JPH0551293B2 - - Google Patents
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- JPH0551293B2 JPH0551293B2 JP63278974A JP27897488A JPH0551293B2 JP H0551293 B2 JPH0551293 B2 JP H0551293B2 JP 63278974 A JP63278974 A JP 63278974A JP 27897488 A JP27897488 A JP 27897488A JP H0551293 B2 JPH0551293 B2 JP H0551293B2
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- sensor
- movement member
- jaw
- movement
- coil
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- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Measurement Of The Respiration, Hearing Ability, Form, And Blood Characteristics Of Living Organisms (AREA)
- Dental Tools And Instruments Or Auxiliary Dental Instruments (AREA)
Description
本発明は、顎の動きを測定する装置に関し、特
に、上下の顎の動きを高精度に測定できる装置に
関する。
に、上下の顎の動きを高精度に測定できる装置に
関する。
下顎に光源を装着し、光源の動きを光センサー
で受光して、下顎の動きを測定する装置は提案さ
れている(特開昭53−89296号公報)。 この装置は、下顎歯茎に、前方に向けて光を発
する光源を装着し、光源の前方に、レンズを介し
て光センサーを配設し、光センサーからの信号を
増幅してXYレコーダとデータレコーダに記録し
ている。 更に別の顎運動測定装置として、下顎の動き
を、顎の前方に取り付けた3個のポテンシオメー
タで検出する装置も提案されている(実開昭54−
34290号公報)。 この装置は、患者の頭部にフレームを固定し、
3個のポテンシオメータでもつて下顎の前後、左
右、上下の運動を検出している。
で受光して、下顎の動きを測定する装置は提案さ
れている(特開昭53−89296号公報)。 この装置は、下顎歯茎に、前方に向けて光を発
する光源を装着し、光源の前方に、レンズを介し
て光センサーを配設し、光センサーからの信号を
増幅してXYレコーダとデータレコーダに記録し
ている。 更に別の顎運動測定装置として、下顎の動き
を、顎の前方に取り付けた3個のポテンシオメー
タで検出する装置も提案されている(実開昭54−
34290号公報)。 この装置は、患者の頭部にフレームを固定し、
3個のポテンシオメータでもつて下顎の前後、左
右、上下の運動を検出している。
下顎歯茎に光源を固定した装置は、光の受光位
置に無数のCCDやフオトトランジスタ等の受光
センサーを配設し、この受光センサーで受光位置
を検出している。下顎が上下左右に運動すると、
光源がこれと一緒に運動して、光の照射方向が変
化する。光を受光センサーで受けて、顎の運動を
測定している。この装置は、下顎が運動すると光
の照射方向が大幅に変化する。従つて、原理的
に、CCD等の受光センサーの数が著しく増加し、
または、大きなレンズを必要として高価になる欠
点がある。 又、光を前に照射して、前方に設けられた受光
センサーで検出する装置は、顎が運動すると光の
照射位置と照射方向の両方が変わる為、受光セン
サーの出力信号で顎の動きを特定する演算処理が
難しく、演算処理回路も複雑になる欠点があつ
た。 又、光で下顎の動きを測定する従来の装置は、
頭を下顎と一緒に動かすと、頭の動きが下顎の動
きとして検出され、顎の動きと頭の動きとを判別
できない。この為、測定中に患者が頭を動かすと
誤差の原因となるので、頭を固定して顎を運動す
る必要がある。ところが、顎をいつぱいに下げて
口を大きく開いた状態は、頭を少し上向きに動か
さなければ、最大限に顎を下げで、口をいつぱい
に開くことができない。この為、測定中に、患者
の頭が動いて測定誤差を起こし易く、高精度の測
定ができ難い欠点があつた。 更に、ポテンシオメータを使用する下顎運動測
定装置は、顎の上下、前後、左右の動きを、前方
に配設されたポテンシオメータに伝達するので、
下顎と上顎との相対運動距離に対するポテンシオ
メータの移動範囲が大きく、測定範囲が広いセン
サーを使用する必要があつた。 本発明は、従来のこれ等の欠点を除去すること
を目的に開発されたもので、本発明の重要な目的
は、上顎と下顎に装着して、それぞれの相対運動
を測定する為、測定中に頭が動いても測定誤差の
原因とならず簡単かつ容易に、しかも正確に顎の
動きが測定できる顎運動の測定装置を提供するこ
とにある。 また、本発明の他の重要な目的は、測定装置は
顎を軽く運動でき、顎の動きが高精度に測定でき
る顎運動の測定装置を提供することにある。
置に無数のCCDやフオトトランジスタ等の受光
センサーを配設し、この受光センサーで受光位置
を検出している。下顎が上下左右に運動すると、
光源がこれと一緒に運動して、光の照射方向が変
化する。光を受光センサーで受けて、顎の運動を
測定している。この装置は、下顎が運動すると光
の照射方向が大幅に変化する。従つて、原理的
に、CCD等の受光センサーの数が著しく増加し、
または、大きなレンズを必要として高価になる欠
点がある。 又、光を前に照射して、前方に設けられた受光
センサーで検出する装置は、顎が運動すると光の
照射位置と照射方向の両方が変わる為、受光セン
サーの出力信号で顎の動きを特定する演算処理が
