JPS6161093B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6161093B2 JPS6161093B2 JP1137979A JP1137979A JPS6161093B2 JP S6161093 B2 JPS6161093 B2 JP S6161093B2 JP 1137979 A JP1137979 A JP 1137979A JP 1137979 A JP1137979 A JP 1137979A JP S6161093 B2 JPS6161093 B2 JP S6161093B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diazo
- silica particles
- photosensitive layer
- acid
- specific gravity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/52—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances
- G03C1/61—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances with non-macromolecular additives
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は１成分型又は２成分型ジアゾ複写材料
の改良に関する。
の改良に関する。
ジアゾ複写材料は例えば２成分型の場合は周知
のように紙支持体上にジアゾニウム化合物、カツ
プリング成分及び酸安定剤を主成分とする感光層
を設けたものであるが、更に画像濃度を向上させ
るために、感光層中にシリカ微粒子を添加するこ
とも知られている。ここで使用されるシリカは一
般に見掛比重が0.2以下で、従つて硬度の低いも
のである。しかしこのように低硬度のシリカを用
いれば必然的に感光層が柔軟化するため、感光層
における鉛筆の筆記性が悪くなるし、鉛筆の成分
が感光層中に入り易くなるので、消しゴムによる
消去性も悪くなる。そこでこれらの欠点を除去す
る目的で、前述のような低硬度シリカにポリスチ
レン、熱硬化性樹脂等の硬質バインダーを併用し
たり、或いは見掛比重0.2〜0.3程度の比較的高硬
度のシリカを用いる等の方法が提案されている。
しかし前者の方法では感光層に脆さが出て破損し
易くなるという新たな欠点が生じるし、更にバイ
ンダーとして熱硬化性樹脂を用いた場合は、樹脂
の硬化により、共存するジアゾ化合物が分解する
結果、生感光紙の保存性が悪くなる上、現像時の
現像剤の感光層への滲透が阻止される結果、現像
が充分に行なわれなくなる等の欠点も生じる。一
方、後者の方法では見掛比重0.2以下の一般のシ
リカに比べ塗膜の表面積が小さくなりジアゾ複写
材料としては画像濃度が低く見劣りがするという
欠点がある。
のように紙支持体上にジアゾニウム化合物、カツ
プリング成分及び酸安定剤を主成分とする感光層
を設けたものであるが、更に画像濃度を向上させ
るために、感光層中にシリカ微粒子を添加するこ
とも知られている。ここで使用されるシリカは一
般に見掛比重が0.2以下で、従つて硬度の低いも
のである。しかしこのように低硬度のシリカを用
いれば必然的に感光層が柔軟化するため、感光層
における鉛筆の筆記性が悪くなるし、鉛筆の成分
が感光層中に入り易くなるので、消しゴムによる
消去性も悪くなる。そこでこれらの欠点を除去す
る目的で、前述のような低硬度シリカにポリスチ
レン、熱硬化性樹脂等の硬質バインダーを併用し
たり、或いは見掛比重0.2〜0.3程度の比較的高硬
度のシリカを用いる等の方法が提案されている。
しかし前者の方法では感光層に脆さが出て破損し
易くなるという新たな欠点が生じるし、更にバイ
ンダーとして熱硬化性樹脂を用いた場合は、樹脂
の硬化により、共存するジアゾ化合物が分解する
結果、生感光紙の保存性が悪くなる上、現像時の
現像剤の感光層への滲透が阻止される結果、現像
が充分に行なわれなくなる等の欠点も生じる。一
方、後者の方法では見掛比重0.2以下の一般のシ
リカに比べ塗膜の表面積が小さくなりジアゾ複写
材料としては画像濃度が低く見劣りがするという
欠点がある。
本発明の目的は鉛筆による筆記性及び消しゴム
による消去性に優れる上、高濃度画像を形成し得
る１成分型又は２成分型ジアゾ複写材料を提供す
ることである。
による消去性に優れる上、高濃度画像を形成し得
る１成分型又は２成分型ジアゾ複写材料を提供す
ることである。
即ち本発明のジアゾ複写材料は支持体上に、結
着剤を主成分とするプレコート層を介し又は介さ
ずに、ジアゾニウム化合物及び酸安定剤を主成分
