型光輝焼鈍炉の入口シール装置Info
- Publication number
- JPH0545062U JPH0545062U JP10032991U JP10032991U JPH0545062U JP H0545062 U JPH0545062 U JP H0545062U JP 10032991 U JP10032991 U JP 10032991U JP 10032991 U JP10032991 U JP 10032991U JP H0545062 U JPH0545062 U JP H0545062U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- bright annealing
- heated
- annealing furnace
- gas
- Prior art date
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- Pending
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- Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本考案は、金属ストリップ等に適用する竪型
光輝焼鈍炉に関し、炉圧変動をなくし異物を完全に除去
する入口シール装置を提供する。 【構成】 加熱装置2と冷却装置3とを連設し、下部に
入口シール装置4を設けた竪型光輝焼鈍炉1の入口シー
ル装置において、シール装置を方形のチャンバー5で形
成し、下部に被熱物6を導入するシールロール7と、チ
ャンバー内には1対のノズル8a,8bを設け、加熱装
置とチャンバーとの間にガス調整用ダンパー10と熱交
換器11とブロワー12とを備えたダクトを取り付け、
ダクトのチャンバー側は前記1対のノズルに接合した入
口シール装置である。 【効果】 噴射ガスは常に最適の圧力,温度に調整で
き、完全なクリーニング,乾燥が施されて美麗な光輝焼
鈍を行うことができ、品質の向上と被熱物の歩留り向上
を図り得る。
光輝焼鈍炉に関し、炉圧変動をなくし異物を完全に除去
する入口シール装置を提供する。 【構成】 加熱装置2と冷却装置3とを連設し、下部に
入口シール装置4を設けた竪型光輝焼鈍炉1の入口シー
ル装置において、シール装置を方形のチャンバー5で形
成し、下部に被熱物6を導入するシールロール7と、チ
ャンバー内には1対のノズル8a,8bを設け、加熱装
置とチャンバーとの間にガス調整用ダンパー10と熱交
換器11とブロワー12とを備えたダクトを取り付け、
ダクトのチャンバー側は前記1対のノズルに接合した入
口シール装置である。 【効果】 噴射ガスは常に最適の圧力,温度に調整で
き、完全なクリーニング,乾燥が施されて美麗な光輝焼
鈍を行うことができ、品質の向上と被熱物の歩留り向上
を図り得る。
Description
【0001】
本考案は、金属ストリップ等の被熱物を還元性ガスあるいは無酸化性ガスの雰 囲気中で光輝焼鈍する竪型光輝焼鈍炉の入口シール装置に関する。
【0002】
竪型光輝焼鈍炉の一般的構造は、図2に示すように、鉛直姿勢に構築された円 筒状の断熱炉体21の内部に同心状に円筒状のマッフル22が設けられて加熱装 置23を構成し、該マッフル22の下部にはスロート部24と、その下部には入 口シール装置25が取り付けられ、またマッフル22の上部には冷却装置26が 取り付けられて構成されている。
【0003】 被熱物である金属ストリップ20は、入口シール装置25を通ってスロート部 24に導かれてマッフル22を上昇する。そしてバーナー等の間接加熱によって 所定温度に加熱され、冷却装置26にて冷却される。次いで保護筒27を下降し て外部に導出され、熱処理を完了する。
【0004】 この場合被熱物である金属ストリップ20に微小な水分や空気,また異物が付 着して侵入したり、また炉壁からの侵入空気があると、光輝焼鈍のための還元性 ガスあるいは無酸化性ガス等の雰囲気ガスが変質あるいは汚染され、このガスに より金属ストリップ表面が着色することがしばしば発生する。
【0005】 この内、炉壁からの大気の侵入については、炉の点検,保守を強化することに より侵入を防止することが可能であるが、ストリップ表面に付着した水分等は従 来その除去のための有効な手段や設備がなく、外的要因の変動によって突発的に 着色が発生し、そのために歩留りの低下は避けられなかった。
【0006】
【考案が解決しようとする課題】 このような問題を解決する手段として、例えば特公昭57−3733号公報の 「金属帯の光輝焼鈍方法」の技術がある。この公報には図3に示すように、竪型 光輝焼鈍炉のアップパス31にトップロールチャンバー32から漏洩する雰囲気 ガスをブロワー33で吸引し、このガスをノズル34を介して金属ストリップ3 5表面に吹き付けることにより、ストリップ35表面に付着した水分等を事前に 除去するクリーニング作用を付加した入口シール装置が開示されている。
