JPH0550697B2 - - Google Patents
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- JPH0550697B2 JPH0550697B2 JP58249806A JP24980683A JPH0550697B2 JP H0550697 B2 JPH0550697 B2 JP H0550697B2 JP 58249806 A JP58249806 A JP 58249806A JP 24980683 A JP24980683 A JP 24980683A JP H0550697 B2 JPH0550697 B2 JP H0550697B2
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- Japan
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- gas
- dilution
- raw material
- dilution gas
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/0004—Gaseous mixtures, e.g. polluted air
- G01N33/0006—Calibrating gas analysers
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Pathology (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
(イ) 産業上の利用分野
この発明は、標準水分含有ガス発生装置に関す
る。さらに詳しくは、高濃度の原料ガスを希釈し
て所定濃度のガスを得る方法であつて湿度測定器
のようなガス分析計の標準ガスを得たり、種々の
濃度の市販用ガスを得るのに有用な、標準水分含
有ガス発生装置に関する。 (ロ) 従来技術 従来、ガスを多段階に希釈する方法として、複
数のキヤピラリーチユーブ等を用いて原料ガスの
流量を適宜切換えた後、一定流量の希釈用ガスと
混合するいわゆる流量比混合法が知られている。
しかしこの方法により設定される希釈率は固定さ
れたものであり、希釈率の範囲を広くかつ多く設
定するためにはキヤピラリーチユーブの種類を多
くしなければならず、しかも流量の制御の精度に
も限界があつた。さらにかような方式を標準水分
含有ガスの製造に適用した際には水分が状態変化
を起し易い成分であるためppmオーダーの低濃度
の水分含有ガスを得ることは実際上困難であつ
た。 また、標準水分含有ガスの製造において、酸素
−水素燃焼反応法やパーミエーシヨンチユーブ法
などが知られているが、前者についてはppmオー
ダーの水分含有ガスの製造は反応率の制御が困難
な点から不利であり、また触媒の径時変化に伴な
う不安定要素があり、後者ではppmオーダーの水
分含有ガスは得られるが、％オーダーの水分含有
ガスを得ることはできずダイナミツクレンジは狭
くかつ温度や希釈ガスの流量の影響を受けるとい
う不都合があつた。 (ハ) 目 的 この発明は上記のごとき従来の問題点に鑑みな
されたものであり、ppmオーダーから％オーダー
までのダイナミツクレンジの広い希釈率を任意に
設定でき、かつ流量係数や反応効率などの希釈率
補正要素を含まず、高精度で所望の濃度の標準水
分含有ガスを得ることのできる発生装置を提供す
ることを目的とする。 (ニ) 構 成 かくしてこの発明によれば、一定圧力に維持さ
れた希釈用ガスが供給される希釈用ガス供給流路
に除湿器を設定し、一定圧力に維持された原料ガ
スが供給される原料ガス供給流路に水蒸気を飽和
させうる加湿器を設定し、前記除湿器を経た希釈
用ガスと加湿器を経た原料ガスを切替弁を介して
所定の切替周期で混合しうる第１の混合部を設定
し、該第１の混合部を経た希釈ガスと前記除湿器
を経た希釈用ガスを切替弁を介して所定の切替周
期で混合しうる第２の混合部を設定してなる標準
水分含有ガス発生装置が提供される。 この発明の最も特徴とする点は、原料ガスと希
釈用ガスとの混合比率を一定圧力下における混入
時間比で決定したことにある。そしてさらに均一
な混合を意図するためにその混入を交互に多数回
行なう点にある。かかる装置は従来のように流量
や圧力等の状態変化を起し易い物理量の変化に基