とするか、或いはジアゾニウム化合物、カツプリ
ング成分及び酸安定剤を主成分とする感光層を設
けたジアゾ複写材料において、前記プレコート層
中又は感光層中に更に平均粒径５μ以下で見掛比
重0.20以下のシリカ粒子及び同じく平均粒径５μ
以下で見掛比重0.30以上のシリカ粒子を含むこと
を特徴とするものである。
着剤を主成分とするプレコート層を介し又は介さ
ずに、ジアゾニウム化合物及び酸安定剤を主成分
とするか、或いはジアゾニウム化合物、カツプリ
ング成分及び酸安定剤を主成分とする感光層を設
けたジアゾ複写材料において、前記プレコート層
中又は感光層中に更に平均粒径５μ以下で見掛比
重0.20以下のシリカ粒子及び同じく平均粒径５μ
以下で見掛比重0.30以上のシリカ粒子を含むこと
を特徴とするものである。
前述のようにジアゾ複写材料において高濃度画
像を得るために見掛比重の小さいシリカ微粒子を
用いることは公知であるが、本発明ではこのよう
な見掛比重の小さいシリカ微粒子の他に見掛比重
の大きいシリカ微粒子を併用するところに特徴が
ある。
像を得るために見掛比重の小さいシリカ微粒子を
用いることは公知であるが、本発明ではこのよう
な見掛比重の小さいシリカ微粒子の他に見掛比重
の大きいシリカ微粒子を併用するところに特徴が
ある。
本発明で使用されるシリカ粒子は、平均粒径５
μ以下で見掛比重が0.20ｇ／ml以下のものと同じ
く平均粒径５μ以下で見掛比重が0.30ｇ／ml以上
のものとの混合物（場合により混合シリカ粒子と
呼ぶことがある）、即ち平均粒径５μ以下の粒子
のうち見掛比重が0.20を越え0.30未満のものを除
いたシリカ粒子である。平均粒径が５μを越える
と、感光層の表面が粗くなり、砂目状の地合にな
り細線の再現性が低下する。また見掛比重が0.20
を越え0.30未満のものを含むと、画像濃度が見劣
り、鉛筆による筆記性が劣る。なお見掛比重が
0.30以上のシリカ粒子と見掛比重が0.20以下のシ
リカ粒子との混合比は１〜20／50（重量）程度が
適当である。
μ以下で見掛比重が0.20ｇ／ml以下のものと同じ
く平均粒径５μ以下で見掛比重が0.30ｇ／ml以上
のものとの混合物（場合により混合シリカ粒子と
呼ぶことがある）、即ち平均粒径５μ以下の粒子
のうち見掛比重が0.20を越え0.30未満のものを除
いたシリカ粒子である。平均粒径が５μを越える
と、感光層の表面が粗くなり、砂目状の地合にな
り細線の再現性が低下する。また見掛比重が0.20
を越え0.30未満のものを含むと、画像濃度が見劣
り、鉛筆による筆記性が劣る。なお見掛比重が
0.30以上のシリカ粒子と見掛比重が0.20以下のシ
リカ粒子との混合比は１〜20／50（重量）程度が
適当である。
これらのシリカ粒子は市販品として容易に入手
できる。即ち平均粒径５μ以下で見掛比重が0.20
以下のシリカ粒子としては例えばアエロジル
130、同200、同OX−50、同MOX80（以上、日本
アエロジル（株）製）、カープレツクス＃67、同
＃80（以上、シオノギ製薬（株）製）、サイロイ
ド244、同255、同266（以上、富士デビソン化学
（株）製）、ミズカシルＰ−526、同Ｐ−801、同Ｐ
−530（以上、水沢化学工業（株）製）、フアイン
シールＥ−50、同Ｔ−32、同Ｂ（以上、徳山曹達
（株）製）等が、また平均粒径５μ以下で見掛比
重0.30以上のシリカ粒子としてはサイロイド65
（富士デビソン化学（株）製）、シルトンＡ、同
AK（以上、水沢化学工業（株）製）、クリスタ
ライトVXS、同VXX、同VXR（以上、（株）龍森
製）、イムシルＡ−10、同Ａ−108（以上、イリノ
イスミネラルス社製）等が挙げられる。なおこれ
らのシリカ粒子は後述するような結着剤と併用さ
れる。
できる。即ち平均粒径５μ以下で見掛比重が0.20
以下のシリカ粒子としては例えばアエロジル
130、同200、同OX−50、同MOX80（以上、日本
アエロジル（株）製）、カープレツクス＃67、同
＃80（以上、シオノギ製薬（株）製）、サイロイ
ド244、同255、同266（以上、富士デビソン化学
（株）製）、ミズカシルＰ−526、同Ｐ−801、同Ｐ
−530（以上、水沢化学工業（株）製）、フアイン
シールＥ−50、同Ｔ−32、同Ｂ（以上、徳山曹達
（株）製）等が、また平均粒径５μ以下で見掛比
重0.30以上のシリカ粒子としてはサイロイド65
（富士デビソン化学（株）製）、シルトンＡ、同
AK（以上、水沢化学工業（株）製）、クリスタ
ライトVXS、同VXX、同VXR（以上、（株）龍森
製）、イムシルＡ−10、同Ａ−108（以上、イリノ
イスミネラルス社製）等が挙げられる。なおこれ
らのシリカ粒子は後述するような結着剤と併用さ
れる。
本発明で使用されるその他の素材はいずれも従
来のものでよい。即ちジアゾ化合物としてはジア
