JPH0560251B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、被露光体に原板上のパターン像、例
えば半導体回路を焼付ける露光装置に関し、特に
大画面を分割焼きする分割走査（ステツプアンド
スキヤン）形として好適な投影露光装置に関す
る。

［従来の技術の説明］ ミラープロジエクシヨン方式の半導体焼付装置
においては、マスクと基板（またはウエハ）をキ
ヤリツジ上に乗せこれを露光面上にスキヤン移動
させることにより画面全体を露光している。

しかし、最近の傾向として、チツプコストの低
減を目的としたウエハの大口径化や液晶TV用等
の大型の液晶表示板の製造のため、画面が大型化
してくると、露光範囲を大きくし、かつスキヤン
長を伸ばさなければならないことにより装置が大
型化してくるという問題があつた。

この対策として、画面を分割してスキヤン焼き
を複数回に分けて行なうステツプアンドスキヤン
焼方式が考えられている。そしてこのステツプア
ンドスキヤン焼きをより高速かつ高精度に行なう
ために、キヤリツジに基板ステージ（Ｘ，Ｙ，θ
ステージ）を搭載することが考えられている。

第３図は、ステツプアンドスキヤン焼方式によ
るパターンの焼付手段を示す。同図において、１
はフオトマスク、３は基板またはウエハ、４は基
板ステージ、２１はパターンの有効焼付範囲、２
２はパターン焼付のための照明光の照明範囲であ
る。２３はパターン焼付時の基板３のスキヤン方
向を示す。

パターンの焼付は以下のように行なう。まず、
マスク１と基板３の位置合わせを行なうため、基
板ステージ４を動かして、基板３の位置を第３図
１のように設定する。そして、基板ステージ４を
搭載したキヤリツジをスキヤン方向２３に動かす
と、例えば基板３の左上の四半分２１が焼付けら
れる。

次にマスクを変え、さらに基板ステージ４を動
かすことにより、第２図２に示すように位置設定
し、前回と反対方向のキヤリツジをスキヤンさせ
る。これにより、例えば左下の四半分２１′が焼
付けられる。

以下、同様にして、右上の四半分２１″（第３
図３）、右下の四半分２１

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 被露光基板を移動可能な基板保持手段で保持
   し、マスクと該基板保持手段とを移送するための
   移送部材を駆動して該マスクと該基板保持手段と
   を一体的に移送せしめることにより照明光に対し
   て該マスクと該被露光基板とを走査し、該マスク
   のパターンを該被露光基板上に転写する露光方法
   において、前記基板保持手段を移動させて前記被
   露光基板を前記マスクに対し位置合わせする際、
   前記基板保持手段の移動により生じる前記移送部
   材の姿勢変化による位置合わせ誤差を補正するこ
   とを特徴とする露光方法。 ２ マスクと被露光基板の位置合わせを行い、照
   明光に対して該マスクと該被露光基板とを走査す
   ることにより該マスクのパターンを該被露光基板
   上に転写するための露光装置において、前記マス
   クを保持するマスク保持手段と、前記被露光基板
   を保持し、移動可能な基板保持手段と、前記マス
   ク保持手段と前記基板保持手段とを一体的に移送
   せしめる移送部材と、前記基板保持手段の移動に
   より生じる前記移送部材の姿勢変化による位置合
   わせ誤差を補正する補正手段を有することを特徴
   とする露光装置。 ３ 前記補正手段が、前記基板保持部材の移動に
   より生じる前記移送部材の姿勢変化による前記被
   露光基板上への前記パターンの結像位置のずれ量
   を予め記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶
   した前記ずれ量を用いて前記基板保持手段のステ
   ツプ送り量を補正し、前記基板保持手段をステツ
   プ移動せしめる駆動手段とを有することを特徴と
   する特許請求の範囲第２項記載の露光装置。