JPH0549846B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0549846B2 JPH0549846B2 JP59236071A JP23607184A JPH0549846B2 JP H0549846 B2 JPH0549846 B2 JP H0549846B2 JP 59236071 A JP59236071 A JP 59236071A JP 23607184 A JP23607184 A JP 23607184A JP H0549846 B2 JPH0549846 B2 JP H0549846B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frame
- pedestal
- vibration
- rubber
- supported
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16F—SPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
- F16F1/00—Springs
- F16F1/36—Springs made of rubber or other material having high internal friction, e.g. thermoplastic elastomers
- F16F1/40—Springs made of rubber or other material having high internal friction, e.g. thermoplastic elastomers consisting of a stack of similar elements separated by non-elastic intermediate layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Buildings Adapted To Withstand Abnormal External Influences (AREA)
- Floor Finish (AREA)
- Vibration Prevention Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は免震・防振構造に係り、特に半導体製
造装置を載置するために好適な免震・防振構造に
関する。
造装置を載置するために好適な免震・防振構造に
関する。
クリーンルーム等においては各種の半導体製造
装置が設置され、この半導体製造装置の中にはス
テツパー等のように極端に振動を嫌う装置があ
る。従つてこのような振動を嫌う半導体製造装置
においては免震・防振構造の床上に設置する必要
がある。第１図では従来の免震・防振構造が示さ
れている。第１図に示すように基盤１０には上方
が開放した架台枠１２が設置されており、この架
台枠１２には中間架台１４が支持されている。即
ち中間架台１４はコイルばね１６を介してその下
面が架台枠１２に支持され、その側方においてゴ
ムダンパ１８を介して架台枠１２に支持されてい
る。尚、符号２０で示す部材は中間架台１４の中
央部に配置された錘りである。中間架台１４の上
部には防振ゴム２２，２２を介して架台２４が設
置され、この架台２４上には半導体製造装置等の
機器類が設置されることになる。
装置が設置され、この半導体製造装置の中にはス
テツパー等のように極端に振動を嫌う装置があ
る。従つてこのような振動を嫌う半導体製造装置
においては免震・防振構造の床上に設置する必要
がある。第１図では従来の免震・防振構造が示さ
れている。第１図に示すように基盤１０には上方
が開放した架台枠１２が設置されており、この架
台枠１２には中間架台１４が支持されている。即
ち中間架台１４はコイルばね１６を介してその下
面が架台枠１２に支持され、その側方においてゴ
ムダンパ１８を介して架台枠１２に支持されてい
る。尚、符号２０で示す部材は中間架台１４の中
央部に配置された錘りである。中間架台１４の上
部には防振ゴム２２，２２を介して架台２４が設
置され、この架台２４上には半導体製造装置等の
機器類が設置されることになる。
しかしながら前記第１図に示す免震・防振構造
では、機器類の重量が大きくなると防振ゴム２２
が座屈を起こし、機器類を支持出来ない恐れがあ
る。また前記防振構造では、防振構造の構造が複
雑である上に、免震・防振効果は一方向（上下方
向）にしか有効ではなく、更に低周波（周波数が
10Hz以下）に対して共振するおそれがある等３次
元的に吸振効果を有することが困難である。
では、機器類の重量が大きくなると防振ゴム２２
が座屈を起こし、機器類を支持出来ない恐れがあ
る。また前記防振構造では、防振構造の構造が複
雑である上に、免震・防振効果は一方向（上下方
向）にしか有効ではなく、更に低周波（周波数が