難しく、演算処理回路も複雑になる欠点があつ
た。 又、光で下顎の動きを測定する従来の装置は、
頭を下顎と一緒に動かすと、頭の動きが下顎の動
きとして検出され、顎の動きと頭の動きとを判別
できない。この為、測定中に患者が頭を動かすと
誤差の原因となるので、頭を固定して顎を運動す
る必要がある。ところが、顎をいつぱいに下げて
口を大きく開いた状態は、頭を少し上向きに動か
さなければ、最大限に顎を下げで、口をいつぱい
に開くことができない。この為、測定中に、患者
の頭が動いて測定誤差を起こし易く、高精度の測
定ができ難い欠点があつた。 更に、ポテンシオメータを使用する下顎運動測
定装置は、顎の上下、前後、左右の動きを、前方
に配設されたポテンシオメータに伝達するので、
下顎と上顎との相対運動距離に対するポテンシオ
メータの移動範囲が大きく、測定範囲が広いセン
サーを使用する必要があつた。 本発明は、従来のこれ等の欠点を除去すること
を目的に開発されたもので、本発明の重要な目的
は、上顎と下顎に装着して、それぞれの相対運動
を測定する為、測定中に頭が動いても測定誤差の
原因とならず簡単かつ容易に、しかも正確に顎の
動きが測定できる顎運動の測定装置を提供するこ
とにある。 また、本発明の他の重要な目的は、測定装置は
顎を軽く運動でき、顎の動きが高精度に測定でき
る顎運動の測定装置を提供することにある。
顎運動の測定装置は、上顎と下顎に別々に装着
される上顎運動部材1と、下顎運動部材2と、こ
れ等の上顎運動部材1、下顎運動部材2の相対的
な変位を検出するセンサー3とからなる。 上顎運動部材1と下顎運動部材2とは、人体に
装着した状態で両端が後方に折曲されている。上
顎運動部材1と下顎運動部材2は、後方の折曲端
に、上顎運動部材1と下顎運動部材2の相対位置
を電気的に検出するセンサー3が配設されてい
る。
される上顎運動部材1と、下顎運動部材2と、こ
れ等の上顎運動部材1、下顎運動部材2の相対的
な変位を検出するセンサー3とからなる。 上顎運動部材1と下顎運動部材2とは、人体に
装着した状態で両端が後方に折曲されている。上
顎運動部材1と下顎運動部材2は、後方の折曲端
に、上顎運動部材1と下顎運動部材2の相対位置
を電気的に検出するセンサー3が配設されてい
る。
本発明の好ましい実施例を示す第1図の顎運動
の測定装置は、上顎と下顎とが相対運動すると、
これに取り付けられている上顎運動部材1と、下
顎運動部材2とが相対運動する。上顎運動部材1
と下顎運動部材2との相対運動は、上顎運動部材
と下顎運動部材とに配設されているセンサー3で
検出される。 上顎運動部材と下顎運動部材とは、これを人体
に装着した状態で両端が後方に折曲されている。
両端が後方に折曲された上顎運動部材と下顎運動
部材は、両端を下顎近傍の両側に位置させること
ができる。下顎は、付根部を中心に運動してい
る。言い替えれば、下顎を開く時、下顎は後端の
付根部を中心に回動する。従つて、下顎は、付根
部の変位が最も少ない。この発明の上顎運動部材
と下顎運動部材とは、両端が後方に折曲されて、
折曲端にセンサーが配設されているので、センサ
ーを顎付根部の近傍に配設できる。従つて、セン
サーは少ない変位を測定して下顎と上顎との相対
移動を検出できる。この為、センサーに測定幅が
少ないものを使用して、上顎と下顎の運動を正確
に検出でき、安価なセンサーで高精度な測定が実
現できる。 また、センサーは、上顎運動部材と下顎運動部
材との両端に配設されて両者の相対的な変位を測
定している。この為、下顎を運動するときに上顎
が動いてもこのことが誤差の原因とならない。従
つて、簡単かつ正確に、下顎と上顎との相対運動
を測定することができる。 更にまた、センサーが変位量の少ない箇所に配
設されているので、下顎が上顎に対して相対運動
した時に、センサー取付部分の上顎運動部材と下
顎運動部材とは強い力で運動される。言い替えれ
ば、テコの原理で力が増幅されたような状態で、
上顎運動部材と下顎運動部材のセンサー取付部分
が運動される。この為、上顎運動部材と下顎運動
部材とに軽くて細い部材を使用して、センサーを
確実に駆動できる特長が実現でき、また、センサ
ーから下顎運動部材と上顎運動部材とが受ける反
作用を極めて少なくできて、下顎を軽く運動でき
る特長がある。 この発明の顎運動の測定装置は、センサーの構
造を特定するものではないが、センサーには、セ
ンサーコイル5と、界磁コイル6と、位相検出回
路とからなるものが使用できる。 以下、このセンサーの動作を説明する。 センサーコイル5は、移動する位置に対応して
位相が変わる交流が誘導される。従つて、センサ
ーコイル5に誘導される交流の位相を、位相検出
回路で測定して、センサーコイル5の位置を測定
する。 第1図に示すように、ひとつのセンサーコイル
5でもつて移動した位置を測定する場合、センサ
ーコイル5は、第2図に於て、X,Y,Z軸の位
置、並びにY軸まわりの回転角θを、順番に一定
周期で繰り返し測定し、各測定時間に対するセン
サーコイル5の位置を検出する。 X,Y,Z軸方向の位置、並びにY軸まわりの
回転角θの1回の測定時間は、顎の動きに対して
充分に短く、例えば10μ秒〜100m秒の範囲に決定
される。 下顎運動部材2両端の、X,Y,Z軸方向、並
びにY軸まわりの回転角θが測定されると、上顎
運動部材1の下顎運動部材2に対する相対位置は
特定できる。 ところで、図示しないが、上顎運動部材1の両
端ともうひとつの一点、例えば上顎運動部材1の
中央部分の合計3点の、X,Y,Z軸の変位を測
定するなら、回転角θの測定をすることなく、下
顎運動部材2の上顎運動部材1に対する相対位置
は特定できる。従つて、本発明は、センサー取付
位置、並びにセンサーの検出方向を特定するもの
でない。 センサーコイルが、移動した位置によつて誘導
される交流の位相が変わる状態を、第3図に基づ
いて説明する。 この図に於て、界磁コイル6BをEcosωtの交
流で励磁し、前方の界磁コイル6AをEsinωtの