ゾ複写方法においてカツプリング成分と通常の条
件下でカツプリングするものであれば何れも使用
できる。このようなジアゾ化合物の例は次の通り
である。
来のものでよい。即ちジアゾ化合物としてはジア
ゾ複写方法においてカツプリング成分と通常の条
件下でカツプリングするものであれば何れも使用
できる。このようなジアゾ化合物の例は次の通り
である。
◎パラフエニレンジアミンＮ・Ｎ置換化合物系
一般式
（Ｘ：アニオン
R′、R″：アリフアテイツク基
Ｚ、Ｙ：ベンゼン核に導入出来る基）
４−ジアゾ−Ｎ・Ｎ−ジメチルアニリン（略称
MAソルト） ４−ジアゾ−Ｎ・Ｎ−ジエチルアニリン（略称
EAソルト） ４−ジアゾ−Ｎ−エチル−Ｎ−β−ヒドロキシ
エチルアニリン（略称EHソルト） ４−ジアゾ−Ｎ・Ｎ−ビス−β−ヒドロキシエ
チルアニリン ４−ジアゾ−Ｎ−メチル−Ｎ−β−ヒドロキシ
エチルアニリン ４−ジアゾ−Ｎ−エチル−Ｎ−β−ヒドロオキ
シプロピルアニリン 〔その他アルキル又はヒドロオキシアルキルによ
つてＮモノ又はＮ・Ｎ置換されたパラフエニレン
ジアミンジアゾニウムソルト〕 ４−ジアゾ−Ｎ−エチル−Ｎ−（βジエチルア
ミノ）−エチルアニリン ４−ジアゾ−２−クロロ−Ｎ・Ｎ−ジエチルア
ニリン ４−ジアゾ−２−メチル−Ｎ・Ｎ−ジエチルア
ニリン ４−ジアゾ−２−アイオド−Ｎ・Ｎ−ジエチル
アニリン ４−ジアゾ−２−トリフルオロメチル−Ｎ・Ｎ
−ジエチルアニリン ４−ジアゾ−Ｎエチル−Ｎ−ベンジルアニリン ４−ジアゾ−Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアニリ
ン（略称メチルベンジル） ◎アミノハイドロキノンエーテル系 一般式 （Ｒ、R′及びR″はアルキル又はアリール基） ４−ジアゾ−２・５−ジブトオキシ−Ｎ・Ｎ−
ジエチルアニリン ４−ジアゾ−２・５−ジエトオキシ−Ｎ−ベン
ゾイルアニリン（略称Ｂ・Ｂソルト） ４−ジアゾ−２・５−ジエトオキシ−Ｎ−エチ
ル−Ｎ−ベンゾイルアニリン ４−ジアゾ−２・５−ジベンジルオキシ−Ｎ−
ベンゾイルアニリン ４−ジアゾ−２−クロロ−５−メトキシ−Ｎ−
ベンゾイルアニリン ４−ジアゾ−２・５−ジエトオキシ−Ｎ−ベン
ゾイル−メチルアニリン ４−ジアゾ−２・５−ジエトオキシ−Ｎ−ベン
ゾイル−オキシメチルアニリン その他、４−ジアゾ−２・５−ジオキシアルキ
ル（又はジオキシアリール）−Ｎ−アルキル（又
はアリール）化合物及びその誘導体 ◎アミノジフエニール、アミノジフエニールアミ
ン及び類似化合物 一般式 ＸN2−Ｒ−Ａ−R′ 及び ＸN2−Ｒ−Ａ−R′−N2X 〔ジアリールアミン〔Ａ：−NH−〕 ジフエニール〔Ａ：シングルボンド〕 ジフエニールオキサイド〔Ａ：−Ｏ−〕 ジアリールメタン〔Ａ：−CH2−〕 スチルベン〔Ａ：−CH＝CH−〕 ジアリール又はアリールアルキルサルフアイド
〔Ａ：Ｓ〕 パラジアゾジフエニールアミン〕 ４−ジアゾ−２・５・4′−トリエトキシジフエ
ニールアミン ４−ジアゾ−２・５・４−トリエトキシジフエ
ニール ４・4′−ビスジアゾ−２・2′・５・5′−テトラ
ヒドロオキシジフエニールメチン ビスジアゾ−３・3′−ジクロロ−５・5′−ジメ
トキシベンチジン ４−ジアゾ−２・５−ジメトキシフエニールエ
チル−サルフアイド ４−ジアゾ−２・５−ジエトキシ−4′−メチル
−ジフエニール−サルフアイド ◎ヘテロサイクリツクアミンの誘導体 〔Ａ：Ｏ〔モルフオリン系〕、Ｓ〔チオモルフオリ
ン〕メチレングループ〔フエニールピペリジ
ン〕シングルボンド〔フエニールピロリジン
系〕〕 ４−ジアゾ−２・５−ジゾトキシ−Ｎ−フエニ
ールモルフオリン ４−ジアゾ−２・５−ジエトキシ−Ｎ−フエニ
ールモルフオリン ４−ジアゾ−２−メトキシ−Ｎ−チオモルフオ
リン ４−ジアゾ−Ｎ−フエニールピペリジン ４−ジアゾ−Ｎ−フエニールピロリジン ４−ジアゾ−２・５−ｎ−ブトキシ−Ｎ−フエ
ニールピペリジン その他４−ジアゾ−Ｎ−フエニール、ヘテロサ
イクリツクアミンの誘導体 ◎オルソフエニレンジアミンＮ・Ｎ置換化合物の
誘導体及びオルソアミノフエノールの誘導体 ２−ジアゾ−４−メチルメルカプト−Ｎ・
N′−ジメチルアニリン ２−ジアゾ−５−ベンゾイルアミノ−Ｎ・
N′−ジメチルアニリン ２−ジアゾ−１−ナフトール−５−スルフオン
酸 以上述べたジアゾ化合物は硫酸塩、塩酸塩又は
弗化ホウ素酸塩として比較的安定なジアゾニウム
塩として用いるか更に塩化亜鉛、塩化錫、硫酸ア
ルミニウム、等による複塩として用いられる。
MAソルト） ４−ジアゾ−Ｎ・Ｎ−ジエチルアニリン（略称
EAソルト） ４−ジアゾ−Ｎ−エチル−Ｎ−β−ヒドロキシ
エチルアニリン（略称EHソルト） ４−ジアゾ−Ｎ・Ｎ−ビス−β−ヒドロキシエ
チルアニリン ４−ジアゾ−Ｎ−メチル−Ｎ−β−ヒドロキシ