づく希釈率の設定ではないので変動要素が少な
く、それにより信頼性のある希釈率が発現される
ものと信じられる。 この発明の対象とする原料ガスは特に限定され
ない。その具体例として代表的にはO2、CO2、
NO2、フレオンガス、半導体用ガス等のガスや
水分含有ガスなどが挙げられ、もちろん器材を選
定することによりCl2やNO等の腐食性を有する
ガスも適用可能である。一方用いる希釈用ガスと
して通常、高純度のN2ガス（99.99％）を使用す
るのが好ましい。さらに一定圧力及び温度下で水
蒸気を飽和させる手段により原料ガスを作製し、
かつ希釈用ガスとして、P2O5やモレキユラーシ
ーブなどの吸着剤に通して除湿した高純度N2ガ
スを用いるのが好適である。ことにかかる組合せ
は湿度測定セルの較正用の標準水分含有ガスの発
生装置に用いる場合有用である。 切換弁は後述のごとく、切換周期を適宜設定で
きる三方の電磁弁が用いられる。なお、連続的に
希釈ガスを用いる際には、混合部にバツフアータ
ンクを設定し、これを介して用いるのが、より均
一に混合された希釈ガスが利用できる点好まし
い。 (ホ) 実施例 以下、この発明を参考例及び実施例により詳し
く説明する。 第１図は参考例の希釈ガスの製造に用いられる
装置の一例を示す構成説明図である。この装置は
基本的に、希釈用ガス１から背圧調整弁３及び圧
力計４を通して三方電磁弁５に接続される希釈用
ガス供給流路と、原料ガス２から背圧調整弁３′
及び圧力計４′を通して三方電磁弁５に接続され
る原料ガス供給流路と、三方電磁弁５から背圧調
整弁６、抵抗管８及び圧力計７を通じてバツフア
ータンク９に接続される希釈ガス流路とから構成
されている。そして、この参考例においては、さ
らに得られた希釈ガスを希釈用ガス１で希釈すべ
く背圧調整弁６及び圧力計７′を通して三方電磁
弁１０に接続される流路と、バツフアータンク９
から三方電磁弁１０に接続される流路と、三方電
磁弁１０から背圧調整弁１１圧力計１２及び抵抗
管１３通して第２のバツフアータンク１４に接続
される流路が設定されており、二段階の希釈を行
なうことができる。そして三方電磁弁５，１０は
それぞれ所定周期で原料ガスと希釈用ガスとを交
互に希釈ガス流路に供給しうるよう制御されてお
り、その周期はデジタルスイツチ等で任意に設定
できるよう構成されている。 上記希釈用ガス１として高純度N2（99.99％）
を用い、かつ原料ガス２として１％のNOガス
（inN2）を用いた際の操作について説明する。 原料ガス２と希釈用ガス１はそれぞれ背圧弁
３，３′で５Kg／cm2の一定圧力に維持される。三
方電磁弁５は第３図に示すように予め設定された
周期で交互に原料ガス２と希釈用ガス１とを希釈
ガス流路に供給する（図中、Ａは希釈ガスの供給
周期、Ｂは原料ガスの供給周期を示す。）希釈用
ガスが流れている時だけ電磁弁１７が開いてニー
ドル１８で流量制御された原料ガスが排気され
る。背圧調整弁６，６′はそれぞれ混合ガス及び
希釈用ガスを圧力３Kg／cm2に調整している。バツ
フアータンク９中で混合ガスはより均一に混合さ
れ均一な希釈ガスとなる。このバツフアータンク
は希釈ガス流路の径や流量に比して充分大容量で
あることが必要である。例えば内径2.0mmの流路
を用い流速500ml／分の場合には少なくとも内径
100mmの容量1000cm3のバツフアータンクが用いら
れる。 上記希釈ガスは三方電磁弁１０で前記と同様に
別の所定周期で交互に希釈用ガスと混合されてバ
ツフアータンク１４に供給される。電磁弁１５，
１５′は、それぞれのガスが三方電磁弁１０を通
過しない時に開いてニードル１６，１６′を通じ
て排気するためのものである。背圧調整弁１１は
1.5Kg／cm2に調圧されている。 このようにして二段階希釈された希釈ガスは、
所望の供給ラインに接続されて用いられる。もち
ろん、上記装置において、電磁弁１５′を通じて
一段階希釈されたガスを取り出し、用いることも
できる。また、さらに三方電磁弁を付設して多段
階の希釈が行なえるようにしてもよい。 上記参考例の装置を用い、１％のNOガスから
種々の希釈率（1/2〜1/2000）のNOガスの製造
を試みた結果を第１表に示す。なお、発生ガス流
量は300ml／分とし、１希釈率に対して60分操作
し、NO濃度の測定は、減圧式化学発光NO分析
計により行なつた。
る。さらに詳しくは、高濃度の原料ガスを希釈し
て所定濃度のガスを得る方法であつて湿度測定器
