JPH0545525B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0545525B2 JPH0545525B2 JP61151836A JP15183686A JPH0545525B2 JP H0545525 B2 JPH0545525 B2 JP H0545525B2 JP 61151836 A JP61151836 A JP 61151836A JP 15183686 A JP15183686 A JP 15183686A JP H0545525 B2 JPH0545525 B2 JP H0545525B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carried out
- oxidation
- hydrolysis
- copper
- oxygen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 39
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 38
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 27
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 26
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 26
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 24
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 22
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 15
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 7
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 150000001367 organochlorosilanes Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims 1
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 18
- 239000000047 product Substances 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 7
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 7
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical compound C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 4
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N hydrate;hydrochloride Chemical compound O.Cl DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- 229910021592 Copper(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019093 NaOCl Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910008045 Si-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006411 Si—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- WCCJDBZJUYKDBF-UHFFFAOYSA-N copper silicon Chemical compound [Si].[Cu] WCCJDBZJUYKDBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003673 groundwater Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 1
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 210000000056 organ Anatomy 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 230000036284 oxygen consumption Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000011814 protection agent Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229940024463 silicone emollient and protective product Drugs 0.000 description 1
- -1 silylmethylene Chemical group 0.000 description 1
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/16—Preparation thereof from silicon and halogenated hydrocarbons direct synthesis
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Processing Of Solid Wastes (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は直接法よる有機クロロシラン合成で固
