JPH0547334B2 - - Google Patents
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- JPH0547334B2 JPH0547334B2 JP60262687A JP26268785A JPH0547334B2 JP H0547334 B2 JPH0547334 B2 JP H0547334B2 JP 60262687 A JP60262687 A JP 60262687A JP 26268785 A JP26268785 A JP 26268785A JP H0547334 B2 JPH0547334 B2 JP H0547334B2
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- Japan
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- machining
- electrode
- motion
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、被加工物と加工用電極との間に相対
向する一軸方向（主加工軸方向で、通常はＺ軸方
向）の近接加工送りを相対的に与えると共に、又
は該加工送りによる加工の後に、前記電極と被加
工物との間に前記一軸とほぼ直角な平面内に於け
る所定振幅の並進運動を相対的に与えて加工する
放電加工方法に関する。
向する一軸方向（主加工軸方向で、通常はＺ軸方
向）の近接加工送りを相対的に与えると共に、又
は該加工送りによる加工の後に、前記電極と被加
工物との間に前記一軸とほぼ直角な平面内に於け
る所定振幅の並進運動を相対的に与えて加工する
放電加工方法に関する。
一般に、放電加工能率を改善するためには、被
加工物と加工用電極との間の放電加工間隙に於て
発生するチツプを良好に排除し、放電加工間隙に
於ける有効放電率を上げればよいことが周知であ
る。
加工物と加工用電極との間の放電加工間隙に於て
発生するチツプを良好に排除し、放電加工間隙に
於ける有効放電率を上げればよいことが周知であ
る。
放電加工の仕上げ加工に際し、上述の目的にあ
つた加工方法の１つとして、被加工物と加工用電
極間に対向一軸方向とほぼ直角な平面方向に所要
の所謂寄せ加工的な並進運動を与え、これにより
放電加工間隙を電極断面の輪郭線形状にほぼ相似
の加工形状に沿つて順次移動させ、チツプの排除
に役立たせるようにした加工方法が知られてい
る。又、特開昭56−107840号公報には、寄せ加工
のために主加工の一軸方向に直角なＸ−Ｙ平面に
沿つて放射状に往復移動する並進運動の加工送り
する場合に、このＸ−Ｙ平面内での微小変位の並
進運動により微小な偏心円運動等の補助変位運動
を重畳させるようにし、これにより加工能率の向
上を図るようにした方法が提案されている。更に
この他の方法として、放電加工間隙に噴流を与
え、チツプを強制的に排除する方法、或いは加工
用電極にジヤンプ動作を与え、これによるポンプ
効果でチツプを排除する方法等が知られている。
つた加工方法の１つとして、被加工物と加工用電
極間に対向一軸方向とほぼ直角な平面方向に所要
の所謂寄せ加工的な並進運動を与え、これにより
放電加工間隙を電極断面の輪郭線形状にほぼ相似
の加工形状に沿つて順次移動させ、チツプの排除
に役立たせるようにした加工方法が知られてい
る。又、特開昭56−107840号公報には、寄せ加工
のために主加工の一軸方向に直角なＸ−Ｙ平面に
沿つて放射状に往復移動する並進運動の加工送り
する場合に、このＸ−Ｙ平面内での微小変位の並
進運動により微小な偏心円運動等の補助変位運動
を重畳させるようにし、これにより加工能率の向
上を図るようにした方法が提案されている。更に
この他の方法として、放電加工間隙に噴流を与
え、チツプを強制的に排除する方法、或いは加工
用電極にジヤンプ動作を与え、これによるポンプ
効果でチツプを排除する方法等が知られている。
前述の加工用電極と被加工物との間に相対的に
並進運動を与える加工方法によると、加工を中断
することなくチツプの排除を期待することができ
るが、このような並進運動は通常比較的ゆつくり
した速度で行なわれるので、加工形状にもよる
が、チツプの排除能力は小さいものである。
