JPH0572568B2 - - Google Patents
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- JPH0572568B2 JPH0572568B2 JP59197645A JP19764584A JPH0572568B2 JP H0572568 B2 JPH0572568 B2 JP H0572568B2 JP 59197645 A JP59197645 A JP 59197645A JP 19764584 A JP19764584 A JP 19764584A JP H0572568 B2 JPH0572568 B2 JP H0572568B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- slit
- pupil
- light
- shape
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/04—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material
- G03G15/041—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material with variable magnification
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lenses (AREA)
- Optical Systems Of Projection Type Copiers (AREA)
Description
本発明は、複写機等に用いられるスリツト露光
投影装置に関するもので、特に投影装置の中に設
けられる結像光学系（レンズ）に関するものであ
る。 従来より、複写機の光学系には結像光学系とし
て、単眼のレンズ、或いは複眼の集光性光伝送体
が用いられている。単眼のレンズについては、通
常の透過型レンズ、或いはミラー型レンズが使用
されており、これ等のレンズには固定焦点のレン
ズもあれば、可変焦点のレンズもある。そして、
これ等のレンズの形状は円形であり、従つてその
瞳（入射瞳、射出瞳）の形状も丸いものが用いら
れている。 近年、複写装置の小型化及び高性能化が望まれ
ている。米国特許第3504960号公報には、スリツ
ト露光複写装置に於いて、瞳の形状が丸い通常の
結像レンズの外部に平行絞りを設けて、スリツト
短手方向（サジタル方向）の収差を改善すること
が示されている。この手段は、結像レンズの高性
能化には寄与しているが、装置の大きさを縮小さ
せる効果は無く、且つ結像レンズの外部に絞りを
設ける為にコスト的にも高くなり、又、レンズ外
に絞りを設ける為、受光面上での光束の半影が複
雑になりやすかつた。 又、写真工業41〔81〕115頁〜120頁（1983年）
には、球面レンズの一部を切り欠いた小判型レン
ズが開示されている。この小判型レンズは、スリ
ツト短手方向に於いて必要とされる画角がスリツ
ト長手方向に於いて必要とされる画角に比して小
さくて良い為に、光軸を中心にして円形のレンズ
を用いるとスリツト短手方向に於いては、レンズ
の光軸から離れた部分は、瞳からの光束が通過し
ない。この光束が通過しないレンズの領域を切り
欠いて小判型にしたレンズが、この写真工業に示
されるレンズであり、従つてこのレンズの瞳の形
状は円形であり、瞳を通過する光束はケラれるこ
となく受光面上に到達している。 本発明の目的は、小型化されたスリツト露光投
影装置を提供することにある。 本発明の更なる目的は、小型化されたにも拘わ
らず収差特性の優れたスリツト露光投影装置を提
供することにある。 本発明に係るスリツト露光投影装置において
は、原稿の像を感光ドラムに結像する投影レンズ
系、原稿から感光媒体に到達する光束をスリツト
状に制限する手段、原稿面を走査する手段を備
え、スリツト長手方向の瞳の大きさに対してスリ
ツト短手方向の瞳の大きさが小さくなる様に前記
投影レンズ系の一部を切り取つたことにより上記
目的を達成せんとするものである。このスリツト
短手方向に於いて光束の一部をけることにより減
少する光束量は、瞳の大きさを多少大き目に設定
し、けられがない長手方向に於いて、瞳からの光
量を増してやることにより補正できる。従つて、
本発明のスリツト露光投影装置では、スリツト長