体を含有するポリシラン・スラツジを加水分解す
る際に生じる加水分解残渣の回収方法に関する。
特に本発明はメチルクロロシラン合成で得られる
加水分解残渣の回収方法に関する。
体を含有するポリシラン・スラツジを加水分解す
る際に生じる加水分解残渣の回収方法に関する。
特に本発明はメチルクロロシラン合成で得られる
加水分解残渣の回収方法に関する。
有機クロロシラン、特にメチルクロロシランは
例えばゴム、亀裂密封剤、オイル、建物防護剤等
に広く使用されるシリコーン製品の原料として利
用されている。銅または銅化合物を用いて硅素を
直接塩化メチルと反応させると高収率で得られる
ジメチルジクロロシランは、メチルクロロシラン
を製造する際には特に望ましい原料である。この
方法は基本的には米国特許第2380995号に記載さ
れている。メチルクロロシランはこの方法により
全世界的に工業的規模で製造されているが、この
反応は通常連続操作される流動床反応器で実施さ
れている。
例えばゴム、亀裂密封剤、オイル、建物防護剤等
に広く使用されるシリコーン製品の原料として利
用されている。銅または銅化合物を用いて硅素を
直接塩化メチルと反応させると高収率で得られる
ジメチルジクロロシランは、メチルクロロシラン
を製造する際には特に望ましい原料である。この
方法は基本的には米国特許第2380995号に記載さ
れている。メチルクロロシランはこの方法により
全世界的に工業的規模で製造されているが、この
反応は通常連続操作される流動床反応器で実施さ
れている。
さらに直接合成の際ジメチルジクロロシランの
他に一般式 Me SiCl (x=0〜4、Me=CH3)、 Me HSiCl (x=0〜2、Me=CH3)、 に対応するシラン、並びにシラン二量体 Me Si Cl (x=2〜6、Me=CH3)、 シロキサン及びシリルメチレンが生じる。
他に一般式 Me SiCl (x=0〜4、Me=CH3)、 Me HSiCl (x=0〜2、Me=CH3)、 に対応するシラン、並びにシラン二量体 Me Si Cl (x=2〜6、Me=CH3)、 シロキサン及びシリルメチレンが生じる。
流動床反応器において直接法を実施する場合、
反応生成物、粗製シラン混合物、及び未反応の塩
化メチルと共に、細かい硅素、触媒及び反応した
接触材料が連続的に運び去られる。このような塵
状物はしばしば洗浄塔が付属したいわゆるスラツ
ジ容器中に最高沸点の反応生成物(Kp760>160
℃)と共に集められる。通常過剰圧力が1.5〜10
バールのこのような容器の温度は、一般に固体分
及び凝縮溜分の混合物が十分に薄い液層になつて
この容器から取り出せるように調節される。
反応生成物、粗製シラン混合物、及び未反応の塩
化メチルと共に、細かい硅素、触媒及び反応した
接触材料が連続的に運び去られる。このような塵
状物はしばしば洗浄塔が付属したいわゆるスラツ
ジ容器中に最高沸点の反応生成物(Kp760>160
℃)と共に集められる。通常過剰圧力が1.5〜10
バールのこのような容器の温度は、一般に固体分
及び凝縮溜分の混合物が十分に薄い液層になつて
この容器から取り出せるように調節される。
ドイツ特許第2363494号に従えば、スラツジ容
器の内容物を減圧にして攪拌機を備えた常圧の容
器に移し、次になお蒸留し得る溜分を加熱して分
離することができる。この容器の内容物は次に一
般に加水分解に付される。
器の内容物を減圧にして攪拌機を備えた常圧の容
器に移し、次になお蒸留し得る溜分を加熱して分
離することができる。この容器の内容物は次に一
般に加水分解に付される。
実際の加水分解はドイツ特許第2362494号記載
の方法で廃水パイプの中で行われる。その欠点は
接触期間が短いために加水分解が不完全であり、
大量の水が使用されることである。
の方法で廃水パイプの中で行われる。その欠点は
接触期間が短いために加水分解が不完全であり、
大量の水が使用されることである。
ドイツ特許公開明細書第3005743号には、鉱油
を加えて加水分解生成物の接着性に関する望まし
くない性質を防止する加水分解方法が記載されて
いる。しかし加水分解生成物は価値がなく廃棄し
なければならないから、さらに有機物を加えるこ
とは欠点である。
を加えて加水分解生成物の接着性に関する望まし
くない性質を防止する加水分解方法が記載されて
いる。しかし加水分解生成物は価値がなく廃棄し
なければならないから、さらに有機物を加えるこ
とは欠点である。
ヨーロツパ特許第0089784号には塩素含量を最
低にすることにより接着性の問題を克服すること
が記載されているが、この目的は工業的に達成す
ることは困難である。
低にすることにより接着性の問題を克服すること
が記載されているが、この目的は工業的に達成す
ることは困難である。
上記方法のすべてにおいて塩酸懸濁液が生じる
が、かなりの固体分の加水分解生成物は価値がな
く廃棄しなければならない。しかしこれらの加水
分解生成物は問題がないことはない。何故ならば
主として金属銅から成る成分を2〜20%含み、こ
れが廃棄された加水分解生成物から部分的に流出
し、従つて地下水を汚染する危険がある。さらに
得られる大部分の加水分解生成物は酸化され易
く、或る場合には自己発火する傾向があり、その
ため環境規制法により廃棄することはできない。
が、かなりの固体分の加水分解生成物は価値がな
く廃棄しなければならない。しかしこれらの加水
分解生成物は問題がないことはない。何故ならば
主として金属銅から成る成分を2〜20%含み、こ
れが廃棄された加水分解生成物から部分的に流出
し、従つて地下水を汚染する危険がある。さらに
得られる大部分の加水分解生成物は酸化され易
く、或る場合には自己発火する傾向があり、その
ため環境規制法により廃棄することはできない。
Si−Cl官能器の加水分解により加水分解用の水
の中に最高100g/1のHClが溶解している。さ
らに加水分解懸濁物はそれ以上処理しないと水素
を発生するが、このことは望ましいことではなく
危険である。
の中に最高100g/1のHClが溶解している。さ
らに加水分解懸濁物はそれ以上処理しないと水素
を発生するが、このことは望ましいことではなく
危険である。
有機クロロシラン製造の際に反応器から得られ
る排出された硅素及び銅含有接触組成物は、水ま