【0007】 ところでこの装置では、雰囲気ガスの漏洩量のみをブロワーで吸引する構造で あるために、ストリップ表面に吹き付けるガス量が少量でクリーニング効果にあ まり期待できない。また効果を期待するためにはガス量を増加させる必要がある が、吸引ガス量が増加すると、ロールチャンバー内および加熱室内の炉圧が負圧 近くに大幅に変動して操業に悪影響を与え、また熱源が漏洩量のみのために、ス トリップ表面に付着した水分の乾燥やクリーニングには十分ではない。
【0008】 本考案は上記課題を解決し、炉圧変動をなくするとともに、水分等異物を完全 に除去する竪型光輝焼鈍炉の入口シール装置を提供する。
【0009】
本考案は、加熱装置と冷却装置とを連設して熱処理の上昇部を形成し、加熱装 置の下部に入口シール装置を設けて構成した竪型光輝焼鈍炉の入口シール装置に おいて、前記シール装置を方形のチャンバーで形成し、下部に被熱物を導入する シールロールと、チャンバー内には被熱物の両面より雰囲気ガスを噴射する1対 のノズルを設け、前記加熱装置とチャンバーとの間にガス調整用ダンパーと熱交 換器とブロワーとを備えたダクトを取り付けるとともに、該ダクトのチャンバー 側は前記1対のノズルに接合したことを特徴とする竪型光輝焼鈍炉の入口シール 装置である。
【0010】
金属ストリップ等の被熱物は入口シール装置のシールロールを通過し、入口シ ール装置のチャンバー内に導入される。続いて加熱装置内の雰囲気ガスにて所定 温度に加熱され、次いで冷却装置にて冷却されて熱処理が完了する。
【0011】 この場合シールチャンバー内に導入された被熱物は、チャンバー内に設けた1 対のノズルにより両面より雰囲気ガスの噴射を受け、被熱物である金属ストリッ プの表面に付着している微小な水分や空気,また異物が除去される。
【0012】 前記ノズルから噴射される雰囲気ガスは、加熱装置から抽気されノズルに到る 間に、ガス調整用ダンパーとブロワーとによりガス量および噴射圧力が調整され 、さらに熱交換器により温度調整されて被熱物の表面に噴射される。従って噴射 される雰囲気ガスの温度,ガス量,噴射圧力は、噴射を受ける被熱物の水分や空 気,また異物の付着状況に応じて適宜調整が可能なので、常に最適の条件で被熱 物のクリーニングや乾燥を行うことができ、また同時に被熱物の予熱をも行うこ とができる。
【0013】 加熱装置から抽気したガスはシールチャンバー内に噴出し、またシールチャン バーと加熱装置を連結しているのでガスはこの間を循環するだけであり、従って 炉圧変動は生じない。
【0014】 チャンバー内に噴射された雰囲気ガスは、噴射後はチャンバー内を上昇して加 熱装置に還流され、ここで再加熱されて再び熱処理等に使用されるとともに、ま たその一部は再び抽気されて被熱物の噴射に供される。このように雰囲気ガスは 外気とは全く遮断されて、加熱装置とチャンバー内のみを循環しながら加熱,噴 射に使用される。
【0015】
以下本考案の実施例を図面を参照して説明する。図1は竪型光輝焼鈍炉入口シ ール装置の構造の一例を示す略側断面図である。
【0016】 竪型光輝焼鈍炉1は、鉛直姿勢に構築された円筒状の断熱炉体の内部にマッフ ルを設けて構成した加熱装置2と、該加熱装置2の上部に冷却装置3を連設して 熱処理の上昇部を形成し、加熱装置2の下部には入口シール装置4を取り付けて 構成されている。
【0017】 入口シール装置4は方形のチャンバー5で形成され、下部に金属ストリップ等 の被熱物6を導入するシールロール7と、チャンバー5内には被熱物6の両面よ り雰囲気ガスを噴射する1対のノズル8a,8bが設けられる。
【0018】 前記加熱装置2とチャンバー5との間には、ガス調整用ダンパー10と熱交換 器11とブロワー12を備えたダクト9が取り付けられ、該ダクト9のチャンバ ー5側は前記1対のノズル8a,8bに接合されている。
【0019】 ここで金属ストリップ等の被熱物6は、入口シール装置4のシールロール7を 通ってチャンバー5内に導かれ、さらに加熱装置2内を上昇する。加熱装置2内 では、バーナー等の間接加熱によって所定温度に加熱された還元性ガスあるいは 無酸化性ガスの雰囲気中で熱処理が施され、次いで冷却装置3にて冷却され、引 き続き保護筒13を下降して外部に導出され、熱処理を完了する。
【0020】 被熱物6である金属ストリップ等は、このチャンバー5を通過する際にチャン バー内に設けたノズル8a,8bにより両面より雰囲気ガスの噴射を受け、金属 表面に付着している微小な水分や空気,また異物が除去され、完全にクリーニン グ,乾燥が施され、さらには噴射した雰囲気ガスにより予熱される。