交流で励磁するとき、即ち、両界磁コイル6A,
6Bを位相差が90度で同一周波数の交流で励磁す
ると、センサーコイル5が両界磁コイルの中央に
位置するとき、センサーコイル5には、両界磁コ
イル6A,6Bの中間の位相の交流、即ちcos
(ωt+π/4)の交流が誘導される。 センサーコイル5が中央から矢印Aの方向に移
動する程、センサーコイル5に誘導される交流の
位相は、sinωtに近付き、中央から矢印Bの方向
に移動する程、cosωtの交流に近付く。従つて、
センサーコイル5に誘導される交流の位相を検出
して、センサーコイル5のX軸方向の位置が測定
できる。但し、センサーコイル5に誘導される交
流の位相と、X軸方向の変位量は、両界磁コイル
6A,6Bの中間全ての領域に渡つて直線的に変
化するものでない。従つて、検出された位相から
変位量を補正する。 センサーコイル5のY軸方向の変位測定は、第
4図に示すように、センサーコイル5の両側でY
軸方向に離して2組の界磁コイル6C,6Dを配
設し、図に於て右側の界磁コイル6CをEsinωt
の交流で励磁し、左側の界磁コイル6Dを
Ecosωtの交流で励磁する。このとき、センサー
コイル5が両界磁コイル6C,6Dの中間に位置
すると、X軸方向と同様に、センサーコイル5に
は両励磁コイルの中間の位相差、即ち、cos(ωt
+π/4)の交流が誘導される。センサーコイル
5が右に移動すると、センサーコイルに誘導され
る交流の位相はsinωtに近付き、反対に左に移動
すると、cosωtに近付く。 従つて、この場合も、センサーコイル5の位相
を測定してY軸方向の位置が測定できる。 同様にして、第5図に示すように、センサーコ
イル5の上下、即ちZ軸方向に2組の界磁コイル
6E,6Fを配設し、両界磁コイル6E,6Fに
位相差90度の交流を加え、センサーコイル5に誘
導される交流の位相を検出して、Z軸方向の位置
が検出できる。 更に、Y軸まわりの回転角θの測定は、第6図
に示すように、センサーコイル5の前後に同方向
に巻かれた1組の界磁コイル6A,6Bを、上下
に同方向に巻かれた別の1組の界磁コイル6G,
6Hを配設し、前後の界磁コイル6A,6Bを
Esinωtの交流で、上下の界磁コイル6G,6H
をEcosωt交流で励磁して測定する。 センサーコイル5の中心軸がX軸と平行のと
き、センサーコイル5には、これと同方向に巻か
れた前後の界磁コイル6A,6Bと同相、即ち、
sinωtの交流が誘導される。センサーコイル5が
Y軸を中心に回転するに従つて、誘導される交流
の位相がずれてcosωtに近付く。従つて、位相の
ずれを検出し、Y軸まわりの回転角θを測定す
る。 センサーコイル5に誘導される交流の位相差
は、位相検出回路で測定され、必要ならば、位相
検出回路の出力をコンピユーターで演算処理し
て、下顎運動部材と上顎運動部材の各点、並びに
上顎と下顎各点の相対運動曲線をモニターテレ
ビ、XYプロツタ、プリンタ等に表示させる。 位相検出回路の出力を演算処理する技術は、現
在既にこの分野で使用されている公知の技術が使
用される。 位相検出回路には、交流の位相が測定できる全
ての回路が使用できる。第7図にその実施例を示
す。 この回路は、位相差を有するふたつの交流入力
信号を、波形整形回路11で矩形波に整形し、こ
の矩形波をエクスクルーシブオア回路12に入力
して、両入力信号のいずれか片方が1のときにの
み1のパルス信号を作り、このパルス信号のパル
ス幅をカウンター13で計測している。 第8図に位相検出回路の動作波形を示す。 図の2に示す波形の交流がセンサーコイルに誘
導されると、この信号と界磁コイルの励磁電圧波
形とが3,4で示される矩形波に整形され、3,
4の矩形波がエクスクルーシブオア回路12で比
較されて5のパルス信号を得る。5のパルス幅t
は、1,2の入力信号の位相差に相当する。 両入力信号の位相差が大きい程、エクスクルー
シブオア回路12の出力パルスの時間幅が広くな
る。パルス幅tをカウンターで計測すると、位相
差が検出できる。これがカウンターで測定され
る。
の測定装置は、上顎と下顎とが相対運動すると、
これに取り付けられている上顎運動部材1と、下
顎運動部材2とが相対運動する。上顎運動部材1
と下顎運動部材2との相対運動は、上顎運動部材
と下顎運動部材とに配設されているセンサー3で
検出される。 上顎運動部材と下顎運動部材とは、これを人体
に装着した状態で両端が後方に折曲されている。
両端が後方に折曲された上顎運動部材と下顎運動
部材は、両端を下顎近傍の両側に位置させること
ができる。下顎は、付根部を中心に運動してい
る。言い替えれば、下顎を開く時、下顎は後端の
付根部を中心に回動する。従つて、下顎は、付根
部の変位が最も少ない。この発明の上顎運動部材
と下顎運動部材とは、両端が後方に折曲されて、
折曲端にセンサーが配設されているので、センサ
ーを顎付根部の近傍に配設できる。従つて、セン
サーは少ない変位を測定して下顎と上顎との相対
移動を検出できる。この為、センサーに測定幅が
少ないものを使用して、上顎と下顎の運動を正確
に検出でき、安価なセンサーで高精度な測定が実
現できる。 また、センサーは、上顎運動部材と下顎運動部
材との両端に配設されて両者の相対的な変位を測
定している。この為、下顎を運動するときに上顎
が動いてもこのことが誤差の原因とならない。従
つて、簡単かつ正確に、下顎と上顎との相対運動
を測定することができる。 更にまた、センサーが変位量の少ない箇所に配
設されているので、下顎が上顎に対して相対運動
した時に、センサー取付部分の上顎運動部材と下
顎運動部材とは強い力で運動される。言い替えれ
ば、テコの原理で力が増幅されたような状態で、
上顎運動部材と下顎運動部材のセンサー取付部分
が運動される。この為、上顎運動部材と下顎運動
部材とに軽くて細い部材を使用して、センサーを
確実に駆動できる特長が実現でき、また、センサ
ーから下顎運動部材と上顎運動部材とが受ける反