たは稀塩酸中で塩素ガスと処理することにより回
収することができる。変化しない元素状の硅素は
塩素化後銅を含む溶液から分離され、塩化銅−
は還元剤により塩化銅−に変り、晶出させシ
ラン合成の触媒として再使用する。
る排出された硅素及び銅含有接触組成物は、水ま
たは稀塩酸中で塩素ガスと処理することにより回
収することができる。変化しない元素状の硅素は
塩素化後銅を含む溶液から分離され、塩化銅−
は還元剤により塩化銅−に変り、晶出させシ
ラン合成の触媒として再使用する。
この方法は今考察している加水分解生成物に対
しては次の二つの理由により不適当である。
しては次の二つの理由により不適当である。
スラツジ容器から排出される材料中のポリシラ
ン含有量のために、加水分解懸濁液は塩素化でき
る化合物をかなりの量含んでおり、そのため廃水
の問題を生じる。
ン含有量のために、加水分解懸濁液は塩素化でき
る化合物をかなりの量含んでおり、そのため廃水
の問題を生じる。
他方銅は塩化銅−から定量的に晶出させるこ
とはできず、難溶性の塩化物として沈澱させるこ
とができない他の金属は明らかに溶液中に残る。
とはできず、難溶性の塩化物として沈澱させるこ
とができない他の金属は明らかに溶液中に残る。
従つて本発明はできるだけ有効な加水分解処理
法に関し、規制法により廃棄できる固体残渣を生
じ、銅が回収され、重金属を含まない廃水が得ら
れる上記加水分解生成物の回収法に関する。
法に関し、規制法により廃棄できる固体残渣を生
じ、銅が回収され、重金属を含まない廃水が得ら
れる上記加水分解生成物の回収法に関する。
従つて本発明の目的は残渣を加水分解し、次い
で遊離酸素を含むガスで酸化し、銅を含む溶液を
回収して分離することを特徴とする有機クロロシ
ラン合成の際に生じる高沸点の固体分含有残渣を
回収する方法を提供することである。
で遊離酸素を含むガスで酸化し、銅を含む溶液を
回収して分離することを特徴とする有機クロロシ
ラン合成の際に生じる高沸点の固体分含有残渣を
回収する方法を提供することである。
本発明の好適な加水分解方法には水または約5
重量%まで高度に稀釈した塩化水素酸を用い高速
回転する円板状攪拌機を備えた反応容器中におい
て行う方法が含まれる。この容器には調節板が装
着されていないので渦動が生じ、この中に加水分
解すべき材料を導入する。加水分解は温度40〜
100℃で行われる。好適な温度は60〜90℃である。
驚くべきことには粒径が5mmより小さく、互いに
粘着しない微粉末の固体加水分解生成物が得られ
る。得られた加水分解懸濁は湿つたフイルター・
ケーキとして計算して通常固体分含量が5〜40%
であり、明らかに使用量に依存する。
重量%まで高度に稀釈した塩化水素酸を用い高速
回転する円板状攪拌機を備えた反応容器中におい
て行う方法が含まれる。この容器には調節板が装
着されていないので渦動が生じ、この中に加水分
解すべき材料を導入する。加水分解は温度40〜
100℃で行われる。好適な温度は60〜90℃である。
驚くべきことには粒径が5mmより小さく、互いに
粘着しない微粉末の固体加水分解生成物が得られ
る。得られた加水分解懸濁は湿つたフイルター・
ケーキとして計算して通常固体分含量が5〜40%
であり、明らかに使用量に依存する。
本発明によりさらに処理を行うためには上記の
ように計算して20±5重量%の固体分含量が最適
である。しかしこの量は本発明を限定するもので
はない。
ように計算して20±5重量%の固体分含量が最適
である。しかしこの量は本発明を限定するもので
はない。
本発明による加水分解懸濁物の酸化は元素状の
酸素を含むガス、好ましくは大気圧以上の圧力の
市販の純酸素を用いて行うことが有利である。
酸素を含むガス、好ましくは大気圧以上の圧力の
市販の純酸素を用いて行うことが有利である。
本発明の酸化は一般に1〜20バール、好ましく
は4〜6バールの酸素圧で行われる。酸化で消費
される酸素を連続的に置換して所望の圧力を保
つ。温度は50〜120℃の範囲で変えることができ、
80±10℃の温度が最適である。酸化の滞在時間は
1〜5時間であり、一般には3時間である。滞在
時間をこれよりも短くし温度を低くすることもで
きるが、乾燥した残渣が熱的に不活性ではなくな
る危険がある。滞在時間に上限はないが、4時間
より長いと不経済であり、不必要に大きな反応容
器を必要とする。本発明方法はバツチ法でも連続
法でも実施することができる。
は4〜6バールの酸素圧で行われる。酸化で消費
される酸素を連続的に置換して所望の圧力を保
つ。温度は50〜120℃の範囲で変えることができ、
80±10℃の温度が最適である。酸化の滞在時間は
1〜5時間であり、一般には3時間である。滞在
時間をこれよりも短くし温度を低くすることもで
きるが、乾燥した残渣が熱的に不活性ではなくな
る危険がある。滞在時間に上限はないが、4時間
より長いと不経済であり、不必要に大きな反応容
器を必要とする。本発明方法はバツチ法でも連続
法でも実施することができる。
他の酸化剤、例えばNaOCl、塩素または過酸
化水素を使用する場合とは対照的に、固体分を分
離した後の廃水中の塩素化炭化水素の含量は実質
的に低い。また酸素圧による酸化は他の酸化剤を
使用する酸化に比べ、酸素の過剰量があまり重要
ではなく、また本発明方法では酸素が不足するこ
とはないから計量の問題が生じないことである。
酸素による酸化中廃水の量も塩の含有量もそれ以
上増加することはない。
化水素を使用する場合とは対照的に、固体分を分
離した後の廃水中の塩素化炭化水素の含量は実質
的に低い。また酸素圧による酸化は他の酸化剤を
使用する酸化に比べ、酸素の過剰量があまり重要
ではなく、また本発明方法では酸素が不足するこ
とはないから計量の問題が生じないことである。
酸素による酸化中廃水の量も塩の含有量もそれ以
上増加することはない。
酸化が完了したら酸素の圧力を減じ、流体から
固体分を分離する。
固体分を分離する。
水素を発生するSi−Si結合の酸による加水分解
は酸化に比べ完全に抑制することはできない。即
ち少量の水素が発生する。爆発を誘起する雰囲気
の生成を防ぐために反応容器中の一定容積のガス
を連続的に酸素で追出して置換する。この方法で
ガス相の組成を容易に調節することができる。
は酸化に比べ完全に抑制することはできない。即
ち少量の水素が発生する。爆発を誘起する雰囲気
の生成を防ぐために反応容器中の一定容積のガス
を連続的に酸素で追出して置換する。この方法で
ガス相の組成を容易に調節することができる。
好適な具体化例においては高温において固体の
分離を行い、洗浄して固体が銅を含む溶液に粘着
することを防ぎ、冷却する。
分離を行い、洗浄して固体が銅を含む溶液に粘着
することを防ぎ、冷却する。
濾過装置、例えばベルト・フイルターにより固
体を分離することが好ましい。廃棄可能で排ガス
を生ぜず、流出可能な重金属を含んでいない緻密
で熱的に安定なフイルター・ケークが得られる。
「熱的に安定な」という言葉は2時間約80℃に保
つても自己発火しない材料を意味する。この目的
のためには5gの物質をペトリ皿の開いた底(直
径約55mm)の中に起き、温度コントロールされた
攪拌油槽の中で80℃に保つ。
体を分離することが好ましい。廃棄可能で排ガス
を生ぜず、流出可能な重金属を含んでいない緻密
で熱的に安定なフイルター・ケークが得られる。
「熱的に安定な」という言葉は2時間約80℃に保
つても自己発火しない材料を意味する。この目的
のためには5gの物質をペトリ皿の開いた底(直
径約55mm)の中に起き、温度コントロールされた
攪拌油槽の中で80℃に保つ。
フイルター・ケークの固体分含量は約50重量%
(乾燥物質として計算)であり、銅含量は0.5重量
%より少ない。
(乾燥物質として計算)であり、銅含量は0.5重量
%より少ない。
スラツジ容器排出物中に含まれる大部分の銅
(約90〜95%)はこれで濾液に移り、濾液は10〜
80g/1のHClの他に、約5〜15g/lのCuと
0.1〜1.0g/1のFe,Zn,Al及びSiO2を含んで
いる。
(約90〜95%)はこれで濾液に移り、濾液は10〜
80g/1のHClの他に、約5〜15g/lのCuと
0.1〜1.0g/1のFe,Zn,Al及びSiO2を含んで
いる。
酸化され分離され洗浄された固体材料から水と
共に銅が排出されず、それ以上水素も発生せず、
乾燥後なお80℃の空気に対して不活性であるか
ら、問題なく廃棄できる。
共に銅が排出されず、それ以上水素も発生せず、
乾燥後なお80℃の空気に対して不活性であるか
ら、問題なく廃棄できる。
本発明による加水分解生成物の回収法には所望
の塩酸で加水分解した懸濁物を酸化し、固体を分
離した後銅、鉄、アルミニウム及び亜鉛を含む溶
液を随時還元剤を加えてアルカリ土類及び/又は
アルカリ金属の水酸化物と反応させる。この方法
により沈澱した水酸化物及び酸化物を分離した
後、(a)ほとんど中性で、(b)水酸化物として沈澱し
得る重金属を含まない廃水が得られる。
の塩酸で加水分解した懸濁物を酸化し、固体を分
離した後銅、鉄、アルミニウム及び亜鉛を含む溶
液を随時還元剤を加えてアルカリ土類及び/又は
アルカリ金属の水酸化物と反応させる。この方法
により沈澱した水酸化物及び酸化物を分離した
後、(a)ほとんど中性で、(b)水酸化物として沈澱し
得る重金属を含まない廃水が得られる。
濾液を溶解した金属塩から分離する好適な方法
はSO2及びNaOHで還元的沈澱を行う方法が含ま
れる。還元は第1段階ではPH約6で起り、PH9の
第2段階で沈澱が完了する。還元的沈澱は約50〜
100℃に加熱して行うことが好ましい。酸化され
た加水分解懸濁物を濾過する際、高温の銅を含む
濾液を直接銅回収処理へと供給し、冷たいあまり
汚染されていない洗浄液を加水分解処理へと再循
環することが有利である。
はSO2及びNaOHで還元的沈澱を行う方法が含ま
れる。還元は第1段階ではPH約6で起り、PH9の
第2段階で沈澱が完了する。還元的沈澱は約50〜
100℃に加熱して行うことが好ましい。酸化され
た加水分解懸濁物を濾過する際、高温の銅を含む
濾液を直接銅回収処理へと供給し、冷たいあまり
汚染されていない洗浄液を加水分解処理へと再循
環することが有利である。
容易に濾過し得る酸化銅−が得られる。これ
は乾燥後の銅含量が40〜60%であり、鉄、亜鉛、
アルミニウム及び硅素の沈澱した酸化物及び水酸
化物の量は1〜5%である。
は乾燥後の銅含量が40〜60%であり、鉄、亜鉛、
アルミニウム及び硅素の沈澱した酸化物及び水酸
化物の量は1〜5%である。
この方法で廃水は重金属を含まず、さらにきれ
いにするために随時生物学的な洗浄工場に供給す
ることができる。
いにするために随時生物学的な洗浄工場に供給す
ることができる。
下記の実施例により本発明を例示する。これら
の実施例は単に例示のためのものであり本発明を
限定するものではない。
の実施例は単に例示のためのものであり本発明を
限定するものではない。
実施例 1
常圧において揮発性シラン回収用の攪拌機を備
えた容器から得られる不揮発性成分を毎時約300
〜400Kgの割合で時間バルブを経て加水分解処理
に供給する。加水分解容器は高速回転する円板上
の混合機を備え調節板をもたない容器の形をして
いる。加水分解すべきシラン残渣と同時に、加水
分解温度が70〜80℃になるように予め加熱された
水を容器に供給する。平均滞在時間は約0.5時間
であり、自由に溢流させて加水分解懸濁物を容器
から取り出した。
えた容器から得られる不揮発性成分を毎時約300
〜400Kgの割合で時間バルブを経て加水分解処理
に供給する。加水分解容器は高速回転する円板上
の混合機を備え調節板をもたない容器の形をして
いる。加水分解すべきシラン残渣と同時に、加水
分解温度が70〜80℃になるように予め加熱された
水を容器に供給する。平均滞在時間は約0.5時間
であり、自由に溢流させて加水分解懸濁物を容器
から取り出した。
一般的に固体の塊状の加水分解生成物が得られ
た。その典型的なものは次の特性をもつていた。
た。その典型的なものは次の特性をもつていた。
固体分含量:乾燥基準で5〜20重量%。
固体分の粘度分布:95%<5mm,50%<1mm,
10%<0.1mm。
10%<0.1mm。
乾燥固体のCu含量:5〜9重量%。
加水分解用の水:20〜100g/1HCl50〜
200ppmCu2+ 乾燥加水分解生成物の酸化容易性: 80℃で0〜5分後自己発火。
200ppmCu2+ 乾燥加水分解生成物の酸化容易性: 80℃で0〜5分後自己発火。
実施例 2
実施例1記載の加水分解装置から得られる加水
分解懸濁物12をさらに予備処理することなく酸
化した。内容積が16で自己吸入性中空攪拌機及
び温度測定装置を備えたエナメル塗装オートクレ
ーブを反応装置として使用した。このオートクレ
ーブの鋼製のボンベから6バールの酸素を装入す
る。連続的に毎時30の酸素をオートクレーブに
通し、ガス相の組成をコントロールし、水素濃度
を2容量%以下に保つ。酸化の開始温度は51℃で
あつた。最初の発熱的な酸化により温度は69℃に
上昇した。さらに3時間に亙る酸化時間の間水蒸
気で加熱して温度を80℃に保つ。
分解懸濁物12をさらに予備処理することなく酸
化した。内容積が16で自己吸入性中空攪拌機及
び温度測定装置を備えたエナメル塗装オートクレ
ーブを反応装置として使用した。このオートクレ
ーブの鋼製のボンベから6バールの酸素を装入す
る。連続的に毎時30の酸素をオートクレーブに
通し、ガス相の組成をコントロールし、水素濃度
を2容量%以下に保つ。酸化の開始温度は51℃で
あつた。最初の発熱的な酸化により温度は69℃に
上昇した。さらに3時間に亙る酸化時間の間水蒸
気で加熱して温度を80℃に保つ。
原料懸濁物:
懸濁物の固体分含量(乾燥基準):14.8%
固体分のCu含量(乾燥基準):5.6%
空気中で80℃に保つた際の乾燥加水分解生成物
の酸化容易性: 1分以内で自己発火。
の酸化容易性: 1分以内で自己発火。
水のHCl含量:54.5g/1
酸化後:
固体分のCu含量(乾燥基準):0.28%
空気中で80℃に保つた際の乾燥加水分解生成物
の酸化容易性:不活性。
の酸化容易性:不活性。
水のHCl含量:47.8g/1
水のCu2+含量:8.0g/1
酸素消費量: 懸濁物1当り10
実施例 3
実施例2のいくつかのバツチから得られた1
中に7.4gのCuを含むCuCl2含有溶液をガラス製
の攪拌機を備えた100の容器中で70℃に加熱し、
水酸化ナトリウム15%溶液約17を用いてPHを6
に調節する。次に105のSO2を30分に亙つて攪
拌(150u.p.m)しながら導入する(3.5SO3/
分)。この間徐々に水酸化ナトリウム15%溶液を
加えて混合物のPHを一定の6に保つ。SO2の導入
が完了した後、NaOH15%溶液を用いて約15分
の間反応混合物のPHを8.9〜9に調節し、さらに
1時間懸濁物を攪拌する。沈澱後、脱水が完了す
るまで最高6バールの過剰圧を用いてチヤンバ
ー・フイルター・プレス中で濾過し、しかる後フ
イルターケークを洗浄する。真空乾燥炉中におい
て120℃で一定量になるまで残渣を乾燥する。乾
燥した残渣は明るいオレンジ色であり、銅を52.4
%含んでいた。燃焼損失(400℃で1時間)は約
8〜10%であつた。フイルターケークをとつた濾
液は重金属を含んでいなかつた(<50mg/1)。
中に7.4gのCuを含むCuCl2含有溶液をガラス製
の攪拌機を備えた100の容器中で70℃に加熱し、
水酸化ナトリウム15%溶液約17を用いてPHを6
に調節する。次に105のSO2を30分に亙つて攪
拌(150u.p.m)しながら導入する(3.5SO3/
分)。この間徐々に水酸化ナトリウム15%溶液を
加えて混合物のPHを一定の6に保つ。SO2の導入
が完了した後、NaOH15%溶液を用いて約15分
の間反応混合物のPHを8.9〜9に調節し、さらに
1時間懸濁物を攪拌する。沈澱後、脱水が完了す
るまで最高6バールの過剰圧を用いてチヤンバ
ー・フイルター・プレス中で濾過し、しかる後フ
イルターケークを洗浄する。真空乾燥炉中におい
て120℃で一定量になるまで残渣を乾燥する。乾
燥した残渣は明るいオレンジ色であり、銅を52.4
%含んでいた。燃焼損失(400℃で1時間)は約
8〜10%であつた。フイルターケークをとつた濾
液は重金属を含んでいなかつた(<50mg/1)。
以上の説明は本発明を例示するためのものであ
つて、本発明を限定するものではない。また本発
明の精神及び範囲を逸脱することなく種々の変形
を行うことができる。
つて、本発明を限定するものではない。また本発
明の精神及び範囲を逸脱することなく種々の変形
を行うことができる。
第1図は従来法の模式的流れ図である。ガス状
の反応生成物、未反応の塩化メチル及び微粉末は
13を経て直接合成反応器12を離れスラツジ容
器14に至り、この中で不揮発性の成分が捕集さ
れ、揮発性成分は15を経てこの容器を離れ生成
物蒸留器16に入る。時間バルブにより14の不
揮発性成分は減圧され、揮発性成分を大気圧下で
回収するために17を経て濃化容器18に送られ
る。スラツジは容器18から水により廃棄パイプ
20の中に吸引され、加水分解へと送られる。2
0から得られる懸濁物は通常容器22に集められ
廃棄される。第2図は本発明方法の模式的流れ図
である。スラツジを捕集する方法は第1図と全く
同じである(工程12〜19)。相違点は水または稀
塩酸を用いて加水分解を攪拌機を備えた反応容器
32で行う点である。加水分解懸濁物は自由に溢
流33して酸化反応器34に入る。酸化完了後、
懸濁物は35を経て容器34を離れ、適当な濾過
装置36を用い濾過される。固体分を液体から分
離した後洗浄した固体分を廃棄し、銅を含む塩酸
溶液38を経て廃水処理工場(第3図)に送り、
洗浄水は37を経て加水分解に再使用することが
できる。第3図においては、第1工程でNaOH
を使用して銅を含む溶液のPHを6に調節し、同時
にSO2を用いて還元する。この溶液は40を経て
沈澱容器41へ通し、この中でNaOHを用い酸
化銅を沈澱させる。得られた懸濁液は42を経
て濃化器43に入り、ここから溢流した固体分を
含まない流出液はライン46を経て透明化槽に入
る。濃化された懸濁物はライン44を経て適当な
濾過器45に通され濾過される。
の反応生成物、未反応の塩化メチル及び微粉末は
13を経て直接合成反応器12を離れスラツジ容
器14に至り、この中で不揮発性の成分が捕集さ
れ、揮発性成分は15を経てこの容器を離れ生成
物蒸留器16に入る。時間バルブにより14の不
揮発性成分は減圧され、揮発性成分を大気圧下で
回収するために17を経て濃化容器18に送られ
る。スラツジは容器18から水により廃棄パイプ
20の中に吸引され、加水分解へと送られる。2
0から得られる懸濁物は通常容器22に集められ
廃棄される。第2図は本発明方法の模式的流れ図
である。スラツジを捕集する方法は第1図と全く
同じである(工程12〜19)。相違点は水または稀
塩酸を用いて加水分解を攪拌機を備えた反応容器
32で行う点である。加水分解懸濁物は自由に溢
流33して酸化反応器34に入る。酸化完了後、
懸濁物は35を経て容器34を離れ、適当な濾過
装置36を用い濾過される。固体分を液体から分
離した後洗浄した固体分を廃棄し、銅を含む塩酸
溶液38を経て廃水処理工場(第3図)に送り、
洗浄水は37を経て加水分解に再使用することが
できる。第3図においては、第1工程でNaOH
を使用して銅を含む溶液のPHを6に調節し、同時
にSO2を用いて還元する。この溶液は40を経て
沈澱容器41へ通し、この中でNaOHを用い酸
化銅を沈澱させる。得られた懸濁液は42を経
て濃化器43に入り、ここから溢流した固体分を
含まない流出液はライン46を経て透明化槽に入
る。濃化された懸濁物はライン44を経て適当な
濾過器45に通され濾過される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (a)残渣を加水分解し、(b)工程(a)から得られる
加水分解した残渣を遊離酸素を含むガスで酸化
し、工程(b)から得られる該加水分解して酸化した
残渣から銅を含む溶液を分離し、該溶液を回収す
る有機クロロシラン合成で得られる高沸点の固体
分及び銅含有残渣の回収方法。 2 加水分解を40〜100℃で行う特許請求の範囲
第1項記載の方法。 3 高速回転円板混合機により渦動を生じる攪拌
機を備えた容器中で加水分解を行う特許請求の範
囲第1項記載の方法。 4 加水分解を温度60〜90℃で行う特許請求の範
囲第1項記載の方法。 5 水を用いて加水分解を行う特許請求の範囲第
1項記載の方法。 6 高度に稀釈した塩酸を用いて加水分解を行う
特許請求の範囲第1項記載の方法。 7 酸素を用いて酸化を行う特許請求の範囲第1
項記載の方法。 8 温度50〜120℃で酸化を行う特許請求の範囲
第1項記載の方法。 9 1〜20バールの圧力で酸化を行う特許請求の
範囲第1項記載の方法。 10 滞在時間1〜5時間で酸化を行う特許請求
の範囲第1項記載の方法。 11 4〜6バールの圧力で酸化を行う特許請求
の範囲第1項記載の方法。 12 温度80±10℃で酸化を行う特許請求の範囲
第1項記載の方法。 13 市販の純酸素を用いて酸化を行う特許請求
の範囲第1項記載の方法。 14 上記工程中酸素を用いて連続的にガスを追
出す特許請求の範囲第1項記載の方法。 15 50〜100℃に加熱し、還元的沈澱を使用し
て銅の回収を行う特許請求の範囲第1項記載の方
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19853523543 DE3523543A1 (de) | 1985-07-02 | 1985-07-02 | Verfahren zur aufarbeitung von hydrolyserueckstaenden aus der methylchlorsilansynthese |
| DE3523543.8 | 1985-07-02 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS627626A JPS627626A (ja) | 1987-01-14 |
| JPH0545525B2 true JPH0545525B2 (ja) | 1993-07-09 |
Family
ID=6274703
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61151836A Granted JPS627626A (ja) | 1985-07-02 | 1986-06-30 | 有機クロロシラン合成の加水分解残渣の処理方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4758352A (ja) |
| EP (1) | EP0210418B1 (ja) |
| JP (1) | JPS627626A (ja) |
| DE (2) | DE3523543A1 (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4804479A (en) * | 1988-03-23 | 1989-02-14 | The B. F. Goodrich Company | Process for detoxifying a bottoms draw-off from a high temperature chlorination reactor |
| DE3829582A1 (de) * | 1988-09-01 | 1990-03-08 | Bayer Ag | Verfahren zur aufarbeitung von hydrolyserueckstaenden aus der organochlorsilansynthese |
| DE3829581A1 (de) * | 1988-09-01 | 1990-03-15 | Bayer Ag | Verfahren zur aufarbeitung von hydrolyserueckstaenden aus der organochlorsilansynthese |
| DE4033157A1 (de) * | 1990-10-12 | 1992-04-16 | Nuenchritz Chemie Gmbh | Verfahren zur herstellung von loeslichen methylalkoxypoly(disilyl)-siloxanen |
| DE4142432A1 (de) * | 1991-12-20 | 1993-06-24 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur herstellung von kupferpulver |
| US5243061A (en) * | 1992-12-09 | 1993-09-07 | General Electric Company | Method for making organohalosilanes |
| US5321149A (en) * | 1992-12-09 | 1994-06-14 | General Electric Company | Process for stabilizing spent silicon contact mass |
| US5342430A (en) * | 1993-07-28 | 1994-08-30 | Grocela Kathe Teresa A | Passivation of methylchlorosilane fines |
| US5772728A (en) * | 1994-03-30 | 1998-06-30 | Elkem Asa | Method for upgrading of silicon-containing residues obtained after leaching of copper-containing residues from chlorosilane synthesis |
| NO180188C (no) * | 1994-03-30 | 1997-03-05 | Elkem Materials | Fremgangsmåte for opparbeiding av residuer fra direkte syntese av organoklorsilaner og/eller klorsilaner |
| DE4416608A1 (de) * | 1994-05-11 | 1995-11-16 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur Aufarbeitung von kupferhaltigen Rückständen aus der Organochlorsilansynthese |
| US5876609A (en) * | 1997-03-28 | 1999-03-02 | General Electric Company | Process for treating methylchlorosilanes by-products |
| US5905183A (en) * | 1997-06-03 | 1999-05-18 | General Electric Company | Process for reducing the residual chloride concentration in copper containing solids |
| DE50000132D1 (de) | 1999-12-23 | 2002-05-08 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von CuCl aus den kupferhaltigen Rückständen der Organochlorsilan-Direktsynthese |
| DE10017153C1 (de) * | 2000-04-06 | 2001-05-03 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Direktsynthese von Organochlorsilanen unter Einsatz von zurückgewonnenem CuCI Katalysator |
| US20100061912A1 (en) * | 2008-09-08 | 2010-03-11 | Stephen Michael Lord | Apparatus for high temperature hydrolysis of water reactive halosilanes and halides and process for making same |
| JP4941511B2 (ja) * | 2009-06-10 | 2012-05-30 | 信越半導体株式会社 | 廃液処理方法 |
| CN111809049B (zh) * | 2020-05-13 | 2022-02-22 | 山东博苑医药化学股份有限公司 | 一种含铂有机硅废水回收铂的方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2380995A (en) * | 1941-09-26 | 1945-08-07 | Gen Electric | Preparation of organosilicon halides |
| DE901889C (de) * | 1952-03-06 | 1954-01-18 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Aufarbeitung von bei der Organosilanherstellung nach dem Direktverfahren anfallenden, verbrauchten siliciumhaltigen Umsetzungsmassen |
| US4174280A (en) * | 1974-07-17 | 1979-11-13 | Sterling Drug Inc. | Oxidation process |
| EP0005011B1 (en) * | 1978-04-15 | 1981-07-15 | Simon-Carves Limited | A method of removing metallic impurities from sewage sludge |
| US4221691A (en) * | 1979-02-16 | 1980-09-09 | Dow Corning Corporation | Method of hydrolyzing chlorosilanes |
| DE3131732A1 (de) * | 1981-08-11 | 1983-02-24 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur aufarbeitung von bei der rochow-synthese anfallenden gemischen aus siliciumhaltigen feststoffen und polysilanhaltigen fluessigkeiten |
| US4423108A (en) * | 1982-03-22 | 1983-12-27 | Dow Corning Corporation | Method for durable press finish using formaldehyde-free organosilicon compositions and textile therefrom |
-
1985
- 1985-07-02 DE DE19853523543 patent/DE3523543A1/de not_active Withdrawn
-
1986
- 1986-06-11 US US06/872,991 patent/US4758352A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-06-20 DE DE8686108432T patent/DE3684192D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-06-20 EP EP86108432A patent/EP0210418B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-06-30 JP JP61151836A patent/JPS627626A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0210418B1 (de) | 1992-03-11 |
| US4758352A (en) | 1988-07-19 |
| EP0210418A2 (de) | 1987-02-04 |
| DE3684192D1 (de) | 1992-04-16 |
| DE3523543A1 (de) | 1987-01-15 |
| JPS627626A (ja) | 1987-01-14 |
| EP0210418A3 (en) | 1990-05-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4758352A (en) | Process for the treatment of hydrolysis residues from organo chlorosilane synthesis | |
| JPS6078992A (ja) | アルキルハロシラン類の製造方法 | |
| KR101589326B1 (ko) | 알킬아미노알킬알콕시실란의 제조 방법 | |
| JP5265760B2 (ja) | 塩水溶液を使用する固形金属塩の加水分解方法 | |
| JP3615655B2 (ja) | ジメチルモノクロロシランの製造方法 | |
| EP0320260A2 (en) | A method for preparation of alkylhalosilanes | |
| US5306328A (en) | Process for the preparation of copper powder | |
| DE69418783T2 (de) | Umsetzung von hochsiedenden Rückständen der Direktsynthese aus Chlorsilanmonomere in Gegenwart von Chlor | |
| US5876609A (en) | Process for treating methylchlorosilanes by-products | |
| EP0356881B1 (de) | Verfahren zur Aufarbeitung von Hydrolyserückständen aus der Organochlorsilansynthese | |
| JPH10158280A (ja) | カルボノイルオキシシラン中の酸性の塩素の残量の除去法および該方法で得られたカルボノイルオキシシラン | |
| FI72952B (fi) | Foerfarande foer framstaellning av kisel. | |
| US5530151A (en) | Method of passivating organochlorosilane reactor fines and salvaging chlorosilane values therefrom | |
| JP3272689B2 (ja) | メチルクロロシランの直接合成法 | |
| JPH0259590A (ja) | 有機クロルシランの製造法 | |
| JPS6111957B2 (ja) | ||
| JP4788866B2 (ja) | フェニルクロロシランの製造方法 | |
| US4961861A (en) | Process for working up hydrolysis residues from the synthesis of organochlorosilanes | |
| JPH1171382A (ja) | 銅含有固体中の残留塩素濃度を減少する方法 | |
| DE4243223C1 (de) | Verfahren zur basischen Aufarbeitung von kupferhaltigen Rückständen der Direkten Synthese von Organochlor- und/oder Chlorsilanen | |
| CN1056613C (zh) | 利用回收金属锂和回收四氢呋喃制备六甲基二硅烷的方法 | |
| Pachaly et al. | The Direct Process to Methylchlorosilanes: Reflections on Chemistry and Process Technology | |
| CN118440106A (zh) | 一种三甲氧基硅烷的合成方法 | |
| JPH06128664A (ja) | Inの回収方法 | |
| KR20010080823A (ko) | 유기 게르마늄의 화학적 합성방법 |