JPH0564953B2 - - Google Patents
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- JPH0564953B2 JPH0564953B2 JP85285858A JP28585885A JPH0564953B2 JP H0564953 B2 JPH0564953 B2 JP H0564953B2 JP 85285858 A JP85285858 A JP 85285858A JP 28585885 A JP28585885 A JP 28585885A JP H0564953 B2 JPH0564953 B2 JP H0564953B2
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- pyran
- tetrahydro
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は式
式中、Xはウンデシルまたは2Z,5Z−ウンデ
カジエニルであり、C6はn−ヘキシルであり、
Yはイソブチルであり且つZはホルミルである
か、またはYはカルバモイルメチルであり且つZ
はアセチルである、 のオキセタノン類の新規な製造方法に関する。
カジエニルであり、C6はn−ヘキシルであり、
Yはイソブチルであり且つZはホルミルである
か、またはYはカルバモイルメチルであり且つZ
はアセチルである、 のオキセタノン類の新規な製造方法に関する。
Yがイソブチルであり、そしてZがホルミルで
ある式の化合物は新規なものである。これらの
新規化合物は価値ある薬理学的特性を有すること
に特色がある。殊に該化合物は膵臓リパーゼを阻
害し、従つて、病気、特に肥満症(obesity)、過
脂肪血症(hyperlipaemia)、アテローム性動脈
硬化症(atherosclerosis)及び動脈硬化症
(arteriosclerosis)の抑制または予防に対して用
いることができる。
ある式の化合物は新規なものである。これらの
新規化合物は価値ある薬理学的特性を有すること
に特色がある。殊に該化合物は膵臓リパーゼを阻
害し、従つて、病気、特に肥満症(obesity)、過
脂肪血症(hyperlipaemia)、アテローム性動脈
硬化症(atherosclerosis)及び動脈硬化症
(arteriosclerosis)の抑制または予防に対して用
いることができる。
本発明における方法は、
a 式
の酸を式
式中、X,C6,YおよびZは上記の意味を有
する、 のアルコールでエステル化するか、 b 式 式中、X′は3−ウンデセニルであり、そして
C6,Y及びZは上記の意味を有する、 のオキセタノンを水素添加するか、或いは c 式 式中、C11はウンデシルであり、そしてY及び
C6は上記の意味を有する、 のオキセタノンを基Zを導入するアルカノイル化
剤で処理する ことからなる。
する、 のアルコールでエステル化するか、 b 式 式中、X′は3−ウンデセニルであり、そして
C6,Y及びZは上記の意味を有する、 のオキセタノンを水素添加するか、或いは c 式 式中、C11はウンデシルであり、そしてY及び
C6は上記の意味を有する、 のオキセタノンを基Zを導入するアルカノイル化
剤で処理する ことからなる。
エステル化aを溶媒、例えばテトラヒドロフラ
ン(THF)の如きエーテル中で、トリフエニル
ホスフイン及びアゾジカルボン酸ジエチルの存在
下において行うことができる。反応温度は臨界的
ではない;このエステル化は好ましくは室温で行
われる。
ン(THF)の如きエーテル中で、トリフエニル
ホスフイン及びアゾジカルボン酸ジエチルの存在
下において行うことができる。反応温度は臨界的
ではない;このエステル化は好ましくは室温で行
われる。
水素添加bを溶媒、例えばTHFの如きエーテ
ル中で、水素添加触媒、例えば炭素に担持させた
パラジウムの存在下において、好ましくはほぼ室
温で行うことができる。
ル中で、水素添加触媒、例えば炭素に担持させた
パラジウムの存在下において、好ましくはほぼ室
温で行うことができる。
アルカノイル化cを酸無水物、例えばギ酸/酢
酸無水物の如き混成酸無水物の存在下において、
溶媒例えばTHFの如きエーテル中で、好ましく
は室温で行うことができる。
酸無水物の如き混成酸無水物の存在下において、
溶媒例えばTHFの如きエーテル中で、好ましく
は室温で行うことができる。
アルコールは式
式中、C6は上記の意味を有し、そしてLは容
易に開裂し得るエーテル基、例えばテトラヒドロ
−2H−ピラン−2−イル、1−エトキシエチル
またはt−ブチルジメチルシリルである、 のエーテルにおけるエーテル基Lを開裂させて製
造することができる。
易に開裂し得るエーテル基、例えばテトラヒドロ
−2H−ピラン−2−イル、1−エトキシエチル
またはt−ブチルジメチルシリルである、 のエーテルにおけるエーテル基Lを開裂させて製
造することができる。
この開裂は溶媒、例えばエタノールの如きアル
コール中で、酸触媒、例えばピリジニウム−4−
トルエンスルホネートの存在下において、例えば
50〜65℃に加熱しながら行うことができる。
コール中で、酸触媒、例えばピリジニウム−4−
トルエンスルホネートの存在下において、例えば
50〜65℃に加熱しながら行うことができる。
エーテルは式
の化合物を環形成させて製造することができる。
この反応はベンゼンスルホニルクロライドの存在
下において、ピリジンの如き溶媒中で、例えば0
℃に冷却しながら行うことができる。
この反応はベンゼンスルホニルクロライドの存在
下において、ピリジンの如き溶媒中で、例えば0
℃に冷却しながら行うことができる。
酸は対応する式
式中,Rは直鎖状または分枝鎖状C1〜4−アルキ
ル、例えばメチル、エチルまたはt−ブチルであ
り、そしてL及びXは上記の意味を有する、 のエステルをケン化するか、或いはXが2Z,5Z
−ウンデカジエニルである場合、またはオクタン
酸を式 のアルデヒドと縮合させて製造することができ
る。
ル、例えばメチル、エチルまたはt−ブチルであ
り、そしてL及びXは上記の意味を有する、 のエステルをケン化するか、或いはXが2Z,5Z
−ウンデカジエニルである場合、またはオクタン
酸を式 のアルデヒドと縮合させて製造することができ
る。
エステルのケン化はアルコール性アルカリ金
属水酸化物溶液、例えばメタノール性水酸化カリ
ウム溶液を用いて、反応混合物の還流温度までの
温度に加熱することによつて行うことができる。
属水酸化物溶液、例えばメタノール性水酸化カリ
ウム溶液を用いて、反応混合物の還流温度までの
温度に加熱することによつて行うことができる。
アルデヒドとオクタン酸との縮合はTHFの
如き溶媒中で、ジイソプロピルアミン及びブチル
リチウムの存在下において、例えば−50℃に冷却
しながら行うことができる。
如き溶媒中で、ジイソプロピルアミン及びブチル
リチウムの存在下において、例えば−50℃に冷却
しながら行うことができる。
(5R)−または(5S)−型で存在する式の酸
を次の方法において(2S,3S,5R)−または
(2R,3R,5S)−立体異性体に転化することがで
きる: 式の(5R)−または(5S)−酸をエタノール
中で50〜60℃に加熱しながら、トルエン−4−ス
ルホン酸−水和物によつて対応する式 式中、L′は水素を表わし、そしてX及びC6は
上記の意味を有する、 の(6R)−または(6S)−ピラノロンに環形成さ
せる。次にこの(6R)−または(6S)−ピラノロ
ンを例えばアセトン中にて25℃以下の温度で、ジ
ヨーンズ(Jones′)試薬によつて対応するピラン
ジオンに酸化し、このものを例えば酸化白金の存
在下において酢酸エチル中で立体特異的に水素添
加し、L′が水素である式−Aの(3S,4S,6R)
−または(3R,4R,6S)−ピラノロンを生成さ
せる。このピラノロンを例えばジメチルホルムア
ミド中のt−ブチルジメチルクロロシランによつ
て、L′がt−ブチルジメチルシリルの如きエーテ
ル保護基を表わす式−Aの化合物に転化する。
得られる環式(3S,4S,6R)−または(3R,
4R,6S)−エーテルを例えばジオキサン中で水酸
化カリウム水溶液との反応によつて開裂させ、得
られる化合物をその場で式 式中、L″は水素を表わし、L′はエーテル−
Aにおける如き同一エーテル保護基であり、
R′はベンジルまたはp−ニトロベンジルであり、
そしてX及びC6は上記の意味を有する、 の(2S,3S,5R)−または(2R,3R,5S)−エ
ーテルに転化する。次に得られるエーテル−B
を、L″がエーテル保護基、例えばテトラヒドロ
−2H−ピラン−2−イルを表わす同一式のジエ
チルに転化する。まずエーテル保護基L′を例えば
THF中のテトラブチルアンモニウムフルオライ
ド三水和物によつて開裂させ、次に基R′を例え
ばPd/Cの存在下においてTHF中で水素添加し
た後、所望の式の(2S,3S,5R)−または
(2R,3R,5S)−酸が得られる。
を次の方法において(2S,3S,5R)−または
(2R,3R,5S)−立体異性体に転化することがで
きる: 式の(5R)−または(5S)−酸をエタノール
