JPH0564953B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0564953B2
JPH0564953B2 JP85285858A JP28585885A JPH0564953B2 JP H0564953 B2 JPH0564953 B2 JP H0564953B2 JP 85285858 A JP85285858 A JP 85285858A JP 28585885 A JP28585885 A JP 28585885A JP H0564953 B2 JPH0564953 B2 JP H0564953B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
hexyl
pyran
tetrahydro
oxy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP85285858A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61152664A (ja
Inventor
Barubie Pieeru
Shunaidaa Fuerunando
Bidomaa Ururitsuhi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
F Hoffmann La Roche AG
Original Assignee
F Hoffmann La Roche AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by F Hoffmann La Roche AG filed Critical F Hoffmann La Roche AG
Publication of JPS61152664A publication Critical patent/JPS61152664A/ja
Publication of JPH0564953B2 publication Critical patent/JPH0564953B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Epoxy Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は式 式中、Xはウンデシルまたは2Z,5Z−ウンデ
カジエニルであり、C6はn−ヘキシルであり、
Yはイソブチルであり且つZはホルミルである
か、またはYはカルバモイルメチルであり且つZ
はアセチルである、 のオキセタノン類の新規な製造方法に関する。
Yがイソブチルであり、そしてZがホルミルで
ある式の化合物は新規なものである。これらの
新規化合物は価値ある薬理学的特性を有すること
に特色がある。殊に該化合物は膵臓リパーゼを阻
害し、従つて、病気、特に肥満症(obesity)、過
脂肪血症(hyperlipaemia)、アテローム性動脈
硬化症(atherosclerosis)及び動脈硬化症
(arteriosclerosis)の抑制または予防に対して用
いることができる。
本発明における方法は、 a 式 の酸を式 式中、X,C6,YおよびZは上記の意味を有
する、 のアルコールでエステル化するか、 b 式 式中、X′は3−ウンデセニルであり、そして
C6,Y及びZは上記の意味を有する、 のオキセタノンを水素添加するか、或いは c 式 式中、C11はウンデシルであり、そしてY及び
C6は上記の意味を有する、 のオキセタノンを基Zを導入するアルカノイル化
剤で処理する ことからなる。
エステル化aを溶媒、例えばテトラヒドロフラ
ン(THF)の如きエーテル中で、トリフエニル
ホスフイン及びアゾジカルボン酸ジエチルの存在
下において行うことができる。反応温度は臨界的
ではない;このエステル化は好ましくは室温で行
われる。
水素添加bを溶媒、例えばTHFの如きエーテ
ル中で、水素添加触媒、例えば炭素に担持させた
パラジウムの存在下において、好ましくはほぼ室
温で行うことができる。
アルカノイル化cを酸無水物、例えばギ酸/酢
酸無水物の如き混成酸無水物の存在下において、
溶媒例えばTHFの如きエーテル中で、好ましく
は室温で行うことができる。
アルコールは式 式中、C6は上記の意味を有し、そしてLは容
易に開裂し得るエーテル基、例えばテトラヒドロ
−2H−ピラン−2−イル、1−エトキシエチル
またはt−ブチルジメチルシリルである、 のエーテルにおけるエーテル基Lを開裂させて製
造することができる。
この開裂は溶媒、例えばエタノールの如きアル
コール中で、酸触媒、例えばピリジニウム−4−
トルエンスルホネートの存在下において、例えば
50〜65℃に加熱しながら行うことができる。
エーテルは式 の化合物を環形成させて製造することができる。
この反応はベンゼンスルホニルクロライドの存在
下において、ピリジンの如き溶媒中で、例えば0
℃に冷却しながら行うことができる。
酸は対応する式 式中,Rは直鎖状または分枝鎖状C1〜4−アルキ
ル、例えばメチル、エチルまたはt−ブチルであ
り、そしてL及びXは上記の意味を有する、 のエステルをケン化するか、或いはXが2Z,5Z
−ウンデカジエニルである場合、またはオクタン
酸を式 のアルデヒドと縮合させて製造することができ
る。
エステルのケン化はアルコール性アルカリ金
属水酸化物溶液、例えばメタノール性水酸化カリ
ウム溶液を用いて、反応混合物の還流温度までの
温度に加熱することによつて行うことができる。
アルデヒドとオクタン酸との縮合はTHFの
如き溶媒中で、ジイソプロピルアミン及びブチル
リチウムの存在下において、例えば−50℃に冷却
しながら行うことができる。
(5R)−または(5S)−型で存在する式の酸
