JPH0565584B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0565584B2 JPH0565584B2 JP59002916A JP291684A JPH0565584B2 JP H0565584 B2 JPH0565584 B2 JP H0565584B2 JP 59002916 A JP59002916 A JP 59002916A JP 291684 A JP291684 A JP 291684A JP H0565584 B2 JPH0565584 B2 JP H0565584B2
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- JP
- Japan
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- boat
- vapor deposition
- mesh
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は蒸着用ボートに関し、さらに詳しくは
熱伝導の悪い物質の蒸着に用いられる蒸着用ボー
トに関するものである。
熱伝導の悪い物質の蒸着に用いられる蒸着用ボー
トに関するものである。
一般に、真空蒸着を行なうには、抵抗加熱方式
によるボート型が多く用いられている。即ち、薄
板に凹部を設け、この凹部に蒸着物質を装填し、
ボート両端を電極に接続して通電して蒸着物質を
昇温させる。
によるボート型が多く用いられている。即ち、薄
板に凹部を設け、この凹部に蒸着物質を装填し、
ボート両端を電極に接続して通電して蒸着物質を
昇温させる。
しかしながら、熱伝導率の小さい物質の蒸着を
行なう場合にはしばしば蒸着物質が突沸し、蒸着
基板に塊状の蒸発物が附着し、蒸着基板に形成さ
れた薄膜に重大な欠陥を及ぼすという問題が生じ
ている。
行なう場合にはしばしば蒸着物質が突沸し、蒸着
基板に塊状の蒸発物が附着し、蒸着基板に形成さ
れた薄膜に重大な欠陥を及ぼすという問題が生じ
ている。
本発明の目的は、前述の従来技術の欠点を改良
し、熱伝導の悪い物質の蒸着でも高品質の薄膜を
作製しうる蒸着用ボートを提供することである。
し、熱伝導の悪い物質の蒸着でも高品質の薄膜を
作製しうる蒸着用ボートを提供することである。
すなわち本発明は、蒸着物質を装填するボート
の凹部に、熱伝導のよい物質がメツシユ状に形成
されたものが設けられていることを特徴とする。
の凹部に、熱伝導のよい物質がメツシユ状に形成
されたものが設けられていることを特徴とする。
以下、図面を用いて詳細に説明する。
第１図は従来の蒸着用ボートの断面図である。
ボート本体１の凹部に蒸着物質２が装填される。
ボート端３，３′を電極（図示せず）に接続して
通電して蒸着物質を昇温させる。このとき、ボー
ト凹部の底の部分にある蒸着物質２′の温度は、
発熱部に近いため、ほぼボート底の温度に等し
い。一方、蒸着物質の熱伝導が悪い場合には、ボ
ート凹部の上の方にある蒸着物質２″の温度は前
記蒸着物質２′の温度よりもかなり低くなる。し
たがつて、ボートを昇温していくと、先ず、ボー
ト凹部の底の蒸着物質２′が蒸発する。それ故、
ボート上方にある蒸着物質２″は蒸発温度に達す
る前に下から吹き飛ばされるため、蒸着基板に塊
状に被着される。
ボート本体１の凹部に蒸着物質２が装填される。
ボート端３，３′を電極（図示せず）に接続して
通電して蒸着物質を昇温させる。このとき、ボー
ト凹部の底の部分にある蒸着物質２′の温度は、
発熱部に近いため、ほぼボート底の温度に等し
い。一方、蒸着物質の熱伝導が悪い場合には、ボ
ート凹部の上の方にある蒸着物質２″の温度は前
記蒸着物質２′の温度よりもかなり低くなる。し
たがつて、ボートを昇温していくと、先ず、ボー
ト凹部の底の蒸着物質２′が蒸発する。それ故、
ボート上方にある蒸着物質２″は蒸発温度に達す
る前に下から吹き飛ばされるため、蒸着基板に塊
状に被着される。
第２図は本発明の蒸着用ボート凹部に設けられ
るメツシユ形状物質の一例の平面図（第２図Ａ）
と正面図（第２図Ｂ）である。わく２０の中に細