中で50〜60℃に加熱しながら、トルエン−4−ス
ルホン酸−水和物によつて対応する式 式中、L′は水素を表わし、そしてX及びC6は
上記の意味を有する、 の(6R)−または(6S)−ピラノロンに環形成さ
せる。次にこの(6R)−または(6S)−ピラノロ
ンを例えばアセトン中にて25℃以下の温度で、ジ
ヨーンズ(Jones′)試薬によつて対応するピラン
ジオンに酸化し、このものを例えば酸化白金の存
在下において酢酸エチル中で立体特異的に水素添
加し、L′が水素である式−Aの(3S,4S,6R)
−または(3R,4R,6S)−ピラノロンを生成さ
せる。このピラノロンを例えばジメチルホルムア
ミド中のt−ブチルジメチルクロロシランによつ
て、L′がt−ブチルジメチルシリルの如きエーテ
ル保護基を表わす式−Aの化合物に転化する。
得られる環式(3S,4S,6R)−または(3R,
4R,6S)−エーテルを例えばジオキサン中で水酸
化カリウム水溶液との反応によつて開裂させ、得
られる化合物をその場で式 式中、L″は水素を表わし、L′はエーテル−
Aにおける如き同一エーテル保護基であり、
R′はベンジルまたはp−ニトロベンジルであり、
そしてX及びC6は上記の意味を有する、 の(2S,3S,5R)−または(2R,3R,5S)−エ
ーテルに転化する。次に得られるエーテル−B
を、L″がエーテル保護基、例えばテトラヒドロ
−2H−ピラン−2−イルを表わす同一式のジエ
チルに転化する。まずエーテル保護基L′を例えば
THF中のテトラブチルアンモニウムフルオライ
ド三水和物によつて開裂させ、次に基R′を例え
ばPd/Cの存在下においてTHF中で水素添加し
た後、所望の式の(2S,3S,5R)−または
(2R,3R,5S)−酸が得られる。
エステルは対応する式
のエステルをn−ヘキシル化するか、或いは式
のβ−ケトエステルを還元することによつて製造
することができる。
することができる。
エステルのn−ヘキシル化はエステルを
THFの如き溶媒中で、ジイソプロピルアミンの
存在下において約−50℃でヘキサン中のn−ブチ
ルリチウムの溶液と反応させ、次に約0〜10℃の
温度でヘキサメチルリン酸トリアミド中の1−ブ
ロモヘキサンの如きヘキシルハライドの溶液と反
応させることによつて行うことができる。
THFの如き溶媒中で、ジイソプロピルアミンの
存在下において約−50℃でヘキサン中のn−ブチ
ルリチウムの溶液と反応させ、次に約0〜10℃の
温度でヘキサメチルリン酸トリアミド中の1−ブ
ロモヘキサンの如きヘキシルハライドの溶液と反
応させることによつて行うことができる。
β−ケトエステルの還元は、必要に応じてア
ルゴンの如き不活性ガス中で、エーテルの如き溶
媒、例えばTHF中にて約0℃以下の温度で、複
合金属水素化物、例えば水素化ホウ素ナトリウム
(NaBH4)を用いて行うことができる。
ルゴンの如き不活性ガス中で、エーテルの如き溶
媒、例えばTHF中にて約0℃以下の温度で、複
合金属水素化物、例えば水素化ホウ素ナトリウム
(NaBH4)を用いて行うことができる。
エステルは式
式中,Tはp−トリルであり、そしてL,R及
びXは上記の意味を有する、 のスルホキシドの還元的開裂によつて製造するこ
とができる。この還元は溶媒、例えばTHF及び
水中にてアルミニウムアマルガムを用いて行うこ
とができる。
びXは上記の意味を有する、 のスルホキシドの還元的開裂によつて製造するこ
とができる。この還元は溶媒、例えばTHF及び
水中にてアルミニウムアマルガムを用いて行うこ
とができる。
β−ケトエステルは式X−CHOのアルデヒ
ドを2−アセチルオクタン酸C1〜4−アルキルと反
応させ、そして生ずる式 のアルコールをエーテル化して得ることができ
る。
ドを2−アセチルオクタン酸C1〜4−アルキルと反
応させ、そして生ずる式 のアルコールをエーテル化して得ることができ
る。
アルデヒドX−CHOのアルコールへの転
化は実施例1Lに述べた如くして行うことができ
る。
化は実施例1Lに述べた如くして行うことができ
る。
スルホキシドXは式のアルデヒドを例えば実
施例1Hに述べた如くして、式 のエステルと縮合させて製造することができる。
施例1Hに述べた如くして、式 のエステルと縮合させて製造することができる。
式のアルデヒドは対応する式
のエステルを、例えばトルエンの如き溶媒中にて
約−60乃至−80℃の温度で、水素化ジイソブチル
アルミニウムで還元して製造することができる。
約−60乃至−80℃の温度で、水素化ジイソブチル
アルミニウムで還元して製造することができる。
式のエステルは、例えば実施例1H.b,1I.b
及び1K.aに述べた如くして、式X−CHOのアル
デヒドから出発して、式 のスルホキシド及び式 のアルコールを介して製造することができる。
及び1K.aに述べた如くして、式X−CHOのアル
デヒドから出発して、式 のスルホキシド及び式 のアルコールを介して製造することができる。
式′のオキセタノン出発物質は、3−ウンデ
セニル残基X′が基Xの代りに存在する式の
エステルから出発して式のオキセタノンを製造
する方法と同様にして、対応する式〜の化
合物を介して製造することができる。
セニル残基X′が基Xの代りに存在する式の
エステルから出発して式のオキセタノンを製造
する方法と同様にして、対応する式〜の化
合物を介して製造することができる。
式″のオキセタノン出発物質は式
式中,X,Y及びC6は上記の意味を有する、
のオキセタノンにおけるアミノ保護基Wを開裂さ
せて製造することができる。アミノ保護基Wの例
として、ベンジルオキシカルボニル及びp−ニト
ロベンジルオキシカルボニルを挙げることができ
る。基Wの開裂は溶媒、例えばTHFの如きエー
テル中で、水素添加触媒、例えば炭素に担持させ
たパラジウム触媒の存在下において、好ましくは
室温で水素添加することによつて行うことができ
る。式に存在するウンデカジエニル基Xは基
Wの水添分解的開裂中にウンデシル基に水素添加
される。
せて製造することができる。アミノ保護基Wの例
として、ベンジルオキシカルボニル及びp−ニト
ロベンジルオキシカルボニルを挙げることができ
る。基Wの開裂は溶媒、例えばTHFの如きエー
テル中で、水素添加触媒、例えば炭素に担持させ
たパラジウム触媒の存在下において、好ましくは
室温で水素添加することによつて行うことができ
る。式に存在するウンデカジエニル基Xは基
Wの水添分解的開裂中にウンデシル基に水素添加
される。
式のオキセタノンは式
のアルコールを、式
の酸とジシクロヘキシルカルボジイミドまたはN
−エチル−N′−(3−ジメチルアミノプロピル)
−カルボジイミド塩酸塩と反応させて得られる酸
無水物でエステル化して製造することができる。
この酸無水物の製造は、塩化メチレンの如き溶媒
中で、例えば2〜3℃に冷却しながら行うことが
でき、そして続いてのエステル化はジメチルホル
ムアミドの如き溶媒中で行うことができる。
−エチル−N′−(3−ジメチルアミノプロピル)
−カルボジイミド塩酸塩と反応させて得られる酸
無水物でエステル化して製造することができる。
この酸無水物の製造は、塩化メチレンの如き溶媒
中で、例えば2〜3℃に冷却しながら行うことが
でき、そして続いてのエステル化はジメチルホル
ムアミドの如き溶媒中で行うことができる。
式′のアルコールは式のアルコールの(S)
−エピマーであり、このものは式X−CHOのア
ルデヒドから出発する方法と同様にして、式
のエステルの(S)−エナンチオマー、式及
びのエーテルの(S)−エナンチオマー並びに
式,,及びの化合物の(S)−エピマー
を介して製造することができる。
−エピマーであり、このものは式X−CHOのア
ルデヒドから出発する方法と同様にして、式
のエステルの(S)−エナンチオマー、式及
びのエーテルの(S)−エナンチオマー並びに
式,,及びの化合物の(S)−エピマー
を介して製造することができる。
式X−CHOのアルデヒドまたは式のアルデ
ヒドの(S)−エナンチオマーのそれぞれ対応す
る式またはのエステルの(S)−エナンチ
オマーへの転化に対して、スルフイニルエステル
の代りに、酢酸(R)−α−(ヒドロキシジフ
エニル)ベンジルを用いることができる。この場
合、式またはのスルホキシドの代りに、中
間体として式またはのアルキルエステルに
対応する(R)−2−ヒドロキシ−1,2,2−
トリフエニルエチルエステルが得られる。
ヒドの(S)−エナンチオマーのそれぞれ対応す
る式またはのエステルの(S)−エナンチ
オマーへの転化に対して、スルフイニルエステル
の代りに、酢酸(R)−α−(ヒドロキシジフ
エニル)ベンジルを用いることができる。この場
合、式またはのスルホキシドの代りに、中
間体として式またはのアルキルエステルに
対応する(R)−2−ヒドロキシ−1,2,2−
トリフエニルエチルエステルが得られる。
式
のエステルはエステルと同様の方法で、或い
は実施例1Mに述べた如くして、式 のアルデヒドを介して式 のヘプテン酸エステルから出発して製造すること
ができる。
は実施例1Mに述べた如くして、式 のアルデヒドを介して式 のヘプテン酸エステルから出発して製造すること
ができる。
実施例 1
1A 式のオキセタノンの製造
1A a THF2ml中のラセミ−3−ヘキシル−4