並進運動を与える加工方法によると、加工を中断
することなくチツプの排除を期待することができ
るが、このような並進運動は通常比較的ゆつくり
した速度で行なわれるので、加工形状にもよる
が、チツプの排除能力は小さいものである。
即ち、従来慣用の寄せ加工的並進運動による加
工では、電極側面と加工孔側面間の加工間隙で新
たに加工生成される加工チツプが、比較的ゆつく
りとした並進運動により順次に加工すべき加工間
隙中に取り込まれる状態となり、このため並進運
動に停止、後退、前進等の送り制御作動が必要と
なるばかりでなく、このような寄せ加工的な並進
運動による加工は、通常一軸（Ｚ軸）方向の主加
工の後、又は該主加工がある程度行なわれた後に
主加工に併用する形で、該主加工による加工孔内
で、且つ前記一軸方向とほぼ直角な平面内の運動
として行なわれるものであるため、前記加工孔内
からの加工チツプの排出は前記の並進運動によつ
ては、加工孔内を撹拌するだけであまり行なわれ
ず、加工の進行に伴つて加工孔内の加工チツプ濃
度が増大して行き、ついには、加工作動も不安定
となり、加工効率が低下することとなるため、連
続又は間歇的な加工液噴流作動の付与とか、周期
的又は検出によるジヤンプ動作の付与等によるポ
ンプ作動併用等が必要であつた。
工では、電極側面と加工孔側面間の加工間隙で新
たに加工生成される加工チツプが、比較的ゆつく
りとした並進運動により順次に加工すべき加工間
隙中に取り込まれる状態となり、このため並進運
動に停止、後退、前進等の送り制御作動が必要と
なるばかりでなく、このような寄せ加工的な並進
運動による加工は、通常一軸（Ｚ軸）方向の主加
工の後、又は該主加工がある程度行なわれた後に
主加工に併用する形で、該主加工による加工孔内
で、且つ前記一軸方向とほぼ直角な平面内の運動
として行なわれるものであるため、前記加工孔内
からの加工チツプの排出は前記の並進運動によつ
ては、加工孔内を撹拌するだけであまり行なわれ
ず、加工の進行に伴つて加工孔内の加工チツプ濃
度が増大して行き、ついには、加工作動も不安定
となり、加工効率が低下することとなるため、連
続又は間歇的な加工液噴流作動の付与とか、周期
的又は検出によるジヤンプ動作の付与等によるポ
ンプ作動併用等が必要であつた。
又、前述特開昭56−107840号公報に開示されて
いる方法は、Ｘ−Ｙ平面に沿つて放射状に往復移
動する並進運動の加工送りに、それと同一平面内
での微小な偏心円運動等の補助変位運動を重畳さ
せるものであるから、基本的には、Ｘ−Ｙ平面内
での並進運動による寄せ加工と同じであり、一軸
方向の運動成分を有しないから、加工孔内を細か
く連続的に撹拌するに止まり、チツプ排除のため
のポンプ効果を期待することができないものであ
る。
いる方法は、Ｘ−Ｙ平面に沿つて放射状に往復移
動する並進運動の加工送りに、それと同一平面内
での微小な偏心円運動等の補助変位運動を重畳さ
せるものであるから、基本的には、Ｘ−Ｙ平面内
での並進運動による寄せ加工と同じであり、一軸
方向の運動成分を有しないから、加工孔内を細か
く連続的に撹拌するに止まり、チツプ排除のため
のポンプ効果を期待することができないものであ
る。
一方、噴流によりチツプを排除する方法では、
噴流時期、期間等の制御、その他に特別な装置を
必要とする上に、加工用電極に溝、孔等を形成す
るとか、別途にノズル等を設ける等の必要が生
じ、コストが高くなる傾向を有している。
噴流時期、期間等の制御、その他に特別な装置を
必要とする上に、加工用電極に溝、孔等を形成す
るとか、別途にノズル等を設ける等の必要が生
じ、コストが高くなる傾向を有している。
又、加工用電極をジヤンプさせる方法による場
合には、チツプの排除能力は大きいが、ジヤンプ
中加工が中断してしまうという不具合を有してい
るだけでなく、ジヤンプ作動の時期やストローク
等の各種の条件設定の外に、更に並進運動加工位
置からの加工用電極の後退経路とか加工位置への
戻り移動のための経路や速度の制御等複雑な設定
及び制御を必要とするという問題があつた。
合には、チツプの排除能力は大きいが、ジヤンプ
中加工が中断してしまうという不具合を有してい
るだけでなく、ジヤンプ作動の時期やストローク
等の各種の条件設定の外に、更に並進運動加工位
置からの加工用電極の後退経路とか加工位置への
戻り移動のための経路や速度の制御等複雑な設定