エチルアニリン ４−ジアゾ−Ｎ−エチル−Ｎ−β−ヒドロオキ
シプロピルアニリン 〔その他アルキル又はヒドロオキシアルキルによ
つてＮモノ又はＮ・Ｎ置換されたパラフエニレン
ジアミンジアゾニウムソルト〕 ４−ジアゾ−Ｎ−エチル−Ｎ−（βジエチルア
ミノ）−エチルアニリン ４−ジアゾ−２−クロロ−Ｎ・Ｎ−ジエチルア
ニリン ４−ジアゾ−２−メチル−Ｎ・Ｎ−ジエチルア
ニリン ４−ジアゾ−２−アイオド−Ｎ・Ｎ−ジエチル
アニリン ４−ジアゾ−２−トリフルオロメチル−Ｎ・Ｎ
−ジエチルアニリン ４−ジアゾ−Ｎエチル−Ｎ−ベンジルアニリン ４−ジアゾ−Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアニリ
ン（略称メチルベンジル） ◎アミノハイドロキノンエーテル系 一般式 （Ｒ、R′及びR″はアルキル又はアリール基） ４−ジアゾ−２・５−ジブトオキシ−Ｎ・Ｎ−
ジエチルアニリン ４−ジアゾ−２・５−ジエトオキシ−Ｎ−ベン
ゾイルアニリン（略称Ｂ・Ｂソルト） ４−ジアゾ−２・５−ジエトオキシ−Ｎ−エチ
ル−Ｎ−ベンゾイルアニリン ４−ジアゾ−２・５−ジベンジルオキシ−Ｎ−
ベンゾイルアニリン ４−ジアゾ−２−クロロ−５−メトキシ−Ｎ−
ベンゾイルアニリン ４−ジアゾ−２・５−ジエトオキシ−Ｎ−ベン
ゾイル−メチルアニリン ４−ジアゾ−２・５−ジエトオキシ−Ｎ−ベン
ゾイル−オキシメチルアニリン その他、４−ジアゾ−２・５−ジオキシアルキ
ル（又はジオキシアリール）−Ｎ−アルキル（又
はアリール）化合物及びその誘導体 ◎アミノジフエニール、アミノジフエニールアミ
ン及び類似化合物 一般式 ＸN2−Ｒ−Ａ−R′ 及び ＸN2−Ｒ−Ａ−R′−N2X 〔ジアリールアミン〔Ａ：−NH−〕 ジフエニール〔Ａ：シングルボンド〕 ジフエニールオキサイド〔Ａ：−Ｏ−〕 ジアリールメタン〔Ａ：−CH2−〕 スチルベン〔Ａ：−CH＝CH−〕 ジアリール又はアリールアルキルサルフアイド
〔Ａ：Ｓ〕 パラジアゾジフエニールアミン〕 ４−ジアゾ−２・５・4′−トリエトキシジフエ
ニールアミン ４−ジアゾ−２・５・４−トリエトキシジフエ
ニール ４・4′−ビスジアゾ−２・2′・５・5′−テトラ
ヒドロオキシジフエニールメチン ビスジアゾ−３・3′−ジクロロ−５・5′−ジメ
トキシベンチジン ４−ジアゾ−２・５−ジメトキシフエニールエ
チル−サルフアイド ４−ジアゾ−２・５−ジエトキシ−4′−メチル
−ジフエニール−サルフアイド ◎ヘテロサイクリツクアミンの誘導体 〔Ａ：Ｏ〔モルフオリン系〕、Ｓ〔チオモルフオリ
ン〕メチレングループ〔フエニールピペリジ
ン〕シングルボンド〔フエニールピロリジン
系〕〕 ４−ジアゾ−２・５−ジゾトキシ−Ｎ−フエニ
ールモルフオリン ４−ジアゾ−２・５−ジエトキシ−Ｎ−フエニ
ールモルフオリン ４−ジアゾ−２−メトキシ−Ｎ−チオモルフオ
リン ４−ジアゾ−Ｎ−フエニールピペリジン ４−ジアゾ−Ｎ−フエニールピロリジン ４−ジアゾ−２・５−ｎ−ブトキシ−Ｎ−フエ
ニールピペリジン その他４−ジアゾ−Ｎ−フエニール、ヘテロサ
イクリツクアミンの誘導体 ◎オルソフエニレンジアミンＮ・Ｎ置換化合物の
誘導体及びオルソアミノフエノールの誘導体 ２−ジアゾ−４−メチルメルカプト−Ｎ・
N′−ジメチルアニリン ２−ジアゾ−５−ベンゾイルアミノ−Ｎ・
N′−ジメチルアニリン ２−ジアゾ−１−ナフトール−５−スルフオン
酸 以上述べたジアゾ化合物は硫酸塩、塩酸塩又は
弗化ホウ素酸塩として比較的安定なジアゾニウム
塩として用いるか更に塩化亜鉛、塩化錫、硫酸ア
ルミニウム、等による複塩として用いられる。
一方、２成分系の場合に用いるアゾカツプリン
グ成分としては前記したジアゾニウム化合物とカ
ツプリング可能なカツプリング成分であれば何れ
をも使用できる。これらのカツプラーとしては、
フエノール誘導体、オキシナフタレン誘導体、活
性メチレン基を含む化合物、ヘテロサイクリツク
化合物等が挙げられ、これらの具体的な化合物と
しては次の如き化合物が挙げられる。
グ成分としては前記したジアゾニウム化合物とカ
ツプリング可能なカツプリング成分であれば何れ
をも使用できる。これらのカツプラーとしては、
フエノール誘導体、オキシナフタレン誘導体、活
性メチレン基を含む化合物、ヘテロサイクリツク
化合物等が挙げられ、これらの具体的な化合物と
しては次の如き化合物が挙げられる。
フエノール誘導体
ピロカテコール
レゾルシン
フロログリシン
ピロガロール
レゾルシンモノグリコールエーテル
レゾルシングリコールエーテル
メタアミノフエノール
パラアミノフエノール
ジエチルアミノフエノール
２・５・６−トリメチルフエノール
２−ヒドロオキシメチルフエノール
β−（２−ヒドロオキシフエニール）−プロピオ
ニツクアシツド ２−（ω−フエニールアミノメチル）−フエノー