10Hz以下）に対して共振するおそれがある等３次
元的に吸振効果を有することが困難である。
第２図では別の従来の免震・防振構造が示され
ている。基盤１０と機器類等が設置される架台２
４との間には積層ゴム２６が配設されている。積
層ゴム２６はゴム板２８と金属板３０とが交互に
積層状に配置され、これらは相互に接着されて積
層ゴム２６を構成している。
ている。基盤１０と機器類等が設置される架台２
４との間には積層ゴム２６が配設されている。積
層ゴム２６はゴム板２８と金属板３０とが交互に
積層状に配置され、これらは相互に接着されて積
層ゴム２６を構成している。
しかしながら前記積層ゴム２６を用いる従来の
免震・防振構造は、金属板３０を配している為大
きな鉛直方向荷重を支持できる利点があるが、架
台２４上に設置される機器類が軽量の場合には水
平方向に対しては剛性が弱い為、座屈を生じる恐
れがある。
免震・防振構造は、金属板３０を配している為大
きな鉛直方向荷重を支持できる利点があるが、架
台２４上に設置される機器類が軽量の場合には水
平方向に対しては剛性が弱い為、座屈を生じる恐
れがある。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもの
で、機器類の重量に関係なく免震・防振効果を有
し、更に３次元的に免震・防振効果を有する免
震・防振構造を提案することを目的としている。
で、機器類の重量に関係なく免震・防振効果を有
し、更に３次元的に免震・防振効果を有する免
震・防振構造を提案することを目的としている。
本発明は前記目的を達成するために、基盤と、
基盤上に複数の積層ゴムを介して支持された架台
枠と、前記架台枠上に設けられ複数の空間部を形
成する格子状縦壁と、前記格子状縦壁で形成され
た複数の空間部に内にそれぞれ配置されると共に
機器類を支持し、その上部または下部が弾性体で
架台枠に支持されると共にその側部が架台枠の縦
壁に積層ゴムを介して支持された複数の架台と、
から成り、該複数の架台のそれぞれに前記個々の
機器類を載置することを特徴としている。
基盤上に複数の積層ゴムを介して支持された架台
枠と、前記架台枠上に設けられ複数の空間部を形
成する格子状縦壁と、前記格子状縦壁で形成され
た複数の空間部に内にそれぞれ配置されると共に
機器類を支持し、その上部または下部が弾性体で
架台枠に支持されると共にその側部が架台枠の縦
壁に積層ゴムを介して支持された複数の架台と、
から成り、該複数の架台のそれぞれに前記個々の
機器類を載置することを特徴としている。
以下添付図面に従つて本発明に係る免震・防振
構造の好ましい実施例を詳説する。
構造の好ましい実施例を詳説する。
第３図並びに第４図では本発明に係る第１実施
例の構造が示されている。第３図に示すように基
盤１０上には架台枠３２が積層ゴム２６，２６を
介して支持されている。積層ゴム２６は前記した
ようにゴム板２８と金属板３０とが交互に積層状
に配設されて構成されている。架台枠３２には上
方に向けて縦壁３４が格子状に立設されている。
（図３、図４上では格子状の縦壁３４で形成され
る１個の空間部のみを図示し、その他の空間部は
省略する。）この縦壁３４で形成される空間部に
は半導体製造装置等の機器類等を支持する架台２
４が設置される。架台２４の底面は弾性体３６を
介して架台枠３２上に支持されている。また架台
２４の４側面２４Ａ，２４Ａ，２４Ａ，２４Ａ、
は積層ゴム２６を介して架台枠３２の縦壁３４に
支持されている。積層ゴム２６は架台２４の側面
２４Ａと架台枠３２の縦壁３４との〓間に予め予
圧をかけて圧縮した状態で配置される。
例の構造が示されている。第３図に示すように基
盤１０上には架台枠３２が積層ゴム２６，２６を
介して支持されている。積層ゴム２６は前記した
ようにゴム板２８と金属板３０とが交互に積層状
に配設されて構成されている。架台枠３２には上
方に向けて縦壁３４が格子状に立設されている。
（図３、図４上では格子状の縦壁３４で形成され
る１個の空間部のみを図示し、その他の空間部は
省略する。）この縦壁３４で形成される空間部に
は半導体製造装置等の機器類等を支持する架台２
４が設置される。架台２４の底面は弾性体３６を
介して架台枠３２上に支持されている。また架台
２４の４側面２４Ａ，２４Ａ，２４Ａ，２４Ａ、
は積層ゴム２６を介して架台枠３２の縦壁３４に
支持されている。積層ゴム２６は架台２４の側面
２４Ａと架台枠３２の縦壁３４との〓間に予め予
圧をかけて圧縮した状態で配置される。
前記の如く構成された本発明に係る実施例によ
れば、鉛直方向の荷重に対しては基盤１０と架台
枠３２との間に設置される積層ゴム２６で支持
し、水平方向の荷重に対しては架台２４と縦壁３
４との間に設置される積層ゴム２６において支持
するので、２次元の方向の振動に対して免震・防
振効果を有することになる。
れば、鉛直方向の荷重に対しては基盤１０と架台
枠３２との間に設置される積層ゴム２６で支持
し、水平方向の荷重に対しては架台２４と縦壁３
４との間に設置される積層ゴム２６において支持
するので、２次元の方向の振動に対して免震・防
振効果を有することになる。
第５図並びに第６図では本発明に係る第２実施
例の構造が示されている。第２実施例においては
基盤１０と架台枠３２との間には多段形式の積層
ゴム４０が配設されている。多段形式の積層ゴム
４０は通常の積層ゴム２６，２６を複数の連結板
４２で途中連結し、水平方向の変位に対して積層
ゴム２６が座屈するのを防止するものである。連
結板４２は、剛体で形成され、積層ゴム２６の金
属板３０を連結するようにしてもよい。これによ
り上方に設置される機器類等が軽量であつても水
平方向の変位に対して多段形式の積層ゴム４０に
より積層ゴム２６，２６が座屈するようなことは
無い。第２実施例においては架台枠３２上に立設
される縦壁３４は第６図に示すように格子状に形
成され、複数の空間部４４が形成されている。こ
の複数の空間部４４内には各々機器類等を支持す
る架台４６が配設されている。この架台４６は内
部が空洞の角柱状に形成され、この下端部には縦
壁３４の下部に形成された支持突起４８との間に
弾性材５０を介して支持されている。また架台４
６の側面と縦壁３４との間には予め予圧を加えた
状態で積層ゴム２６が配設されている。この積層
ゴム２６は水平方向の荷重を吸収するために設け
られたものである。他の空間部４４における架台
４６を支持する積層ゴム２６並びに弾性体５０は
架台４６が支持する機器類等の重量或いは要求さ
れる防振構造に合わせてその弾性係数等を決定す
ることができる。尚、架台４６は弾性体５０でそ
の底面を架台枠３２に支持したのであるが、弾性
体で吊下げるようにしてもよい。
例の構造が示されている。第２実施例においては
基盤１０と架台枠３２との間には多段形式の積層
ゴム４０が配設されている。多段形式の積層ゴム
４０は通常の積層ゴム２６，２６を複数の連結板
４２で途中連結し、水平方向の変位に対して積層
ゴム２６が座屈するのを防止するものである。連
結板４２は、剛体で形成され、積層ゴム２６の金
属板３０を連結するようにしてもよい。これによ
り上方に設置される機器類等が軽量であつても水
平方向の変位に対して多段形式の積層ゴム４０に
より積層ゴム２６，２６が座屈するようなことは
無い。第２実施例においては架台枠３２上に立設
される縦壁３４は第６図に示すように格子状に形
成され、複数の空間部４４が形成されている。こ
の複数の空間部４４内には各々機器類等を支持す
る架台４６が配設されている。この架台４６は内
部が空洞の角柱状に形成され、この下端部には縦
壁３４の下部に形成された支持突起４８との間に
弾性材５０を介して支持されている。また架台４
６の側面と縦壁３４との間には予め予圧を加えた
状態で積層ゴム２６が配設されている。この積層
ゴム２６は水平方向の荷重を吸収するために設け
られたものである。他の空間部４４における架台
４６を支持する積層ゴム２６並びに弾性体５０は
架台４６が支持する機器類等の重量或いは要求さ
れる防振構造に合わせてその弾性係数等を決定す
ることができる。尚、架台４６は弾性体５０でそ
の底面を架台枠３２に支持したのであるが、弾性
体で吊下げるようにしてもよい。
前記実施例によれば、架台枠３２を支持する積
層ゴム４０は多段形式に構成されているので、水
平方向の剛性は強く軽量の機器類が設置されても
横揺れに対して座屈するようなことはない。また
横方向の揺れに対しては縦壁３４と架台４６との
間には積層ゴム２６が配設されているので、横方
向の荷重を支持することができる。
層ゴム４０は多段形式に構成されているので、水
平方向の剛性は強く軽量の機器類が設置されても
横揺れに対して座屈するようなことはない。また
横方向の揺れに対しては縦壁３４と架台４６との
間には積層ゴム２６が配設されているので、横方
向の荷重を支持することができる。
また、第２実施例によれば、格子状の架台枠３
２に形成された複数の空間部４４に弾性体５０を
介して個別に架台４６を設けたので、それぞれの
架台４６に機器類を任意に設定することができ
る。従つて、架台枠３２を支持している積層ゴム
４０，４０に十分な荷重をかけることができるの
で、積層ゴム４０，４０の座屈変形を防止するこ
とができる。
２に形成された複数の空間部４４に弾性体５０を
介して個別に架台４６を設けたので、それぞれの
架台４６に機器類を任意に設定することができ
る。従つて、架台枠３２を支持している積層ゴム
４０，４０に十分な荷重をかけることができるの
で、積層ゴム４０，４０の座屈変形を防止するこ
とができる。
また、複数の機器類を個別の架台に振り分ける
ことができるので、各々の機器類が稼動した時の
各々の振動を個別の架台４６で受けることができ
る。従つて、複数の機器類のそれぞれの振動が架
台４６を介して他の機器類に伝播して相互に悪影
響を及ぼすことを防止できる。
ことができるので、各々の機器類が稼動した時の
各々の振動を個別の架台４６で受けることができ
る。従つて、複数の機器類のそれぞれの振動が架
台４６を介して他の機器類に伝播して相互に悪影
響を及ぼすことを防止できる。
さらに、格子状に形成された１つの架台枠３２
に複数の機器類を設けることができるので設備の
簡略化を図ることができる。
に複数の機器類を設けることができるので設備の
簡略化を図ることができる。
以上説明したように本発明に係る免震・防振床
構造によれば、機器類等支持する架台の側面と架
台を支持する架台枠の縦壁との間に積層ゴムを配
設したので、横方向の荷重を支持することができ
る。また架台枠の縦枠は格子状に区切られ複数の
空間部が形成され、この空間部には各機器類を支
持する架台が配置され、各架台は架台枠の間に配
設される積層ゴムの種類並びにばね等の弾性係数
を適宜変えることにより各半導体製造装置の要求
に合つた免震・防振効果を与えることができる。
さらに架台枠は基盤との間に積層ゴムを多段形式
で配設しているので、機械類が軽量のような場合
であつても横方向の荷重に対して積層ゴムが座屈
するようなことはない。
構造によれば、機器類等支持する架台の側面と架
台を支持する架台枠の縦壁との間に積層ゴムを配
設したので、横方向の荷重を支持することができ
る。また架台枠の縦枠は格子状に区切られ複数の
空間部が形成され、この空間部には各機器類を支
持する架台が配置され、各架台は架台枠の間に配
設される積層ゴムの種類並びにばね等の弾性係数
を適宜変えることにより各半導体製造装置の要求
に合つた免震・防振効果を与えることができる。
さらに架台枠は基盤との間に積層ゴムを多段形式
で配設しているので、機械類が軽量のような場合
であつても横方向の荷重に対して積層ゴムが座屈
するようなことはない。
また、本発明に係る免震・防振構造によれば、
格子状の架台枠に形成された複数の空間部に弾性
体を介して個別に架台を設けたので、それぞれの
架台に機器類を任意に設定することができる。従
つて、架台枠を支持している複数の積層ゴムに十
分な荷重をかけることができるので、複数の積層
ゴムの座屈変形を防止することができる。
格子状の架台枠に形成された複数の空間部に弾性
体を介して個別に架台を設けたので、それぞれの
架台に機器類を任意に設定することができる。従
つて、架台枠を支持している複数の積層ゴムに十
分な荷重をかけることができるので、複数の積層
ゴムの座屈変形を防止することができる。
また、複数の機器類を個別の架台に振り分ける
ことができるので、各々の機器類が稼動した時の
各々の振動を個別の架台で受けることができる。
従つて、複数の機器類のそれぞれの振動が架台を
介して他の機器類に伝播して相互に悪影響を及ぼ
すことを防止できる。
ことができるので、各々の機器類が稼動した時の
各々の振動を個別の架台で受けることができる。
従つて、複数の機器類のそれぞれの振動が架台を
介して他の機器類に伝播して相互に悪影響を及ぼ
すことを防止できる。
さらに、格子状に形成された１つの架台枠に複
数の機器類を設けることができるので設備の簡略
化を図ることができる。
数の機器類を設けることができるので設備の簡略
化を図ることができる。
第１図は従来の免震・防振構造の構造を示す断
面図、第２図は別の従来の積層ゴムを用いた免
震・防振構造を示す正面図、第３図は本発明に係
る第１実施例の構造を示す断面図、第４図はその
平面図、第５図並びに第６図は本発明に係る第２
実施例の構造を示す図面で、第５図はその部分断
面図、第６図はその平面図である。 １０……基盤、２６……積層ゴム、３２……架
台枠、３４……縦壁、４０……多段積層ゴム。
面図、第２図は別の従来の積層ゴムを用いた免
震・防振構造を示す正面図、第３図は本発明に係
る第１実施例の構造を示す断面図、第４図はその
平面図、第５図並びに第６図は本発明に係る第２
実施例の構造を示す図面で、第５図はその部分断
面図、第６図はその平面図である。 １０……基盤、２６……積層ゴム、３２……架
台枠、３４……縦壁、４０……多段積層ゴム。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基盤と、 基盤上に複数の積層ゴムを介して支持された架
台枠と、 前記架台枠上に設けられ複数の空間部を形成す
る格子状縦壁と、 前記格子状縦壁で形成された複数の空間部に内
にそれぞれ配置されると共に機器類を支持し、そ
の上部または下部が弾性体で架台枠に支持される
と共にその側部が架台枠の縦壁に積層ゴムを介し
て支持された複数の架台と、 から成り、該複数の架台のそれぞれに前記個々の
機器類を載置することを特徴とする免振・防振構
造。 ２ 基板と架台枠との間の積層ゴムは互いに連結
板で連結されていることを特徴とする特許請求の
範囲第１項の免振・防振構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23607184A JPS61116142A (ja) | 1984-11-09 | 1984-11-09 | 免震・防振構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23607184A JPS61116142A (ja) | 1984-11-09 | 1984-11-09 | 免震・防振構造 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61116142A JPS61116142A (ja) | 1986-06-03 |
| JPH0549846B2 true JPH0549846B2 (ja) | 1993-07-27 |
Family
ID=16995282
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23607184A Granted JPS61116142A (ja) | 1984-11-09 | 1984-11-09 | 免震・防振構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61116142A (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62159824A (ja) * | 1985-12-28 | 1987-07-15 | Bridgestone Corp | 免震除振支持装置 |
| JPS6357933A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-12 | Nippon Denki Kankyo Eng Kk | 防振台 |
| JPH0672639B2 (ja) * | 1987-01-28 | 1994-09-14 | 工業技術院長 | 振動緩衝装置 |
| JP2676066B2 (ja) * | 1987-04-17 | 1997-11-12 | 株式会社ブリヂストン | 輸送用除振コンテナ |
| JPH028530A (ja) * | 1988-06-27 | 1990-01-12 | Ohbayashi Corp | 多段式除振装置 |
| JPH0289143U (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-16 | ||
| JPH02136900U (ja) * | 1989-04-21 | 1990-11-15 | ||
| FR2711765B1 (fr) * | 1993-10-25 | 1996-01-19 | Metravib Sa | Dispositif de suspension pour un système destiné à être placé en impesanteur. |
| JP2002310232A (ja) * | 2001-04-11 | 2002-10-23 | Tokkyokiki Corp | クリーンルーム用防振架台 |
| JP2012042016A (ja) * | 2010-08-20 | 2012-03-01 | Shimizu Corp | ３次元免震装置 |
| JP2014162526A (ja) * | 2013-02-26 | 2014-09-08 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | コンテナ、コンテナの積み重ね方法 |
| US10443677B2 (en) | 2015-09-30 | 2019-10-15 | Mitsubishi Electric Corporation | Base isolation unit and base isolation apparatus |
| CN112324828B (zh) * | 2020-11-24 | 2021-08-17 | 北京航空航天大学 | 一种三向刚度阻尼解耦的高承载金属橡胶组合隔振器 |
| DE102023209476A1 (de) * | 2023-09-27 | 2025-03-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem Verbindungselement |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59228571A (ja) * | 1983-06-08 | 1984-12-21 | 多田 英之 | 免震構体 |
-
1984
- 1984-11-09 JP JP23607184A patent/JPS61116142A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61116142A (ja) | 1986-06-03 |
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