及び制御を必要とするという問題があつた。
従つて、本発明は、放電加工の仕上げ加工に際
し、被加工物と加工用電極に対向一軸方向とほぼ
直角な平面方向に寄せ加工的な並進運動を与えつ
つ加工する方法の改良に係わり、特に、放電加工
を中断させることなしに、加工チツプの排除を有
効に行なうことができ、放電加工能率を著しく向
上させることができる前記並進運動を併用する放
電加工方法を提供することにある。
し、被加工物と加工用電極に対向一軸方向とほぼ
直角な平面方向に寄せ加工的な並進運動を与えつ
つ加工する方法の改良に係わり、特に、放電加工
を中断させることなしに、加工チツプの排除を有
効に行なうことができ、放電加工能率を著しく向
上させることができる前記並進運動を併用する放
電加工方法を提供することにある。
上記目的を達成するための本発明の方法の特徴
は、被加工物と加工用電極との間に相対向する一
軸方向の近接加工送りを相対的に与えると共に、
又は該加工送りによる加工の後に、前記電極と被
加工物との間に前記一軸とほぼ直角な平面内に於
ける所定振幅の並進運動を相対的に与えて加工す
る放電加工方法に於て、前記の並進運動を、 電極を被加工物に対し前記一軸方向と直角な方
向に所定の微小距離相対的に変位させることによ
り電極の側面と被加工物の加工孔の側面とを近接
相対向させた状態として付与される前記一軸に直
角な電極断面の輪郭線形状に順次に沿う相対的な
運動に、 更に、前記輪郭線形状に沿う運動軸の方向とほ
ぼ垂直な平面内に於ける該運動軸の回りの微小変
位幅の相対的な回転運動からなる補助運動を重畳
させたものとする点に特徴を有する。
は、被加工物と加工用電極との間に相対向する一
軸方向の近接加工送りを相対的に与えると共に、
又は該加工送りによる加工の後に、前記電極と被
加工物との間に前記一軸とほぼ直角な平面内に於
ける所定振幅の並進運動を相対的に与えて加工す
る放電加工方法に於て、前記の並進運動を、 電極を被加工物に対し前記一軸方向と直角な方
向に所定の微小距離相対的に変位させることによ
り電極の側面と被加工物の加工孔の側面とを近接
相対向させた状態として付与される前記一軸に直
角な電極断面の輪郭線形状に順次に沿う相対的な
運動に、 更に、前記輪郭線形状に沿う運動軸の方向とほ
ぼ垂直な平面内に於ける該運動軸の回りの微小変
位幅の相対的な回転運動からなる補助運動を重畳
させたものとする点に特徴を有する。
又、本発明は、前記の回転運動から成る補助運
動を、前記輪郭線形状に沿う運動に間歇的に所定
の間隔を置いて重畳させる点に特徴を有する。
動を、前記輪郭線形状に沿う運動に間歇的に所定
の間隔を置いて重畳させる点に特徴を有する。
本発明の寄せ加工的並進運動に重畳させる微小
な変位幅の回転運動は、並進運動の方向の軸ほぼ
垂直な平面内の、且つ並進運動の方向の軸の回り
の微小変位幅の回転運動として行なわれるもので
あるから、そのストロークとは小さいとは言え、
前記一軸方向の運動成分を有しており、加工孔内
の加工液を単に撹拌するだけでなく、加工液を加
工孔に給排するポンプ作用を有していて加工チツ
プ排出作用があつて、安定した並進運動による加
工を連続して行なうことができるようになり、又
加工液の撹拌及び加工間隙の変化の態様も多様
で、特に本発明のような寄せ加工的並進運動に重
畳される微小変位運動としては、前進して形成す
る加工間隙を多様に変化、撹拌させるから好まし
いものである。
な変位幅の回転運動は、並進運動の方向の軸ほぼ
垂直な平面内の、且つ並進運動の方向の軸の回り
の微小変位幅の回転運動として行なわれるもので
あるから、そのストロークとは小さいとは言え、
前記一軸方向の運動成分を有しており、加工孔内
の加工液を単に撹拌するだけでなく、加工液を加
工孔に給排するポンプ作用を有していて加工チツ
プ排出作用があつて、安定した並進運動による加
工を連続して行なうことができるようになり、又
加工液の撹拌及び加工間隙の変化の態様も多様
で、特に本発明のような寄せ加工的並進運動に重
畳される微小変位運動としては、前進して形成す
る加工間隙を多様に変化、撹拌させるから好まし
いものである。
以下、本発明の放電加工方法を、図示した具体
的な加工例について詳細に説明する。
的な加工例について詳細に説明する。
第１図には、総型の加工用電極１を用いて被加
工物２に孔をあけ、又は型彫り加工を行なう場合