作用を極めて少なくできて、下顎を軽く運動でき
る特長がある。 この発明の顎運動の測定装置は、センサーの構
造を特定するものではないが、センサーには、セ
ンサーコイル5と、界磁コイル6と、位相検出回
路とからなるものが使用できる。 以下、このセンサーの動作を説明する。 センサーコイル5は、移動する位置に対応して
位相が変わる交流が誘導される。従つて、センサ
ーコイル5に誘導される交流の位相を、位相検出
回路で測定して、センサーコイル5の位置を測定
する。 第1図に示すように、ひとつのセンサーコイル
5でもつて移動した位置を測定する場合、センサ
ーコイル5は、第2図に於て、X,Y,Z軸の位
置、並びにY軸まわりの回転角θを、順番に一定
周期で繰り返し測定し、各測定時間に対するセン
サーコイル5の位置を検出する。 X,Y,Z軸方向の位置、並びにY軸まわりの
回転角θの1回の測定時間は、顎の動きに対して
充分に短く、例えば10μ秒〜100m秒の範囲に決定
される。 下顎運動部材2両端の、X,Y,Z軸方向、並
びにY軸まわりの回転角θが測定されると、上顎
運動部材1の下顎運動部材2に対する相対位置は
特定できる。 ところで、図示しないが、上顎運動部材1の両
端ともうひとつの一点、例えば上顎運動部材1の
中央部分の合計3点の、X,Y,Z軸の変位を測
定するなら、回転角θの測定をすることなく、下
顎運動部材2の上顎運動部材1に対する相対位置
は特定できる。従つて、本発明は、センサー取付
位置、並びにセンサーの検出方向を特定するもの
でない。 センサーコイルが、移動した位置によつて誘導
される交流の位相が変わる状態を、第3図に基づ
いて説明する。 この図に於て、界磁コイル6BをEcosωtの交
流で励磁し、前方の界磁コイル6AをEsinωtの
交流で励磁するとき、即ち、両界磁コイル6A,
6Bを位相差が90度で同一周波数の交流で励磁す
ると、センサーコイル5が両界磁コイルの中央に
位置するとき、センサーコイル5には、両界磁コ
イル6A,6Bの中間の位相の交流、即ちcos
(ωt+π/4)の交流が誘導される。 センサーコイル5が中央から矢印Aの方向に移
動する程、センサーコイル5に誘導される交流の
位相は、sinωtに近付き、中央から矢印Bの方向
に移動する程、cosωtの交流に近付く。従つて、
センサーコイル5に誘導される交流の位相を検出
して、センサーコイル5のX軸方向の位置が測定
できる。但し、センサーコイル5に誘導される交
流の位相と、X軸方向の変位量は、両界磁コイル
6A,6Bの中間全ての領域に渡つて直線的に変
化するものでない。従つて、検出された位相から
変位量を補正する。 センサーコイル5のY軸方向の変位測定は、第
4図に示すように、センサーコイル5の両側でY
軸方向に離して2組の界磁コイル6C,6Dを配
設し、図に於て右側の界磁コイル6CをEsinωt
の交流で励磁し、左側の界磁コイル6Dを
Ecosωtの交流で励磁する。このとき、センサー
コイル5が両界磁コイル6C,6Dの中間に位置
すると、X軸方向と同様に、センサーコイル5に
は両励磁コイルの中間の位相差、即ち、cos(ωt
+π/4)の交流が誘導される。センサーコイル
5が右に移動すると、センサーコイルに誘導され
る交流の位相はsinωtに近付き、反対に左に移動
すると、cosωtに近付く。 従つて、この場合も、センサーコイル5の位相
を測定してY軸方向の位置が測定できる。 同様にして、第5図に示すように、センサーコ
イル5の上下、即ちZ軸方向に2組の界磁コイル
6E,6Fを配設し、両界磁コイル6E,6Fに
位相差90度の交流を加え、センサーコイル5に誘
導される交流の位相を検出して、Z軸方向の位置
が検出できる。 更に、Y軸まわりの回転角θの測定は、第6図
に示すように、センサーコイル5の前後に同方向
に巻かれた1組の界磁コイル6A,6Bを、上下
に同方向に巻かれた別の1組の界磁コイル6G,
6Hを配設し、前後の界磁コイル6A,6Bを
Esinωtの交流で、上下の界磁コイル6G,6H
をEcosωt交流で励磁して測定する。 センサーコイル5の中心軸がX軸と平行のと
き、センサーコイル5には、これと同方向に巻か
れた前後の界磁コイル6A,6Bと同相、即ち、
sinωtの交流が誘導される。センサーコイル5が
Y軸を中心に回転するに従つて、誘導される交流
の位相がずれてcosωtに近付く。従つて、位相の
ずれを検出し、Y軸まわりの回転角θを測定す
る。 センサーコイル5に誘導される交流の位相差
は、位相検出回路で測定され、必要ならば、位相
検出回路の出力をコンピユーターで演算処理し
て、下顎運動部材と上顎運動部材の各点、並びに
上顎と下顎各点の相対運動曲線をモニターテレ
ビ、XYプロツタ、プリンタ等に表示させる。 位相検出回路の出力を演算処理する技術は、現
在既にこの分野で使用されている公知の技術が使
用される。 位相検出回路には、交流の位相が測定できる全
ての回路が使用できる。第7図にその実施例を示
す。 この回路は、位相差を有するふたつの交流入力
信号を、波形整形回路11で矩形波に整形し、こ
の矩形波をエクスクルーシブオア回路12に入力
して、両入力信号のいずれか片方が1のときにの
み1のパルス信号を作り、このパルス信号のパル
ス幅をカウンター13で計測している。 第8図に位相検出回路の動作波形を示す。 図の2に示す波形の交流がセンサーコイルに誘
導されると、この信号と界磁コイルの励磁電圧波
形とが3,4で示される矩形波に整形され、3,
4の矩形波がエクスクルーシブオア回路12で比
較されて5のパルス信号を得る。5のパルス幅t
は、1,2の入力信号の位相差に相当する。 両入力信号の位相差が大きい程、エクスクルー
シブオア回路12の出力パルスの時間幅が広くな
る。パルス幅tをカウンターで計測すると、位相
差が検出できる。これがカウンターで測定され
る。
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。 第1図に示す顎運動機構部の測定原理は、上顎
