JPH05692B2 - - Google Patents

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JPH05692B2
JPH05692B2 JP7870983A JP7870983A JPH05692B2 JP H05692 B2 JPH05692 B2 JP H05692B2 JP 7870983 A JP7870983 A JP 7870983A JP 7870983 A JP7870983 A JP 7870983A JP H05692 B2 JPH05692 B2 JP H05692B2
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JP
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methyl
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Shuhei Shiraishi
Toshuki Oosawa
Kenji Uematsu
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Ricoh Co Ltd
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Ricoh Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/52Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances
    • G03C1/58Coupling substances therefor

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
技術分野 本発明は変色防止剤としても作用する2種のカ
ツプラーを含む2成分型ジアゾ複写材料に関す
る。 従来技術 従来、2成分型ジアゾ複写材料として、例えば
ジアゾ化合物に一般式 (但し、R1、R2はC1〜C4のアルキル基を表わ
す。) で示される化合物を、またカツプラーに水溶性ア
ルキルフエノール類を用いたものが特公昭37−
10275号公報に提案されている。ここで使用され
る前記一般式のジアゾ化合物は光分解速度が速
く、複写作業の効率化にとつて好ましい化合物な
ので、一般に広く使用されているが、現像後、そ
の光分解物が地肌部に残存し、これが経時と共に
酸化されて着色物質に変り、地肌を汚染するとい
う欠点を有している。しかもアルキルフエノール
類は低カツプリング性でカツプリング速度が遅
く、従つて複写材料の現像性を低下させるし、ま
たこれを解消するためにこの低カツプリング性カ
ツプラーを多量に用いた時も(黄色以外の色に発
色させるために赤ないし青色に発色するカツプラ
ーを併用した場合も多量に使用される)ジアゾ化
合物の場合と同様、経時と共に紫外線、熱等によ
り地肌を着色、汚染する。同様な欠点はカツプラ
ーに一般式 (但しR1、R2はアルキル基を表わす。) で示される化合物(米国特許第2946684号)、一般
(但し、R1、R2はアルキル基、R3は水素、アル
キル、β−ヒドロキシエチル、アラルキル、アリ
ール、カルボキシ、カルボエトキシ又はカルボプ
ロポキシ基、R4は水素、アルキル又はカルボエ
トキシ基を表わす。) で示される化合物(米国特許第3139341号)及び
一般式 (但しR1はアルキル基、ヒドロキシアルキル基、
アルコキシアルキル基、アルキルアミノアルキル
基又はシクロヘキシル基、R2、R3はアルキル基
を表わす。) で示される化合物(米国特許第3183093号)を用
いたジアゾ複写材料にも見られる。一方、特公昭
35−4833号公報にはカツプラーに一般式 (但しR1はアルキレン基、アルキレンアリーレ
ンアルキレン基又はイソアルキリデン基を表わ
し、R2、R3は水素、アルキル基、スルホ基又は