の様子が示されている。加工用電極１は図示しな
い加工ヘツドに固着され、一方、被加工物２は図
示しない加工テーブル取り付けられ、一軸方向に
相対向配置せしめられている。加工用電極１は加
工ヘツドによつて前記１軸のＺ軸方向に移動する
ことができ、一方、被加工物２は加工テーブルに
よつて前記Ｚ軸に直角なＸ−Ｙ平面内に於て移動
することができる。
工物２に孔をあけ、又は型彫り加工を行なう場合
の様子が示されている。加工用電極１は図示しな
い加工ヘツドに固着され、一方、被加工物２は図
示しない加工テーブル取り付けられ、一軸方向に
相対向配置せしめられている。加工用電極１は加
工ヘツドによつて前記１軸のＺ軸方向に移動する
ことができ、一方、被加工物２は加工テーブルに
よつて前記Ｚ軸に直角なＸ−Ｙ平面内に於て移動
することができる。
図示の実施例は、加工用電極１を用い、放電荒
加工及び中仕上げ加工等による一軸（Ｚ軸）送り
によつて被加工物２に貫通又は所定深さの加工孔
３を形成した後、本発明の加工方法により所謂寄
せ仕上げ加工を行なう場合の加工例である。
加工及び中仕上げ加工等による一軸（Ｚ軸）送り
によつて被加工物２に貫通又は所定深さの加工孔
３を形成した後、本発明の加工方法により所謂寄
せ仕上げ加工を行なう場合の加工例である。
第１図に於て、前記Ｚ軸送り加工の終了後、電
気的加工条件を最終又は所望の仕上げ加工条件に
切換えセツトすると共に、電極１を被加工物２に
対し前記Ｚ軸方向と直角なＸ及びＹ軸方向に夫々
所定の距離相対的に変位させることにより、即
ち、図示の場合先ず最切に寄せ加工を開始する上
方の加工孔の側面と所定の距離ｌの加工間隙を形
成するようにＹ軸方向に変位移動させると共に、
図示の場合Ｘ軸方向にもＹ軸方向よりもやや少な
い変位移動を与えて図示の位置関係に配置する。
Ｏは加工用電極１をＺ軸と直角なXY平面で切断
した断面上の１点で、該Ｏ点に矢印ａ，ｂ，ｃ，
ｄの軌跡で示すように電極断面の外周輪郭線形状
と相似の各矢印線長さの微小変位を順次に与えて
いくことにより、加工用電極１と被加工物２間に
寄せ加工の並進運動が与えられ、加工用電極１に
よる加工孔３内周壁面の寄せ仕上げ加工が実行さ
れる。
気的加工条件を最終又は所望の仕上げ加工条件に
切換えセツトすると共に、電極１を被加工物２に
対し前記Ｚ軸方向と直角なＸ及びＹ軸方向に夫々
所定の距離相対的に変位させることにより、即
ち、図示の場合先ず最切に寄せ加工を開始する上
方の加工孔の側面と所定の距離ｌの加工間隙を形
成するようにＹ軸方向に変位移動させると共に、
図示の場合Ｘ軸方向にもＹ軸方向よりもやや少な
い変位移動を与えて図示の位置関係に配置する。
Ｏは加工用電極１をＺ軸と直角なXY平面で切断
した断面上の１点で、該Ｏ点に矢印ａ，ｂ，ｃ，
ｄの軌跡で示すように電極断面の外周輪郭線形状
と相似の各矢印線長さの微小変位を順次に与えて
いくことにより、加工用電極１と被加工物２間に
寄せ加工の並進運動が与えられ、加工用電極１に
よる加工孔３内周壁面の寄せ仕上げ加工が実行さ
れる。
しかして、前記各矢印ａ，ｂ，ｃ，及びｄの長
さは、各矢印長さの並進運動による加工の終了の
後、次に加工すべき加工孔の側面との間に、ほぼ
前記距離ｌの加工間隙を形成するように選定さ
れ、本発明は、上記の寄せ加工の並進運動に、各
運動軸に垂直な平面内に於ける当該運動軸の回り
の微小変位幅の回転運動を相対的な補助運動とし
て重畳付与しながら寄せ加工を実行するようにし
たものである。
さは、各矢印長さの並進運動による加工の終了の
後、次に加工すべき加工孔の側面との間に、ほぼ
前記距離ｌの加工間隙を形成するように選定さ
れ、本発明は、上記の寄せ加工の並進運動に、各
運動軸に垂直な平面内に於ける当該運動軸の回り
の微小変位幅の回転運動を相対的な補助運動とし
て重畳付与しながら寄せ加工を実行するようにし
たものである。
この並進運動に付与重畳される補助運動は、第
２図に示されるように、被加工物２と加工用電極
１との間で相対的に行なわれる電極断面の輪郭線
形状に沿う矢印ａ，ｂ，ｃ及びｄの並進運動の軸
方向と夫々垂直な各平面内に於ける運動軸の回り
の回転運動として行なわれるもので、図示の場合
は、加工用電極１が矢印ａ，ｂ，ｃ及びｄに平行
な各運動軸の回りを、所定の半径ｒで円を描く運
動となつている。これにより、加工用電極１は、
被加工物２に対し、加工平面に垂直な方向にも相