のようなガス分析計の標準ガスを得たり、種々の
濃度の市販用ガスを得るのに有用な、標準水分含
有ガス発生装置に関する。 (ロ) 従来技術 従来、ガスを多段階に希釈する方法として、複
数のキヤピラリーチユーブ等を用いて原料ガスの
流量を適宜切換えた後、一定流量の希釈用ガスと
混合するいわゆる流量比混合法が知られている。
しかしこの方法により設定される希釈率は固定さ
れたものであり、希釈率の範囲を広くかつ多く設
定するためにはキヤピラリーチユーブの種類を多
くしなければならず、しかも流量の制御の精度に
も限界があつた。さらにかような方式を標準水分
含有ガスの製造に適用した際には水分が状態変化
を起し易い成分であるためppmオーダーの低濃度
の水分含有ガスを得ることは実際上困難であつ
た。 また、標準水分含有ガスの製造において、酸素
−水素燃焼反応法やパーミエーシヨンチユーブ法
などが知られているが、前者についてはppmオー
ダーの水分含有ガスの製造は反応率の制御が困難
な点から不利であり、また触媒の径時変化に伴な
う不安定要素があり、後者ではppmオーダーの水
分含有ガスは得られるが、％オーダーの水分含有
ガスを得ることはできずダイナミツクレンジは狭
くかつ温度や希釈ガスの流量の影響を受けるとい
う不都合があつた。 (ハ) 目 的 この発明は上記のごとき従来の問題点に鑑みな
されたものであり、ppmオーダーから％オーダー
までのダイナミツクレンジの広い希釈率を任意に
設定でき、かつ流量係数や反応効率などの希釈率
補正要素を含まず、高精度で所望の濃度の標準水
分含有ガスを得ることのできる発生装置を提供す
ることを目的とする。 (ニ) 構 成 かくしてこの発明によれば、一定圧力に維持さ
れた希釈用ガスが供給される希釈用ガス供給流路
に除湿器を設定し、一定圧力に維持された原料ガ
スが供給される原料ガス供給流路に水蒸気を飽和
させうる加湿器を設定し、前記除湿器を経た希釈
用ガスと加湿器を経た原料ガスを切替弁を介して
所定の切替周期で混合しうる第１の混合部を設定
し、該第１の混合部を経た希釈ガスと前記除湿器
を経た希釈用ガスを切替弁を介して所定の切替周
期で混合しうる第２の混合部を設定してなる標準
水分含有ガス発生装置が提供される。 この発明の最も特徴とする点は、原料ガスと希
釈用ガスとの混合比率を一定圧力下における混入
時間比で決定したことにある。そしてさらに均一
な混合を意図するためにその混入を交互に多数回
行なう点にある。かかる装置は従来のように流量
や圧力等の状態変化を起し易い物理量の変化に基
づく希釈率の設定ではないので変動要素が少な
く、それにより信頼性のある希釈率が発現される
ものと信じられる。 この発明の対象とする原料ガスは特に限定され
ない。その具体例として代表的にはO2、CO2、
NO2、フレオンガス、半導体用ガス等のガスや
水分含有ガスなどが挙げられ、もちろん器材を選
定することによりCl2やNO等の腐食性を有する
ガスも適用可能である。一方用いる希釈用ガスと
して通常、高純度のN2ガス（99.99％）を使用す
るのが好ましい。さらに一定圧力及び温度下で水
蒸気を飽和させる手段により原料ガスを作製し、
かつ希釈用ガスとして、P2O5やモレキユラーシ
ーブなどの吸着剤に通して除湿した高純度N2ガ
スを用いるのが好適である。ことにかかる組合せ
は湿度測定セルの較正用の標準水分含有ガスの発
生装置に用いる場合有用である。 切換弁は後述のごとく、切換周期を適宜設定で
きる三方の電磁弁が用いられる。なお、連続的に
希釈ガスを用いる際には、混合部にバツフアータ
ンクを設定し、これを介して用いるのが、より均
一に混合された希釈ガスが利用できる点好まし
い。 (ホ) 実施例 以下、この発明を参考例及び実施例により詳し
く説明する。 第１図は参考例の希釈ガスの製造に用いられる
装置の一例を示す構成説明図である。この装置は
基本的に、希釈用ガス１から背圧調整弁３及び圧
力計４を通して三方電磁弁５に接続される希釈用
ガス供給流路と、原料ガス２から背圧調整弁３′
及び圧力計４′を通して三方電磁弁５に接続され
る原料ガス供給流路と、三方電磁弁５から背圧調
整弁６、抵抗管８及び圧力計７を通じてバツフア
ータンク９に接続される希釈ガス流路とから構成
されている。そして、この参考例においては、さ
らに得られた希釈ガスを希釈用ガス１で希釈すべ
く背圧調整弁６及び圧力計７′を通して三方電磁
弁１０に接続される流路と、バツフアータンク９
から三方電磁弁１０に接続される流路と、三方電
磁弁１０から背圧調整弁１１圧力計１２及び抵抗
管１３通して第２のバツフアータンク１４に接続
される流路が設定されており、二段階の希釈を行
なうことができる。そして三方電磁弁５，１０は
それぞれ所定周期で原料ガスと希釈用ガスとを交
互に希釈ガス流路に供給しうるよう制御されてお
り、その周期はデジタルスイツチ等で任意に設定
できるよう構成されている。 上記希釈用ガス１として高純度N2（99.99％）
を用い、かつ原料ガス２として１％のNOガス
（inN2）を用いた際の操作について説明する。 原料ガス２と希釈用ガス１はそれぞれ背圧弁
３，３′で５Kg／cm2の一定圧力に維持される。三
方電磁弁５は第３図に示すように予め設定された
周期で交互に原料ガス２と希釈用ガス１とを希釈
ガス流路に供給する（図中、Ａは希釈ガスの供給
周期、Ｂは原料ガスの供給周期を示す。）希釈用
ガスが流れている時だけ電磁弁１７が開いてニー
ドル１８で流量制御された原料ガスが排気され
る。背圧調整弁６，６′はそれぞれ混合ガス及び
希釈用ガスを圧力３Kg／cm2に調整している。バツ
フアータンク９中で混合ガスはより均一に混合さ
れ均一な希釈ガスとなる。このバツフアータンク
は希釈ガス流路の径や流量に比して充分大容量で
あることが必要である。例えば内径2.0mmの流路
を用い流速500ml／分の場合には少なくとも内径
100mmの容量1000cm3のバツフアータンクが用いら
れる。 上記希釈ガスは三方電磁弁１０で前記と同様に
別の所定周期で交互に希釈用ガスと混合されてバ
ツフアータンク１４に供給される。電磁弁１５，
１５′は、それぞれのガスが三方電磁弁１０を通
過しない時に開いてニードル１６，１６′を通じ
て排気するためのものである。背圧調整弁１１は
1.5Kg／cm2に調圧されている。 このようにして二段階希釈された希釈ガスは、
所望の供給ラインに接続されて用いられる。もち
ろん、上記装置において、電磁弁１５′を通じて
一段階希釈されたガスを取り出し、用いることも
できる。また、さらに三方電磁弁を付設して多段
階の希釈が行なえるようにしてもよい。 上記参考例の装置を用い、１％のNOガスから
種々の希釈率（1/2〜1/2000）のNOガスの製造
を試みた結果を第１表に示す。なお、発生ガス流
量は300ml／分とし、１希釈率に対して60分操作
し、NO濃度の測定は、減圧式化学発光NO分析
計により行なつた。
【表】
なお、表中、時間が999.9：０とは２段目で希
釈しない場合を示すものである。 この結果、第４図に示されるごとく意図する希
釈比とNO分析計で測定された希釈ガス濃度との
関係はほぼ直線となり、C.V.も５％以内で良好
な結果が得られた。 しかしながら、上記参考例の装置では、標準水
分含有ガスを得ることはできなかつた。そこで第
２図に示すような標準水分含有ガス発生装置を提
案した。図において、希釈用ガス供給流路に、モ
ノキユラーシープ３Ａからなる除湿剤を充填した
除湿器１１が設定されており、加湿器６及び凝縮
器７により飽和水蒸気を含む原料ガスが連続的に
供給されるように設定されている以外、基本構成
は第１図と同様である。希釈用ガスとして高純度
N2ガス（99.99％）を使用した場合、このガス中
にも数ppmの水分が含有されているので除湿器１
１を通してその含有量を0.1ppm以下とする。一
方、原料ガスは高純度N2ガス２′を常温下で加湿
器２１に通して常温飽和のガスとし、次に２℃に
温度コントロールされた凝縮器２２に導くことに
より得られた２℃の飽和水蒸気含有ガスが用いら
れる。この際の水蒸気濃度は1400ppmである。以
下の動作は前記と同様である。 上記標準水分含有ガス発生装置を用いて、原料
ガスを種々の希釈率（1/2〜1/2000）で希釈して
種々の標準水分含有ガスの製造を試みた結果を第
２表に示す。なお、発生ガス流量は300ml／分と
し、１希釈率に対して180分操作し、水分濃度の
測定はピエゾエレクトリツクセンサーを内蔵する
湿度測定センサーを用いて行なつた。
釈しない場合を示すものである。 この結果、第４図に示されるごとく意図する希
釈比とNO分析計で測定された希釈ガス濃度との
関係はほぼ直線となり、C.V.も５％以内で良好
な結果が得られた。 しかしながら、上記参考例の装置では、標準水
分含有ガスを得ることはできなかつた。そこで第