ハロゲンを表わし、pは0又は整数、またnはp
が0の時1、pの整数の時p+1を表わす。) で示されるレゾルシノールエーテル類を用いたジ
アゾ複写材料が提案されている。このジアゾ複写
材料の場合はレゾルシノールエーテル類は水溶性
アルキルフエノール類より高カツプリング性であ
るため、現像性が良いという利点を持つている
が、水溶性アルキルフエノール類と同様、経時に
よる現像後の地肌変色が大きいという欠点も持つ
ている。 目 的 本発明の目的は現像性に優れ、しかも現像後の
地肌変色が少なく、従つてコピーとして長期間の
保管が可能な2成分型ジアゾ複写材料を提供する
ことである。 構 成 本発明の2成分型ジアゾ複写材料は (a) 一般式() 〔但しR1、R2はアルキル基(アルキルの炭素
数は1〜5が好ましい)を表わす。〕 で示されるジアゾ化合物と、 (b) 一般式()()及び() (但しR3、R4はアルキル基(アルキルの炭素
数は1〜4が好ましい)を表わし、またR5
R6は水素、アルキル基、ヒドロキシアルキル
基、アルコキシアルキル基、アルキルアミノア
ルキル基(以上の各基中、アルキルの炭素数は
合計で1〜10が好ましい)、シクロヘキシル基
を表わすか、或いは酸素、硫黄、窒素又は炭素
原子と共に環を形成してもよい。〕 〔但しR7、R8はアルキル基(アルキルの炭素
数は1〜4が好ましい)を表わし、またR9
水素、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、ア
ルコキシアルキル基、アルキルアミノアルキル
基(以上の各基中、アルキルの炭素数は合計1
〜10が好ましい)又はシクロヘキシル基を表わ
す。〕 〔但しR10、R11はアルキル基(アルキルの炭
素数は1〜4が好ましい)を表わす。〕 で示される少くとも1種のアルキルフエノール
系カツプラーと、 (c) 一般式() 〔但しR12はエチレン基、メチレン基、テトラ
メチレン基等のアルキレン等、メチレンフエニ
レンメチレン基、エチレンフエニレンエチレン
基等のアルキレンフエニレンアルキレン基又は
イソプロピリデン基、イソブチリデン基等のイ
ソアルキリデン基を表わし、R13、R14は水素、
アルキル基(アルキル基の炭素数は1〜6が好
ましい)、スルホ基又はハロゲンを表わし、ま
たpは0又は整数(1以下が好ましい)を表わ
す。〕 で示されるレゾルシノールエーテル系カツプラ
ーとを含有することを特徴とするものである。 本発明は2成分型ジアゾ複写材料において、特
に通常使用されている前記一般式()のジアゾ
化合物による地肌汚染の問題を解消するため、各
種の変色防止剤について検討した結果、前記一般
式()()又は()のカツプラーと一般式
()のカツプラーとの組合せがきわめて有効で
あることを見出し、完成したものである。 このように前記2種のカツプラーは地肌部にお
いては変色防止剤として作用し、画像部において
はカツプラーとして作用する。しかし夫々単独に
使用しても変色防止剤としての効果は得られず、
むしろ変色を促進する。即ちこれら2種のカツプ
ラーを組合せることによつて始めて変色防止剤と
しての相乗効果が現われる。またカツプラーとし
ての作用については一般式()()又()
のカツプラーは一般式()のカツプラーに比べ
てカツプリング速度が遅い。このため画像部での
アゾ染料形成はこれら2種のカツプラー間で競争
的に行なわれるので、高現像性と共に一定の発
色々調が確保される。 本発明で使用される一般式()のジアゾ化合
物の具体例としては下記のものが挙げられる。 2,5−ジメトキシ−4−モルホリノベンゼン
ジアゾニウム 2,5−ジエトキシ−4−モルホリノベンゼン
ジアゾニウム 2,5−ジ−n−プロポキシ−4−モルホリノ
ベンゼンジアゾニウム 2,5−ジ−n−ブトキシ−4−モルホリノベ
ンゼンジアゾニウム 2,5−ジ−n−ペントキシ−4−モルホリノ
ベンゼンジアゾニウム 2,5−ジ−iso−プロポキシ−4−モルホリ
ノヘンゼンジアゾニウム 2,5−ジ−iso−ブトキシ−4−モルホリノ