を次の方法において(2S,3S,5R)−または
(2R,3R,5S)−立体異性体に転化することがで
きる: 式の(5R)−または(5S)−酸をエタノール
中で50〜60℃に加熱しながら、トルエン−4−ス
ルホン酸−水和物によつて対応する式 式中、L′は水素を表わし、そしてX及びC6
上記の意味を有する、 の(6R)−または(6S)−ピラノロンに環形成さ
せる。次にこの(6R)−または(6S)−ピラノロ
ンを例えばアセトン中にて25℃以下の温度で、ジ
ヨーンズ(Jones′)試薬によつて対応するピラン
ジオンに酸化し、このものを例えば酸化白金の存
在下において酢酸エチル中で立体特異的に水素添
加し、L′が水素である式−Aの(3S,4S,6R)
−または(3R,4R,6S)−ピラノロンを生成さ
せる。このピラノロンを例えばジメチルホルムア
ミド中のt−ブチルジメチルクロロシランによつ
て、L′がt−ブチルジメチルシリルの如きエーテ
ル保護基を表わす式−Aの化合物に転化する。
得られる環式(3S,4S,6R)−または(3R,
4R,6S)−エーテルを例えばジオキサン中で水酸
化カリウム水溶液との反応によつて開裂させ、得
られる化合物をその場で式 式中、L″は水素を表わし、L′はエーテル−
Aにおける如き同一エーテル保護基であり、
R′はベンジルまたはp−ニトロベンジルであり、
そしてX及びC6は上記の意味を有する、 の(2S,3S,5R)−または(2R,3R,5S)−エ
ーテルに転化する。次に得られるエーテル−B
を、L″がエーテル保護基、例えばテトラヒドロ
−2H−ピラン−2−イルを表わす同一式のジエ
チルに転化する。まずエーテル保護基L′を例えば
THF中のテトラブチルアンモニウムフルオライ
ド三水和物によつて開裂させ、次に基R′を例え
ばPd/Cの存在下においてTHF中で水素添加し
た後、所望の式の(2S,3S,5R)−または
(2R,3R,5S)−酸が得られる。
エステルは対応する式 のエステルをn−ヘキシル化するか、或いは式 のβ−ケトエステルを還元することによつて製造
することができる。
エステルのn−ヘキシル化はエステルを
THFの如き溶媒中で、ジイソプロピルアミンの
存在下において約−50℃でヘキサン中のn−ブチ
ルリチウムの溶液と反応させ、次に約0〜10℃の
温度でヘキサメチルリン酸トリアミド中の1−ブ
ロモヘキサンの如きヘキシルハライドの溶液と反
応させることによつて行うことができる。
β−ケトエステルの還元は、必要に応じてア
ルゴンの如き不活性ガス中で、エーテルの如き溶
媒、例えばTHF中にて約0℃以下の温度で、複
合金属水素化物、例えば水素化ホウ素ナトリウム
(NaBH4)を用いて行うことができる。
エステルは式 式中,Tはp−トリルであり、そしてL,R及
びXは上記の意味を有する、 のスルホキシドの還元的開裂によつて製造するこ
とができる。この還元は溶媒、例えばTHF及び
水中にてアルミニウムアマルガムを用いて行うこ
とができる。
β−ケトエステルは式X−CHOのアルデヒ
ドを2−アセチルオクタン酸C1〜4−アルキルと反
応させ、そして生ずる式 のアルコールをエーテル化して得ることができ
る。
アルデヒドX−CHOのアルコールへの転
化は実施例1Lに述べた如くして行うことができ
る。
スルホキシドXは式のアルデヒドを例えば実
施例1Hに述べた如くして、式 のエステルと縮合させて製造することができる。
式のアルデヒドは対応する式 のエステルを、例えばトルエンの如き溶媒中にて
約−60乃至−80℃の温度で、水素化ジイソブチル
アルミニウムで還元して製造することができる。
式のエステルは、例えば実施例1H.b,1I.b
及び1K.aに述べた如くして、式X−CHOのアル
デヒドから出発して、式 のスルホキシド及び式 のアルコールを介して製造することができる。
式′のオキセタノン出発物質は、3−ウンデ
セニル残基X′が基Xの代りに存在する式の
エステルから出発して式のオキセタノンを製造
する方法と同様にして、対応する式〜の化
合物を介して製造することができる。
式″のオキセタノン出発物質は式 式中,X,Y及びC6は上記の意味を有する、 のオキセタノンにおけるアミノ保護基Wを開裂さ
せて製造することができる。アミノ保護基Wの例
として、ベンジルオキシカルボニル及びp−ニト
ロベンジルオキシカルボニルを挙げることができ
る。基Wの開裂は溶媒、例えばTHFの如きエー
テル中で、水素添加触媒、例えば炭素に担持させ
たパラジウム触媒の存在下において、好ましくは
室温で水素添加することによつて行うことができ
る。式に存在するウンデカジエニル基Xは基
Wの水添分解的開裂中にウンデシル基に水素添加
される。
式のオキセタノンは式 のアルコールを、式 の酸とジシクロヘキシルカルボジイミドまたはN
−エチル−N′−(3−ジメチルアミノプロピル)
−カルボジイミド塩酸塩と反応させて得られる酸
無水物でエステル化して製造することができる。
この酸無水物の製造は、塩化メチレンの如き溶媒
中で、例えば2〜3℃に冷却しながら行うことが
でき、そして続いてのエステル化はジメチルホル
ムアミドの如き溶媒中で行うことができる。
式′のアルコールは式のアルコールの(S)
−エピマーであり、このものは式X−CHOのア
ルデヒドから出発する方法と同様にして、式
のエステルの(S)−エナンチオマー、式及
びのエーテルの(S)−エナンチオマー並びに
式,,及びの化合物の(S)−エピマー
を介して製造することができる。
式X−CHOのアルデヒドまたは式のアルデ
ヒドの(S)−エナンチオマーのそれぞれ対応す
る式またはのエステルの(S)−エナンチ
オマーへの転化に対して、スルフイニルエステル
の代りに、酢酸(R)−α−(ヒドロキシジフ
エニル)ベンジルを用いることができる。この場
合、式またはのスルホキシドの代りに、中