対的に近接開離の往復運動をすることになる。こ
の円運動の半径ｒは、加工用電極１が上述の並進
運動によりその加工孔３の内面に最も近付いたと
きの両者間の距離ｌ（第１図参照）よりも小さい
所定の値に定められている。従つて、並進運動に
補助運動が重畳されても、加工用電極１が被加工
物２と接触することはない。補助運動の重畳によ
る放電加工間隙長の変化が間隙の放電状態に及ぼ
す影響をなるべく小さく抑えるため、ｒの値を距
離ｌの約半分程度に抑えるのが好ましい。
２図に示されるように、被加工物２と加工用電極
１との間で相対的に行なわれる電極断面の輪郭線
形状に沿う矢印ａ，ｂ，ｃ及びｄの並進運動の軸
方向と夫々垂直な各平面内に於ける運動軸の回り
の回転運動として行なわれるもので、図示の場合
は、加工用電極１が矢印ａ，ｂ，ｃ及びｄに平行
な各運動軸の回りを、所定の半径ｒで円を描く運
動となつている。これにより、加工用電極１は、
被加工物２に対し、加工平面に垂直な方向にも相
対的に近接開離の往復運動をすることになる。こ
の円運動の半径ｒは、加工用電極１が上述の並進
運動によりその加工孔３の内面に最も近付いたと
きの両者間の距離ｌ（第１図参照）よりも小さい
所定の値に定められている。従つて、並進運動に
補助運動が重畳されても、加工用電極１が被加工
物２と接触することはない。補助運動の重畳によ
る放電加工間隙長の変化が間隙の放電状態に及ぼ
す影響をなるべく小さく抑えるため、ｒの値を距
離ｌの約半分程度に抑えるのが好ましい。
又上述の如く、加工用電極１と被加工物２との
間の寄せ加工的並進運動に、上述の並進運動の軸
に垂直な面内での補助運動を重畳させると、その
結果得られる両者間の相対的な運動は、第２図に
示されるように螺旋状の運動となる。この螺旋の
ピツチは補助運動である円運動の周期と寄せ加工
的並進運動の加工送り速度とにより定まるもので
あり、加工間隙の状態に基いて適宜に定めること
ができる。この場合、重畳する補助運動としての
円運動は連続して行なつてもよいし、所定の時間
間隔で間歇的に行なつてもよい。
間の寄せ加工的並進運動に、上述の並進運動の軸
に垂直な面内での補助運動を重畳させると、その
結果得られる両者間の相対的な運動は、第２図に
示されるように螺旋状の運動となる。この螺旋の
ピツチは補助運動である円運動の周期と寄せ加工
的並進運動の加工送り速度とにより定まるもので
あり、加工間隙の状態に基いて適宜に定めること
ができる。この場合、重畳する補助運動としての
円運動は連続して行なつてもよいし、所定の時間
間隔で間歇的に行なつてもよい。
第３図には、補助運動としての並進運動の軸に
垂直な平面内に於ける運動軸の回りの円運動を間
歇的に行なつた場合の被加工物２に対する加工用
電極１の運動軌跡の一例が示されている。
垂直な平面内に於ける運動軸の回りの円運動を間
歇的に行なつた場合の被加工物２に対する加工用
電極１の運動軌跡の一例が示されている。
このように、加工用電極１と被加工物２との間
に於て相対的に行なわれる電極断面の輪郭線形状
に沿う寄せ加工的並進運動に、並進運動軸に垂直
な面内の円運動又はその他の並進運動軸の回りの
回転運動パターンの補助運動を重畳させると、加
工用電極１と被加工物２との間に形成される放電
加工間隙長が、比較的短い時間間隔で変動し、又
並進運動の方向と補助運動の面とが交叉している
ため、これにより放電加工間隙間に介在している
チツプを良好に撹拌することができる。
に於て相対的に行なわれる電極断面の輪郭線形状
に沿う寄せ加工的並進運動に、並進運動軸に垂直
な面内の円運動又はその他の並進運動軸の回りの
回転運動パターンの補助運動を重畳させると、加
工用電極１と被加工物２との間に形成される放電
加工間隙長が、比較的短い時間間隔で変動し、又
並進運動の方向と補助運動の面とが交叉している
ため、これにより放電加工間隙間に介在している
チツプを良好に撹拌することができる。
しかも、被加工物２に対し、加工用電極１は少
なくとも加工平面に垂直な方向の面内に於ても相
対運動するため、被加工物２と加工用電極１とを
異なる種々の方向に相対運動させることとなり、
被加工物２と加工用電極１との間に多様な加工間
隙変化の相対運動が生じ、これにより、又前記の
本発明による付与重畳させる補助運動によれば、
電極１と被加工物２間に於て近接開離の往復運動