または頭蓋に座標系を設定し、下顎に剛体結合し
た2標点を設け、この標点の運動と、標点間を結
ぶ軸の回転を測定することによつて、上下顎の任
意点の顎運動を計測する。 第1図に示す顎運動の測定装置は、上顎と下顎
とに別々に装着される上顎運動部材1と下顎運動
部材2と、これ等の上顎運動部材1と下顎運動部
材2の両端に設けられて変位を測定するセンサー
3とからなる。 上顎運動部材1と下顎運動部材2とは、全体形
状がU字状ないしコ字状に折曲され、両端が下顎
の運動枢軸、即ち、顎の付根部で顔の両側に位置
する。 下顎運動部材2と上顎運動部材1の両端であつ
て、センサー3の取り付け位置が、下顎の付根部
分に位置すると、下顎を大きく開く運動をして
も、センサー変位量が少なく、従つて、非接触セ
ンサーの外径、特に界磁コイルの外形をコンパク
トにでき、全体を軽くできる。 上顎運動部材1と下顎運動部材2は、通常、歯
に嵌着される取付部材4を介して上顎と下顎とに
固定される為、可能な限り軽量化するのがよい。
従つて、上顎運動部材1と下顎運動部材2とは、
アルミニウム等の軽金属、あるいは合成樹脂や木
等で作られる。 センサー3は、センサーコイル5と、界磁コイ
ル6と、位相検出回路7とからなる。 センサーコイル5と界磁コイル6とが相対運動
してその変位が測定できる。センサーコイル5を
上顎運動部材1と下顎運動部材2のいずれか一方
に、界磁コイル6を他の一方に固定して上顎運動
部材1と下顎運動部材2の変位を測定できる。 第1図は、下顎運動部材2の両端にセンサーコ
イル5を、上顎運動部材1の両端に界磁コイル6
を固定している。 センサーコイル5は、下顎運動部材2の先端部
分に、下顎運動部材2の軸と同軸に巻かれてい
る。センサーコイル5は巻回数が多い程、誘導さ
れる電圧が大きくなるが、多すぎると、重くて応
答性が遅くなるので、通常数十〜数千回程度に決
定される。 界磁コイル6は、センサーコイル5の、X,
Y,Z軸方向の変位検出用、並びに回転角θ検出
用からなる。界磁コイル6は、センサーコイル5
の周囲に、センサーコイル5が移動してもこれと
接触しないように離されて配設されている。 センサーコイル5のX軸方向の変位を測定する
界磁コイル6A,6Bは、第3図に示すように、
センサーコイル5からX軸方向に離されて、即
ち、図に於て前後に離されて2組み設けられてい
る。2組の界磁コイル6A,6Bはセンサーコイ
ル5と同方向に巻かれている。 センサーコイル5のY軸方向の変位を測定する
界磁コイル6C,6Dは、第4図に示すように、
センサーコイル5からY軸方向に離されて、即
ち、図に於て左右に離されて2組み設けられてい
る。2組の界磁コイル6C,6Dはセンサーコイ
ル5と同方向に巻かれている。 Z軸変位測定用の界磁コイル6E,6Fは、第
5図に示すように、センサーコイル5からZ軸方
向に離されて、即ち、図に於て上下に離されて2
組み設けられている。2組の界磁コイル6E,6
Fはセンサーコイル5と同方向に巻かれている。 Y軸まわりの回転角θ測定用の界磁コイルは、
第6図に示すように、X軸変位測定用の界磁コイ
ル6A,6Bを1組の界磁コイルとして使用し、
センサーコイル5の上下に配設された界磁コイル
6G,6Hを1組の界磁コイルとして使用する。 界磁コイル6は、センサーコイル5が挿入され
る1面が開いた箱型のケース14内に固定され、
ケース14が上顎運動部材1の端に固定される。 各界磁コイル6は、位相差90度の交流出力を出
す発振器で励磁される。 発振器の一例を第9図に示す。この発振器は、
同一周波数で位相が90度異なる、Esinωtと
Ecosωtの2出力を出す発振回路8と、発振回路
8の出力を切り換えて、各界磁コイル6A,6
B,6C,6D,6E,6F,6G,6Hを励磁
する切換回路9と、切換回路9を一定の周期で制
御するタイマー10とからなる。 タイマー10で制御される切換回路9は、一定
時間毎に、発振回路8の出力を各界磁コイル6
A,6B……6Hに切り換える。切り換えのタイ
ミングチヤートを第10図に示す。この図に於
て、一定時間、センサーコイル5のX軸方向の変
位を測定する時間、即ち、第3図に於て、前後の
界磁コイル6A,6Bのみを励磁して、X軸方向
の変位を測定し、その後、Y軸方向の変位を測定
する時間、即ち、第4図に於てセンサーコイル5
左右の界磁コイル6C,6Dを励磁してY軸方向
の変位を測定する。その後、一定の周期で、Z軸
方向の変位と回転角θとを測定した後、再びX,
Y,Z軸の変位と回転角θとを測定する。 X,Y,Z軸並びに回転角θのそれぞれの測定
時間Tは、顎の動きに対して充分に早く、例えば
10μ秒〜100m秒の範囲に調整される。従つて、こ
の時間に、センサーコイル5に誘導される交流の
位相が検出できるように、界磁コイル6を励磁す
る交流の周波数は、100Hz〜数十KHzに調整され
る。 ところで、第9図および第10図に示すよう
に、順番にX,Y,Z軸とθ角の変位を測定する
場合、位相検出回路7も、これに同期して制御さ
れる。従つて、位相検出回路のカウンター13の
出力は、タイマー10で制御される。 即ち、X,Y,Z軸の変位を測定する状態で界
磁コイルが励磁されるとき、位相検出回路7は
X,Y,Z軸の変位に対応した位相差を検出す
る。従つて、位相検出回路は、第9図に示すよう
に、X,Y,Z軸並びにθ角の順番で、これと同
期してその変位に相当する位相差を検出する。 ただ図示しないが、上顎運動部材と下顎運動部
材とに、X,Y,Z軸並びにθ角測定用のセンサ
ーコイルと界磁コイルとを設け、各センサーコイ
ルの位相差を連続的に検出して、下顎運動部材の
上顎運動部材に対するX,Y,Z軸並びにθ角の
連続測定は可能である。 但し、この場合、X,Y,Z軸とθ角測定用の
界磁コイルは、互いに磁力線が干渉しないように
上顎運動部材と下顎運動部材とに固定する必要が
ある。 位相検出回路7は、交流の位相が検出できる全
ての回路が使用できる。第7図の位相検出回路7
