JPH0548911B2 - - Google Patents
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- JPH0548911B2 JPH0548911B2 JP59225577A JP22557784A JPH0548911B2 JP H0548911 B2 JPH0548911 B2 JP H0548911B2 JP 59225577 A JP59225577 A JP 59225577A JP 22557784 A JP22557784 A JP 22557784A JP H0548911 B2 JPH0548911 B2 JP H0548911B2
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- layer
- ddp
- charge generation
- charge
- resin
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0601—Acyclic or carbocyclic compounds
- G03G5/0609—Acyclic or carbocyclic compounds containing oxygen
- G03G5/0611—Squaric acid
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0601—Acyclic or carbocyclic compounds
- G03G5/0618—Acyclic or carbocyclic compounds containing oxygen and nitrogen
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- Health & Medical Sciences (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子写真感光体に関する。
従来、積層型有機感光体の構成として電荷発生
層を電荷輸送層の下層として積層する形態が数多
く見られる。現在、一般に見い出されている電荷
輸送層は正孔輸送性のものが殆んどであるため、
このような構成の感光体は負帯電で用いることが
必要である。このため、負帯電による高濃度のオ
ゾン発生、コントロンの帯電ムラ等、感光体にイ
ンパクトを与える種々の欠点を有していた。この
欠点を解消するため、電荷発生層を電荷輸送層の
上層として積層し、正帯電で使用し、更に機械強
度、変質等の改善をはかるため、最上層として低
抵抗表面保護層を積層した構成が試みられた。し
かしこのような構成の感光体は、充分な帯電性が
得られず、低いコントラスト・ポテンシヤルしか
得られない、あるいは帯電性が充分の場合でも、
光減衰が十分でなく残留電位が高い、温湿度の変
化により帯電々位、残留電位が変動してしまう、
繰り返し使用時の帯電々位、残留電位が変化して
しまう、表面保護層をつける前に比べて感度低下
が大きい、など種々の欠点を有していた。
層を電荷輸送層の下層として積層する形態が数多
く見られる。現在、一般に見い出されている電荷
輸送層は正孔輸送性のものが殆んどであるため、
このような構成の感光体は負帯電で用いることが
必要である。このため、負帯電による高濃度のオ
ゾン発生、コントロンの帯電ムラ等、感光体にイ
ンパクトを与える種々の欠点を有していた。この
欠点を解消するため、電荷発生層を電荷輸送層の
上層として積層し、正帯電で使用し、更に機械強
度、変質等の改善をはかるため、最上層として低
抵抗表面保護層を積層した構成が試みられた。し
かしこのような構成の感光体は、充分な帯電性が
得られず、低いコントラスト・ポテンシヤルしか
得られない、あるいは帯電性が充分の場合でも、
光減衰が十分でなく残留電位が高い、温湿度の変
化により帯電々位、残留電位が変動してしまう、
繰り返し使用時の帯電々位、残留電位が変化して
しまう、表面保護層をつける前に比べて感度低下
が大きい、など種々の欠点を有していた。
本発明の目的はこの様な欠点のない電子写真用
感光体、すなわち、帯電電位の低下、高残留電
位、温湿度の影響、感度低下を防止し、繰り返し