ル β−（４−メチル−２−ヒドロオキシフエニー
ル）−グルタリツクアシド ２・５−ジメチル−６−（Ｎ−ジメチルアミノ
メチル）−フエノール ピロガロールの１・３ジメチルエーテル Ｎ−ラウリル−パラ−アミノフエノール Ｎ−アシル−メタ−アミノフエノール メタヒドロオキシ−アセトアニリド オルト−Ｎ−ヒドロジフエノール−モノ−グア
ニジン パラ−Ｎ−ヒドロジフエノール−ピ−グアニジ
ン ２・５−ジメチル−４−モルフオリノメチルフ
エノール ２−メチル−５−イソプロピル−４−モルフオ
リノメチルフエノール ４−モルフオリンメチルレゾルシノールモノメ
チルエーテル ３・3′・５−トリヒドロオキシジフエニール ３・3′・５・5′−テトラヒドロオキシジフエニ
ール ２・2′・４・4′−テトラヒドロオキシジフエニ
ール ２・４・4′−トリヒドロオキシジフエニール−
2′−スルフオニツクアシツド ２・４・６・3′・5′−ペンタヒドロオキシジフ
エニール ２・2′・４・4′−テトラヒドロオキシジフエニ
ールサルフアイド オキシナフタレン誘導体 ２・３−ジオキシナフタレン β−ナフトール α−ナフトール １・６−ジオキシナフタレン ２・７−ジオキシナフタレン ２・３−ジヒドロオキシナフタレン−６−スル
フオン酸 ２−ナフトール−３・６−ジスルフオン酸 ２・７−ジヒドロオキシナフタレン−３−スル
フオン酸 ２・８−ジヒドロオキシナフタレン−６−スル
フオン酸 １・８−ジヒドロオキシナフタレン−８−スル
フオン酸 １−８−アミノナフトール−５−スルフオン酸 ２・７−ジヒドロオキシ−３・６−ジスルフオ
ン酸 １・８−ベンゾイルアミノナフトール−２−ス
ルフオン酸 １・８−ジヒドロオキシナフタレン−６−スル
フオン酸 ２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸−Ｎ−β−ヒ
ドロオキシエチルアマイド ２−ヒドロオキシ−３−ナフトエ酸−Ｎ・Ｎ−
ビス−β−ヒドロオキシエチルアマイド ８−ヒドロオキシ−２−ナフトエ酸−ヒドロオ
キシエチルアマイド １−（Ｎ−カルボエトキシメチルアミノ）−８−
ナフトール−４−スルフオン酸 ５−（パラ−ニトロ）−ベンズアミド−１−ナフ
トール １−ヒドロオキシナフチール−７−フエニール
グアニジン ２−ヒドロオキシ−ナフチール−８−ピグアニ
ジン １−ナフトール−３−（Ｎ−β−ヒドロエチ
ル）−スルフオンアマイド １−ナフトール−３−（Ｎ−Ｏ−メトキシフエ
ニール）−スルフオンアマイド ビス−〔５−オキシ−７−スルホ−ナフチル
(2)〕アミン Ｎ・Ｎ−ビス〔１−オキシ−３−スルホ−ナフ
チル(6)〕−チオユリア 活性メチレン基を含む化合物 １−フエニル−３−メチルピラゾロン(5)アセト
アセチツクアシツドアニリド １−フエニル−３−カーボキシピラゾロン アセトアセチツクアシツドシクロヘキシルアマ
イド アセトアセチツクアシツドベンジルアマイド シアノアセトアニリド シアノアセトモルフオリン ヘテロサイクリツク化合物 １−（3′−スルフオアミド）−フエニール−３−
メチルピロゾロン−５ １−（4′−カルボキシ−エチルフエニール）−３
−ドデシル−ピラゾロン−５ ３−ヒドロオキシ１・２−ナフチイミダゾール ２−メチル−４−ヒドロオキシベンツイミダゾ
ール ７−メチル−４−ヒドロキシベンゾチアゾール １・７−ジメチル−４−ヒドロオキシ−ベンゾ
トリアゾール 酸安定剤としてはクエン酸、酒石酸、蓚酸、リ
ン酸、硼酸等、通常のものが使用できる。
ニツクアシツド ２−（ω−フエニールアミノメチル）−フエノー
ル β−（４−メチル−２−ヒドロオキシフエニー
ル）−グルタリツクアシド ２・５−ジメチル−６−（Ｎ−ジメチルアミノ
メチル）−フエノール ピロガロールの１・３ジメチルエーテル Ｎ−ラウリル−パラ−アミノフエノール Ｎ−アシル−メタ−アミノフエノール メタヒドロオキシ−アセトアニリド オルト−Ｎ−ヒドロジフエノール−モノ−グア
ニジン パラ−Ｎ−ヒドロジフエノール−ピ−グアニジ
ン ２・５−ジメチル−４−モルフオリノメチルフ
エノール ２−メチル−５−イソプロピル−４−モルフオ
リノメチルフエノール ４−モルフオリンメチルレゾルシノールモノメ
チルエーテル ３・3′・５−トリヒドロオキシジフエニール ３・3′・５・5′−テトラヒドロオキシジフエニ
ール ２・2′・４・4′−テトラヒドロオキシジフエニ
ール ２・４・4′−トリヒドロオキシジフエニール−
2′−スルフオニツクアシツド ２・４・６・3′・5′−ペンタヒドロオキシジフ
エニール ２・2′・４・4′−テトラヒドロオキシジフエニ
ールサルフアイド オキシナフタレン誘導体 ２・３−ジオキシナフタレン β−ナフトール α−ナフトール １・６−ジオキシナフタレン ２・７−ジオキシナフタレン ２・３−ジヒドロオキシナフタレン−６−スル