は、ふたつの入力サイン波を矩形波に整形する波
形整形回路11と、この波形整形回路11の出力
を比較するエクスクルーシブオア回路12と、こ
のエクスクルーシブオア回路12の出力パルスの
時間幅を測定するカウンター13とからなる。 一方の波形整形回路11には、界磁コイル6を
励磁するEsinωt又はEcosωtのいずれかの交流を
加え、別の波形整形回路11には、センサーコイ
ル5に誘導された交流を加える(第8図1,2の
入力波形)。 波形整形回路11は、両入力信号を、第8図の
3,4で示す矩形波に整形する。 エクスクルーシブオア回路12は、両入力信号
の位相差成分を取り、第8図5に示すように、位
相差に相当するパルス幅tの信号を出力する。出
力信号のパルス幅tがカウンター13で測定さ
れ、カウンター13の出力が位相差を表示する。 今仮に、波形整形回路11の一方に、Esinωt
の交流を入力し、この状態で、センサーコイル5
がEsinωtの交流で励磁される片方の界磁コイル
に接近すると、センサーコイル5に誘導される交
流の位相は、第8図2の矢印で示す方向に位相が
ずれてEsinωtに近付き、波形整形回路11の出
力信号の位相差が少なくなる。従つて、エクスク
ルーシブオア回路12の出力信号のパルス幅tは
短く、カウンター13の計測値は低くなる。反対
に、センサーコイル5がEsinωtの交流で励磁さ
れる界磁コイルから離れ、Ecosωtの交流で励磁
される界磁コイルに近付くと、センサーコイル5
に誘導される交流は、Esinωtの交流から位相の
ずれが大きくなり、エクスクルーシブオア回路1
2の出力パルス幅が広く、カウンター13の計測
値が高くなる。 前にも述べたようにカウンターの計測値は、第
11図に示すように、X,Y,Z軸並びにθ角の
変位量に対して、直線的に変化しない。従つて、
第11図に示す特性曲線をコンピユータに記憶さ
せ、これに基づいて、検出位相差から正確に移動
位置を演算することも可能である。 以上の実施例は、界磁コイル6を位相差90度の
交流で励磁したが、位相差は必ずしも90度にする
必要はなく、両界磁コイル6に流す交流に位相差
が有る限り使用できる。但し、界磁コイルの位相
差が少ないと、測定精度が低下する。 第1図に示す顎運動の測定装置は上顎運動部材
1と下顎運動部材2の両端にセンサー3を固定し
ているが、本発明はセンサーの固定位置を特定す
るものでない。例えば、図示しないが、上顎運動
部材1と下顎運動部材2の両端と中間の3点に、
X,Y,Z軸の変位を測定するセンサーを固定す
ることも、又、取付部材4の前方3点のX,Y,
Z軸の変位を測定することも可能である。センサ
ーは、立体的に相対運動する上顎運動部材1と下
顎運動部材2の位置が特定できる全ての取付状態
が採用できる。
る。 第1図に示す顎運動機構部の測定原理は、上顎
または頭蓋に座標系を設定し、下顎に剛体結合し
た2標点を設け、この標点の運動と、標点間を結
ぶ軸の回転を測定することによつて、上下顎の任
意点の顎運動を計測する。 第1図に示す顎運動の測定装置は、上顎と下顎
とに別々に装着される上顎運動部材1と下顎運動
部材2と、これ等の上顎運動部材1と下顎運動部
材2の両端に設けられて変位を測定するセンサー
3とからなる。 上顎運動部材1と下顎運動部材2とは、全体形
状がU字状ないしコ字状に折曲され、両端が下顎
の運動枢軸、即ち、顎の付根部で顔の両側に位置
する。 下顎運動部材2と上顎運動部材1の両端であつ
て、センサー3の取り付け位置が、下顎の付根部
分に位置すると、下顎を大きく開く運動をして
も、センサー変位量が少なく、従つて、非接触セ
ンサーの外径、特に界磁コイルの外形をコンパク
トにでき、全体を軽くできる。 上顎運動部材1と下顎運動部材2は、通常、歯
に嵌着される取付部材4を介して上顎と下顎とに
固定される為、可能な限り軽量化するのがよい。
従つて、上顎運動部材1と下顎運動部材2とは、
アルミニウム等の軽金属、あるいは合成樹脂や木
等で作られる。 センサー3は、センサーコイル5と、界磁コイ
ル6と、位相検出回路7とからなる。 センサーコイル5と界磁コイル6とが相対運動
してその変位が測定できる。センサーコイル5を
上顎運動部材1と下顎運動部材2のいずれか一方
に、界磁コイル6を他の一方に固定して上顎運動
部材1と下顎運動部材2の変位を測定できる。 第1図は、下顎運動部材2の両端にセンサーコ
イル5を、上顎運動部材1の両端に界磁コイル6
を固定している。 センサーコイル5は、下顎運動部材2の先端部
分に、下顎運動部材2の軸と同軸に巻かれてい
る。センサーコイル5は巻回数が多い程、誘導さ
れる電圧が大きくなるが、多すぎると、重くて応
答性が遅くなるので、通常数十〜数千回程度に決
定される。 界磁コイル6は、センサーコイル5の、X,
Y,Z軸方向の変位検出用、並びに回転角θ検出
用からなる。界磁コイル6は、センサーコイル5
の周囲に、センサーコイル5が移動してもこれと
接触しないように離されて配設されている。 センサーコイル5のX軸方向の変位を測定する
界磁コイル6A,6Bは、第3図に示すように、
センサーコイル5からX軸方向に離されて、即
ち、図に於て前後に離されて2組み設けられてい
る。2組の界磁コイル6A,6Bはセンサーコイ
ル5と同方向に巻かれている。 センサーコイル5のY軸方向の変位を測定する
界磁コイル6C,6Dは、第4図に示すように、
センサーコイル5からY軸方向に離されて、即
ち、図に於て左右に離されて2組み設けられてい
る。2組の界磁コイル6C,6Dはセンサーコイ
ル5と同方向に巻かれている。 Z軸変位測定用の界磁コイル6E,6Fは、第
5図に示すように、センサーコイル5からZ軸方
向に離されて、即ち、図に於て上下に離されて2
組み設けられている。2組の界磁コイル6E,6
Fはセンサーコイル5と同方向に巻かれている。 Y軸まわりの回転角θ測定用の界磁コイルは、
第6図に示すように、X軸変位測定用の界磁コイ
ル6A,6Bを1組の界磁コイルとして使用し、