間体として式またはのアルキルエステルに
対応する(R)−2−ヒドロキシ−1,2,2−
トリフエニルエチルエステルが得られる。
のエステルはエステルと同様の方法で、或い
は実施例1Mに述べた如くして、式 のアルデヒドを介して式 のヘプテン酸エステルから出発して製造すること
ができる。
実施例 1 1A 式のオキセタノンの製造 1A a THF2ml中のラセミ−3−ヘキシル−4
−(2−ヒドロキシ−トリデシル)−2−オキセ
タノン(2R,3S,4S:2S,3R,4R)100mgま
たは(3S,4S)−3−ヘキシル−4−〔(R)−
2−ヒドロキシトリデシル〕−2−オキセタノ
ン100mg、トリフエニルホスフイン74mg及びN
−ホルミル−L−ロイシン45mgの溶液に、アゾ
ジカルボン酸ジエチル44.3μを攪拌しながら
滴下した。一夜攪拌した後、有機相を真空下で
蒸発させ、残渣をシリカゲル上で、トルエン−
酢酸エチル(9:1)を用いて、クロマトグラ
フイーによつて精製した。N−ホルミル−L−
ロイシン(S)−1−〔〔(2S,3S)−3−ヘキシ
ル−4−オキソ−2−オキセタニル〕メチル〕
ドデシルエステル20または37mgが得られた、
〔α〕20 D=−33°(c=0.36,CHCl3)。
1A b THF0.1ml中のN−ホルミル−L−ロイ
シン(S,4Z)−1−〔〔(2S,3S)−3−ヘキシ
ル−4−オキソ−2−オキセタニル〕メチル〕
−4−ドデセニルエステル2.5mgの溶液を炭素
に担持させたパラジウム1mgで処理し、次に3
時間水素添加した。触媒を別し、液をシリ
カゲル上で、トルエン/酢酸エチル(9:1)
を用いて、クロマトグラフイーにかけた。N−
ホルミル−L−ロイシン(S)−1−〔〔(2S,
3S)−3−ヘキシル−4−オキソ−2−オキセ
タニル〕メチル〕ドデシルエステル1.5mgが得
られた、+H−NMRスペクトル(270MHz
CDCl3):0.89(6H);0.97(6H);1.15−2.25
(34H);3.22(2H);4.29(1H);4.70(1H);
5.04(1H);5.91(1H);8.23(1H)ppm。
1A c aと同様にして、次のものが得られた: 1 N−アセチル−3−カルバモイル−L−ア
ラニン(S)−1−〔〔(2S,3S)−3−ヘキシ
ル−4−オキソ−2−オキセタニル〕メチ
ル〕ドデシルエステル、NS:M+(510);(M
+1)+(511); 2 N−ホルミル−L−ロイシン(S)−1−
〔〔(2S,3S)−3−ヘキシル−4−オキソ−
2−オキセタニル〕メチル〕3Z,6Z−ドテ
カジエニルエステル、〔α〕20 D=−19.4℃
(c0.28,CHCl3);MS:(M+1)+(492); 3 N−ホルミル−L−ロイシン(S,4Z))
−1−〔〔(2S,3S)−3−ヘキシル−4−オ
キソ−2−オキセタニル〕メチル〕−4−ド
デセニルエステル。
1B 式のアルコール出発物質の製造 1B a 3−ヘキシル−4−〔2−〔(テトラヒド
ロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕トリデ
シル〕−2−オキセタノンの異性体混合物265mg
をエタノール2.5mlに溶解し、ピリジニウム−
4−トルエンスルホネート13mgを加えた。反応
混合物を反応が終了するまで、55〜60℃に加熱
した。溶媒を真空下で除去し、残渣をエーテル
に採り入れ、かくして、結晶が分離し、このも
のを過によつて除去した。溶媒を真空下で蒸
発させ、残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ
イーにかけた。ラセミ−3−ヘキシル−4−
(2−ヒドロキシトリデシル−2−オキセタノ
ン(2R,3S,4S:2S,3R,4R)が得られた、
MS:M+(354)、融点44.5〜46℃。
同様の方法において、次のものが得られた: 1B b (3S,4S)−3−ヘキシル−4−〔(R)−
2−ヒドロキシトリデシル〕−2−オキセタノ
ン、融点46〜46.5℃; 1B c (3S,4S)−3−ヘキシル−4−〔(R)−
2−ヒドロキシ−4Z,7Z−トリデカジエニル〕
−2−オキセタノン; 1B d トランス−3−ヘキシル−4−〔(R)−
2−ヒドロキシ−5Z−トリデセニル〕−2−オ
キセタノン。
1C 式のエーテルの製造 1C a 2−ヘキシル−3−ヒドロキシ−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オ
キシ〕ヘキサデカン酸の異性体混合物0.7gを
ピリジン15mlに溶解し、そして0℃に冷却し
た。ベンゼンスルホニルクロライド0.4mlの滴
下後、混合物を0℃で攪拌した。反応混合物を
10%塩化ナトリウム溶液120ml中に注ぎ、ジエ
チルエーテル30mlで3回抽出した。合液した抽
出液を乾燥し、過し、そして蒸発させた。シ
リカゲル上でクロマトグラフイーにかけた後、
3−ヘキシル−4−〔2−〔(テトラヒドロ−2H
−ピラン−2−イル)オキシ〕トリデシル−2
−オキセタノンの異性体混合物が得られた、
MS:(M+1)+(440)。
同様の方法において、次のものが得られた: 1C b 3−ヘキシル−4−〔(R)−2−〔(テト
ラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕
トリデシル〕−2−オキセタノン; 1C c 3−ヘキシル−4−〔(R)−2−〔(テト
ラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−
4Z,7Z−トリデカジエニル〕−2−オキセタノ
ン; 1C d 3−ヘキシル−4−〔(R)−2−〔(テト
ラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−