ベンゼンジアゾニウム これらのジアゾ化合物は塩化物、フツ化ホウ素
塩、ヘキサフロロリン酸塩、重硫酸塩、アリール
スルホン酸塩等の塩の形で使用される。 一般式()()又は()のカツプラーの
具体例は下記の通りである。 2,5−ジメチル−4−モルホリノメチルフエ
ノール 2,5−ジエチル−4−モルホリノメチルフエ
ノール 2,5−ジメチル−4−ジエチルアミノメチル
フエノール 2,5−ジメチル−4−ピロリジノメチルフエ
ノール 3,5−ジメチル−6−モルホリノメチルフエ
ノール 2,5−ジメチル−4−ピペリジノメチルフエ
ノール 2,4−ジメチル−6−〔4′−メチル−4−ピ
ペラジノ−(1′)−メチル〕−フエノール 2,5−ジメチル−4−〔4′−メチル−ピペラ
ジノ−(1′)−メチル〕−フエノール 2,6−ジメチル−4−〔4′−フエニル−ピペ
ラジノ−(1′)−メチル〕−フエノール 3,5−ジメチル−2−〔4′−メチル−ピペラ
ジノ−(1′)−メチル〕−フエノール 2,3−ジメチル−6−〔4′−フエニル−ピペ
ラジノ−(1′)−メチル〕−フエノール 2,5−ジメチル−4−〔4′−β−ヒドロキシ
エチル−ピペラジノ−(1′)−メチル〕−フエノー
ル 2,5−ジメチル−4−〔4′−ベンジル−ピペ
ラジノ−(1′)−メチル〕−フエノール 3−メチル−6−イソプロピル−4−〔4′−メ
チル−ピペラジノ−(1′)−メチル〕−フエノール 3−メチル−5−エチル−2−〔4′−フエニル
−ピペラジノ−(1′)−メチル〕−フエノール 2,6−ジメチル−4−〔4′−ベンジル−ピペ
ラジノ−(1′)−メチル〕−フエノール 3,5−ジメチル−2−〔2′−カルボエトキシ
−ピペラジノ−(1′)−メチル〕−フエノール 2,5−ジメチル−4−〔4′−エチル−ピペラ
ジノ−(1′)−メチル〕−フエノール 2,6−ジメチル−4−〔4′−β−ヒドロキシ
エチル−ピペラジノ−(1′)−メチル〕−フエノー
ル 2,6−ジメチル−4−〔3′−メチル−4′−フ
エニルピペラジノ−(1′)−メチル〕−フエノール 2,6−ジメチル−4−〔4′−カルボエトキシ
−ピペラジノ−(1′)−メチル〕−フエノール 2,5−ジメチル−4−〔4′−カルボエトキシ
−ピペラジノ−(1′)−メチル〕−フエノール 3,6−ジメチル−2−〔4′−カルボプロポキ
シ−ピペラジノ−(1′)−メチル〕−フエノール 2,6−ジメチル−4−〔4′−カルボプロポキ
シ−ピペラジノ−(1′)−メチル〕−フエノール 2,5−ジミチル−4−〔4′−カルボプロポキ
シ−ピペラジノ−(1′)−メチル〕−フエノール N,N−ビス(2,4−ジメチル−6−ヒドロ
キシベンジル)−アミン N,N−ビス(2,4−ジメチル−6−ヒドロ
キシベンジル)−メチルアミン N,N−ビス−(2,5−ジメチル−4−ヒド
ロキシベンジル)−メチルアミン N,N−ビス−(2,4−ジメチル−6−ヒド
ロキシベンジル)−ブチルアミン N,N−ビス−(2,5−ジメチル−6−ヒド
ロキシベンジル)−エチルアミン N,N−ビス(2,5−ジメチル−6−ヒドロ
キシベンジル)−シクロヘキシルアミン N,N−ビス−(2,4−ジメチル−6−ヒド
ロキシベンジル)−2′−ジエチルアミノエチルア
ミン N,N−ビス−(2,4−ジメチル−6−ヒド
ロキシベンジル)−2′−ヒドロキシエチルアミン ,N−ビス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキ
シベンジル)−メチルアミン ,N−ビス−(3,4−ジメチル−2−ヒドロキ
シベンジル)−メチルアミン N,N−ビス−(2−メチル−5−tert−ブチ
ル−6−ヒドロキシベンジル)−メチルアミン N,N−ビス−(2,4−ジメチル−6−ヒド
ロキシベンジル)−エチルアミン N,N−ビス−(2−メチル−4−エチル−6
−ヒドロキシベンジル)−メチルアミン N,N−ビス−(2,5−ジメチル−6−ヒド
ロキシベンジル)−3′−メトキシ−プロピルアミ