センサーコイル5の上下に配設された界磁コイル
6G,6Hを1組の界磁コイルとして使用する。 界磁コイル6は、センサーコイル5が挿入され
る1面が開いた箱型のケース14内に固定され、
ケース14が上顎運動部材1の端に固定される。 各界磁コイル6は、位相差90度の交流出力を出
す発振器で励磁される。 発振器の一例を第9図に示す。この発振器は、
同一周波数で位相が90度異なる、Esinωtと
Ecosωtの2出力を出す発振回路8と、発振回路
8の出力を切り換えて、各界磁コイル6A,6
B,6C,6D,6E,6F,6G,6Hを励磁
する切換回路9と、切換回路9を一定の周期で制
御するタイマー10とからなる。 タイマー10で制御される切換回路9は、一定
時間毎に、発振回路8の出力を各界磁コイル6
A,6B……6Hに切り換える。切り換えのタイ
ミングチヤートを第10図に示す。この図に於
て、一定時間、センサーコイル5のX軸方向の変
位を測定する時間、即ち、第3図に於て、前後の
界磁コイル6A,6Bのみを励磁して、X軸方向
の変位を測定し、その後、Y軸方向の変位を測定
する時間、即ち、第4図に於てセンサーコイル5
左右の界磁コイル6C,6Dを励磁してY軸方向
の変位を測定する。その後、一定の周期で、Z軸
方向の変位と回転角θとを測定した後、再びX,
Y,Z軸の変位と回転角θとを測定する。 X,Y,Z軸並びに回転角θのそれぞれの測定
時間Tは、顎の動きに対して充分に早く、例えば
10μ秒〜100m秒の範囲に調整される。従つて、こ
の時間に、センサーコイル5に誘導される交流の
位相が検出できるように、界磁コイル6を励磁す
る交流の周波数は、100Hz〜数十KHzに調整され
る。 ところで、第9図および第10図に示すよう
に、順番にX,Y,Z軸とθ角の変位を測定する
場合、位相検出回路7も、これに同期して制御さ
れる。従つて、位相検出回路のカウンター13の
出力は、タイマー10で制御される。 即ち、X,Y,Z軸の変位を測定する状態で界
磁コイルが励磁されるとき、位相検出回路7は
X,Y,Z軸の変位に対応した位相差を検出す
る。従つて、位相検出回路は、第9図に示すよう
に、X,Y,Z軸並びにθ角の順番で、これと同
期してその変位に相当する位相差を検出する。 ただ図示しないが、上顎運動部材と下顎運動部
材とに、X,Y,Z軸並びにθ角測定用のセンサ
ーコイルと界磁コイルとを設け、各センサーコイ
ルの位相差を連続的に検出して、下顎運動部材の
上顎運動部材に対するX,Y,Z軸並びにθ角の
連続測定は可能である。 但し、この場合、X,Y,Z軸とθ角測定用の
界磁コイルは、互いに磁力線が干渉しないように
上顎運動部材と下顎運動部材とに固定する必要が
ある。 位相検出回路7は、交流の位相が検出できる全
ての回路が使用できる。第7図の位相検出回路7
は、ふたつの入力サイン波を矩形波に整形する波
形整形回路11と、この波形整形回路11の出力
を比較するエクスクルーシブオア回路12と、こ
のエクスクルーシブオア回路12の出力パルスの
時間幅を測定するカウンター13とからなる。 一方の波形整形回路11には、界磁コイル6を
励磁するEsinωt又はEcosωtのいずれかの交流を
加え、別の波形整形回路11には、センサーコイ
ル5に誘導された交流を加える(第8図1,2の
入力波形)。 波形整形回路11は、両入力信号を、第8図の
3,4で示す矩形波に整形する。 エクスクルーシブオア回路12は、両入力信号
の位相差成分を取り、第8図5に示すように、位
相差に相当するパルス幅tの信号を出力する。出
力信号のパルス幅tがカウンター13で測定さ
れ、カウンター13の出力が位相差を表示する。 今仮に、波形整形回路11の一方に、Esinωt
の交流を入力し、この状態で、センサーコイル5
がEsinωtの交流で励磁される片方の界磁コイル
に接近すると、センサーコイル5に誘導される交
流の位相は、第8図2の矢印で示す方向に位相が
ずれてEsinωtに近付き、波形整形回路11の出
力信号の位相差が少なくなる。従つて、エクスク
ルーシブオア回路12の出力信号のパルス幅tは
短く、カウンター13の計測値は低くなる。反対
に、センサーコイル5がEsinωtの交流で励磁さ
れる界磁コイルから離れ、Ecosωtの交流で励磁
される界磁コイルに近付くと、センサーコイル5
に誘導される交流は、Esinωtの交流から位相の
ずれが大きくなり、エクスクルーシブオア回路1
2の出力パルス幅が広く、カウンター13の計測
値が高くなる。 前にも述べたようにカウンターの計測値は、第
11図に示すように、X,Y,Z軸並びにθ角の
変位量に対して、直線的に変化しない。従つて、
第11図に示す特性曲線をコンピユータに記憶さ
せ、これに基づいて、検出位相差から正確に移動
位置を演算することも可能である。 以上の実施例は、界磁コイル6を位相差90度の
交流で励磁したが、位相差は必ずしも90度にする
必要はなく、両界磁コイル6に流す交流に位相差
が有る限り使用できる。但し、界磁コイルの位相
差が少ないと、測定精度が低下する。 第1図に示す顎運動の測定装置は上顎運動部材
1と下顎運動部材2の両端にセンサー3を固定し
ているが、本発明はセンサーの固定位置を特定す
るものでない。例えば、図示しないが、上顎運動
部材1と下顎運動部材2の両端と中間の3点に、
X,Y,Z軸の変位を測定するセンサーを固定す
ることも、又、取付部材4の前方3点のX,Y,
Z軸の変位を測定することも可能である。センサ
ーは、立体的に相対運動する上顎運動部材1と下
顎運動部材2の位置が特定できる全ての取付状態
が採用できる。
第1図は本発明の一実施例を示す顎運動の測定
装置の概略斜視図、第2図は頭に対するX,Y,
Z軸を示す斜視図、第3図ないし第6図はセンサ
ーコイルと界磁コイルの配列を示す概略斜視図、
第7図は位相検出回路の一例を示すブロツク線
図、第8図は波形成形回路の入出力並びにエクス
クルーシブオア回路の出力波形を示すグラフ、第
9図は発振器の一例を示すブロツク線図、第10