手方向の瞳の大きさに対して、スリツト短手方向
の瞳の大きさが小さくなる様に、結像光学系の一
部を切り取つているものである。 第１図Ａ，Ｂは本発明に係るスリツト露光投影
装置の基本構成を示す図で、第１図Ａは投影レン
ズの光軸を含むスリツト長手方向に於ける面内で
の投影レンズ断面及びその光路を示しており、第
１図Ｂは同じく投影レンズの光軸を含むスリツト
短手方向に於ける面内での投影レンズ断面及びそ
の光路を示している。図中、１ａ，１ｂは各々、
投影レンズの射出瞳、２は投影レンズの最も受光
面側の面、３はレンズ鏡筒、４は受光面を示すも
ので、この受光面４は複写装置に於いては感光体
面に当るものである。例えば原稿（不図示）等か
らの光束は投影レンズにより集光され、投影レン
ズの射出瞳から出射され、受光面４上に結像され
る。５はスリツト露光用のスリツトである。 第１図Ａに示す如く、スリツト長手方向に於い
ては軸上０に結ぶ光束と、最大画角の軸外０′に
結ぶ光束との間に種々の光束が存するが、レンズ
の大きさは軸外０′に結ぶ光束により定まり、こ
の時の、最終レンズ面２の必要な高さをＨとす
る。 これに対して、第１図Ｂに示すスリツト短手方
向に於いては、射出瞳のスリツト短手方向の形状
を積極的に切り入んでいるものである。即ち、第
１図Ａに示す断面内に於ける射出瞳１ａの大きさ
に比して、第１図Ｂの断面内に於ける射出瞳１ｂ
の大きさが小さくなる様に、スリツト短手方向に
於けるレンズの周辺部を切り込んでいるものであ
る。第１図Ｂでは光軸上Ｐ点とスリツトの端P′に
結ぶ光束を示している。尚、このスリツト短手方
向は複写機では走査方向であり、この時の最終レ
ンズ面２の光軸からの高さをH′で示している。
このH′の大きさは、前記Ｈの大きさに比して可
成り小さく、最終レンズ面２を受光面４側から見
た図を第２図に示す。又、同じく受光面４側から
見た射出瞳の形状を第３図に示す。第３図に於い
て、斜線で示す部分は、スリツト短手方向に於い
てレンズの外周部を積極的に切り欠いたことによ
り、円形の形状より欠落した瞳の部分を示してい
る。 この様にスリツト長手方向に関しては、瞳から
の光束をけることなく、スリツト短手方向に関し
ては、スリツト長手方向に平行に、円形の射出瞳
を上下から切り入んでいる。これに伴つて、鏡筒
３のスリツト短手方向の厚さは可成り薄く出来
る。 第４図は、上記第１図及び第２図で説明した本
発明の投影装置の投影レンズ系の斜視概略図であ
る。１１は前記投影レンズの概略的に示したも
の、１２がスリツト、１３が感光体又は原稿、１
４はレンズの瞳である。投影レンズ１１を見て分
る様に、レンズはスリツト長手方向に平行に、上
下を切り取られた形状で、かつレンズの形状自身
がレンズの瞳１４の形状を決定している。この様
に、従来の円形レンズに比して相当薄くなつてい
る。 次に、本発明のスリツト露光投影装置に用いら
れる角型の投影レンズの一実施例を第５図Ａ，Ｂ
に、そのレンズデータを下記に示す。第５図Ａは
投影レンズのスリツト長手方向のレンズ断面図、
第５図Ｂは結像レンズのスリツト短手方向のレン
ズ断面図である。レンズは絞りを中心にして、左
右対称の形状をしており、Ｄ２，Ｄ２′，及びＤ
８，Ｄ８′の間隔を変化させることにより変倍を
行なうズームレンズである。最外部に配されたレ
ンズの径で、スリツト長手方向の径φは72mm、ス
リツト短手方向の径φ2は27.5mmである。 レンズデータ； 物像間距離891.52、Ｆナンバー6.6に相当、等
倍時はレンズの第１面と物体面の間隔及びレンズ
の最終面と像面との間隔は共に407mm、縮小時
（×0.64）には投影レンズは等倍時の位置より像
面側に96mm移動、拡大時（×1.5）には投影レン
ズは等倍時の位置より87.7mm物体面側へ移動す
る。
投影装置に関するもので、特に投影装置の中に設
けられる結像光学系（レンズ）に関するものであ
る。 従来より、複写機の光学系には結像光学系とし
て、単眼のレンズ、或いは複眼の集光性光伝送体
が用いられている。単眼のレンズについては、通
常の透過型レンズ、或いはミラー型レンズが使用
されており、これ等のレンズには固定焦点のレン
ズもあれば、可変焦点のレンズもある。そして、
これ等のレンズの形状は円形であり、従つてその
瞳（入射瞳、射出瞳）の形状も丸いものが用いら
れている。 近年、複写装置の小型化及び高性能化が望まれ
ている。米国特許第3504960号公報には、スリツ