線２１が設けられ、その間に開口２２が形成され
ている。第３図は本発明の蒸着用ボートの一例の
断面図である。ボート本体１の凹部に第２図のよ
うなメツシユ３０が複数個設けられており、その
間に蒸着物質２が装填される。
るメツシユ形状物質の一例の平面図（第２図Ａ）
と正面図（第２図Ｂ）である。わく２０の中に細
線２１が設けられ、その間に開口２２が形成され
ている。第３図は本発明の蒸着用ボートの一例の
断面図である。ボート本体１の凹部に第２図のよ
うなメツシユ３０が複数個設けられており、その
間に蒸着物質２が装填される。
第４図は本発明の蒸着用ボート凹部に設けられ
るメツシユ形状物質の他の例の平面図（第４図
Ａ）と正面図（第４図Ｂ）である。わく４０の中
に細線４１が設けられ、その間に開口４２が形成
されている。第５図は本発明の蒸着用ボートの他
の例の平面図（第５図Ａ）と横からみた断面図
（第５図Ｂ）である。ボート本体１の凹部に第４
図のようなメツシユ５０が設けられている。第５
図において、メツシユのかわりに単に板をおいた
ものは、熱的な効果はほぼ同じ効果が得られる
が、各領域に均等に蒸着物質を装填するのが困難
となるので、本発明のメツシユ形状であることが
不可欠となる。
るメツシユ形状物質の他の例の平面図（第４図
Ａ）と正面図（第４図Ｂ）である。わく４０の中
に細線４１が設けられ、その間に開口４２が形成
されている。第５図は本発明の蒸着用ボートの他
の例の平面図（第５図Ａ）と横からみた断面図
（第５図Ｂ）である。ボート本体１の凹部に第４
図のようなメツシユ５０が設けられている。第５
図において、メツシユのかわりに単に板をおいた
ものは、熱的な効果はほぼ同じ効果が得られる
が、各領域に均等に蒸着物質を装填するのが困難
となるので、本発明のメツシユ形状であることが
不可欠となる。
ボート本体の材料としては通常のモリブデン、
タンタル、タングステン等が用いられる。メツシ
ユの細線の材料としては良熱伝導材料であること
が必要であるが、望ましくは高融点金属がよい。
とくに、モリブデン、白金、タンタル、タングス
テンが望ましい。メツシユの細線の径及びピツチ
はボートの大きさにも依存するが、おおむね
0.025〜1.5mm、0.5〜10mmが良好である。メツシユ
のわくはつけてもつけなくてもよい。わくの材料
としては高融点材料であれば使用できる。メツシ
ユとボート本体とは、電気的に接触していてもい
なくてもよい。また、メツシユは２次元のみなら
ず３次元的に構成してもよい。
タンタル、タングステン等が用いられる。メツシ
ユの細線の材料としては良熱伝導材料であること
が必要であるが、望ましくは高融点金属がよい。
とくに、モリブデン、白金、タンタル、タングス
テンが望ましい。メツシユの細線の径及びピツチ
はボートの大きさにも依存するが、おおむね
0.025〜1.5mm、0.5〜10mmが良好である。メツシユ
のわくはつけてもつけなくてもよい。わくの材料
としては高融点材料であれば使用できる。メツシ
ユとボート本体とは、電気的に接触していてもい
なくてもよい。また、メツシユは２次元のみなら
ず３次元的に構成してもよい。
さらに、本発明は上蓋付きボートにも適用でき
る。第６図は従来の上蓋付き蒸着用ボートの断面
図である。ボート本体１と上蓋１００と中間板１
０１で構成されている。なお、中間板１０１はな
い場合もある。上蓋及び中間板には開口１０２，
１０３が設けられている。このような上蓋付きボ
ートの場合でも、メツシユを設けることにより、
欠陥のない薄膜を形成することができる。
る。第６図は従来の上蓋付き蒸着用ボートの断面
図である。ボート本体１と上蓋１００と中間板１
０１で構成されている。なお、中間板１０１はな
い場合もある。上蓋及び中間板には開口１０２，
１０３が設けられている。このような上蓋付きボ
ートの場合でも、メツシユを設けることにより、
欠陥のない薄膜を形成することができる。
以下、本発明の実施例を説明する。
実施例 １
板厚0.2mmのモリブデン製ボートの凹部に線径
0.05mm、ピツチ２mmで第４図のようなメツシユを
第５図のようにメツシユ間隔３mmで３枚設け、５