図はX,Y,Z軸とθ角を測定するタイミングチ
ヤート図、第11図は変位と位相差とを示すグラ
フである。 1……上顎運動部材、2……下顎運動部材、3
……センサー、4……取付部材、5……センサー
コイル、6……界磁コイル、7……位相検出回
路、8……発振回路、9……切換回路、10……
タイマー、11……波形整形回路、12……エク
スクルーシブオア回路、13……カウンター、1
4……ケース。
装置の概略斜視図、第2図は頭に対するX,Y,
Z軸を示す斜視図、第3図ないし第6図はセンサ
ーコイルと界磁コイルの配列を示す概略斜視図、
第7図は位相検出回路の一例を示すブロツク線
図、第8図は波形成形回路の入出力並びにエクス
クルーシブオア回路の出力波形を示すグラフ、第
9図は発振器の一例を示すブロツク線図、第10
図はX,Y,Z軸とθ角を測定するタイミングチ
ヤート図、第11図は変位と位相差とを示すグラ
フである。 1……上顎運動部材、2……下顎運動部材、3
……センサー、4……取付部材、5……センサー
コイル、6……界磁コイル、7……位相検出回
路、8……発振回路、9……切換回路、10……
タイマー、11……波形整形回路、12……エク
スクルーシブオア回路、13……カウンター、1
4……ケース。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 上顎と下顎に別々に装着される上顎運動部材
1と、下顎運動部材2と、 これ等の上顎運動部材1、下顎運動部材2の相
対的な変位を検出するセンサー3とからなる顎運
動測定装置に於て、 上顎運動部材1と下顎運動部材2とは、人体に
装着した状態で両端が後方に折曲されており、後
方の折曲端に、上顎運動部材1と下顎運動部材2
の相対位置を電気的に検出するセンサー3が配設
されていることを特徴とする顎運動測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63278974A JPH021241A (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | 顎運動の測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63278974A JPH021241A (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | 顎運動の測定装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63239486A Division JPH01104248A (ja) | 1988-09-24 | 1988-09-24 | 顎運動の測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH021241A JPH021241A (ja) | 1990-01-05 |
| JPH0551293B2 true JPH0551293B2 (ja) | 1993-08-02 |
Family
ID=17604663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63278974A Granted JPH021241A (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | 顎運動の測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH021241A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0727495U (ja) * | 1993-11-04 | 1995-05-23 | モリ工業株式会社 | 多機能物干し装置 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8382686B2 (en) | 2007-04-17 | 2013-02-26 | Gnath Tech Dental Systems, Llc | Apparatus and method for recording mandibular movement |
| JP5004646B2 (ja) * | 2007-04-26 | 2012-08-22 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 位置姿勢検出システム及びその検出方法並びに位置姿勢検出装置 |
| US10660735B2 (en) | 2017-10-19 | 2020-05-26 | Dentigrafix Llc | Systems and methods for recording mandibular movement |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62179432A (ja) * | 1986-01-31 | 1987-08-06 | 坂東 永一 | 顎運動の測定装置 |
| JPH0640249B2 (ja) * | 1986-11-13 | 1994-05-25 | 株式会社エス・エム・シー | 表示パネル実装基板 |
-
1988
- 1988-11-02 JP JP63278974A patent/JPH021241A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0727495U (ja) * | 1993-11-04 | 1995-05-23 | モリ工業株式会社 | 多機能物干し装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH021241A (ja) | 1990-01-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |