JPH0554537U - 真空焼入装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 熱処理品を、各部において均一に冷却し、歪
みが生じるのを防止する。 【構成】 密閉状炉体１内に、周壁に多数の冷却ガス吹
出口を有する加熱冷却処理室６を配置する。加熱冷却処
理室６の内部に発熱体１３を設ける。加熱冷却処理室６
内に、熱処理品載置台１９を上下動自在に設ける。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

この考案は、たとえば真空雰囲気中において熱処理品を加熱し、不活性ガスに よりこれを冷却して焼入れをするのに使用される真空焼入装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

この種真空焼入装置として、密閉状炉体と、炉体に接続された真空引き装置お よび不活性ガス供給装置と、炉体内に配置され、かつ可動扉付き冷却ガス出口が 形成されるとともに内部に発熱体が設けられた加熱冷却処理室と、炉体内に配置 された冷却ガスクーラおよび冷却ガス循環ファンとよりなるものが知られている 。

【０００３】 この真空焼入装置において、処理室内に鋼製品等の熱処理品を配置した後炉体 内を真空状態にし、発熱体により処理室内の熱処理品を所定温度に加熱し、つい で炉体内に窒素ガスなどの不活性ガスからなる冷却ガスを大気圧以上に充填し、 冷却ガス循環ファンにより加熱冷却処理室の内外で冷却ガスを循環させるととも に、冷却ガスクーラに通すことによって熱処理品を所定温度以下まで急冷するよ うになっている。

【０００４】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、従来の真空焼入装置の場合、冷却ガスは決まった方向から熱処 理品に吹き付けられるので、熱処理品に冷却ガスの当たりにくい箇所が発生し、 熱処理品を均一に冷却することはできず、歪みが生じるという問題があった。

【０００５】 この考案の目的は、上記問題を解決した真空焼入装置を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】

この考案による真空焼入装置は、 密閉状炉体と、炉体に接続された真空引き装置および冷却用不活性ガス供給装 置と、炉体内に配置され、かつ内部に発熱体が設けられるとともに周壁に多数の 冷却ガス吹出口を有する加熱冷却処理室と、炉体内に配置された冷却ガスクーラ および冷却ガス循環ファンとを備えており、冷却ガス循環ファンによって、加熱 冷却処理室の内外で冷却ガスが循環させられるとともに、冷却ガスクーラに通さ れるようになされた真空焼入装置であって、 加熱冷却処理室内に、熱処理品載置台が上下動自在に設けられているものであ る。

【０００７】

【作用】

冷却のさいに熱処理品載置台を上下動させると、熱処理品における冷却ガスの 当たる位置が変化するので、熱処理品は、その各部において均一に冷却される。

【０００８】

【実施例】

以下、この考案の実施例を、図面を参照して説明する。以下の説明において、 図１の右側を前、左側を後というものとする。また、図２の左右を左右というも のとする。

【０００９】 この考案による真空焼入装置は、密閉状炉体(1) と、炉体(1) に接続された真 空引き装置および不活性ガス供給装置（いずれも図示略）とを備えている。炉体 (1) は円筒状本体(1a)と、本体(1a)の後端開口を塞ぐ開閉自在な扉(1b)と、本体 (1a)の前端に固定されて前端開口を塞ぐ閉鎖壁(1c)とよりなる。

【００１０】 炉体(1) の本体(1a)の内周面には、炉体(1) 内を前後２つの区画(2)(3)に仕切 り、かつ中央部に冷却ガス出口(4a)が形成されるとともにその周囲に複数の冷却 ガス入口(4b)が円周方向に所定間隔をおいて形成された仕切り壁(4) が固定され ている。仕切り壁(4) に、冷却ガス出口(4a)を通って後方の区画(3) から前方の 区画(2) 内に出てくる冷却ガスを冷却するための冷却ガスクーラ(5) が取付けら れている。炉体(1) 内の後方の区画(3) に加熱冷却処理室(6) が配置され、前方 の区画(2) に、炉体(1) の前端閉鎖壁(1c)に固定されたモータ(8) により作動さ せられる冷却ガス循環ファン(7) が配置されている。

【００１１】 加熱冷却処理室(6) の前壁(6a)には冷却ガス排出口(9) が形成され、可動扉(1 0)により開閉されるようになっている。一方、加熱冷却処理室(6) の後壁(6b)に は熱処理品出入れ口(11)が形成され、可動扉(12)により開閉されるようになって いる。また、加熱冷却処理室(6) 内には複数の発熱体(13)が配置されている。

【００１２】 炉体(1) 内の後方の区画(3) における処理室(6) の周囲の部分に、前後方向に のびかつ前端が開口するとともに後端が閉鎖された冷却ガス入口(4b)と同数の管 状冷却ガスダクト(14)が円周方向に所定間隔をおいて配置されている。各冷却ガ スダクト(14)の前端部は仕切り壁(4) の冷却ガス入口(4b)に接続されている。冷 却ガスダクト(14)の周壁に、先端が処理室(6) の周壁(6c)に貫通状に接続された 冷却ガス吹出し管(15)が、前後方向に所定間隔をおいて複数設けられている。冷 却ガス吹出し管(15)の先端開口が冷却ガス吹出口となっている。

【００１３】 炉体(1) の円筒状本体(1a)の下部には下方膨出部(1d)が形成されており、この 下方膨出部(1d)の底壁に、垂直状ロッド(16)が、上下動自在にかつ気密状に貫通 させられている。ロッド(16)は炉体(1) の外部に設けられた公知の昇降駆動装置 （図示略）によって昇降させられるようになっている。また、ロッド(16)の上端 には昇降台(17)が取付けられており、その上端に複数の支柱(18)が前後、左右に 並んで立設されている。支柱(18)は処理室(6) の底壁を上下動自在に貫通してい る。そして、支柱(18)の上端に熱処理品載置台(19)が取付けられている。

【００１４】 このような構成において、加熱冷却処理室(6) 内に熱処理品(W) が入れられて 熱処理品載置台(19)上に載せられた後、真空引き装置により炉体(1) 内が真空状 態とされ、発熱体(13)によって熱処理品(W) が所定温度以上に加熱される。この とき、昇降駆動装置によりロッド(16)、昇降台(17)および支柱(18)を介して熱処 理品載置台(19 を上下動させる。すると、熱処理品(W) が均一に加熱される。

【００１５】 ついで、発熱体(13)による加熱を停止するとともに、可動扉(10)を移動させて 冷却ガス排出口(9) を開き、不活性ガス供給装置によって、窒素ガスなどの不活 性ガスからなる冷却ガスを、炉体(1) 内の圧力が大気圧以上となるように供給す る。そして、冷却ガス循環ファン(7) によって、冷却ガスをいずれかの連通孔(1 9)(21)(22)、および冷却ガス入口(4b)を経て冷却ガスダクト(14)内に送り込み、 冷却ガス吹出し管(15)を通して加熱冷却処理室(6) 内に吹き込む。一方、冷却ガ ス排出口(9) を通して加熱冷却処理室(6) 内の冷却ガスを吸引し、これをクーラ (5) に通過させて冷却する。このようにして冷却ガスが炉体(1) 内で循環させら れることにより、熱処理品(W) が冷却される。このとき、昇降駆動装置によりロ ッド(16)、昇降台(17)および支柱(18)を介して熱処理品載置台(19)を上下動させ ると、熱処理品(W) における冷却ガスの当たる位置が変化するので、熱処理品(W ) は、その各部において均一に冷却される。したがって、熱処理品(W) に歪みが 生じるのを防止できる。

【００１６】

【考案の効果】

この考案の真空焼入装置によれば、上述のように、熱処理品を、その各部にお いて均一に冷却することができるので、熱処理品に歪みが生じるのを防止できる 。

【図面の簡単な説明】

【図１】この考案による真空焼入装置の縦断面図であ
る。

【図２】同じく横断面図である。

【符号の説明】

１ 密閉状炉体 ５ 冷却ガスクーラ ６ 加熱冷却処理室 ７ 冷却ガス循環ファン 15 冷却ガス吹出し管 19 熱処理品載置台

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 密閉状炉体と、炉体に接続された真空引
   き装置および冷却用不活性ガス供給装置と、炉体内に配
   置され、かつ内部に発熱体が設けられるとともに周壁に
   多数の冷却ガス吹出口を有する加熱冷却処理室と、炉体
   内に配置された冷却ガスクーラおよび冷却ガス循環ファ
   ンとを備えており、冷却ガス循環ファンによって、加熱
   冷却処理室の内外で冷却ガスが循環させられるととも
   に、冷却ガスクーラに通されるようになされた真空焼入
   装置であって、 加熱冷却処理室内に、熱処理品載置台が上下動自在に設
   けられている真空焼入装置。