JPH0570922B2 - - Google Patents

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JPH0570922B2
JPH0570922B2 JP58033973A JP3397383A JPH0570922B2 JP H0570922 B2 JPH0570922 B2 JP H0570922B2 JP 58033973 A JP58033973 A JP 58033973A JP 3397383 A JP3397383 A JP 3397383A JP H0570922 B2 JPH0570922 B2 JP H0570922B2
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JP
Japan
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magneto
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oersted
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JPS59159510A (ja
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Yoshifumi Sakurai
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Canon Inc
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/16—Layers for recording by changing the magnetic properties, e.g. for Curie-point-writing
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
    • G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
    • G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
    • G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
    • G11B11/10586—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form characterised by the selection of the material

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は光磁気メモリー、磁気記録、表示素子
などに用いられる磁気光学記録媒体に関するもの
で、特に磁気カー効果若しくはフアラデー効果な
どの磁気光学効果を用いて読出すことのできる磁
性薄膜記録媒体に関するものである。 従来、磁気光学記録媒体としてはMnBi、
MnCuBiなどの多結晶体薄膜、GdCo、GdFe、
TbFe、DyFe、GdTbFe、TbDyFeなどの非晶質
薄膜、GIGなどの単結晶薄膜などが知られてい
る。これらの薄膜のうち、大面積の薄膜を室温近
傍の温度で製作する製膜性、信号を小さな光熱エ
ネルギーで書込むための書込み効率、書込まれた
信号をS/N比よく読出すための読出し効率など
を勘案し、最近では前記非晶質薄膜が磁気光学記
録媒体として優れていると考えられている。 しかしながら、これ等の非晶質薄膜においては
信号を読出すための読出し効率に対応する性能指
数がMnBi等の多結晶質薄膜やGIGの単結晶質薄
膜に比し小さく、S/N比が十分にとれないとい
う難点がある。 S/N比良く読出すために非晶質薄膜の磁気光
学定数を大きくするための提案としては特開昭56
−126907号公報にGdTbFeよりなる非晶質3元系
合金薄膜が示されている。さらにAbstracts of
The 10th International Colloquism on
Magnetic Films and Surfaces(1982.9.13〜16)
13a1に示されている如くTbFeCoよりなる非晶質
3元系合金薄膜がある。表1に従来の磁気光学薄
膜の磁気光学定数の1つであるカー回転角を示
す。 表 1 材料名 カー回転角(度) DyFe 0.12 TbFe 0.18 GdFe 0.24 GdCo 0.2 TbDyFe 0.20 GdDyFe 0.24 GdTdFe 0.27 Tb0.21(Fe0.85Co0.15)0.79 0.32 (測定波長6328Å) 表1より分かる様に、カー回転角が最も大きい
のはTb0.21(Fe0.85Co0.15)0.79の0.32度である。S/
N比が良く読出せる為にはカー回転角の如き磁気
光学定数が大きければ大きい程良いことは言うま
でもない。 一方、表1に示した如き合金はフエリ磁性を示
すために補償組成が存在する。この補償組成域近
傍においては保磁力は非常に大きな値を示す。 一般にS/N比に効くカー回転角と記録された
磁区の安定性に効く保磁力とは合金組成に対して
独立に変化するために、カー回転角の大きい組成
が必ずしも適当な大きさの保磁力を示すとはかぎ
らない。カー回転角が大きくても保磁力が非常に
大きな合金組成であれば、記録媒体としては着
磁・消磁をするのに非常に大きな磁場を必要とす
るために、実用上の点から不都合である。 本発明の目的は、磁気光学定数が十分に大き
く、S/N比の良い読出しが可能で、かつ、取扱
い易い保磁力をもつた磁気光学記録媒体を提供す
ることにある。 本発明は、テルビウム・鉄・コバルトの3元系
非晶質磁性合金より成り、この合金の組成をTbY
(Fe1-XCoX)1-Yと表わしたときに、XおよびYが
条件、 0<X0.375かつ0.1Y0.16 +4/37.5X 0.375<X<1かつ0.1Y0.2 −0.064(X−0.375) 0<X0.3かつ0.245Y0.4 0.3<X<1かつ0.3Y0.4 のいずれか1つを満足するように形成された磁気
光学記録媒体によつて上記目的を達成するもので
ある。 以下、図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。 第1図は本発明に係る磁気光学記録媒体
TbFeCoの3元系非晶質磁性合金の組成と保持力
との関係を示したものである。図中1の曲線は補
償組成を示し、2,2′は保磁力4000エールステ
ツドを、3,3′は保磁力3000エールステツドを、
4,4′は保磁力2000エールステツドを、5,
5′は保磁力1000エールステツドを、6,6′は
200エールステツドを示す。補償組成近傍の組成
においては補償組成に近づくにしたがつて急激に
保磁力が大きくなつている。これら補償組成近傍
の組成の媒体は着磁・消磁の際に非常に大きな磁
場を必要とし、また製造の際の特性のバラツキ、
再現性の面からも不都合である。 一般に取扱い易い磁気光学記録敗退を実現する
為には保磁力は4000エールステツド以下である必
要がある。又、膜面に垂直な方向に磁化容易軸を
向けるのに十分な磁気異方性を持たせる組成とし
て、FeとCoとを合わせた原子比が60atom%〜
90atom%の範囲に存在することが望ましい。 従つて、適当な保磁力を有する組成は第1図の
斜線で示される領域となる。曲線2,2′をそれ
ぞれ近似すると上記領域は、組成をTbY(Fe1-X
CoX)1-Yとして、各々 0<X0.375かつ0.1Y0.16 +4/37.5X (1) 0.375<X<1かつ0.1Y0.2 −0.064(X−0.375) (2) 0<X0.3かつ0.245Y0.4 (3) 0.3<X<1かつ0.3Y0.4 (4) の式で示される4つの領域で表わされる。更に本
発明は、以下の実施例に示すように、上記(3)式の
条件を0.245≦Yと減縮した。 以下に、上記式を満足する組成で形成された本
発明の実施例を示す。 (実施例) 高周波スパツター装置において25mm×76mmの大
きさの白板ガラスを基板にし、ターゲツトとして
直径127mmのFeの円板上に10mm×10mm厚さ1mmの
大きさのTb、Coの薄板を夫々14枚、2枚載せた
ものを使用した、基板とターゲツトとの間隔が90
mmとなる様にセツトした後3×10-7Torr以下に
なるまで真空排気した。この後、真空槽に99.999
%純度のArガスを6×10-3Torrまで導入した。
この時のAr流量は30SCCMであつた。高周波電
源よりターゲツトへ2W/cm2の割合で電力を投入
して製膜を行つた。(サンプルNo.1)この様にし
てできた膜厚1500Åの膜は膜面に垂直な方向に磁
化容易軸を有し、X線回折の結果非晶質であるこ
とが分つた。また、この膜をX線マイクロアナラ
イザー(XMA)で組成分析を行つたところ、
Tbが13.5atom%、Coが4.7atom残部Feであるこ
とがわかつた。この膜のカー回転角は0.29°、保
磁力は1500エールステツドあつた。 サンプルNo.1と、ターゲツトのTbおよびCo薄
板の枚数を変え、同様の実験を行つた結果を表2
に示す。
【表】 このように本発明においては、Tb−Fe−Co3
元系非晶質磁性合金のTbの量を規制することに
よつて取扱い易い保磁力を有する磁気光学記録媒
体が得られるが、更に残りのFeおよびCoの原子
比の比率を適当に選択することによつて、読出し
のS/N比の高い磁気光学記録媒体とすることが
望ましい。 本発明のTb−Fe−Co3元系非晶質磁性薄膜よ
り成る磁気光学記録媒体では、FeとCoとを合わ
せた原子比を100atom%としたときに、Coの原
子比が増大するにつれて、カー回転角が大きくな
り、Coの原子比が50atom%で最大となり、更に
Co量を増すに従つてカー回転角は小さくなる。
十分に高いS/N比の読出しを可能とする為に
は、Coの原子比が30atom%〜70atom%の範囲に
存在しなくてはならない。従つて本発明において
も、前記合金の組成を前記(1)〜(4)式の領域内で、
かつ、FeとCoとを合わせた原子比を100atom%
としたときに、Coの原子比が30atom%〜70atom
%の範囲に存在するように構成することによつて
読出しのS/N比が高く、かつ、取扱い易い保磁
力を有する磁気光学記録媒愛が得られるものであ
る。更に前記磁気光学記録媒体において、Feと
Coとを合わせた原子比を100atom%としたとき
に、Coの原子比を40atom%〜60atom%の範囲に
存在するように構成すると、カー回転角が最大値
から約6%以内のずれしかなく、特性のバラツ
キ、再現性等を問題にしなければならない製造面
からも取扱い易く、更に望ましいものである。 これらの結果は全てスパツター法により得られ
た媒体についての結果であるが、真空蒸着法によ
つても全く同様の結果が得られた。 以上説明したように、本発明は従来の磁気光学
記録媒体において、この記録媒体の保磁力を取扱
い易い大きくさとする効果を有するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る磁気光学記録媒体の
TbFeCo3元系非晶質磁性合金の組成と保磁力と
の関係を示す図である。 1……補償組成、2,2′……保磁力4000エー
ルステツドを示す組成、3,3′……保磁力3000
エールステツドを示す組成、4,4′……保磁力
2000エールステツドを示す組成、5,5′……保
磁力1000エールステツドを示す組成、6,6′…
…保磁力200エールステツドを示す組成。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 テルビウム・鉄・コバルトの3元系非晶質磁
    性合金より成り、該合金の組成を以下の式、 TbY(Fe1-XCoX)1-Y で表わしたときに、XおよびYが条件、 (1) 0<X≦0.375かつ0.1≦Y≦0.16 +4/37.5X (2) 0.375<X<1かつ0.1≦Y≦0.2 −0.064(X−0.375) (3) 0<X≦0.3かつ0.245≦Y≦0.4 (4) 0.3<X<1かつ0.3≦Y≦0.4 のいずれか1つを満足するように形成された磁気
    光学記録媒体。
JP3397383A 1982-03-17 1983-03-01 磁気光学記録媒体 Granted JPS59159510A (ja)

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DE19833309483 DE3309483C3 (de) 1982-03-17 1983-03-16 Magnetooptisches Aufzeichnungsmaterial und dessen Verwendung
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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7137353B2 (en) 2002-09-30 2006-11-21 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for an improved deposition shield in a plasma processing system
US7147749B2 (en) 2002-09-30 2006-12-12 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for an improved upper electrode plate with deposition shield in a plasma processing system
US7163585B2 (en) 2002-09-30 2007-01-16 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for an improved optical window deposition shield in a plasma processing system
US7166166B2 (en) 2002-09-30 2007-01-23 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for an improved baffle plate in a plasma processing system
US7166200B2 (en) 2002-09-30 2007-01-23 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for an improved upper electrode plate in a plasma processing system
US7204912B2 (en) 2002-09-30 2007-04-17 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for an improved bellows shield in a plasma processing system
US7282112B2 (en) 2002-09-30 2007-10-16 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for an improved baffle plate in a plasma processing system
US7291566B2 (en) 2003-03-31 2007-11-06 Tokyo Electron Limited Barrier layer for a processing element and a method of forming the same
US7552521B2 (en) 2004-12-08 2009-06-30 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for improved baffle plate
US7560376B2 (en) 2003-03-31 2009-07-14 Tokyo Electron Limited Method for adjoining adjacent coatings on a processing element
US7601242B2 (en) 2005-01-11 2009-10-13 Tokyo Electron Limited Plasma processing system and baffle assembly for use in plasma processing system
US8877002B2 (en) 2002-11-28 2014-11-04 Tokyo Electron Limited Internal member of a plasma processing vessel

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60189208A (ja) * 1984-03-09 1985-09-26 Nippon Hoso Kyokai <Nhk> 光磁気記録媒体
JPS6184004A (ja) * 1984-10-01 1986-04-28 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 光磁気記録媒体
DE3536210A1 (de) * 1984-10-11 1986-04-17 Hitachi, Ltd., Tokio/Tokyo Magnetooptisches aufzeichnungsmedium
JPH0772946B2 (ja) * 1984-10-11 1995-08-02 株式会社日立製作所 光磁気記録媒体

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5231703A (en) * 1975-09-05 1977-03-10 Kokusai Denshin Denwa Co Ltd <Kdd> Magnetic thin film recording medium
JPS5873746A (ja) * 1981-10-27 1983-05-04 Kokusai Denshin Denwa Co Ltd <Kdd> 光磁気記録媒体
JPS58159252A (ja) * 1982-03-17 1983-09-21 Canon Inc 磁気光学記録媒体
JPS595450A (ja) * 1982-07-02 1984-01-12 Ricoh Co Ltd 光磁気記録媒体
JPS5988808A (ja) * 1982-11-15 1984-05-22 Ricoh Co Ltd 磁気記録媒体

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7282112B2 (en) 2002-09-30 2007-10-16 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for an improved baffle plate in a plasma processing system
US7566379B2 (en) 2002-09-30 2009-07-28 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for an improved upper electrode plate with deposition shield in a plasma processing system
US7163585B2 (en) 2002-09-30 2007-01-16 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for an improved optical window deposition shield in a plasma processing system
US7166166B2 (en) 2002-09-30 2007-01-23 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for an improved baffle plate in a plasma processing system
US7166200B2 (en) 2002-09-30 2007-01-23 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for an improved upper electrode plate in a plasma processing system
US7204912B2 (en) 2002-09-30 2007-04-17 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for an improved bellows shield in a plasma processing system
US7566368B2 (en) 2002-09-30 2009-07-28 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for an improved upper electrode plate in a plasma processing system
US7137353B2 (en) 2002-09-30 2006-11-21 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for an improved deposition shield in a plasma processing system
US7147749B2 (en) 2002-09-30 2006-12-12 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for an improved upper electrode plate with deposition shield in a plasma processing system
US8877002B2 (en) 2002-11-28 2014-11-04 Tokyo Electron Limited Internal member of a plasma processing vessel
US7560376B2 (en) 2003-03-31 2009-07-14 Tokyo Electron Limited Method for adjoining adjacent coatings on a processing element
US7291566B2 (en) 2003-03-31 2007-11-06 Tokyo Electron Limited Barrier layer for a processing element and a method of forming the same
US7552521B2 (en) 2004-12-08 2009-06-30 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for improved baffle plate
US7601242B2 (en) 2005-01-11 2009-10-13 Tokyo Electron Limited Plasma processing system and baffle assembly for use in plasma processing system

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JPS59159510A (ja) 1984-09-10

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