２図に示すような標準水分含有ガス発生装置を提
案した。図において、希釈用ガス供給流路に、モ
ノキユラーシープ３Ａからなる除湿剤を充填した
除湿器１１が設定されており、加湿器６及び凝縮
器７により飽和水蒸気を含む原料ガスが連続的に
供給されるように設定されている以外、基本構成
は第１図と同様である。希釈用ガスとして高純度
N2ガス（99.99％）を使用した場合、このガス中
にも数ppmの水分が含有されているので除湿器１
１を通してその含有量を0.1ppm以下とする。一
方、原料ガスは高純度N2ガス２′を常温下で加湿
器２１に通して常温飽和のガスとし、次に２℃に
温度コントロールされた凝縮器２２に導くことに
より得られた２℃の飽和水蒸気含有ガスが用いら
れる。この際の水蒸気濃度は1400ppmである。以
下の動作は前記と同様である。 上記標準水分含有ガス発生装置を用いて、原料
ガスを種々の希釈率（1/2〜1/2000）で希釈して
種々の標準水分含有ガスの製造を試みた結果を第
２表に示す。なお、発生ガス流量は300ml／分と
し、１希釈率に対して180分操作し、水分濃度の
測定はピエゾエレクトリツクセンサーを内蔵する
湿度測定センサーを用いて行なつた。
【表】
この結果、第５図に示されるごとく意図する発
生水分濃度と希釈比との関係はほぼ直線となり、
高精度の希釈が行なわれていることが判明した。 (ヘ) 効 果 以上述べたごとく、この発明の標準水分含有ガ
ス発生装置は、1/10ppmオーダーから％オーダー
迄の広範囲の標準水分含有ガスを任意の希釈率で
しかも高精度で得ることができるという優れた効
果を有するものである。
生水分濃度と希釈比との関係はほぼ直線となり、
高精度の希釈が行なわれていることが判明した。 (ヘ) 効 果 以上述べたごとく、この発明の標準水分含有ガ
ス発生装置は、1/10ppmオーダーから％オーダー
迄の広範囲の標準水分含有ガスを任意の希釈率で
しかも高精度で得ることができるという優れた効
果を有するものである。
第１図は、参考例の希釈ガス製造方法に用いる
装置の構成説明図、第２図はこの発明の標準水分
含有ガス発生装置の構成説明図、第３図はこの発
明の装置に使用される切替え周期のタイムチヤー
トを示すグラフ、第４図は参考例の装置で得られ
た希釈ガスの精度を説明するためのグラフ、第５
図はこの発明の装置により得られた標準水分含有
ガスの精度を説明するためのグラフである。 １……希釈用ガス、２……原料ガス、３，３′
……背圧調整弁、４，４′……圧力計、５……三
方電磁弁。
装置の構成説明図、第２図はこの発明の標準水分
含有ガス発生装置の構成説明図、第３図はこの発
明の装置に使用される切替え周期のタイムチヤー
トを示すグラフ、第４図は参考例の装置で得られ
た希釈ガスの精度を説明するためのグラフ、第５
図はこの発明の装置により得られた標準水分含有
ガスの精度を説明するためのグラフである。 １……希釈用ガス、２……原料ガス、３，３′
……背圧調整弁、４，４′……圧力計、５……三
方電磁弁。
Claims (1)
- １ 一定圧力に維持された希釈用ガスが供給され
る希釈用ガス供給流路に除湿器を設定し、一定圧
力に維持された原料ガスが供給される原料ガス供
給流路に水蒸気を飽和させうる加湿器を設定し、
前記除湿器を経た希釈用ガスと前記加湿器を経た
原料ガスを切替弁を介して所定の切替周期で混合
しうる第１の混合部を設定し、該第１の混合部を
経た希釈ガスと前記除湿器を経た希釈用ガスを切
替弁を介して所定の切替周期で混合しうる第２の
混合部を設定してなる標準水分含有ガス発生装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24980683A JPS60143738A (ja) | 1983-12-29 | 1983-12-29 | 標準水分含有ガス発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24980683A JPS60143738A (ja) | 1983-12-29 | 1983-12-29 | 標準水分含有ガス発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60143738A JPS60143738A (ja) | 1985-07-30 |
| JPH0550697B2 true JPH0550697B2 (ja) | 1993-07-29 |