−アミノ−２，３−ジシアノ−８−〔（４−エトキ
シ）アニリノ〕−１，４−ナフキノン色素を蒸着
物質として装填した。このボートに通電すること
により、1.2mm厚直径120mmのポリカーボネート円
板上に750Åの色素膜を形成して追加書き込み可
能光デイスクを作製した。蒸着時の真空度は1.5
×10-5Torr以下とし、ボート温度は220〜260℃
とした。光デイスク欠陥測定装置により、本発明
のボートを用いて作製された光デイスクの欠陥率
とメツシユのない通常のボートを用いて作製され
た光デイスクの欠陥率とを測定すると、本発明の
蒸着用ボートを用いた方がはるかに少ない欠陥率
であつた。
0.05mm、ピツチ２mmで第４図のようなメツシユを
第５図のようにメツシユ間隔３mmで３枚設け、５
−アミノ−２，３−ジシアノ−８−〔（４−エトキ
シ）アニリノ〕−１，４−ナフキノン色素を蒸着
物質として装填した。このボートに通電すること
により、1.2mm厚直径120mmのポリカーボネート円
板上に750Åの色素膜を形成して追加書き込み可
能光デイスクを作製した。蒸着時の真空度は1.5
×10-5Torr以下とし、ボート温度は220〜260℃
とした。光デイスク欠陥測定装置により、本発明
のボートを用いて作製された光デイスクの欠陥率
とメツシユのない通常のボートを用いて作製され
た光デイスクの欠陥率とを測定すると、本発明の
蒸着用ボートを用いた方がはるかに少ない欠陥率
であつた。
実施例 ２
上蓋板厚0.1mm、中間板板厚0.05mm、本体板厚
0.1mmのモリブデン製ボートの凹部に線径0.025
mm、ピツチおよそ１mmのタングステン製３次元メ
ツシユを形成して入れ、実施例１と同様にして光
デイスクを作製した。本実施例でも本発明のボー
トを用いた方がはるかに少ない欠陥率であつた。
0.1mmのモリブデン製ボートの凹部に線径0.025
mm、ピツチおよそ１mmのタングステン製３次元メ
ツシユを形成して入れ、実施例１と同様にして光
デイスクを作製した。本実施例でも本発明のボー
トを用いた方がはるかに少ない欠陥率であつた。
実施例 ３
板厚0.2mmのタングステン製ボートの凹部に線
径0.15mm、ピツチ2.5mmの第４図のようなタング
ステン製メツシユを第５図のようにメツシユ間隔
２mmで４枚配置し、その上に線径0.1mm、ピツチ
1.5mmの第２図のようなタングステン製メツシユ
を設けて、５−アミノ−２，３−ジシアノ−８−
〔（４−プロポキシ）アニリノ〕−１，４−ナフト
キノン色素を蒸着物質として装填した。このボー
トに通電することにより、1.2mm厚直径120mmの
PMMA樹脂円板上に800Åの色素膜を形成して追
加書き込み可能光デイスクを作製した。蒸着時の
真空度は７×10-6Torr以下とし、ボート温度は
230〜260℃とした。本実施例でも、本発明のボー
トを用いた方が、かるかに少ない欠陥率であつ
た。
径0.15mm、ピツチ2.5mmの第４図のようなタング
ステン製メツシユを第５図のようにメツシユ間隔
２mmで４枚配置し、その上に線径0.1mm、ピツチ
1.5mmの第２図のようなタングステン製メツシユ
を設けて、５−アミノ−２，３−ジシアノ−８−
〔（４−プロポキシ）アニリノ〕−１，４−ナフト
キノン色素を蒸着物質として装填した。このボー
トに通電することにより、1.2mm厚直径120mmの
PMMA樹脂円板上に800Åの色素膜を形成して追
加書き込み可能光デイスクを作製した。蒸着時の
真空度は７×10-6Torr以下とし、ボート温度は
230〜260℃とした。本実施例でも、本発明のボー
トを用いた方が、かるかに少ない欠陥率であつ
た。
実施例 ４
板厚0.12mmのモリブデン製ボートの凹部に線径
0.1mm、ピツチ３mmの第２図のようなモリブデン
製メツシユを第３図のようにメツシユ間隔３mmで
３枚溶接した。このボートを用いて酸化チタンフ
タロシアニン膜を1200Å蒸着して光デイスクを作
製した。本実施例でも本発明のボートを用いた方
がはるかに少なに欠陥率であつた。
0.1mm、ピツチ３mmの第２図のようなモリブデン
製メツシユを第３図のようにメツシユ間隔３mmで
３枚溶接した。このボートを用いて酸化チタンフ
タロシアニン膜を1200Å蒸着して光デイスクを作
製した。本実施例でも本発明のボートを用いた方
がはるかに少なに欠陥率であつた。
以上のように、本発明のボートは従来のボート
と比較して膜欠陥を少なくできる。
と比較して膜欠陥を少なくできる。
第１図は従来の蒸着用ボートの断面図、第２図
Ａ，Ｂは本発明の蒸着用ボートに用いられるメツ
シユの一例の平面図と正面図、第３図は本発明の
蒸着用ボートの一例の断面図、第４図Ａ，Ｂは本
発明の蒸着用ボートに用いられるメツシユの他の
例の平面図と正面図、第５図Ａ，Ｂは本発明の蒸
着用ボートの他の例の平面図と横からみた断面
図、第６図は従来の上蓋付き蒸着用ボートの断面
図である。図において、１はボート本体、２，
２′，２″は蒸着物質、３，３′はボート端、２０，
４０はわく、２１，４１は細線、２２，４２，１
０２，１０３は開口、３０，５０はメツシユ、１
００は上蓋、１０１は中間板を示す。
Ａ，Ｂは本発明の蒸着用ボートに用いられるメツ
シユの一例の平面図と正面図、第３図は本発明の
蒸着用ボートの一例の断面図、第４図Ａ，Ｂは本
発明の蒸着用ボートに用いられるメツシユの他の
例の平面図と正面図、第５図Ａ，Ｂは本発明の蒸
着用ボートの他の例の平面図と横からみた断面
図、第６図は従来の上蓋付き蒸着用ボートの断面
図である。図において、１はボート本体、２，
２′，２″は蒸着物質、３，３′はボート端、２０，
４０はわく、２１，４１は細線、２２，４２，１
０２，１０３は開口、３０，５０はメツシユ、１
００は上蓋、１０１は中間板を示す。
Claims (1)
- １ 蒸着物質を装填するボートであつて、その凹
部に、メツシユ状に形成された良熱伝導性物質を
３面以上設けることを特徴とする蒸着用ボート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP291684A JPS60149766A (ja) | 1984-01-11 | 1984-01-11 | 蒸着用ボ−ト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP291684A JPS60149766A (ja) | 1984-01-11 | 1984-01-11 | 蒸着用ボ−ト |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60149766A JPS60149766A (ja) | 1985-08-07 |
| JPH0565584B2 true JPH0565584B2 (ja) | 1993-09-20 |
Family
ID=11542669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP291684A Granted JPS60149766A (ja) | 1984-01-11 | 1984-01-11 | 蒸着用ボ−ト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60149766A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6047433B2 (ja) * | 2013-03-15 | 2016-12-21 | 長州産業株式会社 | 蒸着源坩堝 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59113174A (ja) * | 1982-12-17 | 1984-06-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜形成方法および薄膜形成装置 |
-
1984
- 1984-01-11 JP JP291684A patent/JPS60149766A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60149766A (ja) | 1985-08-07 |
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