使用時の帯電々位、残留電位の安定した電子写真
用感光体を提供することである。
感光体、すなわち、帯電電位の低下、高残留電
位、温湿度の影響、感度低下を防止し、繰り返し
使用時の帯電々位、残留電位の安定した電子写真
用感光体を提供することである。
本発明の目的は、電荷発生層の材料として特定
のスクエアリン酸誘導体を用いることにより達成
できる。更に本発明の目的は特定のスクエアリン
酸誘導体を用いた電荷発生層上に、特定の導電性
金属酸化物の微細粒子を絶縁性樹脂中に分散させ
て成る低抵抗表面保護層を設けることにより達成
できる。
のスクエアリン酸誘導体を用いることにより達成
できる。更に本発明の目的は特定のスクエアリン
酸誘導体を用いた電荷発生層上に、特定の導電性
金属酸化物の微細粒子を絶縁性樹脂中に分散させ
て成る低抵抗表面保護層を設けることにより達成
できる。
本発明は、導電性支持体上に電荷輸送層、電荷
発生層、低抵抗表面保護層が順次積層されている
電子写真用感光体であつて、 該電荷発生層中に下記一般式（） で表わされるスクエアリン酸誘導体が分散されて
いること；及び 該低抵抗表面保護層が、絶縁性樹脂中に導電性
金属酸化物の微細粒子を分散した層から成り、該
導電性金属酸化物が、電気抵抗109Ω・cm以下、
平均粒径0.3μｍ以下の粒子であることを特徴とす
る電子写真用感光体である。
発生層、低抵抗表面保護層が順次積層されている
電子写真用感光体であつて、 該電荷発生層中に下記一般式（） で表わされるスクエアリン酸誘導体が分散されて
いること；及び 該低抵抗表面保護層が、絶縁性樹脂中に導電性
金属酸化物の微細粒子を分散した層から成り、該
導電性金属酸化物が、電気抵抗109Ω・cm以下、
平均粒径0.3μｍ以下の粒子であることを特徴とす
る電子写真用感光体である。
本発明に使用する導電性表面を有する支持体と
してはアルミニウム、銅、鉄、亜鉛、ニツケル等
の金属のドラム、およびシート、あるいはアルミ
ニウム、銅、金、銀、白金、パラジウム、チタ
ン、ニツケル−クロム、ステンレス、銅−インジ
ウム等の金属蒸着、導電性金属化合物（例、
In2O3、SnO2）の蒸着、金属箔のラミネート、又
はカーボンブラツク、導電性金属化合物（例、
In2O3、Sb2O3−SnO2、SnO2、TiOx）粉、金属
粉などを結着樹脂に分散し塗布する方法などで表
面を導電処理したドラム状、シート状、プレート
状などの紙、プラスチツクおよびガラス等が使用
される。
してはアルミニウム、銅、鉄、亜鉛、ニツケル等
の金属のドラム、およびシート、あるいはアルミ
ニウム、銅、金、銀、白金、パラジウム、チタ
ン、ニツケル−クロム、ステンレス、銅−インジ
ウム等の金属蒸着、導電性金属化合物（例、
In2O3、SnO2）の蒸着、金属箔のラミネート、又
はカーボンブラツク、導電性金属化合物（例、
In2O3、Sb2O3−SnO2、SnO2、TiOx）粉、金属
粉などを結着樹脂に分散し塗布する方法などで表
面を導電処理したドラム状、シート状、プレート
状などの紙、プラスチツクおよびガラス等が使用
される。
本発明に使用する電荷輸送層は電荷輸送材料と
してはピレン、Ｎ−エチルカルバゾール、Ｎ−イ
ソプロピルカルバゾール、２，５−ビス（Ｐ−ジ
エチルアミノフエニル）−１，３，４−オキサジ
アゾール、１−フエニル−３−（Ｐ−ジエチルア
ミノスチリル）−５−（Ｐ−ジエチルアミノフエニ
ル）ピラゾリン、１−〔ピリジル−（２）〕−３−
（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（Ｐ−ジエ
チルアミノフエニル）ピラゾリン、１−〔キノリ
ル−（２）〕−３−（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）
−５−（Ｐ−ジエチルアミノフエニル）ピラゾリ
ン、トリフエニルアミン、Ｎ，N′−ジフエニル
Ｎ−N′−ビス（３−メチルフエニル）−〔１，1′−
ビフエニル〕−４，4′−ジアミン、４−ジエチル
アミノベンズアルデヒド−１，１−ジフエニルヒ
ドラゾン、４，4′−ベンジリデン−ビス（Ｎ，
N′−ジエチル−ｍ−トルイジン、ポリ−Ｎ−ビ
ニルカルバゾール、ハロゲン化ポリ−Ｎ−ビニル
カルバゾール、ポリビニルピレン、ポリピニルア
ントラセン、ポリビニルアクリジンポリ−９−ビ
ニルフエニルアントラセン、ピレン−ホルムアル
デヒド樹脂、エチルカルゾール〜ホルムアルデヒ
ド樹脂などが挙げられる。これらの電荷輸送物質
は単独あるいは２種類以上混合して用いることが
できる。電荷輸送物質はここに記載したものに限
定されるものではない。電荷輸送層に使用される
結着樹脂としては、アクリル系樹脂、メタクリル
系樹脂、ポリスチレン、ポリエステル、ポリアリ
レート、ポリサルフオン、ポリカーボネイトなど
の汎用樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールなど
の正孔輸送性ポリマーを用いることができる。な
お、導電性支持体と電荷輪送層の間に接着層を設
けてもよい。
してはピレン、Ｎ−エチルカルバゾール、Ｎ−イ
ソプロピルカルバゾール、２，５−ビス（Ｐ−ジ
エチルアミノフエニル）−１，３，４−オキサジ
アゾール、１−フエニル−３−（Ｐ−ジエチルア
ミノスチリル）−５−（Ｐ−ジエチルアミノフエニ
ル）ピラゾリン、１−〔ピリジル−（２）〕−３−
（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（Ｐ−ジエ
チルアミノフエニル）ピラゾリン、１−〔キノリ
ル−（２）〕−３−（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）
−５−（Ｐ−ジエチルアミノフエニル）ピラゾリ
ン、トリフエニルアミン、Ｎ，N′−ジフエニル
Ｎ−N′−ビス（３−メチルフエニル）−〔１，1′−
ビフエニル〕−４，4′−ジアミン、４−ジエチル
アミノベンズアルデヒド−１，１−ジフエニルヒ
ドラゾン、４，4′−ベンジリデン−ビス（Ｎ，
N′−ジエチル−ｍ−トルイジン、ポリ−Ｎ−ビ
ニルカルバゾール、ハロゲン化ポリ−Ｎ−ビニル
カルバゾール、ポリビニルピレン、ポリピニルア
ントラセン、ポリビニルアクリジンポリ−９−ビ
ニルフエニルアントラセン、ピレン−ホルムアル
デヒド樹脂、エチルカルゾール〜ホルムアルデヒ
ド樹脂などが挙げられる。これらの電荷輸送物質
は単独あるいは２種類以上混合して用いることが
できる。電荷輸送物質はここに記載したものに限
定されるものではない。電荷輸送層に使用される
結着樹脂としては、アクリル系樹脂、メタクリル
系樹脂、ポリスチレン、ポリエステル、ポリアリ
レート、ポリサルフオン、ポリカーボネイトなど
の汎用樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールなど
の正孔輸送性ポリマーを用いることができる。な
お、導電性支持体と電荷輪送層の間に接着層を設
けてもよい。
本発明に使用する電荷発生層は、電荷発生材料
として前記スクエアリン酸誘導体を使用し、これ
を結着樹脂にたとえば５重量％から90重量％、好
ましくは20重量％から50重量％を分散したもので
ある。スクエアリン酸誘導体の粒径としては
0.02μｍから3μｍ、好ましくは0.05μｍから1μｍが
適当である。電荷発生層の結着樹脂としてはポリ
ビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ポリエステ
ル、ポリカーボネイト、フエノキシ樹脂、アクリ
ル系樹脂、ポリアクリルアミド、ポリアミド、ポ
リビニルピリジン樹脂、カゼイン、ポリビニルア
ルコール、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールなどの
各種樹脂類が使用される。
として前記スクエアリン酸誘導体を使用し、これ
を結着樹脂にたとえば５重量％から90重量％、好
ましくは20重量％から50重量％を分散したもので
ある。スクエアリン酸誘導体の粒径としては
0.02μｍから3μｍ、好ましくは0.05μｍから1μｍが
適当である。電荷発生層の結着樹脂としてはポリ
ビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ポリエステ
ル、ポリカーボネイト、フエノキシ樹脂、アクリ
ル系樹脂、ポリアクリルアミド、ポリアミド、ポ
リビニルピリジン樹脂、カゼイン、ポリビニルア
ルコール、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールなどの
各種樹脂類が使用される。
本発明に使用する低抵抗表面保護層は絶縁性樹
脂中に導電性金属酸化物の微細粒子を分散した層
であり、導電性金属酸化物としては電気抵抗が
109Ωcm以下で白色、灰色もしくは青白色を呈す
る平均粒径が0.3μｍ以下、好ましくは0.1μｍ以下
の微細粒子が適当であり、例えば、酸化アンチモ
ン、酸化スズ、酸化チタン、酸化インジウム、酸
化スズとアンチモンあるいは酸化アンチモンとの
固溶体などの単体又はこれら混合物、あるいは単
一粒子中にこれら金属酸化物を混合したもの、あ
るいは被覆した物が挙げられる。中でも酸化スズ
とアンチモン、あるいは酸化アンチモンとの固溶
体、又は酸化スズは電気抵抗を低くすることが可
能でかつ保護層を実質的に透明とすることが可能
であり、好ましく用いられる（特開昭57−30847
号、特開昭57−128344号公報参照）。
脂中に導電性金属酸化物の微細粒子を分散した層
であり、導電性金属酸化物としては電気抵抗が
109Ωcm以下で白色、灰色もしくは青白色を呈す
る平均粒径が0.3μｍ以下、好ましくは0.1μｍ以下
の微細粒子が適当であり、例えば、酸化アンチモ
ン、酸化スズ、酸化チタン、酸化インジウム、酸
化スズとアンチモンあるいは酸化アンチモンとの
固溶体などの単体又はこれら混合物、あるいは単
一粒子中にこれら金属酸化物を混合したもの、あ
るいは被覆した物が挙げられる。中でも酸化スズ
とアンチモン、あるいは酸化アンチモンとの固溶
体、又は酸化スズは電気抵抗を低くすることが可
能でかつ保護層を実質的に透明とすることが可能
であり、好ましく用いられる（特開昭57−30847
号、特開昭57−128344号公報参照）。
保護層はその電気抵抗が109〜1014Ω・cmとなる
様構成することが望ましい。電気抵抗が1014Ω・
cm以上となる残留電位が上昇しカブリの多い複写
物となつてしまい、又109Ω・cm以下になると画
像のボケ、解像力の低下が生じてしまう。又保護
層は像露光に用いられる光の通過を実質上妨げな
い様、構成されなければならない。用いる導電性
金属酸化物の粒径が大きすぎると、保護層が不透
明になり、減感、像濃度の低下が生じてしまう。
粒径としては像露光に用いる光の波長（0.42〜
0.8μｍ）以下、好ましくはその２分の１以下の粒
径、即ち0.3μｍ以下、好ましくは0.1μｍ以下の粒
子を用いることが望ましい。又絶縁性樹脂として
は、電気絶縁性の透明樹脂で湿度あるいは温度等
の変化により電気抵抗が変化しにくい樹脂を用い
ることが望ましい。絶縁性樹脂としては、ポリア
ミド、ポリウレタン、ポリエステル、エポキシ樹
脂、ポリケトン、ポリカーボネイトなどの縮合樹
脂や、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリア
クリルアミドのようなビニル重合体などが挙げら
れ、中でもポリウレタンが被膜強度、化学的安定
性の点で好ましく用いられる。導電性金属酸化物
の微細粒子は絶縁性樹脂に対して20重量％から60
重量％まで分散するのが望ましい。20重量％以下
では、電気抵抗が1014Ω・cm以上となつてしま
い、60重量％以上では保護層の被膜強度が著しく
低下してしまう。したがつて、好ましくは30重量
％から50重量％の範囲で分散が行なわれる。
様構成することが望ましい。電気抵抗が1014Ω・
cm以上となる残留電位が上昇しカブリの多い複写
物となつてしまい、又109Ω・cm以下になると画
像のボケ、解像力の低下が生じてしまう。又保護
層は像露光に用いられる光の通過を実質上妨げな
い様、構成されなければならない。用いる導電性
金属酸化物の粒径が大きすぎると、保護層が不透
明になり、減感、像濃度の低下が生じてしまう。
粒径としては像露光に用いる光の波長（0.42〜
0.8μｍ）以下、好ましくはその２分の１以下の粒
径、即ち0.3μｍ以下、好ましくは0.1μｍ以下の粒
子を用いることが望ましい。又絶縁性樹脂として
は、電気絶縁性の透明樹脂で湿度あるいは温度等
の変化により電気抵抗が変化しにくい樹脂を用い
ることが望ましい。絶縁性樹脂としては、ポリア
ミド、ポリウレタン、ポリエステル、エポキシ樹
脂、ポリケトン、ポリカーボネイトなどの縮合樹
脂や、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリア
クリルアミドのようなビニル重合体などが挙げら
れ、中でもポリウレタンが被膜強度、化学的安定
性の点で好ましく用いられる。導電性金属酸化物
の微細粒子は絶縁性樹脂に対して20重量％から60
重量％まで分散するのが望ましい。20重量％以下
では、電気抵抗が1014Ω・cm以上となつてしま
い、60重量％以上では保護層の被膜強度が著しく
低下してしまう。したがつて、好ましくは30重量
％から50重量％の範囲で分散が行なわれる。
又、低抵抗表面保護層と電荷発生層の間に更に
電荷注入阻止補助層を設けても良い。この補助層
形成材料としては、シランカツプリング剤、チタ
ンカツプリング剤等のカツプリング剤、有機ジル
コニウム化合物、有機チタン化合物等の有機金属
化合物、ポリエステル、ポリビニルブチラール等
の汎用樹脂などが挙げられる。
電荷注入阻止補助層を設けても良い。この補助層
形成材料としては、シランカツプリング剤、チタ
ンカツプリング剤等のカツプリング剤、有機ジル
コニウム化合物、有機チタン化合物等の有機金属
化合物、ポリエステル、ポリビニルブチラール等
の汎用樹脂などが挙げられる。
各層の膜厚は、電荷輸送層は5μｍ〜40μｍ、好
ましく8μｍ〜30μｍが適当であり、電荷発生層は
5μｍ以下、好ましくは0.1μｍ〜3μｍ、低抵抗表面
保護層は0.5μｍ〜20μｍ、好ましくは1μｍ〜10μｍ
が適当である。
ましく8μｍ〜30μｍが適当であり、電荷発生層は
5μｍ以下、好ましくは0.1μｍ〜3μｍ、低抵抗表面
保護層は0.5μｍ〜20μｍ、好ましくは1μｍ〜10μｍ
が適当である。
本発明の実施例を以下に示す。
実施例 １
アルミニウムを蒸着したPET基板上に、下記
材料系より成る電荷輸送層、電荷発発生層、表面
保護層を順次スプレー塗布にて積層して感光体を
作製した。
材料系より成る電荷輸送層、電荷発発生層、表面
保護層を順次スプレー塗布にて積層して感光体を
作製した。
電荷輸送層 ポリカーボネート樹脂 50重量部
（20μ） （帝人製：パイライト）１−フエニ
ル−３−（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−
（Ｐ−ジエチルアミノフエニル）ピラゾリン
50重量部 電荷発生層 スクエアリン酸誘導体 （1μ） （構造式（）） 4.0重量部 ポリエステル樹脂（デユポン製：アドヘツシ
ブ49000） 60重量部 表面保護層 酸化スズ粉末 40重量部 （2μ） ポリウレタン樹脂 60重量部 この感光体を市販の静電複写紙試験装置（川口
電機：エレクトロスタテイツク・ペーパー・アナ
ライザーSP−428）を用いて、＋7kVのコロナ放
電を行なつて正帯電させ、１秒間暗所に放置した
後の表面電位VDDPを測定し、５ルツクスのタング
ステン光を３秒間照射して、その間にVDDPが半減
するのに要する光量Ｅ1/2を求めた。更にこの後、
200ルツクスの光を0.5秒照射してさらに減衰さ
せ、残留電位RPを求めた。この測定を連続して
1000回行ない、１サイクル目と1000サイクル目の
VDDP、RPの差をΔVDDP(C)、ΔRP(C)として、サイ
クル安定性を表わした。又、同様の測定を10℃、
20％RHの環境下と30℃、80％RHの環境下にて
行ない、１サイクル目のVDDP、RPの差をΔVDDP
(E)、ΔRP(E)として、環境安全性を表わした。
ル−３−（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−
（Ｐ−ジエチルアミノフエニル）ピラゾリン
50重量部 電荷発生層 スクエアリン酸誘導体 （1μ） （構造式（）） 4.0重量部 ポリエステル樹脂（デユポン製：アドヘツシ
ブ49000） 60重量部 表面保護層 酸化スズ粉末 40重量部 （2μ） ポリウレタン樹脂 60重量部 この感光体を市販の静電複写紙試験装置（川口
電機：エレクトロスタテイツク・ペーパー・アナ
ライザーSP−428）を用いて、＋7kVのコロナ放
電を行なつて正帯電させ、１秒間暗所に放置した
後の表面電位VDDPを測定し、５ルツクスのタング
ステン光を３秒間照射して、その間にVDDPが半減
するのに要する光量Ｅ1/2を求めた。更にこの後、
200ルツクスの光を0.5秒照射してさらに減衰さ
せ、残留電位RPを求めた。この測定を連続して
1000回行ない、１サイクル目と1000サイクル目の
VDDP、RPの差をΔVDDP(C)、ΔRP(C)として、サイ
クル安定性を表わした。又、同様の測定を10℃、
20％RHの環境下と30℃、80％RHの環境下にて
行ない、１サイクル目のVDDP、RPの差をΔVDDP
(E)、ΔRP(E)として、環境安全性を表わした。
本実施例中の各測定値を以下に示す。
VDDP：1000V
Ｅ1/2：1.0ルツクス・秒
RP：80V
ΔVDDP(C)：100V ΔRP(C)：30V
ΔVDDP(E)： 70V ΔRP(E)：30V
即ち、十分な帯電性と、高い感度、及びすぐれ
たサイクル安定性、環境安全性を有しているとい
える。
たサイクル安定性、環境安全性を有しているとい
える。
比較例 １
実施例１における電荷発生層のスクエアリン酸
誘導体の代わりにβ型銅フタロシアニンを用いた
以外は実施例１と同様に感光体を作製し、同様の
測定を行なつたところ、下記の値を示した。
誘導体の代わりにβ型銅フタロシアニンを用いた
以外は実施例１と同様に感光体を作製し、同様の
測定を行なつたところ、下記の値を示した。
VDDP：650V
Ｅ1/2：10.5ルツクス・秒
RP：80V
ΔVDDP(C)：300V ΔRP(C)：30V
ΔVDDP(E)：200V ΔRP(E)：50V
帯電性が低く、かつサイクル、環境の両安定性
に問題があることを示している。
に問題があることを示している。
比較例 ２
実施例１における表面保護層の代わりに、厚さ
1μのメチルセルロースを設けた以外は実施例１
と同様に感光体を作製し、同様の測定を行なつた
ところ下記の特性を示した。
1μのメチルセルロースを設けた以外は実施例１
と同様に感光体を作製し、同様の測定を行なつた
ところ下記の特性を示した。
VDDP：900V
Ｅ1/2：1.1ルツクス・秒
RP：90V
ΔVDDP(C)：180V ΔRP(C)：50V
ΔVDDP(E)：310V ΔRP(E)：70V
特に環境安定性に問題があることを示してい
る。
る。
実施例 ２
実施例１における表面保護層を酸化スズ−酸化
アンチモン固溶体／ポリウレタン樹脂＝35／65
（重量部）に変更した以外は、実施例１と同様に
感光体を作製し、測定したが、実施例１の感光体
と同様の安定した特性を示した。
アンチモン固溶体／ポリウレタン樹脂＝35／65
（重量部）に変更した以外は、実施例１と同様に
感光体を作製し、測定したが、実施例１の感光体
と同様の安定した特性を示した。
VDDP：970V
Ｅ1/2：1.2ルツクス・秒
RP：75V
ΔVDDP(C)：120V ΔRP(C)：40V
ΔVDDP(E)： 80V ΔRP(E)：30V
〔発明の効果〕
本発明によれば、すぐれた帯電性、感度、サイ
クル安定性ならびに環境安定性を有する電子写真
用感光体が得られる。
クル安定性ならびに環境安定性を有する電子写真
用感光体が得られる。
第１図〜第４図はそれぞれ本発明の電子写真用
感光体の具体例の断面図である。 １０……低抵抗表面保護層、１１……電荷発生
層、１２……電荷輸送層、１３……導電性支持
体、１４……導電性金属酸化物、１５……電荷発
生材料、２０……接着層、３０……電荷注入阻止
補助層。
感光体の具体例の断面図である。 １０……低抵抗表面保護層、１１……電荷発生
層、１２……電荷輸送層、１３……導電性支持
体、１４……導電性金属酸化物、１５……電荷発
生材料、２０……接着層、３０……電荷注入阻止
補助層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 導電性支持体上に電荷輸送層、電荷発生層、
低抵抗表面保護層が順次積層されている電子写真
用感光体であつて、 該電荷発生層中に下記一般式（） で表わされるスクエアリン酸誘導体が分散されて
いること；及び 該低抵抗表面保護層が、絶縁性樹脂中に導電性
金属酸化物の微細粒子を分散した層から成り、該
導電性金属酸化物が、電気抵抗109Ω・cm以下、
平均粒径0.3μｍ以下の粒子であることを特徴とす
る電子写真用感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22557784A JPS61103154A (ja) | 1984-10-26 | 1984-10-26 | 電子写真用感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22557784A JPS61103154A (ja) | 1984-10-26 | 1984-10-26 | 電子写真用感光体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61103154A JPS61103154A (ja) | 1986-05-21 |
| JPH0548911B2 true JPH0548911B2 (ja) | 1993-07-22 |
Family
ID=16831487
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22557784A Granted JPS61103154A (ja) | 1984-10-26 | 1984-10-26 | 電子写真用感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61103154A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0656502B2 (ja) * | 1986-07-31 | 1994-07-27 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真用感光体 |
| JPS63113465A (ja) * | 1986-10-30 | 1988-05-18 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体 |
| JPS63113468A (ja) * | 1986-10-30 | 1988-05-18 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体 |
| JP2536149B2 (ja) * | 1989-05-16 | 1996-09-18 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1453024A (en) * | 1975-01-23 | 1976-10-20 | Ibm | Manufacture of electrophotographic elements |
| DE2635887C3 (de) * | 1975-09-15 | 1981-11-19 | International Business Machines Corp., 10504 Armonk, N.Y. | Verfahren zur Herstellung eines elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterial |
| JPS57144558A (en) * | 1981-03-02 | 1982-09-07 | Fuji Xerox Co Ltd | Electrophotographic receptor |
| JPS5843460A (ja) * | 1981-09-10 | 1983-03-14 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 電子写真感光体 |
| JPS6132850A (ja) * | 1984-07-25 | 1986-02-15 | Takasago Corp | 電子写真感光体 |
-
1984
- 1984-10-26 JP JP22557784A patent/JPS61103154A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61103154A (ja) | 1986-05-21 |
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