Family
ID=17198483
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24980683A Granted JPS60143738A (ja) | 1983-12-29 | 1983-12-29 | 標準水分含有ガス発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60143738A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008151791A (ja) * | 2006-12-15 | 2008-07-03 | Mocon Inc | 既知の及び調整可能な相対湿度のガスサンプルを生成するシステム及び方法 |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2632211A1 (fr) * | 1988-06-06 | 1989-12-08 | Sardou Max | Procede de realisation d'un melange de gaz et dispositif permettant de mettre en oeuvre le procede |
| JPH02135843U (ja) * | 1988-11-08 | 1990-11-13 | ||
| EP0370150A1 (en) * | 1988-11-21 | 1990-05-30 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Process for producing standard gas mixture and apparatus for producing the same |
| EP0370151A1 (en) * | 1988-11-21 | 1990-05-30 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Process for producing low-concentration gas mixtures, and apparatus for producing the same |
| US5239856A (en) * | 1988-11-21 | 1993-08-31 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Apparatus for producing standard gas mixtures |
| KR100923941B1 (ko) * | 2002-05-29 | 2009-10-29 | 레르 리키드 쏘시에떼 아노님 뿌르 레드 에렉스뿔라따시옹 데 프로세데 조르즈 클로드 | 산 기체 및 매트릭스 기체를 포함하는 수분 감소된 조성물, 상기 조성물을 포함하는 제품 및 이의 제조 방법 |
| CN100458267C (zh) * | 2007-01-15 | 2009-02-04 | 同济大学 | 一种配气装置 |
| JP5364957B2 (ja) * | 2009-08-21 | 2013-12-11 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 微量水分発生装置および標準ガス生成装置 |
| JP7593267B2 (ja) * | 2021-08-19 | 2024-12-03 | 株式会社島津製作所 | ガス調整装置、およびガス調整装置の制御方法 |
-
1983
- 1983-12-29 JP JP24980683A patent/JPS60143738A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008151791A (ja) * | 2006-12-15 | 2008-07-03 | Mocon Inc | 既知の及び調整可能な相対湿度のガスサンプルを生成するシステム及び方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60143738A (ja) | 1985-07-30 |
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