を伴い加工孔３の加工液を給排するポンプ作用を
行なうことができ、加工孔３内にあるチツプ等
を、単に撹拌するだけでなく、より一層積極的に
排除することができるため、加工を中断なく連続
して行なうことができ、加工能率を著しく向上さ
せることができる。
なくとも加工平面に垂直な方向の面内に於ても相
対運動するため、被加工物２と加工用電極１とを
異なる種々の方向に相対運動させることとなり、
被加工物２と加工用電極１との間に多様な加工間
隙変化の相対運動が生じ、これにより、又前記の
本発明による付与重畳させる補助運動によれば、
電極１と被加工物２間に於て近接開離の往復運動
を伴い加工孔３の加工液を給排するポンプ作用を
行なうことができ、加工孔３内にあるチツプ等
を、単に撹拌するだけでなく、より一層積極的に
排除することができるため、加工を中断なく連続
して行なうことができ、加工能率を著しく向上さ
せることができる。
この結果、放電加工間隙に於ける短絡事故の発
生が激減し、放電加工能率が著しく改善される。
生が激減し、放電加工能率が著しく改善される。
上述の加工例に於ては、並進運動軸に垂直な面
内の補助運動として並進運動軸の回りの円運動を
行なう場合について説明したが、補助運動の運動
パターンはこれに限定されるものではなく、加工
平面に於ける並進運動方向に垂直な方向の面内の
該面に直交する軸の回りの回転運動であればよ
い。又本発明は、前述Ｚ軸の方向の加工送りを行
なう仕上げ加工の工程に於ても実施可能なもので
ある。
内の補助運動として並進運動軸の回りの円運動を
行なう場合について説明したが、補助運動の運動
パターンはこれに限定されるものではなく、加工
平面に於ける並進運動方向に垂直な方向の面内の
該面に直交する軸の回りの回転運動であればよ
い。又本発明は、前述Ｚ軸の方向の加工送りを行
なう仕上げ加工の工程に於ても実施可能なもので
ある。
本発明の加工方法によれば、上述の如く、被加
工物と加工用電極との間に電極断面の輪郭線形状
に沿う寄せ加工的な並進運動を相対的に与えて寄
せ加工の如き放電加工を行なう際に、これに重畳
される並進運動軸と垂直な面内の軸の回りを回動
する補助運動により、加工用電極と被加工物との
間に生じる相対運動が被加工物と加工用電極とを
異なる種々の方向に相対運動させることとなり、
被加工物と加工用電極との間に多様な加工間隙変
化の相対運動が生じ、これにより、加工孔内の加
工液を給排するポンプ作用を生じさせることがで
き、加工間隙及び加工孔内にあるチツプ等を撹拌
するだけでなく、より一層積極的に排除すること
ができるため、加工能率を著しく向上させること
ができ、良好な加工を行なうことがてきる。
工物と加工用電極との間に電極断面の輪郭線形状
に沿う寄せ加工的な並進運動を相対的に与えて寄
せ加工の如き放電加工を行なう際に、これに重畳
される並進運動軸と垂直な面内の軸の回りを回動
する補助運動により、加工用電極と被加工物との
間に生じる相対運動が被加工物と加工用電極とを
異なる種々の方向に相対運動させることとなり、
被加工物と加工用電極との間に多様な加工間隙変
化の相対運動が生じ、これにより、加工孔内の加
工液を給排するポンプ作用を生じさせることがで
き、加工間隙及び加工孔内にあるチツプ等を撹拌
するだけでなく、より一層積極的に排除すること
ができるため、加工能率を著しく向上させること
ができ、良好な加工を行なうことがてきる。
第１図は本発明による放電加工を行なう際の並
進運動の運動軌跡の一例を説明するための加工用
電極と被加工物との横断面図、第２図は第１図に
示す並進運動に補助運動を重畳させた場合の合成
運動軌跡を示す線図、第３図は他の合成運動軌跡
の例を示す線図である。
進運動の運動軌跡の一例を説明するための加工用
電極と被加工物との横断面図、第２図は第１図に
示す並進運動に補助運動を重畳させた場合の合成
運動軌跡を示す線図、第３図は他の合成運動軌跡
の例を示す線図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 被加工物と加工用電極との間に相対向する一
軸方向の近接加工送りを相対的に与えると共に、
又は該加工送りによる加工の後に、前記電極と被
加工物との間に前記一軸とほぼ直角な平面内に於
ける所定振幅の並進運動を相対的に与えて加工す
る放電加工方法に於て、前記の並進運動が、 電極を被加工物に対し前記一軸方向と直角な方