【0021】 ノズル8a,8bから噴射される雰囲気ガスは、加熱装置2から抽気されノズ ルに到る間に、ガス調整用ダンパー10とブロワー12とによりガス量および噴 射圧力が調整され、さらに熱交換器11により温度調整され、噴射を受ける被熱 物6の表面の状況に応じて最適の条件で被熱物のクリーニングや乾燥、さらには 予熱を行うことができるように調整される。
【0022】
本考案の竪型光輝焼鈍炉の入口シール装置によれば、雰囲気ガスは外気とは全 く遮断されて加熱装置とチャンバー内のみを循環しながら被熱物の加熱,噴射に 供されるので、噴射に際して炉内に圧力変動が生ずることはなく、安定して熱処 理操業を行うことができる。
【0023】 また噴射する雰囲気ガスの温度,ガス量,噴射圧力は、噴射を受ける被熱物の 水分や空気,また異物の付着状況に応じて常に最適になるよう調整できるので、 完全なクリーニング,乾燥が施され、さらには雰囲気ガスにより被熱物の予熱も 行えるので、被熱物が着色することはなく美麗な光輝焼鈍を行うことができ、品 質の向上とともに被熱物の歩留り向上を図り得る。
【図1】竪型光輝焼鈍炉入口シール装置の構造の一例を
示す略側断面図である。
示す略側断面図である。
【図2】竪型光輝焼鈍炉の一般的構造を示す略側断面図
である。
である。
【図3】従来の竪型光輝焼鈍炉入口シール装置の構造を
示す断面図である。
示す断面図である。
1 竪型光輝焼鈍炉 2 加熱装置 3 冷却装置 4 入口シール装置 5 シールチャンバー 6 被熱物 7 シールロール 8a,8b ノズル 9 ダクト 10 ガス調整用ダンパー 11 熱交換器 12 ブロワー 13 保護筒
Claims (1)
- 【請求項1】 加熱装置と冷却装置とを連設して熱処理
の上昇部を形成し、加熱装置の下部に入口シール装置を
設けて構成した竪型光輝焼鈍炉の入口シール装置におい
て、前記シール装置を方形のチャンバーで形成し、下部
に被熱物を導入するシールロールと、チャンバー内には
被熱物の両面より雰囲気ガスを噴射する1対のノズルを
設け、前記加熱装置とチャンバーとの間にガス調整用ダ
ンパーと熱交換器とブロワーとを備えたダクトを取り付
けるとともに、該ダクトのチャンバー側は前記1対のノ
ズルに接合したことを特徴とする竪型光輝焼鈍炉の入口
シール装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10032991U JPH0545062U (ja) | 1991-11-11 | 1991-11-11 | 竪型光輝焼鈍炉の入口シール装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10032991U JPH0545062U (ja) | 1991-11-11 | 1991-11-11 | 竪型光輝焼鈍炉の入口シール装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0545062U true JPH0545062U (ja) | 1993-06-18 |
Family
ID=14271122
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10032991U Pending JPH0545062U (ja) | 1991-11-11 | 1991-11-11 | 竪型光輝焼鈍炉の入口シール装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0545062U (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50150610A (ja) * | 1974-05-24 | 1975-12-03 | ||
| JPS5626736A (en) * | 1979-08-05 | 1981-03-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Manufacture of porous glass |
-
1991
- 1991-11-11 JP JP10032991U patent/JPH0545062U/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50150610A (ja) * | 1974-05-24 | 1975-12-03 | ||
| JPS5626736A (en) * | 1979-08-05 | 1981-03-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Manufacture of porous glass |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19970401 |