ト露光複写装置に於いて、瞳の形状が丸い通常の
結像レンズの外部に平行絞りを設けて、スリツト
短手方向（サジタル方向）の収差を改善すること
が示されている。この手段は、結像レンズの高性
能化には寄与しているが、装置の大きさを縮小さ
せる効果は無く、且つ結像レンズの外部に絞りを
設ける為にコスト的にも高くなり、又、レンズ外
に絞りを設ける為、受光面上での光束の半影が複
雑になりやすかつた。 又、写真工業41〔81〕115頁〜120頁（1983年）
には、球面レンズの一部を切り欠いた小判型レン
ズが開示されている。この小判型レンズは、スリ
ツト短手方向に於いて必要とされる画角がスリツ
ト長手方向に於いて必要とされる画角に比して小
さくて良い為に、光軸を中心にして円形のレンズ
を用いるとスリツト短手方向に於いては、レンズ
の光軸から離れた部分は、瞳からの光束が通過し
ない。この光束が通過しないレンズの領域を切り
欠いて小判型にしたレンズが、この写真工業に示
されるレンズであり、従つてこのレンズの瞳の形
状は円形であり、瞳を通過する光束はケラれるこ
となく受光面上に到達している。 本発明の目的は、小型化されたスリツト露光投
影装置を提供することにある。 本発明の更なる目的は、小型化されたにも拘わ
らず収差特性の優れたスリツト露光投影装置を提
供することにある。 本発明に係るスリツト露光投影装置において
は、原稿の像を感光ドラムに結像する投影レンズ
系、原稿から感光媒体に到達する光束をスリツト
状に制限する手段、原稿面を走査する手段を備
え、スリツト長手方向の瞳の大きさに対してスリ
ツト短手方向の瞳の大きさが小さくなる様に前記
投影レンズ系の一部を切り取つたことにより上記
目的を達成せんとするものである。このスリツト
短手方向に於いて光束の一部をけることにより減
少する光束量は、瞳の大きさを多少大き目に設定
し、けられがない長手方向に於いて、瞳からの光
量を増してやることにより補正できる。従つて、
本発明のスリツト露光投影装置では、スリツト長
手方向の瞳の大きさに対して、スリツト短手方向
の瞳の大きさが小さくなる様に、結像光学系の一
部を切り取つているものである。 第１図Ａ，Ｂは本発明に係るスリツト露光投影
装置の基本構成を示す図で、第１図Ａは投影レン
ズの光軸を含むスリツト長手方向に於ける面内で
の投影レンズ断面及びその光路を示しており、第
１図Ｂは同じく投影レンズの光軸を含むスリツト
短手方向に於ける面内での投影レンズ断面及びそ
の光路を示している。図中、１ａ，１ｂは各々、
投影レンズの射出瞳、２は投影レンズの最も受光
面側の面、３はレンズ鏡筒、４は受光面を示すも
ので、この受光面４は複写装置に於いては感光体
面に当るものである。例えば原稿（不図示）等か
らの光束は投影レンズにより集光され、投影レン
ズの射出瞳から出射され、受光面４上に結像され
る。５はスリツト露光用のスリツトである。 第１図Ａに示す如く、スリツト長手方向に於い
ては軸上０に結ぶ光束と、最大画角の軸外０′に
結ぶ光束との間に種々の光束が存するが、レンズ
の大きさは軸外０′に結ぶ光束により定まり、こ
の時の、最終レンズ面２の必要な高さをＨとす
る。 これに対して、第１図Ｂに示すスリツト短手方
向に於いては、射出瞳のスリツト短手方向の形状
を積極的に切り入んでいるものである。即ち、第
１図Ａに示す断面内に於ける射出瞳１ａの大きさ
に比して、第１図Ｂの断面内に於ける射出瞳１ｂ
の大きさが小さくなる様に、スリツト短手方向に
於けるレンズの周辺部を切り込んでいるものであ
る。第１図Ｂでは光軸上Ｐ点とスリツトの端P′に
結ぶ光束を示している。尚、このスリツト短手方
向は複写機では走査方向であり、この時の最終レ
ンズ面２の光軸からの高さをH′で示している。
このH′の大きさは、前記Ｈの大きさに比して可
成り小さく、最終レンズ面２を受光面４側から見
た図を第２図に示す。又、同じく受光面４側から
見た射出瞳の形状を第３図に示す。第３図に於い
て、斜線で示す部分は、スリツト短手方向に於い
てレンズの外周部を積極的に切り欠いたことによ
り、円形の形状より欠落した瞳の部分を示してい
る。 この様にスリツト長手方向に関しては、瞳から
の光束をけることなく、スリツト短手方向に関し
ては、スリツト長手方向に平行に、円形の射出瞳
を上下から切り入んでいる。これに伴つて、鏡筒
３のスリツト短手方向の厚さは可成り薄く出来
る。 第４図は、上記第１図及び第２図で説明した本
発明の投影装置の投影レンズ系の斜視概略図であ
る。１１は前記投影レンズの概略的に示したも
の、１２がスリツト、１３が感光体又は原稿、１
４はレンズの瞳である。投影レンズ１１を見て分
る様に、レンズはスリツト長手方向に平行に、上
下を切り取られた形状で、かつレンズの形状自身
がレンズの瞳１４の形状を決定している。この様
に、従来の円形レンズに比して相当薄くなつてい
る。 次に、本発明のスリツト露光投影装置に用いら
れる角型の投影レンズの一実施例を第５図Ａ，Ｂ
に、そのレンズデータを下記に示す。第５図Ａは
投影レンズのスリツト長手方向のレンズ断面図、
第５図Ｂは結像レンズのスリツト短手方向のレン
ズ断面図である。レンズは絞りを中心にして、左
右対称の形状をしており、Ｄ２，Ｄ２′，及びＤ
８，Ｄ８′の間隔を変化させることにより変倍を
行なうズームレンズである。最外部に配されたレ
ンズの径で、スリツト長手方向の径φは72mm、ス
リツト短手方向の径φ2は27.5mmである。 レンズデータ； 物像間距離891.52、Ｆナンバー6.6に相当、等
倍時はレンズの第１面と物体面の間隔及びレンズ
の最終面と像面との間隔は共に407mm、縮小時
（×0.64）には投影レンズは等倍時の位置より像
面側に96mm移動、拡大時（×1.5）には投影レン
ズは等倍時の位置より87.7mm物体面側へ移動す
る。
【表】
但し、Ｒは光束入射側より数えて第ｉ番目の面
の曲率半径、Diは第ｉ番目の面と第ｉ＋１番目
の面との間の軸上肉厚又は軸上空気間隔、Niは
光束入射側より数えて第ｉ番目のレンズの屈折
率、νidは同じく第ｉ番目のレンズのアツべ数。 この投影レンズの絞り９の形状は第５図Ｃに示
されており、スリツト長手方向の開口径l1が37.7
mm、スリツト短手方向のl2が19mmである。そして
射出瞳の形状も、この絞りの形状と相似形であ
り、例えば等倍時（×１）では、l1＝43.0mm、l2
＝21.6mmである。そして、射出瞳の大きさは、ズ
ーミングによつて変化するが、その形状は相似形
である。この投影レンズのＦナンバーを6.6相当
と表記した意味は、該レンズのＦナンバーはスリ
ツト短手方向でF11程度、スリツト長手方向で
F5.0程度であり、従つて通常の円形状の瞳をもつ
レンズに換算するとＦナンバーが6.6相当の値を
有すると言う意味である。 第６図は本発明に係るスリツト露光投影装置を
複写装置へ適用した場合の一実施例を示す概略図
である。図中、２１は原稿を載置するプラテンガ
ラス、２２はスリツト、２３，２４，２５はプラ
テンガラスに沿つて移動する走査ミラーで、周知
の如く、ミラー２３とミラー２４，２５は、１：
２の移動量で移動する。２６は上述した投影レン
ズで、スリツト短手方向にレンズの周辺部が切り
入まれた形状の角型偏平レンズである。２７は固
定ミラー、２８は感光ドラムで、該ドラム上に形
成された潜像を顕画化する為の諸々の部材は図示
されていない。斯様な装置に於いて、角型の偏平
レンズを用いると、レンズの占める高さ方向、即
ちプラテンガラスと垂直な方向の空間を、通常の
円形レンズが占める空間に比して著しく小さくす
ることが出来るので、複写装置の薄型化を計るこ
とが出来る。更に、複写装置に用いるミラーも、
スリツト短手方向に於いてミラー幅を小さく出来
るので、光学系全体、しいては装置の薄型化が出
来る。 更に近年、複写機においては小型化、紙の分離
のしやすさの為、感光体ドラムの径が小型化して
いる。この様に感光体ドラムの径が小型化すると
第７図で示す様にドラム面の曲率がきつくなる為
に、スリツト中心部とスリツト周辺部とでは光軸
方向の光路差δが大きくなる。従つて、スリツト
中心部でフオーカスされていても、スリツト周辺
部では、この光路差の為にデフオーカスの状態と
なつてしまう。従つて、光軸を含むスリツト短手
方向（回転ドラムとの同期方向）の断面に於ける
投影レンズの焦点深度は深いことが望まれる。こ
のことは、光軸を含むスリツト長手方向（非同期
方向）の断面に於いても望まれるが、原稿台の移
動又は移動ミラーの移動とドラムの回転との間に
同期むらが存在する同期方向（サジタル方向）の
深度が深い方が好ましい。これに対して、本願で
はスリツト短手方向では、瞳を円形の状態から切
り込む様にレンズの周辺部を削除しているので、
収差も良好で且つ焦点深度も深く取れる。 更に、本発明の如く瞳を制限すると、感光ドラ
ム上の光量分布が第８図の３１で示す様になり、
ドラム上の光量分布はスリツト巾に近くなる。
尚、第８図の縦軸は光量、横軸はスリツト短手方
向を示している。参考までに絞りが円形の場合
は、３２で示す如く半影部分が大きく広がる為
に、スリツト巾に対してドラム上の光量分布の巾
が大きくなる。上述した小径ドラムに対しては本
発明では、スリツト巾に対してドラム上の光量分
布の巾が広がらないことにより、上記光路差δの
量を小さく押えることが出来、更には同じ本影の
部分でも、光量分布が中心で最も高いので、ドラ
ム径の影響を受けず、振動の影響も少ない。又、
投影レンズとしてズームレンズを用いる場合は、
拡大、縮小での半影量の差が、円形の瞳を用いた
場合に比して少ない。 更に、本発明に於いては、投影レンズに使用さ
れるレンズの肉厚を薄く出来る。この理由は一般
にレンズを鏡筒に嵌合する場合、レンズのコバ厚
がある一定の値を必要とする。第９図Ａに示す様
に、円形レンズの場合は必要とするコバ厚Ｃを得
る為に、レンズの中心部での厚みがt1であつたと
する。これに対して、本発明ではレンズの一部を
切り欠いているので、第９図Ｂに示す如くこの部
分でコバ厚Ｃを得ることにより、他の部分のコバ
厚が零であつてもレンズを支持することが出来
る。この場合、レンズ面の曲率が等しければ、レ
ンズ厚t2はt1より小さくなることは明らかであ
る。又レンズを切り欠いているので、円形レンズ
より重量は少なく、ガラスモールド、プラスチツ
クモールド等の成形で加工すれば、コストが安
く、かつ軽くなる。 以上、本発明のスリツト露光投影装置に於いて
は、投影レンズの一部を切り取り、円形の瞳の形
状を両側からスリツト長手方向に平行に切り取つ
た形状とすることにより、 (1) レンズ自体のスリツト短手方向の高さの低減
により光学系の小型化が可能。これは、複写装
置では高さ方向の小型化、ミラーの有効巾の縮
小につながる。 (2) 光学材料の量が低下し、コストダウン、重量
ダウンが可能。ガラスモールド、プラスチツク
モールドを用いると光学材料が少なくてすみ、
且つ肉厚の少ない設計が可能。 (3) レンズのスリツト短手方向（サジタル方向）
の収差が良好に出来る。 (4) スリツト短手方向に於ける焦点深度が深くな
る。これは複写装置では小径ドラムに対するコ
ピー解像力の向上につながる。 (5) スリツトによる半影像が小さくなる。これ
は、スリツト巾が減少するのと同じ効果を持
ち、このことは、複写装置では、ドラム回転と
スキヤンの同期むらの改善に効果がある。 (6) スリツト短手方向の光量分布がドラム頂点上
で最も明るいので、複写装置ではコピー解像力
として有利である。これも小径ドラムでのコピ
ー解像力の向上につながる。 等の、諸々の優れた効果を有する装置が得られた
ものである。
の曲率半径、Diは第ｉ番目の面と第ｉ＋１番目
の面との間の軸上肉厚又は軸上空気間隔、Niは
光束入射側より数えて第ｉ番目のレンズの屈折
率、νidは同じく第ｉ番目のレンズのアツべ数。 この投影レンズの絞り９の形状は第５図Ｃに示
されており、スリツト長手方向の開口径l1が37.7
mm、スリツト短手方向のl2が19mmである。そして
射出瞳の形状も、この絞りの形状と相似形であ
り、例えば等倍時（×１）では、l1＝43.0mm、l2
＝21.6mmである。そして、射出瞳の大きさは、ズ
ーミングによつて変化するが、その形状は相似形
である。この投影レンズのＦナンバーを6.6相当
と表記した意味は、該レンズのＦナンバーはスリ
ツト短手方向でF11程度、スリツト長手方向で
F5.0程度であり、従つて通常の円形状の瞳をもつ
レンズに換算するとＦナンバーが6.6相当の値を
有すると言う意味である。 第６図は本発明に係るスリツト露光投影装置を
複写装置へ適用した場合の一実施例を示す概略図
である。図中、２１は原稿を載置するプラテンガ
ラス、２２はスリツト、２３，２４，２５はプラ
テンガラスに沿つて移動する走査ミラーで、周知
の如く、ミラー２３とミラー２４，２５は、１：
２の移動量で移動する。２６は上述した投影レン
ズで、スリツト短手方向にレンズの周辺部が切り
入まれた形状の角型偏平レンズである。２７は固
定ミラー、２８は感光ドラムで、該ドラム上に形
成された潜像を顕画化する為の諸々の部材は図示
されていない。斯様な装置に於いて、角型の偏平
レンズを用いると、レンズの占める高さ方向、即
ちプラテンガラスと垂直な方向の空間を、通常の
円形レンズが占める空間に比して著しく小さくす
ることが出来るので、複写装置の薄型化を計るこ
とが出来る。更に、複写装置に用いるミラーも、
スリツト短手方向に於いてミラー幅を小さく出来
るので、光学系全体、しいては装置の薄型化が出
来る。 更に近年、複写機においては小型化、紙の分離
のしやすさの為、感光体ドラムの径が小型化して
いる。この様に感光体ドラムの径が小型化すると
第７図で示す様にドラム面の曲率がきつくなる為
に、スリツト中心部とスリツト周辺部とでは光軸
方向の光路差δが大きくなる。従つて、スリツト
中心部でフオーカスされていても、スリツト周辺
部では、この光路差の為にデフオーカスの状態と
なつてしまう。従つて、光軸を含むスリツト短手
方向（回転ドラムとの同期方向）の断面に於ける
投影レンズの焦点深度は深いことが望まれる。こ
のことは、光軸を含むスリツト長手方向（非同期
方向）の断面に於いても望まれるが、原稿台の移
動又は移動ミラーの移動とドラムの回転との間に
同期むらが存在する同期方向（サジタル方向）の
深度が深い方が好ましい。これに対して、本願で
はスリツト短手方向では、瞳を円形の状態から切
り込む様にレンズの周辺部を削除しているので、
収差も良好で且つ焦点深度も深く取れる。 更に、本発明の如く瞳を制限すると、感光ドラ
ム上の光量分布が第８図の３１で示す様になり、
ドラム上の光量分布はスリツト巾に近くなる。
尚、第８図の縦軸は光量、横軸はスリツト短手方
向を示している。参考までに絞りが円形の場合
は、３２で示す如く半影部分が大きく広がる為
に、スリツト巾に対してドラム上の光量分布の巾
が大きくなる。上述した小径ドラムに対しては本
発明では、スリツト巾に対してドラム上の光量分
布の巾が広がらないことにより、上記光路差δの
量を小さく押えることが出来、更には同じ本影の
部分でも、光量分布が中心で最も高いので、ドラ
ム径の影響を受けず、振動の影響も少ない。又、
投影レンズとしてズームレンズを用いる場合は、
拡大、縮小での半影量の差が、円形の瞳を用いた
場合に比して少ない。 更に、本発明に於いては、投影レンズに使用さ
れるレンズの肉厚を薄く出来る。この理由は一般
にレンズを鏡筒に嵌合する場合、レンズのコバ厚
がある一定の値を必要とする。第９図Ａに示す様
に、円形レンズの場合は必要とするコバ厚Ｃを得
る為に、レンズの中心部での厚みがt1であつたと
する。これに対して、本発明ではレンズの一部を
切り欠いているので、第９図Ｂに示す如くこの部
分でコバ厚Ｃを得ることにより、他の部分のコバ
厚が零であつてもレンズを支持することが出来
る。この場合、レンズ面の曲率が等しければ、レ
ンズ厚t2はt1より小さくなることは明らかであ
る。又レンズを切り欠いているので、円形レンズ
より重量は少なく、ガラスモールド、プラスチツ
クモールド等の成形で加工すれば、コストが安
く、かつ軽くなる。 以上、本発明のスリツト露光投影装置に於いて
は、投影レンズの一部を切り取り、円形の瞳の形
状を両側からスリツト長手方向に平行に切り取つ
た形状とすることにより、 (1) レンズ自体のスリツト短手方向の高さの低減
により光学系の小型化が可能。これは、複写装
置では高さ方向の小型化、ミラーの有効巾の縮
小につながる。 (2) 光学材料の量が低下し、コストダウン、重量
ダウンが可能。ガラスモールド、プラスチツク
モールドを用いると光学材料が少なくてすみ、
且つ肉厚の少ない設計が可能。 (3) レンズのスリツト短手方向（サジタル方向）
の収差が良好に出来る。 (4) スリツト短手方向に於ける焦点深度が深くな
る。これは複写装置では小径ドラムに対するコ
ピー解像力の向上につながる。 (5) スリツトによる半影像が小さくなる。これ
は、スリツト巾が減少するのと同じ効果を持
ち、このことは、複写装置では、ドラム回転と
スキヤンの同期むらの改善に効果がある。 (6) スリツト短手方向の光量分布がドラム頂点上
で最も明るいので、複写装置ではコピー解像力
として有利である。これも小径ドラムでのコピ
ー解像力の向上につながる。 等の、諸々の優れた効果を有する装置が得られた
ものである。
第１図Ａ，Ｂは各々、本発明に係る装置の基本
構成を説明する図、第２図は第１図に示す装置の
レンズを正面から見た概略図、第３図は第１図に
示す装置の瞳の形状を示す図、第４図は第１図に
示す装置の概略斜視図、第５図Ａ，Ｂ，Ｃは本発
明に係る装置に用いられるレンズ系の一実施例を
示す図、第６図、第７図及び第８図は、本発明に
係る装置を複写装置に適用した場合の一実施例を
説明する為の図、第９図は、本発明の装置に於い
て、レンズ厚が薄く出来る理由を説明する為の
図。 １ａ，１ｂ……瞳、２……レンズ最終面、３…
…鏡筒、４……受光面、５……絞り。
構成を説明する図、第２図は第１図に示す装置の
レンズを正面から見た概略図、第３図は第１図に
示す装置の瞳の形状を示す図、第４図は第１図に
示す装置の概略斜視図、第５図Ａ，Ｂ，Ｃは本発
明に係る装置に用いられるレンズ系の一実施例を
示す図、第６図、第７図及び第８図は、本発明に
係る装置を複写装置に適用した場合の一実施例を
説明する為の図、第９図は、本発明の装置に於い
て、レンズ厚が薄く出来る理由を説明する為の
図。 １ａ，１ｂ……瞳、２……レンズ最終面、３…
…鏡筒、４……受光面、５……絞り。
Claims (1)
- １ 原稿の像を感光ドラムに結像する投影レンズ
系、原稿から感光媒体に到達する光束をスリツト
状に制限する手段、原稿面を走査する手段を備
え、スリツト長手方向の瞳の大きさに対してスリ
ツト短手方向の瞳の大きさが小さくなる様に前記
投影レンズ系の一部を切り取つた事を特徴とする
スリツト露光投影装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59197645A JPS6187125A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | スリツト露光投影装置 |
| US06/775,263 US4624555A (en) | 1984-09-20 | 1985-09-12 | Slit exposure projection device |
| DE19853533474 DE3533474A1 (de) | 1984-09-20 | 1985-09-19 | Spaltbelichtungs-projektionsvorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59197645A JPS6187125A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | スリツト露光投影装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6187125A JPS6187125A (ja) | 1986-05-02 |
| JPH0572568B2 true JPH0572568B2 (ja) | 1993-10-12 |
Family
ID=16377933
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59197645A Granted JPS6187125A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | スリツト露光投影装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4624555A (ja) |
| JP (1) | JPS6187125A (ja) |
| DE (1) | DE3533474A1 (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4692016A (en) * | 1986-03-14 | 1987-09-08 | Fondation Suisse Pour La Recherche En Microtechnique | Process for electrophotographic matrix printing and device for carrying out the process |
| JP2725255B2 (ja) * | 1987-08-04 | 1998-03-11 | ミノルタ株式会社 | スリット走査型複写機のレンズ部材 |
| US5012346A (en) * | 1989-10-16 | 1991-04-30 | Eastman Kodak Company | Illumination system for a film scanner |
| JP2524567B2 (ja) * | 1991-08-03 | 1996-08-14 | キヤノン株式会社 | 複数ビ―ム走査光学装置 |
