JPH055342U - 真空チヤツク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本考案はワークの形状が吸引孔の配設パター
ンと異なっていてもワークを的確に吸着保持することが
できる真空チャックを目的とする。 【構成】 弁室４に真空室１に連通される連通孔５と吸
着用の吸引孔６を設け、弁室４内に球弁７を内蔵させ
る。弁室４の連通孔５に、弁室４の球弁受け部位よりも
高い位置に弁座８を形成し、吸引孔６がワークＷによっ
て覆われない場合にはその吸引気流により球弁７が弁座
８に乗り上げて連通孔５を閉塞する。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は工作機械等においてワークをチャックするために使用される真空チャ ックに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】

上記のような従来の真空チャックは、吸着板の表面に真空室と連通する吸引孔 を多数設けただけのものであるため、吸引孔の配設パターンとワークの形状とが 一致しない場合には外気と連通した吸引孔から大量に流入する空気によって真空 度が低下し、吸着力を失うという問題があった。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】

本考案は前記のような問題を解決し、吸引孔の配設パターンとワークとの形状 が一致しない場合でもワークを的確に吸着保持することができる真空チャックを 目的として完成されたものである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】

上記の課題を解決するためになされた本考案は、吸引孔を備えた吸着板の下面 に真空室に連通される連通孔を持つ弁室を形成し、この弁室に球弁を内蔵させる とともに、弁室の連通孔に弁底の球弁受け部位よりも高い位置とした弁座を形成 したことを特徴とするものである。

【０００５】

【実施例】

以下、本考案を図に基づいて詳細に説明する。 １は真空室であり、該真空室１の天板部２には吸着板３で仕切られた弁室４が 多数設けられており、該弁室４には真空室１に連通される連通孔５と外部に連通 される吸引孔６とが設けられている。

【０００６】 ７は弁室４内に遊動自在に内蔵された球弁、８は弁室４の連通孔５に嵌着され たゴム管のような弾性を有する弁座であり、該弁座８は弁室４の球弁受け部位よ りも高い位置となるよう突出させて通常は球弁７が連通孔５を閉塞しないように なっている。

【０００７】

【作用】

このように構成されたものは、図１に示すように吸着板３の吸引孔６上にワー クＷを載置して吸引孔６がワークＷによって閉塞されると、弁室４と吸引孔６内 の空気は連通孔５を通じて真空室１内に吸引排気されるため、ワークＷに負圧が 作用して吸着板３上に吸着保持される。

【０００８】 また吸着板３の吸引孔６の配設パターンと一致しないワークＷを吸着する場合 には、図２に示すようにワークＷが載置されていない吸引孔６から流入する大量 の空気が弁室４の連通孔５を通じて真空室１に吸引されてゆくこととなる。この ため、連通孔５を通過する吸引気流によって弁室４内に内蔵されている遊動自在 な球弁７は弾性弁座８に吸引されていく。

【０００９】 そしてこの吸引気流によって吸引される球弁７は弁室４の球弁受け部位よりも 高い位置となるよう連通孔５に取り付けられている弁座８に吸い寄せられたうえ 、その上端面に乗り上げて連通孔５を塞ぐから、真空室１と外部とは遮断されて 空気の流入は停止される。このため、真空室１の真空度が保たれ、ワークＷに対 する吸着力を失うことはない。なお吸引孔６にワークＷが吸着されている場合に は、弁室４内の吸引気流が微弱なため、球弁７が吸引されて弁座８に乗り上げる ことはない。

【００１０】 なお、前記実施例においては真空室１の天板部２に多数の弁室４を形成したも のとしているが、特殊な場合には弁室４を単一としてもよいことは勿論である。 また弁室４の弁底は図１に示される実施例では逆円錐状として弁座８が逆円錐の 傾斜面より突出されるとともに弁座８の上端面を斜めに切り落とし、振動によっ て球弁７が不用意に弁座８を閉塞しないようにするとともに、吸引孔６が被保持 体Ｗによって塞がれると直ちに球弁７が弁座８より落下するようにしているが、 図３に示されるように水平な弁底より弁座８を突出させたものとしてもよい。

【００１１】 また図４に示された実施例では、弁底を円錐状としてその頂部より弁座８を突 出させたものとし、振動により球弁７が弁座８を不用意に塞ぐことを防止してい るが、通常時に球弁７が弁座８に乗り上げないようになっていれば弁底の形状は 特に限定されるものではない。また弁座８は球弁７を吸引密着させるだけの弾性 があり、かつ球弁７を吸着した際にその負圧によって弁座８が潰されない程度の 強度があればよい。

【００１２】 さらに図５、６に示される実施例では弾性を有する弁座８を連通孔５に嵌着し たものとせず、弁室４の連通孔５の先端を弁座８とし、該弁座８を弁室４の球弁 受け部位より高い位置とするとともに球弁７を弾性体とすることによって弾性を 有する弁座８を用いたのと同様な遮蔽効果を得ることができる。

【００１３】

【考案の効果】

本考案は前記説明によって明らかなように、真空室の天板部に吸着用の吸引孔 と真空室に連通される連通孔を備えた弁室を設け、該弁室に球弁を内蔵するとと もに弁室の連通孔に弁室の球弁受け部位よりも高い位置となる弁座を形成したも のとしているから、ワークの形状が吸引孔の配設パターンと異なり吸引孔が外部 に開放された場合には球弁が吸引気流によって弁座に乗り上げて連通孔を塞ぎ、 真空度の低下を防止して常に吸着力を的確に維持することができるようにしたも のである。 よって本考案は従来の問題を解決した真空チャックとして、その実用的価値は 極めて大なものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の実施例を示す断面図である。

【図２】同じく状態を異にして示す断面図である。

【図３】弁室の弁底を水平とした実施例を示す断面図で
ある。

【図４】弁室の弁底を円錐状とした実施例を示す断面図
である。

【図５】連通孔の先端を弁座として球弁を弾性体とした
実施例を示す断面図である。

【図６】連通孔の先端を弁座として球弁を弾性体とした
他の実施例を示す断面図である。

【符号の説明】

１ 真空室 ３ 吸着板 ４ 弁室 ５ 連通孔 ６ 吸引孔 ７ 球弁 ８ 弁座 Ｗ ワーク

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 【請求項１】 吸引孔(6) を備えた吸着板(3) の下面に
   真空室(1) に連通される連通孔(5) を持つ弁室(4) を形
   成し、この弁室(4) に球弁(7) を内蔵させるとともに、
   弁室(4) の連通孔(5) に弁底の球弁受け部位よりも高い
   位置とした弁座(8) を形成したことを特徴とする真空チ
   ャック。