ン−(1′) N,N−ビス−(2,4−ジメチル−6−ヒド
ロキシベンジル)−2′−ヒドロキシ−プロピルア
ミン N,N−ビス−(2,5−ジメチル−6−ヒド
ロキシベンジル)−2′−ジエチルアミノエチルア
ミン N,N−ビス−(2,5−ジメチル−4−ヒド
ロキシベンジル)−ピペラジン N,N−ビス−(2,4−ジメチル−6−ヒド
ロキシベンジル)−ピペラジン これらのカツプラーは塩酸塩の形で用いること
もできる。 また一般式()のカツプラーの具体例は下記
の通りである。 m,m′−エチレンジオキシジフエノール m,m′−トリメチレンジオキシジフエノール m,m′−テトラメチレンジオキシジフエノー
ル m,m′−ペンタメレンジオキシジフエノール m,m′−1−メルトリメチレンジオキシジフ
エノール 6,6′−ジメチル−3,3′−トリメチレンジオ
キシジフエノール 4,4′,6,6′−テトラメチル−3,3′−トリ
メチレンジオキシジフエノール m,m′−(p−フエニレンジメチレンジオキ
シ)ジフエノール 6,6′−ジヘキシル−3,3′−イソプロピリデ
ンジオキシジフエノール m,m′−エチレンジオキシジフエノール・ホ
ルムアルデヒド重縮合体 以上の各成分の使用量は一般に一般式()の
ジアゾ化合物1重量部に対し、夫々一般式()
()又は()のカツプラー0.1〜1重量部程
度、一般式()のカツプラー0.1〜1重量部程
度が好ましい。 本発明のジアゾ複写材料は以上の成分の他に発
色々調を調整するために赤色、褐色、青色、紫色
等に発色するカツプラーを添加することができる
が、そのカツプリング速度は一般式()のカツ
プラーと同程度のものが好ましい。この種のカツ
プラーとしては例えばレゾルシン、レゾルシンモ
ノグリコールエーテル、レゾルシングリコールエ
ーテル、メタアミノフエノール、パラアミノフエ
ノール、ジエチルアミノフエノール、メタヒドロ
キシアセトアニリド、4−モルホリンメチルレゾ
ルシノールモノメチルエーテル、3,3′,5−ト
リヒドロキシジフエニル、3,3′,5,5′−テト
ラヒドロキシジフエニル、2,2′,4,4′−テト
ラヒドロキシジフエニル、2,4,4′−トリヒド
ロキシジフエニル−2′−スルホン酸、2,4,
6,3′,5′−ペンタヒドロキシジフエニル、2,
2′,4,4′−テトラヒドロキシジフエニルサルフ
アイド、3,5−レゾルシン酸エタノールアミ
ド、2,4−レゾルシン酸エタノールアミド、α
−レゾルシン酸、α−レゾルシン酸メチルエステ
ル、4−ブロム−3,5−レゾルシン酸、4−ブ
ロム−3,5−レゾルシン酸エタノールアミド、
レゾルシンモノヒドロキシエチルエーテル、2,
3−ジヒドロキシナフタレン、2,3−ジヒドロ
キシナフタレン−6−スルホン酸、1,6−ジヒ
ドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフ
タレン、2,7−ジヒドロキシナフタレン−3−
スルホン酸、1,8−ジヒドロキシナフタレン−
6−スルホン酸、2,7−ジヒドロキシナフタレ
ン−3,6−ジスルホン酸、2−ヒドロキシ−3
−ナフトエ酸−N−β−ヒドロキシエチルアミ
ド、2−ヒドロキシ−3−ナフトエ酸−N,N−
ビス−β−ヒドロキシエチルアミド、2−ヒドロ
キシ−3−ナフトエ酸−2′−メチルアニリド、2
−ヒドロキシ−3−ナフトエ酸−2′−メトキシア
ニリド、2−ヒドロキシ−3−ナフトエ酸−α−
ナフチルアミド、2−ヒドロキシ−3−ナフトエ
酸−3′−ニトロアニリド、2−ヒドロキシナフタ
レン−8−ビグアニジン、1−ナフトール−3−
(N−β−ヒドロキシエチル)−スルホンアミド等
が挙げられる。 また酸安定剤として、或いは色調々整、現像促
進等の目的でクエン酸、酒石酸、修酸、リンゴ
酸、グルタル酸、コハク酸、フマル酸、マレイン
酸、マロン酸等の有機酸やホウ酸、硫黄等の無機
酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン
酸、アントラキノンスルホン酸等のアリールスル