向に所定の微小距離相対的に変位させることによ
り電極の側面と被加工物の加工孔の側面とを近接
相対向させた状態として付与される前記一軸に直
角な電極断面の輪郭線形状に順次に沿う相対的な
運動に、 更に、前記輪郭線形状に沿う運動軸の方向とほ
ぼ垂直な平面内に於ける該運動軸の回りの微小変
位幅の相対的な回転運動からなる補助運動を重畳
させたものであることを特徴とする放電加工方
法。 ２ 前記回転運動から成る補助運動を、前記輪郭
線形状に沿う運動に間歇的に所定の間隔を置いて
重畳することを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の放電加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26268785A JPS62152619A (ja) | 1985-11-25 | 1985-11-25 | 放電加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26268785A JPS62152619A (ja) | 1985-11-25 | 1985-11-25 | 放電加工方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62152619A JPS62152619A (ja) | 1987-07-07 |
| JPH0547334B2 true JPH0547334B2 (ja) | 1993-07-16 |
Family
ID=17379196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26268785A Granted JPS62152619A (ja) | 1985-11-25 | 1985-11-25 | 放電加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62152619A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6478728A (en) * | 1987-09-21 | 1989-03-24 | Hitachi Seiko Kk | Electric discharge machine |
| US5214002A (en) * | 1989-10-25 | 1993-05-25 | Agency Of Industrial Science And Technology | Process for depositing a thermal CVD film of Si or Ge using a hydrogen post-treatment step and an optional hydrogen pre-treatment step |
| JP4510763B2 (ja) * | 2006-01-23 | 2010-07-28 | 株式会社牧野フライス製作所 | 放電加工機のジャンプ制御方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56107840A (en) * | 1980-01-30 | 1981-08-27 | Mitsubishi Electric Corp | Method and apparatus for electric discharge machining |
| JPS56102466A (en) * | 1980-01-08 | 1981-08-15 | Mitsubishi Electric Corp | Method and device for electric discharge machining |
-
1985
- 1985-11-25 JP JP26268785A patent/JPS62152619A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62152619A (ja) | 1987-07-07 |
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Legal Events
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