フオン酸 ２−ナフトール−３・６−ジスルフオン酸 ２・７−ジヒドロオキシナフタレン−３−スル
フオン酸 ２・８−ジヒドロオキシナフタレン−６−スル
フオン酸 １・８−ジヒドロオキシナフタレン−８−スル
フオン酸 １−８−アミノナフトール−５−スルフオン酸 ２・７−ジヒドロオキシ−３・６−ジスルフオ
ン酸 １・８−ベンゾイルアミノナフトール−２−ス
ルフオン酸 １・８−ジヒドロオキシナフタレン−６−スル
フオン酸 ２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸−Ｎ−β−ヒ
ドロオキシエチルアマイド ２−ヒドロオキシ−３−ナフトエ酸−Ｎ・Ｎ−
ビス−β−ヒドロオキシエチルアマイド ８−ヒドロオキシ−２−ナフトエ酸−ヒドロオ
キシエチルアマイド １−（Ｎ−カルボエトキシメチルアミノ）−８−
ナフトール−４−スルフオン酸 ５−（パラ−ニトロ）−ベンズアミド−１−ナフ
トール １−ヒドロオキシナフチール−７−フエニール
グアニジン ２−ヒドロオキシ−ナフチール−８−ピグアニ
ジン １−ナフトール−３−（Ｎ−β−ヒドロエチ
ル）−スルフオンアマイド １−ナフトール−３−（Ｎ−Ｏ−メトキシフエ
ニール）−スルフオンアマイド ビス−〔５−オキシ−７−スルホ−ナフチル
(2)〕アミン Ｎ・Ｎ−ビス〔１−オキシ−３−スルホ−ナフ
チル(6)〕−チオユリア 活性メチレン基を含む化合物 １−フエニル−３−メチルピラゾロン(5)アセト
アセチツクアシツドアニリド １−フエニル−３−カーボキシピラゾロン アセトアセチツクアシツドシクロヘキシルアマ
イド アセトアセチツクアシツドベンジルアマイド シアノアセトアニリド シアノアセトモルフオリン ヘテロサイクリツク化合物 １−（3′−スルフオアミド）−フエニール−３−
メチルピロゾロン−５ １−（4′−カルボキシ−エチルフエニール）−３
−ドデシル−ピラゾロン−５ ３−ヒドロオキシ１・２−ナフチイミダゾール ２−メチル−４−ヒドロオキシベンツイミダゾ
ール ７−メチル−４−ヒドロキシベンゾチアゾール １・７−ジメチル−４−ヒドロオキシ−ベンゾ
トリアゾール 酸安定剤としてはクエン酸、酒石酸、蓚酸、リ
ン酸、硼酸等、通常のものが使用できる。
またシリカ粒子と共に使用される結着剤として
はカルボキシメチルセルロース、アルカリ変性カ
ゼイン、ゼラチン、アルギン酸アルカリ、アラビ
アゴム、シアノエチル化澱粉、ポリ酢酸ビニル、
ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、
アクリル酸エステル樹脂、ポリアクリルアミド、
スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン
樹脂、酢酸ビニル〜アクリル酸エステル共重合
体、アクリル酸エステル〜スチレン共重合体、ブ
タジエン〜メタクリル酸エステル共重合体、ブタ
ジエン〜スチレン共重合体、ブタジエン−アクリ
ロニトリル共重合体等の熱可塑性樹脂、及び変性
メラミン樹脂、メチロールメラミン縮合物、尿素
〜メラミン共縮合物、アルコール変性尿素〜ホル
ムアルデヒド樹脂、アルキツド樹脂、変性アルキ
ツド樹脂等が挙げられる。これは単独又は２種以
上組合せて使用される。
はカルボキシメチルセルロース、アルカリ変性カ
ゼイン、ゼラチン、アルギン酸アルカリ、アラビ
アゴム、シアノエチル化澱粉、ポリ酢酸ビニル、
ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、
アクリル酸エステル樹脂、ポリアクリルアミド、
スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン
樹脂、酢酸ビニル〜アクリル酸エステル共重合
体、アクリル酸エステル〜スチレン共重合体、ブ
タジエン〜メタクリル酸エステル共重合体、ブタ
ジエン〜スチレン共重合体、ブタジエン−アクリ
ロニトリル共重合体等の熱可塑性樹脂、及び変性
メラミン樹脂、メチロールメラミン縮合物、尿素
〜メラミン共縮合物、アルコール変性尿素〜ホル
ムアルデヒド樹脂、アルキツド樹脂、変性アルキ
ツド樹脂等が挙げられる。これは単独又は２種以
上組合せて使用される。
以上の素材は通常、次のような量的範囲で使用
される。まず混合シリカ粒子はジアゾ化合物１重
量部に対し１〜５重量部程度、２成分系の場合の
カツプリング成分はジアゾ化合物１モルに対し１
〜５モル程度、酸安定剤はジアゾ化合物１重量部
に対し１〜３重量部程度、また結着剤はシリカ粒
子混合物１重量部に対し0.5〜３重量部程度が適
当である。
される。まず混合シリカ粒子はジアゾ化合物１重
量部に対し１〜５重量部程度、２成分系の場合の
カツプリング成分はジアゾ化合物１モルに対し１
〜５モル程度、酸安定剤はジアゾ化合物１重量部
に対し１〜３重量部程度、また結着剤はシリカ粒