−(2−ヒドロキシ−トリデシル)−2−オキセ
タノン(2R,3S,4S:2S,3R,4R)100mgま
たは(3S,4S)−3−ヘキシル−4−〔(R)−
2−ヒドロキシトリデシル〕−2−オキセタノ
ン100mg、トリフエニルホスフイン74mg及びN
−ホルミル−L−ロイシン45mgの溶液に、アゾ
ジカルボン酸ジエチル44.3μを攪拌しながら
滴下した。一夜攪拌した後、有機相を真空下で
蒸発させ、残渣をシリカゲル上で、トルエン−
酢酸エチル(9:1)を用いて、クロマトグラ
フイーによつて精製した。N−ホルミル−L−
ロイシン(S)−1−〔〔(2S,3S)−3−ヘキシ
ル−4−オキソ−2−オキセタニル〕メチル〕
ドデシルエステル20または37mgが得られた、
〔α〕20 D=−33°(c=0.36,CHCl3)。
−(2−ヒドロキシ−トリデシル)−2−オキセ
タノン(2R,3S,4S:2S,3R,4R)100mgま
たは(3S,4S)−3−ヘキシル−4−〔(R)−
2−ヒドロキシトリデシル〕−2−オキセタノ
ン100mg、トリフエニルホスフイン74mg及びN
−ホルミル−L−ロイシン45mgの溶液に、アゾ
ジカルボン酸ジエチル44.3μを攪拌しながら
滴下した。一夜攪拌した後、有機相を真空下で
蒸発させ、残渣をシリカゲル上で、トルエン−
酢酸エチル(9:1)を用いて、クロマトグラ
フイーによつて精製した。N−ホルミル−L−
ロイシン(S)−1−〔〔(2S,3S)−3−ヘキシ
ル−4−オキソ−2−オキセタニル〕メチル〕
ドデシルエステル20または37mgが得られた、
〔α〕20 D=−33°(c=0.36,CHCl3)。
1A b THF0.1ml中のN−ホルミル−L−ロイ
シン(S,4Z)−1−〔〔(2S,3S)−3−ヘキシ
ル−4−オキソ−2−オキセタニル〕メチル〕
−4−ドデセニルエステル2.5mgの溶液を炭素
に担持させたパラジウム1mgで処理し、次に3
時間水素添加した。触媒を別し、液をシリ
カゲル上で、トルエン/酢酸エチル(9:1)
を用いて、クロマトグラフイーにかけた。N−
ホルミル−L−ロイシン(S)−1−〔〔(2S,
3S)−3−ヘキシル−4−オキソ−2−オキセ
タニル〕メチル〕ドデシルエステル1.5mgが得
られた、+H−NMRスペクトル(270MHz,
CDCl3):0.89(6H);0.97(6H);1.15−2.25
(34H);3.22(2H);4.29(1H);4.70(1H);
5.04(1H);5.91(1H);8.23(1H)ppm。
シン(S,4Z)−1−〔〔(2S,3S)−3−ヘキシ
ル−4−オキソ−2−オキセタニル〕メチル〕
−4−ドデセニルエステル2.5mgの溶液を炭素
に担持させたパラジウム1mgで処理し、次に3
時間水素添加した。触媒を別し、液をシリ
カゲル上で、トルエン/酢酸エチル(9:1)
を用いて、クロマトグラフイーにかけた。N−
ホルミル−L−ロイシン(S)−1−〔〔(2S,
3S)−3−ヘキシル−4−オキソ−2−オキセ
タニル〕メチル〕ドデシルエステル1.5mgが得
られた、+H−NMRスペクトル(270MHz,
CDCl3):0.89(6H);0.97(6H);1.15−2.25
(34H);3.22(2H);4.29(1H);4.70(1H);
5.04(1H);5.91(1H);8.23(1H)ppm。
1A c aと同様にして、次のものが得られた:
1 N−アセチル−3−カルバモイル−L−ア
ラニン(S)−1−〔〔(2S,3S)−3−ヘキシ
ル−4−オキソ−2−オキセタニル〕メチ
ル〕ドデシルエステル、NS:M+(510);(M
+1)+(511); 2 N−ホルミル−L−ロイシン(S)−1−
〔〔(2S,3S)−3−ヘキシル−4−オキソ−
2−オキセタニル〕メチル〕3Z,6Z−ドテ
カジエニルエステル、〔α〕20 D=−19.4℃
(c0.28,CHCl3);MS:(M+1)+(492); 3 N−ホルミル−L−ロイシン(S,4Z))
−1−〔〔(2S,3S)−3−ヘキシル−4−オ
キソ−2−オキセタニル〕メチル〕−4−ド
デセニルエステル。
ラニン(S)−1−〔〔(2S,3S)−3−ヘキシ
ル−4−オキソ−2−オキセタニル〕メチ
ル〕ドデシルエステル、NS:M+(510);(M
+1)+(511); 2 N−ホルミル−L−ロイシン(S)−1−
〔〔(2S,3S)−3−ヘキシル−4−オキソ−
2−オキセタニル〕メチル〕3Z,6Z−ドテ
カジエニルエステル、〔α〕20 D=−19.4℃
(c0.28,CHCl3);MS:(M+1)+(492); 3 N−ホルミル−L−ロイシン(S,4Z))
−1−〔〔(2S,3S)−3−ヘキシル−4−オ
キソ−2−オキセタニル〕メチル〕−4−ド
デセニルエステル。
1B 式のアルコール出発物質の製造
1B a 3−ヘキシル−4−〔2−〔(テトラヒド
ロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕トリデ
シル〕−2−オキセタノンの異性体混合物265mg
をエタノール2.5mlに溶解し、ピリジニウム−
4−トルエンスルホネート13mgを加えた。反応
混合物を反応が終了するまで、55〜60℃に加熱
した。溶媒を真空下で除去し、残渣をエーテル
に採り入れ、かくして、結晶が分離し、このも
のを過によつて除去した。溶媒を真空下で蒸
発させ、残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ
イーにかけた。ラセミ−3−ヘキシル−4−
(2−ヒドロキシトリデシル−2−オキセタノ
ン(2R,3S,4S:2S,3R,4R)が得られた、
MS:M+(354)、融点44.5〜46℃。
ロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕トリデ
シル〕−2−オキセタノンの異性体混合物265mg
をエタノール2.5mlに溶解し、ピリジニウム−
4−トルエンスルホネート13mgを加えた。反応
混合物を反応が終了するまで、55〜60℃に加熱
した。溶媒を真空下で除去し、残渣をエーテル
に採り入れ、かくして、結晶が分離し、このも
のを過によつて除去した。溶媒を真空下で蒸
発させ、残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ
イーにかけた。ラセミ−3−ヘキシル−4−
(2−ヒドロキシトリデシル−2−オキセタノ
ン(2R,3S,4S:2S,3R,4R)が得られた、
MS:M+(354)、融点44.5〜46℃。
同様の方法において、次のものが得られた:
1B b (3S,4S)−3−ヘキシル−4−〔(R)−
2−ヒドロキシトリデシル〕−2−オキセタノ
ン、融点46〜46.5℃; 1B c (3S,4S)−3−ヘキシル−4−〔(R)−
2−ヒドロキシ−4Z,7Z−トリデカジエニル〕
−2−オキセタノン; 1B d トランス−3−ヘキシル−4−〔(R)−
2−ヒドロキシ−5Z−トリデセニル〕−2−オ
キセタノン。
2−ヒドロキシトリデシル〕−2−オキセタノ
ン、融点46〜46.5℃; 1B c (3S,4S)−3−ヘキシル−4−〔(R)−
2−ヒドロキシ−4Z,7Z−トリデカジエニル〕
−2−オキセタノン; 1B d トランス−3−ヘキシル−4−〔(R)−
2−ヒドロキシ−5Z−トリデセニル〕−2−オ
キセタノン。
1C 式のエーテルの製造
1C a 2−ヘキシル−3−ヒドロキシ−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オ
キシ〕ヘキサデカン酸の異性体混合物0.7gを
ピリジン15mlに溶解し、そして0℃に冷却し
た。ベンゼンスルホニルクロライド0.4mlの滴
下後、混合物を0℃で攪拌した。反応混合物を
10%塩化ナトリウム溶液120ml中に注ぎ、ジエ
チルエーテル30mlで3回抽出した。合液した抽
出液を乾燥し、過し、そして蒸発させた。シ
リカゲル上でクロマトグラフイーにかけた後、
3−ヘキシル−4−〔2−〔(テトラヒドロ−2H
−ピラン−2−イル)オキシ〕トリデシル−2
−オキセタノンの異性体混合物が得られた、
MS:(M+1)+(440)。
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オ
キシ〕ヘキサデカン酸の異性体混合物0.7gを
ピリジン15mlに溶解し、そして0℃に冷却し
た。ベンゼンスルホニルクロライド0.4mlの滴
下後、混合物を0℃で攪拌した。反応混合物を
10%塩化ナトリウム溶液120ml中に注ぎ、ジエ
チルエーテル30mlで3回抽出した。合液した抽
出液を乾燥し、過し、そして蒸発させた。シ
リカゲル上でクロマトグラフイーにかけた後、
3−ヘキシル−4−〔2−〔(テトラヒドロ−2H
−ピラン−2−イル)オキシ〕トリデシル−2
−オキセタノンの異性体混合物が得られた、
MS:(M+1)+(440)。
同様の方法において、次のものが得られた:
1C b 3−ヘキシル−4−〔(R)−2−〔(テト
ラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕
トリデシル〕−2−オキセタノン; 1C c 3−ヘキシル−4−〔(R)−2−〔(テト
ラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−
4Z,7Z−トリデカジエニル〕−2−オキセタノ
ン; 1C d 3−ヘキシル−4−〔(R)−2−〔(テト
ラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−
5Z−トリデセニル−2−オキセタノン; 1D 式の酸の製造 1D a 2−ヘキシル−3−ヒドロキシ(R)−
5−〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)
オキシ〕ヘキサデカン酸t−ブチルのジアステ
レオマー混合物を2Nメタノール性水酸化カリ
ウム溶液17ml中で還流下にて加熱した。反応混
合物を冷却し、氷−水60ml中に注いだ。混合物
を1N塩酸の滴下によつてPH値1に調節し、次
にエーテルで抽出した。合液したエーテル相を
乾燥し、過し、そして蒸発させた。この油を
シリカゲル上でクロマトグラフイーにかけた。
2−ヘキシル−3−ヒドロキシ(R)−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オ
キシ〕ヘキサデカン酸のジアステレオマー混合
物が得られた。
ラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕
トリデシル〕−2−オキセタノン; 1C c 3−ヘキシル−4−〔(R)−2−〔(テト
ラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−
4Z,7Z−トリデカジエニル〕−2−オキセタノ
ン; 1C d 3−ヘキシル−4−〔(R)−2−〔(テト
ラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−
5Z−トリデセニル−2−オキセタノン; 1D 式の酸の製造 1D a 2−ヘキシル−3−ヒドロキシ(R)−
5−〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)
オキシ〕ヘキサデカン酸t−ブチルのジアステ
レオマー混合物を2Nメタノール性水酸化カリ
ウム溶液17ml中で還流下にて加熱した。反応混
合物を冷却し、氷−水60ml中に注いだ。混合物
を1N塩酸の滴下によつてPH値1に調節し、次
にエーテルで抽出した。合液したエーテル相を
乾燥し、過し、そして蒸発させた。この油を
シリカゲル上でクロマトグラフイーにかけた。
2−ヘキシル−3−ヒドロキシ(R)−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オ
キシ〕ヘキサデカン酸のジアステレオマー混合
物が得られた。
同様の方法において、次のものが得られた:
1D b 2−ヘキシル−3−ヒドロキシ−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オ
キシ〕ヘキサデカン酸; 1D c 2−ヘキシル−3−ヒドロキシ(R)−
5−〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)
オキシ〕−7Z,10Z−ヘキサデカデン酸。
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オ
キシ〕ヘキサデカン酸; 1D c 2−ヘキシル−3−ヒドロキシ(R)−
5−〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)
オキシ〕−7Z,10Z−ヘキサデカデン酸。
1E 式の酸の製造(変法)
1E a 乾燥THF30ml中のジイソプロピルアミ
ン2mlを−20℃に冷却し、次に温度が−20℃を
越えないようにして、ブチルリチウム
(1.6M/ヘキサン)9.68mlを滴下した。次に混
合物を15分間攪拌し、そして−50℃に冷却し
た。その後、THF10ml中のオクタン酸1.11ml
を滴下し、この混合物を−50°で更に10分間攪
拌した。混合物を室温で1時間攪拌し、次に再
び−50℃に冷却した。ここで、THF10ml中の
(R)−3−〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2
−イル)オキシ〕−5Z,8Z−テトラデカジエナ
ール2gを滴下した。混合物を−50℃で30分
間、次に室温で72時間攪拌した。2N塩酸によ
つて加水分解した後、反応混合物を蒸発させ
た。残渣をエーテルで抽出した。有機相を乾燥
し、過し、そして蒸発させた。得られた物質
をシリカゲルを通して過した。2−ヘキシル
−3−ヒドロキシ(R)−5−〔(テトラヒドロ
−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−7Z,10Z
−ヘキサデカジエン酸が得られた。
ン2mlを−20℃に冷却し、次に温度が−20℃を
越えないようにして、ブチルリチウム
(1.6M/ヘキサン)9.68mlを滴下した。次に混
合物を15分間攪拌し、そして−50℃に冷却し
た。その後、THF10ml中のオクタン酸1.11ml
を滴下し、この混合物を−50°で更に10分間攪
拌した。混合物を室温で1時間攪拌し、次に再
び−50℃に冷却した。ここで、THF10ml中の
(R)−3−〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2
−イル)オキシ〕−5Z,8Z−テトラデカジエナ
ール2gを滴下した。混合物を−50℃で30分
間、次に室温で72時間攪拌した。2N塩酸によ
つて加水分解した後、反応混合物を蒸発させ
た。残渣をエーテルで抽出した。有機相を乾燥
し、過し、そして蒸発させた。得られた物質
をシリカゲルを通して過した。2−ヘキシル
−3−ヒドロキシ(R)−5−〔(テトラヒドロ
−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−7Z,10Z
−ヘキサデカジエン酸が得られた。
1E b 同様の方法において、次のものが得られ
た: 2−ヘキシル−3−ヒドロキシ(R)−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキ
シ〕−8Z−ヘキサデセニルカルボン酸。
た: 2−ヘキシル−3−ヒドロキシ(R)−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキ
シ〕−8Z−ヘキサデセニルカルボン酸。
1F 式のエステルの製造
1F a ジイソプロピルアミン1.8mlをアルゴン下
にて−5℃に冷却し、n−ヘキサン中の1.6Nn
−ブチルリチウム溶液8.7mlを滴下した。その
後、混合物を10分間攪拌した。−50℃に冷却し
た後、冷却浴を除去した。これにTHF9ml中の
3−ヒドロキシ(R)−5−〔(テトラヒドロ−
2H−ピラン−2−イル)オキシ〕ヘキサデカ
ン酸t−ブチルのジアステレオマー混合物2.67
gの溶液を滴下した。かくして、温度が−20℃
に上昇した。この混合物を放置して0℃に加温
し、10分間攪拌した。次にヘキサメチルリン酸
トリアミド4.4ml中の1−ブロモヘキサン0.93
mlの溶液を加えた。温度が9℃に上昇した。そ
の後、混合物を放置して室温にし、21/2時間
攪拌した。この溶液を氷−水200mlに注ぎ、塩
化ナトリウムで飽和させた。混合物をエーテル
で抽出した。合液した抽出液を乾燥し、過
し、そして蒸発させた。残つた油をシリカゲル
上でクロマトグラフイーにかけた。2−ヘキシ
ル−3−ヒドロキシ(R)−5−〔(テトラヒド
ロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕ヘキサ
デカン酸t−ブチルが得られた、MS:(M−
O−t−ブチル)+(439)。
にて−5℃に冷却し、n−ヘキサン中の1.6Nn
−ブチルリチウム溶液8.7mlを滴下した。その
後、混合物を10分間攪拌した。−50℃に冷却し
た後、冷却浴を除去した。これにTHF9ml中の
3−ヒドロキシ(R)−5−〔(テトラヒドロ−
2H−ピラン−2−イル)オキシ〕ヘキサデカ
ン酸t−ブチルのジアステレオマー混合物2.67
gの溶液を滴下した。かくして、温度が−20℃
に上昇した。この混合物を放置して0℃に加温
し、10分間攪拌した。次にヘキサメチルリン酸
トリアミド4.4ml中の1−ブロモヘキサン0.93
mlの溶液を加えた。温度が9℃に上昇した。そ
の後、混合物を放置して室温にし、21/2時間
攪拌した。この溶液を氷−水200mlに注ぎ、塩
化ナトリウムで飽和させた。混合物をエーテル
で抽出した。合液した抽出液を乾燥し、過
し、そして蒸発させた。残つた油をシリカゲル
上でクロマトグラフイーにかけた。2−ヘキシ
ル−3−ヒドロキシ(R)−5−〔(テトラヒド
ロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕ヘキサ
デカン酸t−ブチルが得られた、MS:(M−
O−t−ブチル)+(439)。
1F b 同様の方法において、次のものが得られ
た: 2−ヘキシル−3−ヒドロキシ(R)−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキ
シ〕−7Z,10Z−ヘキサデカジエン酸t−ブチル。
た: 2−ヘキシル−3−ヒドロキシ(R)−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキ
シ〕−7Z,10Z−ヘキサデカジエン酸t−ブチル。
1G 式のエステルの製造(変法)
2−ヘキシル−3−オキソ−5−〔(テトラヒド
ロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕ヘキサデ
カン酸メチル7.76gをアルゴン通気しながら
THF500mlに溶解し、エタノール20mlで処理し、
−5℃に冷却した。温度が0℃を越えないように
して、NaBH45.3gを攪拌しながら一部づつ加え
た。3時間攪拌した後、過剰量の水素化ホウ素ナ
トリウムを別し、反応混合物を冷時2N塩酸で
加水分解し(PH値6)、溶媒を蒸発させた。残渣
をエーテルで抽出し、エーテル相を乾燥し、そし
て蒸発させた。2−ヘキシル−3−ヒドロキシ−
5−〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)
オキシ〕ヘキサデカン酸メチル7.71gが得られ
た。
ロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕ヘキサデ
カン酸メチル7.76gをアルゴン通気しながら
THF500mlに溶解し、エタノール20mlで処理し、
−5℃に冷却した。温度が0℃を越えないように
して、NaBH45.3gを攪拌しながら一部づつ加え
た。3時間攪拌した後、過剰量の水素化ホウ素ナ
トリウムを別し、反応混合物を冷時2N塩酸で
加水分解し(PH値6)、溶媒を蒸発させた。残渣
をエーテルで抽出し、エーテル相を乾燥し、そし
て蒸発させた。2−ヘキシル−3−ヒドロキシ−
5−〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)
オキシ〕ヘキサデカン酸メチル7.71gが得られ
た。
1H 式及びのエステルの製造
3−ヒドロキシ(R)−5−テトラヒドロ−2H
−ピラン−2−イル)オキシ〕−2−〔(S)−p−
トリルスルフイニル〕ヘキサデカン酸t−ブチル
のジアステレオマー混合物13.6gをTHF6及び
水0.1の混合物に溶解した。次にアマルガム化
したアルミニウム箔150gを6時間以内に一部づ
つ加えた。その際に、温度を15℃乃至20℃間に保
持した。添加終了後、混合物を反応が終了するま
で攪拌した。不溶性物質を吸引別し、まず
THF1、次にTHF2で洗浄した。フイルター
ケーキをジエチルエーテル2に採り入れ、十分
に攪拌し、再び吸引別した。この操作を更に1
回くり返し行つた。合液した有機相を蒸発させ、
油状残渣をシリカゲル上でクロマトグラフイーに
よつて精製した。3−ヒドロキシ(R)−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキ
シ〕ヘキサデカ酸t−ブチルが得られた、MS:
(M−O−t−ブチル)+(355)。
−ピラン−2−イル)オキシ〕−2−〔(S)−p−
トリルスルフイニル〕ヘキサデカン酸t−ブチル
のジアステレオマー混合物13.6gをTHF6及び
水0.1の混合物に溶解した。次にアマルガム化
したアルミニウム箔150gを6時間以内に一部づ
つ加えた。その際に、温度を15℃乃至20℃間に保
持した。添加終了後、混合物を反応が終了するま
で攪拌した。不溶性物質を吸引別し、まず
THF1、次にTHF2で洗浄した。フイルター
ケーキをジエチルエーテル2に採り入れ、十分
に攪拌し、再び吸引別した。この操作を更に1
回くり返し行つた。合液した有機相を蒸発させ、
油状残渣をシリカゲル上でクロマトグラフイーに
よつて精製した。3−ヒドロキシ(R)−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキ
シ〕ヘキサデカ酸t−ブチルが得られた、MS:
(M−O−t−ブチル)+(355)。
同様の方法において、次のものが得られた:
1H a 3−ヒドロキシ(R)−5−〔(テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−7Z,
10Z−ヘキサデカジエン酸t−ブチル; 1H b (R)−3−ヒドロキシ−5Z,8Z−テト
ラデカジエン酸t−ブチル、〔α〕20 D=−12.67°
(c=15、CHCl3)。
ドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−7Z,
10Z−ヘキサデカジエン酸t−ブチル; 1H b (R)−3−ヒドロキシ−5Z,8Z−テト
ラデカジエン酸t−ブチル、〔α〕20 D=−12.67°
(c=15、CHCl3)。
1I 式及びのスルホキシドの製造
〔(S)−p−トリルスルフイニル〕酢酸t−ブ
チル16.5gをエーテル60ml及びTHF600mlの混合
物に溶解し、そして−78℃に冷却した。次に温度
が−70℃を越えないようにして、t−ブチルマグ
ネシウムブロマイド(エーテル中の2N溶液)43
mlを30分間以内に滴下した。−78℃で1時間攪拌
した後、THF100ml中の(R)−3−〔(テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕テトラ
デカナール13.4gを滴下し、混合物を−78℃で更
に2時間攪拌した。反応混合物を2N塩酸で加水
分解し、溶媒を蒸発させた。残つた反応混合物を
エーテルで抽出し、エーテル相を乾燥し、そして
蒸発させた。粗製の生成物をシリカゲルカラムを
通して溶離した。3−ヒドロキシ(R)−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキ
シ〕−2−〔(S)−p−トリルスルフイニル〕ヘキ
サデカン酸t−ブチル14.9gが得られた、融点97
〜98℃。
チル16.5gをエーテル60ml及びTHF600mlの混合
物に溶解し、そして−78℃に冷却した。次に温度
が−70℃を越えないようにして、t−ブチルマグ
ネシウムブロマイド(エーテル中の2N溶液)43
mlを30分間以内に滴下した。−78℃で1時間攪拌
した後、THF100ml中の(R)−3−〔(テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕テトラ
デカナール13.4gを滴下し、混合物を−78℃で更
に2時間攪拌した。反応混合物を2N塩酸で加水
分解し、溶媒を蒸発させた。残つた反応混合物を
エーテルで抽出し、エーテル相を乾燥し、そして
蒸発させた。粗製の生成物をシリカゲルカラムを
通して溶離した。3−ヒドロキシ(R)−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキ
シ〕−2−〔(S)−p−トリルスルフイニル〕ヘキ
サデカン酸t−ブチル14.9gが得られた、融点97
〜98℃。
同様の方法において、次のものが得られた:
1I a 3−ヒドロキシ(R)−5−〔(テトラヒド
ロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−2−
〔(S)−p−トリルスルフイニル〕−7Z,10Z−
ヘキサデカン酸t−ブチル; 1I b (R)−3−ヒドロキシ−2−〔(R)−p
−トリルスルフイニル〕−5Z,7Z−テトラデカ
ジエン酸t−ブチル。
ロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−2−
〔(S)−p−トリルスルフイニル〕−7Z,10Z−
ヘキサデカン酸t−ブチル; 1I b (R)−3−ヒドロキシ−2−〔(R)−p
−トリルスルフイニル〕−5Z,7Z−テトラデカ
ジエン酸t−ブチル。
1J 式のアルデヒドの製造
1J a (R)−3−〔(テトラヒドロ−2H−ピラ
ン−2−イル)オキシ〕テトラデカン酸t−ブ
チル9.2gを、アルゴン通気しながら且つ水分
を排除しながら、トルエン115mlに溶解し、−75
℃に冷却した。次にトルエン中の1.2MDIBAH
溶液26.5mlを、温度が−70℃を越えないように
して、1/2時間以内に滴下した。混合物を−75
℃で更に1時間攪拌した。次に飽和塩化アンモ
ニウム溶液7.4ml、続いて1N塩酸15.5mlを−70
℃で滴下した。冷却浴を除去し、混合物を放置
して室温に加温した。室温で1時間攪拌した
後、有機相を分離し、水で洗浄した。有機相を
乾燥し、過し、そして蒸発させた。得られた
物質をシリカゲル上でクロマトグラフイーにか
けた。無色の油として、(R)−3−〔(テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕テト
ラデカナールが得られた。
ン−2−イル)オキシ〕テトラデカン酸t−ブ
チル9.2gを、アルゴン通気しながら且つ水分
を排除しながら、トルエン115mlに溶解し、−75
℃に冷却した。次にトルエン中の1.2MDIBAH
溶液26.5mlを、温度が−70℃を越えないように
して、1/2時間以内に滴下した。混合物を−75
℃で更に1時間攪拌した。次に飽和塩化アンモ
ニウム溶液7.4ml、続いて1N塩酸15.5mlを−70
℃で滴下した。冷却浴を除去し、混合物を放置
して室温に加温した。室温で1時間攪拌した
後、有機相を分離し、水で洗浄した。有機相を
乾燥し、過し、そして蒸発させた。得られた
物質をシリカゲル上でクロマトグラフイーにか
けた。無色の油として、(R)−3−〔(テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕テト
ラデカナールが得られた。
同様の方法において、次のものが得られた:
1J b (R)−3−〔(テトラヒドロ−2H−ピラ
ン−2−イル)オキシ〕−5Z,8Z−テトラデカ
ジエナール; 1J c (R)−3−〔(テトラヒドロ−2H−ピラ
ン−2−イル)オキシ〕−6Z−テトラデセナー
ル。
ン−2−イル)オキシ〕−5Z,8Z−テトラデカ
ジエナール; 1J c (R)−3−〔(テトラヒドロ−2H−ピラ
ン−2−イル)オキシ〕−6Z−テトラデセナー
ル。
1K 式及びのエステルの製造
1K a (R)−3−ヒドロキシ−5Z,8Z−テト
ラデカジエン酸t−ブチル3.02g及び新しく蒸
留した3,4−ジヒドロ−2H−ピラン2.5mlを
塩化メチレン300mlに溶解し、3℃に冷却した。
その後、p−トルエンスルホン酸−水和物40mg
を加え、これによつて温度が8℃に上昇した。
この混合物を反応が終了するまで攪拌した。次
に溶液を飽和塩化ナトリウム水溶液125ml、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液125ml及び水250ml
の混合物で洗浄した。乾燥後、溶液を過し、
溶媒を除去した。(R)−3−〔(テトラヒドロ−
2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−5Z,8Z−
テトラデカジエン酸t−ブチルが得られた。
ラデカジエン酸t−ブチル3.02g及び新しく蒸
留した3,4−ジヒドロ−2H−ピラン2.5mlを
塩化メチレン300mlに溶解し、3℃に冷却した。
その後、p−トルエンスルホン酸−水和物40mg
を加え、これによつて温度が8℃に上昇した。
この混合物を反応が終了するまで攪拌した。次
に溶液を飽和塩化ナトリウム水溶液125ml、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液125ml及び水250ml
の混合物で洗浄した。乾燥後、溶液を過し、
溶媒を除去した。(R)−3−〔(テトラヒドロ−
2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−5Z,8Z−
テトラデカジエン酸t−ブチルが得られた。
1K b 同様の方法において、次のものが得られ
た: 2−ヘキシル−3−オキソ−5−〔(テトラヒド
ロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕ヘキサデ
カン酸メチル、融点37〜38℃。
た: 2−ヘキシル−3−オキソ−5−〔(テトラヒド
ロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕ヘキサデ
カン酸メチル、融点37〜38℃。
1L 式のアルコールの製造
55%水素化ナトリウム分散体5gをヘキサンで
洗浄し、THF600mlで処理した。THF80ml中の
2−アセチルオクタン酸メチル18.9gの溶液を冷
却しながら滴下した。2時間攪拌した後、混合物
を−10℃に冷却し、冷却しながらブチルリチウム
(1.6M/ヘキサン)65mlで処理した。次に反応混
合物をこの温度で1時間放置した。THF80ml中
のドデカナール19.7gの溶液を−10℃で滴下し
た。混合物を放置して室温にし、更に2時間攪拌
した。反応混合物を2N塩酸100mlで加水分解し、
次に蒸発させた。残渣をエーテルで抽出し、エー
テル相を乾燥し、そして蒸発させた。シリカゲル
上でクロマトグラフイーにかけた後、融点38〜39
℃の2−ヘキシル−5−ヒドロキシ−3−オキソ
−ヘキサデカン酸メチル10.3gが得られた。
洗浄し、THF600mlで処理した。THF80ml中の
2−アセチルオクタン酸メチル18.9gの溶液を冷
却しながら滴下した。2時間攪拌した後、混合物
を−10℃に冷却し、冷却しながらブチルリチウム
(1.6M/ヘキサン)65mlで処理した。次に反応混
合物をこの温度で1時間放置した。THF80ml中
のドデカナール19.7gの溶液を−10℃で滴下し
た。混合物を放置して室温にし、更に2時間攪拌
した。反応混合物を2N塩酸100mlで加水分解し、
次に蒸発させた。残渣をエーテルで抽出し、エー
テル相を乾燥し、そして蒸発させた。シリカゲル
上でクロマトグラフイーにかけた後、融点38〜39
℃の2−ヘキシル−5−ヒドロキシ−3−オキソ
−ヘキサデカン酸メチル10.3gが得られた。
1M 式−Aのエステルの製造
THF20ml中のジイソプロピルアミン0.51gの
溶液を0℃でヘキサン中のブチルリチウムの
1.6M溶液3.13mlで処理した。次に混合物を−78
℃に冷却し、これにヘプチルトリフエニルホスホ
ニウムブロマイド2.3gを加え、混合物をこの温
度に5分間保持した。次いでこれにTHF10ml中
の5−ホルミル−(R)−〔(テトラヒドロ−2H−
ピラン−2−イル)オキシ〕ペンタンカルボン酸
エチルの溶液を滴下した。この混合物を一夜室温
で攪拌した。反応混合物を水で処理し、エーテル
で抽出し、乾燥し、そして真空下で蒸発させた。
残渣をシリカゲル上で、トルエン−酢酸エチル
(9:1)を用いてクロマトグラフイーにかけ、
(R)−3−〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−
イル)オキシ〕6Z−テトラデセンカルボン酸エ
チル0.5gが得られた。
溶液を0℃でヘキサン中のブチルリチウムの
1.6M溶液3.13mlで処理した。次に混合物を−78
℃に冷却し、これにヘプチルトリフエニルホスホ
ニウムブロマイド2.3gを加え、混合物をこの温
度に5分間保持した。次いでこれにTHF10ml中
の5−ホルミル−(R)−〔(テトラヒドロ−2H−
ピラン−2−イル)オキシ〕ペンタンカルボン酸
エチルの溶液を滴下した。この混合物を一夜室温
で攪拌した。反応混合物を水で処理し、エーテル
で抽出し、乾燥し、そして真空下で蒸発させた。
残渣をシリカゲル上で、トルエン−酢酸エチル
(9:1)を用いてクロマトグラフイーにかけ、
(R)−3−〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−
イル)オキシ〕6Z−テトラデセンカルボン酸エ
チル0.5gが得られた。
1N 式のアルデヒドの製造
酢酸エチル40ml中の(R)−3−〔(テトラヒド
ロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−6−ヘプ
テン酸メチル2.56gの溶液を−75℃にてオゾンで
処理した。反応が終了した後、これに炭素に担持
させたPd0.1gを加え、この混合物を室温で水素
添加した。水素の吸収が終了した後、触媒を別
し、酢酸エチルで洗浄し、真空下で蒸発させた。
粗製の5−ホルミル−(R)−3−〔(テトラヒドロ
−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−ペンタンカ
ルボン酸メチルが得られた。
ロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−6−ヘプ
テン酸メチル2.56gの溶液を−75℃にてオゾンで
処理した。反応が終了した後、これに炭素に担持
させたPd0.1gを加え、この混合物を室温で水素
添加した。水素の吸収が終了した後、触媒を別
し、酢酸エチルで洗浄し、真空下で蒸発させた。
粗製の5−ホルミル−(R)−3−〔(テトラヒドロ
−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−ペンタンカ
ルボン酸メチルが得られた。
1 O 式の酸のその立体異性体への分割
1 O a 2−ヘキシル−3−ヒドロキシ−
(R)−5−〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2
−イル)オキシ〕ヘキサデカン酸のジアステレ
オマー混合物15.4gをエタノール160mlに溶解
し、トルエン−4−スルホン酸−水和物800mg
を加えた。反応混合物を反応が終了するまで、
55〜60℃に加熱した。溶媒を真空下で除去し、
残渣をジクロロメタン160mlに溶解した。この
溶液を室温で1時間攪拌した。反応混合物を蒸
発させた。得られた物質をシリカゲル上でクロ
マトグラフイーにかけた。融点95〜96℃のテト
ラヒドロ−3−ヘキシル−4−ヒドロキシ−
(R)−6−ウンデシル−2H−ピラン−2−オ
ンが得られた。
(R)−5−〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2
−イル)オキシ〕ヘキサデカン酸のジアステレ
オマー混合物15.4gをエタノール160mlに溶解
し、トルエン−4−スルホン酸−水和物800mg
を加えた。反応混合物を反応が終了するまで、
55〜60℃に加熱した。溶媒を真空下で除去し、
残渣をジクロロメタン160mlに溶解した。この
溶液を室温で1時間攪拌した。反応混合物を蒸
発させた。得られた物質をシリカゲル上でクロ
マトグラフイーにかけた。融点95〜96℃のテト
ラヒドロ−3−ヘキシル−4−ヒドロキシ−
(R)−6−ウンデシル−2H−ピラン−2−オ
ンが得られた。
1 O b テトラヒドロ−3−ヘキシル−4−
ヒドロキシ−(R)−6−ウンデシル−2H−ピ
ラン−2−オンのジアステレオマー混合物3g
をアセトン300mlに溶解した。ジヨーンズ試薬
を、温度が25℃を越えないようにして、攪拌し
ながら滴下した。3時間後、反応混合物をH2
O700mlに注いだ。ラクトンが沈殿し、このも
のを別した。エーテル/n−ヘキサンから再
結晶させた後、融点112.5〜113.5℃のテトラヒ
ドロ−3−ヘキシル−4−オキソ−(R)−6−
ウンデシル−2H−ピラン−2−オン1.7gが得
られた。
ヒドロキシ−(R)−6−ウンデシル−2H−ピ
ラン−2−オンのジアステレオマー混合物3g
をアセトン300mlに溶解した。ジヨーンズ試薬
を、温度が25℃を越えないようにして、攪拌し
ながら滴下した。3時間後、反応混合物をH2
O700mlに注いだ。ラクトンが沈殿し、このも
のを別した。エーテル/n−ヘキサンから再
結晶させた後、融点112.5〜113.5℃のテトラヒ
ドロ−3−ヘキシル−4−オキソ−(R)−6−
ウンデシル−2H−ピラン−2−オン1.7gが得
られた。
1.O.c テトラヒドロ−3−ヘキシル−4−ヒド
ロキシ−(R)−6−ウンデシル−2H−ピラン−
2−オン1.7gが得られた。
ロキシ−(R)−6−ウンデシル−2H−ピラン−
2−オン1.7gが得られた。
1 O c テトラヒドロ−3−ヘキシル−4−
オキソ−(R)−6−ウンデシル−2H−ピラン
−2−オンの異性体混合物8gを酢酸エチル2
に溶解し、PtO23gを加えた。次に混合物
を12時間水素添加した(50バール)。触媒を
別し、溶液を蒸発させた。再結晶させた後、融
点108〜109℃の(3S,4S,6R)−テトラヒドロ
−3−ヘキシル−4−ヒドロキシ−(R)−6−
ウンデシル−2H−ピラン−2−オン7gが得
られた。
オキソ−(R)−6−ウンデシル−2H−ピラン
−2−オンの異性体混合物8gを酢酸エチル2
に溶解し、PtO23gを加えた。次に混合物
を12時間水素添加した(50バール)。触媒を
別し、溶液を蒸発させた。再結晶させた後、融
点108〜109℃の(3S,4S,6R)−テトラヒドロ
−3−ヘキシル−4−ヒドロキシ−(R)−6−
ウンデシル−2H−ピラン−2−オン7gが得
られた。
1 O d (3S,4S,6R)−テトラヒドロ−3
−ヘキシル−4−ヒドロキシ−6−ウンデシル
−2H−ピラン−2−オン1.5gをDMF8mlに溶
解した。次にDMF4ml中のt−ブチルジメチル
クロロシラン0.85gを滴下した。この混合物を
48時間攪拌した。反応混合物をエーテル100ml
中に注ぎ、1N塩酸で洗浄した。有機相を乾燥
し、過し、そして蒸発させた。得られた物質
をシリカゲル上でクロマトグラフイーにかけ
た。(3S,4S,6R)−テトラヒドロ−3−ヘキ
シル−4−〔(t−ブチルジメチルシリル)オキ
シ〕−6−ウンデシル−2H−ピラン−2−オン
1.26gが得られた、MS:411(M+−t−ブチ
ル)。
−ヘキシル−4−ヒドロキシ−6−ウンデシル
−2H−ピラン−2−オン1.5gをDMF8mlに溶
解した。次にDMF4ml中のt−ブチルジメチル
クロロシラン0.85gを滴下した。この混合物を
48時間攪拌した。反応混合物をエーテル100ml
中に注ぎ、1N塩酸で洗浄した。有機相を乾燥
し、過し、そして蒸発させた。得られた物質
をシリカゲル上でクロマトグラフイーにかけ
た。(3S,4S,6R)−テトラヒドロ−3−ヘキ
シル−4−〔(t−ブチルジメチルシリル)オキ
シ〕−6−ウンデシル−2H−ピラン−2−オン
1.26gが得られた、MS:411(M+−t−ブチ
ル)。
1 O e (3S,4S,6R)−テトラヒドロ−3
−ヘキシル−4−〔(t−ブチルジメチルシリ
ル)オキシ〕−6−ウンデシル−2H−ピラン−
2−オン0.3gをジオキサン12ml及び1N水酸化
カリウム水溶液0.64mlの混合物に溶解した。こ
の混合物を一夜攪拌した。次に反応混合物を蒸
発させ、残渣をヘキサメチルホスホルトリアミ
ド10mlに溶解した。臭化ベンジル0.35mlを加え
た。混合物を2日間攪拌した。反応混合物を水
に注ぎ、エーテルで抽出した。エーテル相を乾
燥し、過し、そして蒸発させた。この油をシ
リカゲル上でクロマトグラフイーにかけた。
(2S,3S,5R)−2−ヘキシル−3−〔(t−ブ
チルジメチルシリル)オキシ〕−5−ヒドロキ
シヘキサデカン酸ベンジル330mgが得られた、
MS:519(M+−t−ブチル)。
−ヘキシル−4−〔(t−ブチルジメチルシリ
ル)オキシ〕−6−ウンデシル−2H−ピラン−
2−オン0.3gをジオキサン12ml及び1N水酸化
カリウム水溶液0.64mlの混合物に溶解した。こ
の混合物を一夜攪拌した。次に反応混合物を蒸
発させ、残渣をヘキサメチルホスホルトリアミ
ド10mlに溶解した。臭化ベンジル0.35mlを加え
た。混合物を2日間攪拌した。反応混合物を水
に注ぎ、エーテルで抽出した。エーテル相を乾
燥し、過し、そして蒸発させた。この油をシ
リカゲル上でクロマトグラフイーにかけた。
(2S,3S,5R)−2−ヘキシル−3−〔(t−ブ
チルジメチルシリル)オキシ〕−5−ヒドロキ
シヘキサデカン酸ベンジル330mgが得られた、
MS:519(M+−t−ブチル)。
1 O f (2S,3S,5R)−2−ヘキシル−3
−〔(t−ブチルジメチルシリル)オキシ〕−5
−ヒドロキシヘキサデカノン酸ベンジル350mg
及び新しく蒸留した3,4−ジヒドロ−2H−
ピラン0.5mlを塩化メチレン10mlに溶解し、−15
℃に冷却した。これにp−トルエンスルホン酸
−水和物の結晶を加えた。この混合物を反応が
終了するまで攪拌した。次に溶液を蒸発させ、
残渣をシリカゲルでクロマトグラフイーにかけ
た。(2S,3S,5R)−2−ヘキシル−3−〔(t
−ブチルジメチルシリル)オキシ〕−5−〔(t
−テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オ
キシ〕ヘキサデカン酸ベンジル330mgが得られ
た、MS:603(M+−t−ブチル)。
−〔(t−ブチルジメチルシリル)オキシ〕−5
−ヒドロキシヘキサデカノン酸ベンジル350mg
及び新しく蒸留した3,4−ジヒドロ−2H−
ピラン0.5mlを塩化メチレン10mlに溶解し、−15
℃に冷却した。これにp−トルエンスルホン酸
−水和物の結晶を加えた。この混合物を反応が
終了するまで攪拌した。次に溶液を蒸発させ、
残渣をシリカゲルでクロマトグラフイーにかけ
た。(2S,3S,5R)−2−ヘキシル−3−〔(t
−ブチルジメチルシリル)オキシ〕−5−〔(t
−テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オ
キシ〕ヘキサデカン酸ベンジル330mgが得られ
た、MS:603(M+−t−ブチル)。
1 O g (2S,3S,5R)−2−ヘキシル−3
−〔(t−ブチルジメチルシリル)オキシ〕−5
−〔(t−テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イ
ル)オキシ〕ヘキサデカン酸ベンジル480mg及
びテトラブチルアンモニウムフルオライド三水
和物350mlをTHF8mlに溶解し、12時間攪拌し
た。蒸発後、残渣をエーテル50mlに溶解し、水
で洗浄した。エタノール相を乾燥し、そして蒸
発させた。粗製の生成物をシリカゲル上でクロ
マトグラフイーにかけた。(2S,3S,5R)−2
−ヘキシル−3−ヒドロキシ−5−〔(テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕ヘキ
サデカン酸ベンジル240mgが得られた、MS:
463〔(M+H)+−ジヒドロ−2H−ピラン−2−
イル〕。
−〔(t−ブチルジメチルシリル)オキシ〕−5
−〔(t−テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イ
ル)オキシ〕ヘキサデカン酸ベンジル480mg及
びテトラブチルアンモニウムフルオライド三水
和物350mlをTHF8mlに溶解し、12時間攪拌し
た。蒸発後、残渣をエーテル50mlに溶解し、水
で洗浄した。エタノール相を乾燥し、そして蒸
発させた。粗製の生成物をシリカゲル上でクロ
マトグラフイーにかけた。(2S,3S,5R)−2
−ヘキシル−3−ヒドロキシ−5−〔(テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕ヘキ
サデカン酸ベンジル240mgが得られた、MS:
463〔(M+H)+−ジヒドロ−2H−ピラン−2−
イル〕。
1 O h THF10ml中の(2S,3S,5R)−2
−ヘキシル−3−ヒドロキシ−5−〔(テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕ヘキ
サデカン酸ベンジル430mgを10%Pd/Cで処理
し、3時間水素添加した。触媒を別し、液
を蒸発させた後、粗製の生成物をシリカゲル上
でクロマトグラフイーにかけた。(2S,3S,
5R)−2−ヘキシル−3−ヒドロキシ−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オ
キシ〕ヘキサデカン酸が得られた。
−ヘキシル−3−ヒドロキシ−5−〔(テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕ヘキ
サデカン酸ベンジル430mgを10%Pd/Cで処理
し、3時間水素添加した。触媒を別し、液
を蒸発させた後、粗製の生成物をシリカゲル上
でクロマトグラフイーにかけた。(2S,3S,
5R)−2−ヘキシル−3−ヒドロキシ−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オ
キシ〕ヘキサデカン酸が得られた。
実施例 2
2A 式のオキセタノンの製造
(S)−ロイシン1−〔(2S,3S)−3−ヘキシ
ル−4−オキソ−2−オキセタニル)メチル〕ド
デシルエステル9mgをTHF0.3mlに溶解し、これ
にギ酸/酢酸無水物1.6μを加えた。反応は短時
間で終了した。これにジエチルエーテル3mlを加
え、混合物を2%炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄
した。次に有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、
過し、そして蒸発させた。残渣をシリカゲル上
でクロマトグラフイーにかけた。N−ホルミル−
(S)−ロイシン(S)−1−〔〔(2S,3S)−3−ヘ
キシル−4−オキソ−2−オキセタニル〕メチ
ル〕ドデシルが得られた、〔α〕25 D=−31.9°(c=
0.345,CHCl3)。
ル−4−オキソ−2−オキセタニル)メチル〕ド
デシルエステル9mgをTHF0.3mlに溶解し、これ
にギ酸/酢酸無水物1.6μを加えた。反応は短時
間で終了した。これにジエチルエーテル3mlを加
え、混合物を2%炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄
した。次に有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、
過し、そして蒸発させた。残渣をシリカゲル上
でクロマトグラフイーにかけた。N−ホルミル−
(S)−ロイシン(S)−1−〔〔(2S,3S)−3−ヘ
キシル−4−オキソ−2−オキセタニル〕メチ
ル〕ドデシルが得られた、〔α〕25 D=−31.9°(c=
0.345,CHCl3)。
2B 式″のオキセタノンの製造
N−〔(ベンジルオキシ)カルボニル〕−L−ロ
イシン(S)−1−〔〔(2S,3S)−3−ヘキシル−
4−オキソ−2−オキセタニル〕メチル〕ドデシ
ルエステル12mgをTHF0.5mlに溶解し、10%Pd/
C5mgの存在下において室温で水素添加した。反
応終了後、触媒を別し、液を蒸発させた。こ
の生成物、(S)−ロイシン1−〔〔(2S,3S)−3
−ヘキシル−4−オキソ−2−オキセタニル)メ
チル〕ドデシルエステルをホルミル化反応2Aに
直接用いた。
イシン(S)−1−〔〔(2S,3S)−3−ヘキシル−
4−オキソ−2−オキセタニル〕メチル〕ドデシ
ルエステル12mgをTHF0.5mlに溶解し、10%Pd/
C5mgの存在下において室温で水素添加した。反
応終了後、触媒を別し、液を蒸発させた。こ
の生成物、(S)−ロイシン1−〔〔(2S,3S)−3
−ヘキシル−4−オキソ−2−オキセタニル)メ
チル〕ドデシルエステルをホルミル化反応2Aに
直接用いた。
2C 式
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 a 式 の酸を式 式中、X2は3−ウンデセニルまたはX1と同義
であり、ここでX1はウンデシルまたは2Z,5Z−
ウンデカジエニルであり、C6はn−ヘキシルで
あり、Yはイソブチルであり且つZはホルミルで
あるか、またはYはカルバモイルメチルであり且
つZはアセチルである、 のアルコールでエステル化し、そして b 得られる式 式中、X10は3−ウンデセニルであり、そして C6,Y及びZは上記の意味を有する、 のオキセタノンを水素添加することを特徴とする 式中、X1,C6,Y及びZは上記の意味を有す
る、 のオキセタノン類の製造方法。 2 N−ホルミル−L−ロイシン(S)−1−
[[(2S,3S)−3−ヘキシル−4−オキソ−2−
オキセタニル]メチル]ドデシルエステルを製造
する特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 式 式中、C11はウンデシルであり、C6はn−ヘキ
シルであり、Yはイソブチルまたはカルバモイル
メチルである、 のオキセタノンを基Zを導入するアルカノイル化
剤で処理することを特徴とする式 式中、X11はウンデシルであり、Yはイソブチ
ルであり且つZはホルミルであるか、またはYは
カルバモイルメチルであり且つZはアセチルであ
り、C6は上記の意味を有する、 のオキセタノン類の製造方法。 4 N−ホルミル−L−ロイシン(S)−1−
[[(2S,3S)−3−ヘキシル−4−オキソ−2−
オキセタニル]メチル]ドデシルエステルを製造
する特許請求の範囲第3項記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH6101/84-3 | 1984-12-21 | ||
| CH610184 | 1984-12-21 | ||
| CH4067/85-4 | 1985-09-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61152664A JPS61152664A (ja) | 1986-07-11 |
| JPH0564953B2 true JPH0564953B2 (ja) | 1993-09-16 |
Family
ID=4304289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28585885A Granted JPS61152664A (ja) | 1984-12-21 | 1985-12-20 | オキセタノン類の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61152664A (ja) |
| IL (1) | IL77340A (ja) |
| ZA (1) | ZA859574B (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013249293A (ja) * | 2012-06-04 | 2013-12-12 | Kao Corp | リパーゼ活性阻害剤、抗真菌剤、及びフケ抑制剤 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54154754A (en) * | 1978-05-25 | 1979-12-06 | Microbial Chem Res Found | Beta-lactone derivative of antiesterase active substance delta-hydroxymicolic acid and its preparation |
| JPS5587720A (en) * | 1978-12-27 | 1980-07-02 | Meiji Seika Kaisha Ltd | Anti-inflammatory agent |
| CA1247547A (en) * | 1983-06-22 | 1988-12-28 | Paul Hadvary | Leucine derivatives |
-
1985
- 1985-12-13 ZA ZA859574A patent/ZA859574B/xx unknown
- 1985-12-16 IL IL7734085A patent/IL77340A/xx not_active IP Right Cessation
- 1985-12-20 JP JP28585885A patent/JPS61152664A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| IL77340A (en) | 1990-12-23 |
| JPS61152664A (ja) | 1986-07-11 |
| ZA859574B (en) | 1986-08-27 |
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