5Z−トリデセニル−2−オキセタノン; 1D 式の酸の製造 1D a 2−ヘキシル−3−ヒドロキシ(R)−
5−〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)
オキシ〕ヘキサデカン酸t−ブチルのジアステ
レオマー混合物を2Nメタノール性水酸化カリ
ウム溶液17ml中で還流下にて加熱した。反応混
合物を冷却し、氷−水60ml中に注いだ。混合物
を1N塩酸の滴下によつてPH値1に調節し、次
にエーテルで抽出した。合液したエーテル相を
乾燥し、過し、そして蒸発させた。この油を
シリカゲル上でクロマトグラフイーにかけた。
2−ヘキシル−3−ヒドロキシ(R)−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オ
キシ〕ヘキサデカン酸のジアステレオマー混合
物が得られた。
同様の方法において、次のものが得られた: 1D b 2−ヘキシル−3−ヒドロキシ−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オ
キシ〕ヘキサデカン酸; 1D c 2−ヘキシル−3−ヒドロキシ(R)−
5−〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)
オキシ〕−7Z,10Z−ヘキサデカデン酸。
1E 式の酸の製造(変法) 1E a 乾燥THF30ml中のジイソプロピルアミ
ン2mlを−20℃に冷却し、次に温度が−20℃を
越えないようにして、ブチルリチウム
(1.6M/ヘキサン)9.68mlを滴下した。次に混
合物を15分間攪拌し、そして−50℃に冷却し
た。その後、THF10ml中のオクタン酸1.11ml
を滴下し、この混合物を−50°で更に10分間攪
拌した。混合物を室温で1時間攪拌し、次に再
び−50℃に冷却した。ここで、THF10ml中の
(R)−3−〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2
−イル)オキシ〕−5Z,8Z−テトラデカジエナ
ール2gを滴下した。混合物を−50℃で30分
間、次に室温で72時間攪拌した。2N塩酸によ
つて加水分解した後、反応混合物を蒸発させ
た。残渣をエーテルで抽出した。有機相を乾燥
し、過し、そして蒸発させた。得られた物質
をシリカゲルを通して過した。2−ヘキシル
−3−ヒドロキシ(R)−5−〔(テトラヒドロ
−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−7Z,10Z
−ヘキサデカジエン酸が得られた。
1E b 同様の方法において、次のものが得られ
た: 2−ヘキシル−3−ヒドロキシ(R)−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキ
シ〕−8Z−ヘキサデセニルカルボン酸。
1F 式のエステルの製造 1F a ジイソプロピルアミン1.8mlをアルゴン下
にて−5℃に冷却し、n−ヘキサン中の1.6Nn
−ブチルリチウム溶液8.7mlを滴下した。その
後、混合物を10分間攪拌した。−50℃に冷却し
た後、冷却浴を除去した。これにTHF9ml中の
3−ヒドロキシ(R)−5−〔(テトラヒドロ−
2H−ピラン−2−イル)オキシ〕ヘキサデカ
ン酸t−ブチルのジアステレオマー混合物2.67
gの溶液を滴下した。かくして、温度が−20℃
に上昇した。この混合物を放置して0℃に加温
し、10分間攪拌した。次にヘキサメチルリン酸
トリアミド4.4ml中の1−ブロモヘキサン0.93
mlの溶液を加えた。温度が9℃に上昇した。そ
の後、混合物を放置して室温にし、21/2時間
攪拌した。この溶液を氷−水200mlに注ぎ、塩
化ナトリウムで飽和させた。混合物をエーテル
で抽出した。合液した抽出液を乾燥し、過
し、そして蒸発させた。残つた油をシリカゲル
上でクロマトグラフイーにかけた。2−ヘキシ
ル−3−ヒドロキシ(R)−5−〔(テトラヒド
ロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕ヘキサ
デカン酸t−ブチルが得られた、MS:(M−
O−t−ブチル)+(439)。
1F b 同様の方法において、次のものが得られ
た: 2−ヘキシル−3−ヒドロキシ(R)−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキ
シ〕−7Z,10Z−ヘキサデカジエン酸t−ブチル。
1G 式のエステルの製造(変法) 2−ヘキシル−3−オキソ−5−〔(テトラヒド
ロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕ヘキサデ
カン酸メチル7.76gをアルゴン通気しながら
THF500mlに溶解し、エタノール20mlで処理し、
−5℃に冷却した。温度が0℃を越えないように
して、NaBH45.3gを攪拌しながら一部づつ加え
た。3時間攪拌した後、過剰量の水素化ホウ素ナ
トリウムを別し、反応混合物を冷時2N塩酸で
加水分解し(PH値6)、溶媒を蒸発させた。残渣
をエーテルで抽出し、エーテル相を乾燥し、そし
て蒸発させた。2−ヘキシル−3−ヒドロキシ−
5−〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)
オキシ〕ヘキサデカン酸メチル7.71gが得られ
た。
1H 式及びのエステルの製造 3−ヒドロキシ(R)−5−テトラヒドロ−2H
−ピラン−2−イル)オキシ〕−2−〔(S)−p−
トリルスルフイニル〕ヘキサデカン酸t−ブチル
のジアステレオマー混合物13.6gをTHF6及び
水0.1の混合物に溶解した。次にアマルガム化
したアルミニウム箔150gを6時間以内に一部づ