ホン酸又はこれらのアルカリ金属塩や亜鉛、ニツ
ケル、アルミニウム、マグネシウム、錫等の塩化
物、硫酸塩等を添加することができる。 更にバインダーとしてポリ酢酸ビニル、ポリ塩
化ビニル、ポリアクリレート、ポリメタクリレー
ト、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセ
ルロース、酢酸セルロース、酪酢酸セルロース、
プロピオン酸酢酸セルロース、硝酸セルロース等
を、またフイラーとしてシリカ、アルミナ、クレ
ー、石英粉末、ガラス粉末、澱粉、メラミン樹
脂、アセタール樹脂等を添加することができる。 本発明のジアゾ複写材料を作るには紙、プラス
チツクフイルム、合成紙等の支持体上に前述のよ
うなジアゾ化合物、カツプラー及び各種添加物を
含む感光液を塗布乾燥して感光層を形成すればよ
い。この場合、支持体上に予めバインダー及びフ
イラーを主成分とするプレコート層を設けておい
てもよい。 本発明のジアゾ複写材料に適用される現像方式
としては従来と同様、アンモニアガスによる乾式
法やアミン、炭酸ソーダ等の塩基性物質を少量の
水を用いて或いは用いずに溶解した有機溶媒系現
像液を微量塗布する半乾式法が挙げられる。 効 果 本発明のジアゾ複写材料においては一般式
()、()又は()のカツプラーと一般式
()のカツプラーとの併用により、現像性を低
下させることなく、現像後の地肌変色を防止する
ことができるので、コピーとして長期間の保管が
可能となる。 以下に本発明を実施例によつて説明する。なお
部は全て重量部である。 実施例 1 厚さ50μのポリエステルフイルムの表面を5%
トリクロル酢酸水溶液で処理した後、下記組成の
感光液を塗布乾燥して厚さ5μの感光層を有する
ジアゾ複写材料を作つた。 エチルセロソルブ 40部 メタノール 20部 アセトン 20部 酪酢酸セルロース 25部 シリカ(サイロイド244、富士デビソン社製)
10部 クエン酸 2部 スルホサリチル酸 0.5部 2,5−ジメチル−4−モルホリノメチルフエノ
ール 1.0部 m,m′−トリメチレンジオキシフエノール2.0部 レゾルシン 0.5部 2,5−ジエトキシ−4−モルホリノベンゼンジ
アゾニウム・BF4塩 4部 実施例 2 エチルセロソルブ 40部 メタノール 20部 アセトン 20部 酪酢酸セルロース 20部 塩化ビニル〜酢酸ビニル共重合体(ビニライト
VAGH、U.C.C社製) 5部 シリカ(サイロイド65、富士デビソン社製)10部 クエン酸 3部 2,4−ジメチル−4−ジエチルアミノメチルフ
エノール塩酸塩 1.5部 m,m′−エチレンジオキシジフエノール 2.0部 2,2′,4,4′−テトラヒドロキシジフエニルサ
ルフアイド 0.5部 2,5−ジエトキシ−4−モルホリノベンゼンジ
アゾニウム・BF4塩 4部 よりなる感光液を用いて実施例1と同様にしてジ
アゾ複写材料を作つた。 実施例 3 合成紙(ユポ TP−90、王子油化合成紙社製)
に次の組成のプレコート液を塗布乾燥して厚さ
5μのプレコート層を設けた。 トルエン 40部 メチルセロソルブ 40部 酪酢酸セルロース 20部 ビニライトVAGH 5部 シリカ(サイロイド 244) 15部 次いで下記組成の感光液を上記プレコート層上
に塗布乾燥して厚さ5μの感光層を有するジアゾ
複写材料を作つた。 メタノール 50部 アセトン 30部 エチルセロソルブ 20部 クエン酸 3部 N,N−ビス−(2,4−ジメチル−6−ヒドロ
キシベンジル)−メチルアミンの塩酸塩 2部 m,m′−エチレンジオキシジフエノール 1.5部 2−ヒドロキシ−3−ナフトエ酸−2′−メチルア
ニリド 0.7部 2,5−ジエトキシ−4−モルホリノベンゼンジ
アゾニウム・BF4塩 2部 2,5−ジブトキシ−4−モルホリノベンゼンジ
アゾニウム・BF4塩 2部 比較例 1 実施例1において感光液から2,5−ジメチル
−4−モルホリノメチルフエノールを除いた他は