子混合物１重量部に対し0.5〜３重量部程度が適
当である。
本発明の感光層には一般のジアゾ複写材料に用
いられる各種添加剤（例えばサポニン、エチレン
グリコール、チオ尿素等）を添加することができ
る。またこの感光層は従来と同様、塗布法によつ
て形成される。この場合、感光層の厚さは５〜20
μ程度が適当である。
いられる各種添加剤（例えばサポニン、エチレン
グリコール、チオ尿素等）を添加することができ
る。またこの感光層は従来と同様、塗布法によつ
て形成される。この場合、感光層の厚さは５〜20
μ程度が適当である。
また本発明においては更に画像濃度向上及び感
光液の支持体への吸着量を制御するために、支持
体と感光層との間にプレコート層を設けることが
できる。この場合、プレコート層の構成材料とし
ては前述の結着剤、或いはこれに更に白色顔料を
混合したものが挙げられる。白色顔料としては前
述のようなシリカ粒子又は混合シリカ粒子、二酸
化チタン、酸化亜鉛、アルミナ等がある。なお混
合シリカ粒子（及び同時に結着剤）を用いた場合
は感光層から混合シリカ粒子（及び同時に結着
剤）を除くことができる。
光液の支持体への吸着量を制御するために、支持
体と感光層との間にプレコート層を設けることが
できる。この場合、プレコート層の構成材料とし
ては前述の結着剤、或いはこれに更に白色顔料を
混合したものが挙げられる。白色顔料としては前
述のようなシリカ粒子又は混合シリカ粒子、二酸
化チタン、酸化亜鉛、アルミナ等がある。なお混
合シリカ粒子（及び同時に結着剤）を用いた場合
は感光層から混合シリカ粒子（及び同時に結着
剤）を除くことができる。
以下に実施例を示す。
実施例 １
水 １
サイロイド65 ５ｇ
サイロイド244 30ｇ
ポリ酢酸ビニルエマルジヨン（固形分50％）30ｇ
よりなるプレコート液をジアゾ複写紙用原紙に塗
布乾燥して厚さ５μのプレコート層を形成後、下
記感光液を塗布乾燥して厚さ５μの感光層を設
け、ジアゾ複写材料を作成した。
布乾燥して厚さ５μのプレコート層を形成後、下
記感光液を塗布乾燥して厚さ５μの感光層を設
け、ジアゾ複写材料を作成した。
水 １
クエン酸 20ｇ
２・５−ジエトキシ−４−モルホリノベンゼンジ
アゾニウムクロライド・塩化亜鉛複塩 10ｇ ２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸モルホリノプロ
ピルアミド 15ｇ 塩化亜鉛 15ｇ １・３・６−ナフタレントリスルホン酸ナトリウ
ム 10ｇ チオ尿素 20ｇ エチレングリコール 30ｇ 一方、プレコート層処方からサイロイド65を除
いた他は本実施例と同じ方法で比較用ジアゾ複写
材料を作成した。
アゾニウムクロライド・塩化亜鉛複塩 10ｇ ２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸モルホリノプロ
ピルアミド 15ｇ 塩化亜鉛 15ｇ １・３・６−ナフタレントリスルホン酸ナトリウ
ム 10ｇ チオ尿素 20ｇ エチレングリコール 30ｇ 一方、プレコート層処方からサイロイド65を除
いた他は本実施例と同じ方法で比較用ジアゾ複写
材料を作成した。
以上のようにして得られたジアゾ複写材料を市
販の乾式ジアゾ複写機で複写した。得られた２種
のコピーは、画像濃度は同一であつたが、鉛筆に
よる筆記性及び消しゴムによる消去性は本発明品
の方がすぐれていた。
販の乾式ジアゾ複写機で複写した。得られた２種
のコピーは、画像濃度は同一であつたが、鉛筆に
よる筆記性及び消しゴムによる消去性は本発明品
の方がすぐれていた。
実施例 ２
水 １
アエロジル130 10ｇ
クリスタライトVXX ２ｇ
クエン酸 20ｇ
Ｎ・N′−ジエチルアミノベンゼンジアゾニウム
クロライド・塩化亜鉛複塩 10ｇ ２・３−ジヒドロキシナフタレン−６−スルホン
酸ナトリウム 15ｇ 塩化亜鉛 40ｇ チオ尿素 20ｇ グリセリン 50ｇ よりなる感光液をジアゾ複写紙用原紙に塗布乾燥
して厚さ５μの感光層を形成した。一方、比較の
ためクリスタライトVXXを除いた感光液を用い
て同様にして感光層を形成した。
クロライド・塩化亜鉛複塩 10ｇ ２・３−ジヒドロキシナフタレン−６−スルホン
酸ナトリウム 15ｇ 塩化亜鉛 40ｇ チオ尿素 20ｇ グリセリン 50ｇ よりなる感光液をジアゾ複写紙用原紙に塗布乾燥
して厚さ５μの感光層を形成した。一方、比較の
ためクリスタライトVXXを除いた感光液を用い
て同様にして感光層を形成した。
次に以上のようにして得られた２種のジアゾ複
写材料を実施例１と同様に複写し、筆記性及び消
去性を調べたところ、実施例１と同じ結果が得ら
れた。
写材料を実施例１と同様に複写し、筆記性及び消
去性を調べたところ、実施例１と同じ結果が得ら
れた。
実施例 ３
メチルセロソルブ 850c.c.