つ加えた。その際に、温度を15℃乃至20℃間に保
持した。添加終了後、混合物を反応が終了するま
で攪拌した。不溶性物質を吸引別し、まず
THF1、次にTHF2で洗浄した。フイルター
ケーキをジエチルエーテル2に採り入れ、十分
に攪拌し、再び吸引別した。この操作を更に1
回くり返し行つた。合液した有機相を蒸発させ、
油状残渣をシリカゲル上でクロマトグラフイーに
よつて精製した。3−ヒドロキシ(R)−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキ
シ〕ヘキサデカ酸t−ブチルが得られた、MS:
(M−O−t−ブチル)+(355)。
同様の方法において、次のものが得られた: 1H a 3−ヒドロキシ(R)−5−〔(テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−7Z,
10Z−ヘキサデカジエン酸t−ブチル; 1H b (R)−3−ヒドロキシ−5Z,8Z−テト
ラデカジエン酸t−ブチル、〔α〕20 D=−12.67°
(c=15、CHCl3)。
1I 式及びのスルホキシドの製造 〔(S)−p−トリルスルフイニル〕酢酸t−ブ
チル16.5gをエーテル60ml及びTHF600mlの混合
物に溶解し、そして−78℃に冷却した。次に温度
が−70℃を越えないようにして、t−ブチルマグ
ネシウムブロマイド(エーテル中の2N溶液)43
mlを30分間以内に滴下した。−78℃で1時間攪拌
した後、THF100ml中の(R)−3−〔(テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕テトラ
デカナール13.4gを滴下し、混合物を−78℃で更
に2時間攪拌した。反応混合物を2N塩酸で加水
分解し、溶媒を蒸発させた。残つた反応混合物を
エーテルで抽出し、エーテル相を乾燥し、そして
蒸発させた。粗製の生成物をシリカゲルカラムを
通して溶離した。3−ヒドロキシ(R)−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキ
シ〕−2−〔(S)−p−トリルスルフイニル〕ヘキ
サデカン酸t−ブチル14.9gが得られた、融点97
〜98℃。
同様の方法において、次のものが得られた: 1I a 3−ヒドロキシ(R)−5−〔(テトラヒド
ロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−2−
〔(S)−p−トリルスルフイニル〕−7Z,10Z−
ヘキサデカン酸t−ブチル; 1I b (R)−3−ヒドロキシ−2−〔(R)−p
−トリルスルフイニル〕−5Z,7Z−テトラデカ
ジエン酸t−ブチル。
1J 式のアルデヒドの製造 1J a (R)−3−〔(テトラヒドロ−2H−ピラ
ン−2−イル)オキシ〕テトラデカン酸t−ブ
チル9.2gを、アルゴン通気しながら且つ水分
を排除しながら、トルエン115mlに溶解し、−75
℃に冷却した。次にトルエン中の1.2MDIBAH
溶液26.5mlを、温度が−70℃を越えないように
して、1/2時間以内に滴下した。混合物を−75
℃で更に1時間攪拌した。次に飽和塩化アンモ
ニウム溶液7.4ml、続いて1N塩酸15.5mlを−70
℃で滴下した。冷却浴を除去し、混合物を放置
して室温に加温した。室温で1時間攪拌した
後、有機相を分離し、水で洗浄した。有機相を
乾燥し、過し、そして蒸発させた。得られた
物質をシリカゲル上でクロマトグラフイーにか
けた。無色の油として、(R)−3−〔(テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕テト
ラデカナールが得られた。
同様の方法において、次のものが得られた: 1J b (R)−3−〔(テトラヒドロ−2H−ピラ
ン−2−イル)オキシ〕−5Z,8Z−テトラデカ
ジエナール; 1J c (R)−3−〔(テトラヒドロ−2H−ピラ
ン−2−イル)オキシ〕−6Z−テトラデセナー
ル。
1K 式及びのエステルの製造 1K a (R)−3−ヒドロキシ−5Z,8Z−テト
ラデカジエン酸t−ブチル3.02g及び新しく蒸
留した3,4−ジヒドロ−2H−ピラン2.5mlを
塩化メチレン300mlに溶解し、3℃に冷却した。
その後、p−トルエンスルホン酸−水和物40mg
を加え、これによつて温度が8℃に上昇した。
この混合物を反応が終了するまで攪拌した。次
に溶液を飽和塩化ナトリウム水溶液125ml、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液125ml及び水250ml
の混合物で洗浄した。乾燥後、溶液を過し、
溶媒を除去した。(R)−3−〔(テトラヒドロ−
2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−5Z,8Z−
テトラデカジエン酸t−ブチルが得られた。
1K b 同様の方法において、次のものが得られ
た: 2−ヘキシル−3−オキソ−5−〔(テトラヒド
ロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕ヘキサデ
カン酸メチル、融点37〜38℃。
1L 式のアルコールの製造 55%水素化ナトリウム分散体5gをヘキサンで
洗浄し、THF600mlで処理した。THF80ml中の
2−アセチルオクタン酸メチル18.9gの溶液を冷
却しながら滴下した。2時間攪拌した後、混合物
を−10℃に冷却し、冷却しながらブチルリチウム
(1.6M/ヘキサン)65mlで処理した。次に反応混
合物をこの温度で1時間放置した。THF80ml中
のドデカナール19.7gの溶液を−10℃で滴下し
た。混合物を放置して室温にし、更に2時間攪拌
した。反応混合物を2N塩酸100mlで加水分解し、
次に蒸発させた。残渣をエーテルで抽出し、エー
テル相を乾燥し、そして蒸発させた。シリカゲル
上でクロマトグラフイーにかけた後、融点38〜39
℃の2−ヘキシル−5−ヒドロキシ−3−オキソ
−ヘキサデカン酸メチル10.3gが得られた。
1M 式−Aのエステルの製造 THF20ml中のジイソプロピルアミン0.51gの
溶液を0℃でヘキサン中のブチルリチウムの
1.6M溶液3.13mlで処理した。次に混合物を−78
℃に冷却し、これにヘプチルトリフエニルホスホ
ニウムブロマイド2.3gを加え、混合物をこの温
度に5分間保持した。次いでこれにTHF10ml中
の5−ホルミル−(R)−〔(テトラヒドロ−2H−
ピラン−2−イル)オキシ〕ペンタンカルボン酸
エチルの溶液を滴下した。この混合物を一夜室温
で攪拌した。反応混合物を水で処理し、エーテル
で抽出し、乾燥し、そして真空下で蒸発させた。
残渣をシリカゲル上で、トルエン−酢酸エチル
(9:1)を用いてクロマトグラフイーにかけ、
(R)−3−〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−
イル)オキシ〕6Z−テトラデセンカルボン酸エ
チル0.5gが得られた。
1N 式のアルデヒドの製造 酢酸エチル40ml中の(R)−3−〔(テトラヒド
ロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−6−ヘプ
テン酸メチル2.56gの溶液を−75℃にてオゾンで
処理した。反応が終了した後、これに炭素に担持
させたPd0.1gを加え、この混合物を室温で水素
添加した。水素の吸収が終了した後、触媒を別
し、酢酸エチルで洗浄し、真空下で蒸発させた。
粗製の5−ホルミル−(R)−3−〔(テトラヒドロ
−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕−ペンタンカ
ルボン酸メチルが得られた。
1 O 式の酸のその立体異性体への分割 1 O a 2−ヘキシル−3−ヒドロキシ−
(R)−5−〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2
−イル)オキシ〕ヘキサデカン酸のジアステレ
オマー混合物15.4gをエタノール160mlに溶解
し、トルエン−4−スルホン酸−水和物800mg
を加えた。反応混合物を反応が終了するまで、
55〜60℃に加熱した。溶媒を真空下で除去し、
残渣をジクロロメタン160mlに溶解した。この
溶液を室温で1時間攪拌した。反応混合物を蒸
発させた。得られた物質をシリカゲル上でクロ
マトグラフイーにかけた。融点95〜96℃のテト
ラヒドロ−3−ヘキシル−4−ヒドロキシ−
(R)−6−ウンデシル−2H−ピラン−2−オ
ンが得られた。
1 O b テトラヒドロ−3−ヘキシル−4−
ヒドロキシ−(R)−6−ウンデシル−2H−ピ
ラン−2−オンのジアステレオマー混合物3g
をアセトン300mlに溶解した。ジヨーンズ試薬
を、温度が25℃を越えないようにして、攪拌し
ながら滴下した。3時間後、反応混合物をH2
O700mlに注いだ。ラクトンが沈殿し、このも
のを別した。エーテル/n−ヘキサンから再
結晶させた後、融点112.5〜113.5℃のテトラヒ
ドロ−3−ヘキシル−4−オキソ−(R)−6−
ウンデシル−2H−ピラン−2−オン1.7gが得
られた。
1.O.c テトラヒドロ−3−ヘキシル−4−ヒド
ロキシ−(R)−6−ウンデシル−2H−ピラン−
2−オン1.7gが得られた。
1 O c テトラヒドロ−3−ヘキシル−4−
オキソ−(R)−6−ウンデシル−2H−ピラン
−2−オンの異性体混合物8gを酢酸エチル2
に溶解し、PtO23gを加えた。次に混合物
を12時間水素添加した(50バール)。触媒を
別し、溶液を蒸発させた。再結晶させた後、融
点108〜109℃の(3S,4S,6R)−テトラヒドロ
−3−ヘキシル−4−ヒドロキシ−(R)−6−
ウンデシル−2H−ピラン−2−オン7gが得
られた。
1 O d (3S,4S,6R)−テトラヒドロ−3
−ヘキシル−4−ヒドロキシ−6−ウンデシル
−2H−ピラン−2−オン1.5gをDMF8mlに溶
解した。次にDMF4ml中のt−ブチルジメチル
クロロシラン0.85gを滴下した。この混合物を
48時間攪拌した。反応混合物をエーテル100ml
中に注ぎ、1N塩酸で洗浄した。有機相を乾燥
し、過し、そして蒸発させた。得られた物質
をシリカゲル上でクロマトグラフイーにかけ
た。(3S,4S,6R)−テトラヒドロ−3−ヘキ
シル−4−〔(t−ブチルジメチルシリル)オキ
シ〕−6−ウンデシル−2H−ピラン−2−オン
1.26gが得られた、MS:411(M+−t−ブチ
ル)。
1 O e (3S,4S,6R)−テトラヒドロ−3
−ヘキシル−4−〔(t−ブチルジメチルシリ
ル)オキシ〕−6−ウンデシル−2H−ピラン−
2−オン0.3gをジオキサン12ml及び1N水酸化
カリウム水溶液0.64mlの混合物に溶解した。こ
の混合物を一夜攪拌した。次に反応混合物を蒸
発させ、残渣をヘキサメチルホスホルトリアミ
ド10mlに溶解した。臭化ベンジル0.35mlを加え
た。混合物を2日間攪拌した。反応混合物を水
に注ぎ、エーテルで抽出した。エーテル相を乾
燥し、過し、そして蒸発させた。この油をシ
リカゲル上でクロマトグラフイーにかけた。
(2S,3S,5R)−2−ヘキシル−3−〔(t−ブ
チルジメチルシリル)オキシ〕−5−ヒドロキ
シヘキサデカン酸ベンジル330mgが得られた、
MS:519(M+−t−ブチル)。
1 O f (2S,3S,5R)−2−ヘキシル−3
−〔(t−ブチルジメチルシリル)オキシ〕−5
−ヒドロキシヘキサデカノン酸ベンジル350mg
及び新しく蒸留した3,4−ジヒドロ−2H−
ピラン0.5mlを塩化メチレン10mlに溶解し、−15
℃に冷却した。これにp−トルエンスルホン酸
−水和物の結晶を加えた。この混合物を反応が
終了するまで攪拌した。次に溶液を蒸発させ、
残渣をシリカゲルでクロマトグラフイーにかけ
た。(2S,3S,5R)−2−ヘキシル−3−〔(t
−ブチルジメチルシリル)オキシ〕−5−〔(t
−テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オ
キシ〕ヘキサデカン酸ベンジル330mgが得られ
た、MS:603(M+−t−ブチル)。
1 O g (2S,3S,5R)−2−ヘキシル−3
−〔(t−ブチルジメチルシリル)オキシ〕−5
−〔(t−テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イ
ル)オキシ〕ヘキサデカン酸ベンジル480mg及
びテトラブチルアンモニウムフルオライド三水
和物350mlをTHF8mlに溶解し、12時間攪拌し
た。蒸発後、残渣をエーテル50mlに溶解し、水
で洗浄した。エタノール相を乾燥し、そして蒸
発させた。粗製の生成物をシリカゲル上でクロ
マトグラフイーにかけた。(2S,3S,5R)−2
−ヘキシル−3−ヒドロキシ−5−〔(テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕ヘキ
サデカン酸ベンジル240mgが得られた、MS:
463〔(M+H)+−ジヒドロ−2H−ピラン−2−
イル〕。
1 O h THF10ml中の(2S,3S,5R)−2
−ヘキシル−3−ヒドロキシ−5−〔(テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ〕ヘキ
サデカン酸ベンジル430mgを10%Pd/Cで処理
し、3時間水素添加した。触媒を別し、液
を蒸発させた後、粗製の生成物をシリカゲル上
でクロマトグラフイーにかけた。(2S,3S,
5R)−2−ヘキシル−3−ヒドロキシ−5−
〔(テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オ
キシ〕ヘキサデカン酸が得られた。
実施例 2 2A 式のオキセタノンの製造 (S)−ロイシン1−〔(2S,3S)−3−ヘキシ
ル−4−オキソ−2−オキセタニル)メチル〕ド
デシルエステル9mgをTHF0.3mlに溶解し、これ
にギ酸/酢酸無水物1.6μを加えた。反応は短時
間で終了した。これにジエチルエーテル3mlを加
え、混合物を2%炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄
した。次に有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、
過し、そして蒸発させた。残渣をシリカゲル上
でクロマトグラフイーにかけた。N−ホルミル−
(S)−ロイシン(S)−1−〔〔(2S,3S)−3−ヘ
キシル−4−オキソ−2−オキセタニル〕メチ
ル〕ドデシルが得られた、〔α〕25 D=−31.9°(c=
0.345,CHCl3)。
2B 式″のオキセタノンの製造 N−〔(ベンジルオキシ)カルボニル〕−L−ロ
イシン(S)−1−〔〔(2S,3S)−3−ヘキシル−
4−オキソ−2−オキセタニル〕メチル〕ドデシ
ルエステル12mgをTHF0.5mlに溶解し、10%Pd/
C5mgの存在下において室温で水素添加した。反
応終了後、触媒を別し、液を蒸発させた。こ
の生成物、(S)−ロイシン1−〔〔(2S,3S)−3
−ヘキシル−4−オキソ−2−オキセタニル)メ
チル〕ドデシルエステルをホルミル化反応2Aに
直接用いた。
2C 式

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 a 式 の酸を式 式中、X2は3−ウンデセニルまたはX1と同義
    であり、ここでX1はウンデシルまたは2Z,5Z−
    ウンデカジエニルであり、C6はn−ヘキシルで
    あり、Yはイソブチルであり且つZはホルミルで
    あるか、またはYはカルバモイルメチルであり且
    つZはアセチルである、 のアルコールでエステル化し、そして b 得られる式 式中、X10は3−ウンデセニルであり、そして C6,Y及びZは上記の意味を有する、 のオキセタノンを水素添加することを特徴とする 式中、X1,C6,Y及びZは上記の意味を有す
    る、 のオキセタノン類の製造方法。 2 N−ホルミル−L−ロイシン(S)−1−
    [[(2S,3S)−3−ヘキシル−4−オキソ−2−
    オキセタニル]メチル]ドデシルエステルを製造
    する特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 式 式中、C11はウンデシルであり、C6はn−ヘキ
    シルであり、Yはイソブチルまたはカルバモイル
    メチルである、 のオキセタノンを基Zを導入するアルカノイル化
    剤で処理することを特徴とする式 式中、X11はウンデシルであり、Yはイソブチ
    ルであり且つZはホルミルであるか、またはYは
    カルバモイルメチルであり且つZはアセチルであ
    り、C6は上記の意味を有する、 のオキセタノン類の製造方法。 4 N−ホルミル−L−ロイシン(S)−1−
    [[(2S,3S)−3−ヘキシル−4−オキソ−2−
    オキセタニル]メチル]ドデシルエステルを製造
    する特許請求の範囲第3項記載の方法。
JP28585885A 1984-12-21 1985-12-20 オキセタノン類の製造方法 Granted JPS61152664A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH6101/84-3 1984-12-21
CH610184 1984-12-21
CH4067/85-4 1985-09-19

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61152664A JPS61152664A (ja) 1986-07-11
JPH0564953B2 true JPH0564953B2 (ja) 1993-09-16

Family

ID=4304289

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28585885A Granted JPS61152664A (ja) 1984-12-21 1985-12-20 オキセタノン類の製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPS61152664A (ja)
IL (1) IL77340A (ja)
ZA (1) ZA859574B (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013249293A (ja) * 2012-06-04 2013-12-12 Kao Corp リパーゼ活性阻害剤、抗真菌剤、及びフケ抑制剤

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54154754A (en) * 1978-05-25 1979-12-06 Microbial Chem Res Found Beta-lactone derivative of antiesterase active substance delta-hydroxymicolic acid and its preparation
JPS5587720A (en) * 1978-12-27 1980-07-02 Meiji Seika Kaisha Ltd Anti-inflammatory agent
CA1247547A (en) * 1983-06-22 1988-12-28 Paul Hadvary Leucine derivatives

Also Published As

Publication number Publication date
IL77340A (en) 1990-12-23
JPS61152664A (ja) 1986-07-11
ZA859574B (en) 1986-08-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4983746A (en) Oxetanones and process for their production
JP2912463B2 (ja) オキセタノン類の調製方法
JP2573819B2 (ja) アルデヒドおよびその製法
NO171160B (no) Analogifremgangsmaate ved fremstilling av terapeutisk aktive 4-(2-hydroksyetyl)-2-oksetanonderivater
JPH10509959A (ja) アジア酸誘導体、その製造方法およびこれを含有する皮膚治療剤
HU207288B (en) Process for enenthioselective producing phenyl-isoserine derivatives
JPH0564953B2 (ja)
RU2128652C1 (ru) Способ получения оксазолидинкарбоновой кислоты или ее производных, оксазолидинкарбоновая кислота в качестве промежуточного соединения для получения таксоидов
EP0585104B1 (en) A method of preparing a saturated monocyclic hydrocarbon compound and an intermediate therefor
EP1087958B1 (en) Process to manufacture simvastatin and intermediates
JPH0529226B2 (ja)
JPH0419223B2 (ja)
JPS6328423B2 (ja)
JP3410492B2 (ja) 7−オクチン−1−エン誘導体およびその製造方法
JPH0764836B2 (ja) 新規光学活性アルコ−ル
US4018797A (en) Intermediates for prostaglandins
JPS5921864B2 (ja) フルオロプロスタグランジン及びその製造法
CA1060031A (en) Intermediates for prostaglandins
JP3020980B2 (ja) 光学活性なバレロラクトン誘導体
KR20010083083A (ko) 치환된 테트라하이드로푸란 화합물의 합성방법
KR0144853B1 (ko) (2-아미노티아졸-4-일)아세트산 유도체 및 이의 제조방법
JPH0651694B2 (ja) 光学活性化合物
JPH058710B2 (ja)
JPS60146840A (ja) (2s,4r)−4−メチル−6−ヘプテン−1,2,4−トリオ−ルおよびその製造方法
Castle et al. New Chemistry of Dispiroketals: Ligands for Asymmetric Catalysis

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term