同様にしてジアゾ複写材料を作つた。 比較例 2 実施例1において感光液からm,m′−トリメ
チレンジオキシジフエノールを除いた他は同様に
してジアゾ複写材料を作つた。 比較例 3 実施例2において感光液中のm,m′−エチレ
ンジオキシジフエノールの代りにm−ヒドロキシ
フエニル尿素を用いた他は同様にしてジアゾ複写
材料を作つた。 比較例 4 実施例3において感光液からN,N−ビス−
(2,4−ジメチル−6−ヒドロキシベンジル)−
メチルアミンの塩酸塩を除いた他は同様にしてジ
アゾ複写材料を作つた。 以上の各ジアゾ複写材料のうち、実施例1、2
及び比較例1、2、3は乾式現像法でコピーを作
成し、また実施例3及び比較例4は半乾式現像法
でコピーを作成し、性能を評価したところ、下表
の結果が得られた。
【表】 なお、濃度計はマクベス透過濃度計を使用し
た。 以上の結果から判る様に本発明品は現像速度を
低下させることなく、地肌がきれいで、特に経時
の地肌の変色が少ないため、コピーの長期間の保
管が可能となつた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 (a) 一般式() (但しR1、R2はアルキル基を表わす。) で示されるジアゾ化合物と、 (b) 一般式()()及び() (但しR3、R4はアルキル基を表わし、またR5
    R6は水素、アルキル基、ヒドロキシアルキル
    基、アルコキシアルキル基、アルキルアミノア
    ルキル基、シクロヘキシル基を表わすか、或い
    は酸素、硫黄、窒素又は炭素原子と共に環を形
    成してもよい。) (但しR7、R8はアルキル基を表わし、またR9
    は水素、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、
    アルコキシアルキル基、アルキルアミノアルキ
    ル基又はシクロヘキシル基を表わす。) (但しR10、R11はアルキル基を表わす。) で示される少くとも1種のアルキルフエノール
    系カツプラーと、 (c)一般式() (但しR12はアルキレン基、アルキレンフエニ
    レンアルキレン基又はイソアルキリデン基を表
    わし、R13、R14は水素、アルキル基、スルホ
    基又はハロゲンを表わし、またpは0又は整数
    を表わす。) で示されるレゾルシノールエーテル系カツプラ
    ーとを含有することを特徴とする2成分型ジア
    ゾ複写材料。
JP7870983A 1983-05-04 1983-05-04 2成分型ジアゾ複写材料 Granted JPS59204035A (ja)

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JP7870983A JPS59204035A (ja) 1983-05-04 1983-05-04 2成分型ジアゾ複写材料

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JP7870983A JPS59204035A (ja) 1983-05-04 1983-05-04 2成分型ジアゾ複写材料

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Publication Number Publication Date
JPS59204035A JPS59204035A (ja) 1984-11-19
JPH05692B2 true JPH05692B2 (ja) 1993-01-06

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ID=13669387

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JPS59204035A (ja) 1984-11-19

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