クエン酸 15ｇ
チオ尿素 ５ｇ
２・５−ジブトキシ−４−モルホリノベンゼンジ
アゾニウム・BF4塩 25ｇ ２・2′・４・4′−テトラヒドロキシジフエニルサ
ルフアイド ３ｇ レゾルシンモノヒドロキシエチルエーテル 20ｇ サイロイド266 55ｇ シルトンAK ３ｇ セルロースアセテートプロピオネート 95ｇ よりなる感光液を、下引き処理（ポリ塩化ビニリ
デンのMEK溶液を厚さ２μに塗布）を施した厚
さ50μのポリエステルフイルムの片面に塗布乾燥
して厚さ５μの感光層を設けた。一方、比較のた
め、シルトンAKを除いた感光液を同様に用いて
感光層を設けた。
アゾニウム・BF4塩 25ｇ ２・2′・４・4′−テトラヒドロキシジフエニルサ
ルフアイド ３ｇ レゾルシンモノヒドロキシエチルエーテル 20ｇ サイロイド266 55ｇ シルトンAK ３ｇ セルロースアセテートプロピオネート 95ｇ よりなる感光液を、下引き処理（ポリ塩化ビニリ
デンのMEK溶液を厚さ２μに塗布）を施した厚
さ50μのポリエステルフイルムの片面に塗布乾燥
して厚さ５μの感光層を設けた。一方、比較のた
め、シルトンAKを除いた感光液を同様に用いて
感光層を設けた。
得られた２種の第２原図用ジアゾ複写材料に透
明原稿を重ねて市販の乾式ジアゾ複写機で複写
し、セピア色のコピーを得た。これらコピーの画
像濃度はほぼ同等であつたが、筆記性及び消去性
は本発明品の方がすぐれていた。
明原稿を重ねて市販の乾式ジアゾ複写機で複写
し、セピア色のコピーを得た。これらコピーの画
像濃度はほぼ同等であつたが、筆記性及び消去性
は本発明品の方がすぐれていた。
比較例
サイロイド266（55ｇ）及びシルトンAK（３
ｇ）の代りにトクシールGU（平均粒径５μ以下
で見掛比重0.25のシリカ粒子）（徳山ソーダ
（株）製）を同量（58ｇ）用いた他は実施例３と
同じ方法で第２原図用ジアゾ複写材料を作成し
た。筆記性、消去性については実施例３で作成し
た比較品よりは良かつたが、実施例３よりは劣つ
ていた。また画像濃度については実施例３に比べ
て低く、実用上問題であつた。
ｇ）の代りにトクシールGU（平均粒径５μ以下
で見掛比重0.25のシリカ粒子）（徳山ソーダ
（株）製）を同量（58ｇ）用いた他は実施例３と
同じ方法で第２原図用ジアゾ複写材料を作成し
た。筆記性、消去性については実施例３で作成し
た比較品よりは良かつたが、実施例３よりは劣つ
ていた。また画像濃度については実施例３に比べ
て低く、実用上問題であつた。
Claims (1)
- １ 支持体上に、結着剤を主成分とするプレコー
ト層を介し又は介さずに、ジアゾニウム化合物及
び酸安定剤を主成分とするか、或いはジアゾニウ
ム化合物、カツプリング成分及び酸安定剤を主成
分とする感光層を設けたジアゾ複写材料におい
て、前記プレコート層中又は感光層中に更に平均
粒径５μ以下で見掛比重0.20以下のシリカ粒子Ａ
及び同じく平均粒径５μ以下で見掛比重0.30以上
のシリカ粒子Ｂをシリカ粒子Ａ／シリカ粒子Ｂ＝
50／１〜20（重量）の混合比で含むことを特徴と
するジアゾ複写材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1137979A JPS55103548A (en) | 1979-02-05 | 1979-02-05 | Diazo copying material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1137979A JPS55103548A (en) | 1979-02-05 | 1979-02-05 | Diazo copying material |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55103548A JPS55103548A (en) | 1980-08-07 |
| JPS6161093B2 true JPS6161093B2 (ja) | 1986-12-24 |
Family
ID=11776370
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1137979A Granted JPS55103548A (en) | 1979-02-05 | 1979-02-05 | Diazo copying material |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55103548A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57107878A (en) * | 1980-12-25 | 1982-07-05 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Recording paper |
| BR8107605A (pt) * | 1981-11-23 | 1983-07-05 | Oce Nederland Bv | Material de diazotipia |
-
1979
- 1979-02-05 JP JP1137979A patent/JPS55103548A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55103548A (en) | 1980-08-07 |
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