| JPH10145567A (ja) * | 1996-11-08 | 1998-05-29 | Canon Inc | 画像読取装置 |
| WO2001029613A1 (en) * | 1999-10-22 | 2001-04-26 | Waseda University | Superwide angle camera and lens used in this camera |
| US6359640B1 (en) | 2000-04-28 | 2002-03-19 | Lexmark International, Inc. | Method and apparatus for minimizing visual artifacts resulting from laser scan process direction position errors |
| JP4771031B2 (ja) * | 2001-02-20 | 2011-09-14 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 成形レンズ、成形レンズ金型、成形レンズの製造方法及び光ピックアップ装置 |
| US20040109241A1 (en) * | 2002-12-04 | 2004-06-10 | Ming-Te Chou | Lens for scanners |
| JP2005300399A (ja) * | 2004-04-14 | 2005-10-27 | Keyence Corp | 多光軸光電センサ |
| US7324185B2 (en) | 2005-03-04 | 2008-01-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US8248577B2 (en) | 2005-05-03 | 2012-08-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| KR20140140648A (ko) | 2005-05-12 | 2014-12-09 | 가부시키가이샤 니콘 | 투영 광학계, 노광 장치 및 노광 방법 |
| JP4986010B2 (ja) * | 2005-09-20 | 2012-07-25 | カシオ計算機株式会社 | 投影レンズ及びプロジェクタ |
| JP2007328030A (ja) * | 2006-06-06 | 2007-12-20 | Auto Network Gijutsu Kenkyusho:Kk | 撮像装置、光学装置及びレンズ |
| JP2007323080A (ja) * | 2007-06-22 | 2007-12-13 | Konica Minolta Holdings Inc | 成形レンズ、成形レンズ金型、成形レンズの製造方法及び光ピックアップ装置 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3504960A (en) * | 1966-10-11 | 1970-04-07 | Xerox Corp | Sagittal ray aperture stop |
| US3438704A (en) * | 1966-10-11 | 1969-04-15 | Xerox Corp | Illumination control system |
| DE1298407B (de) * | 1967-11-27 | 1969-06-26 | Agfa Gevaert Ag | Belichtungsanordnung fuer Kopiergeraete |
| JPS4821842Y1 (ja) * | 1969-05-10 | 1973-06-26 | ||
| US4275962A (en) * | 1978-12-28 | 1981-06-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection device |
| JPS57144501A (en) * | 1981-03-03 | 1982-09-07 | Canon Inc | Scan optical system applied with moisture-resistant process |
-
1984
- 1984-09-20 JP JP59197645A patent/JPS6187125A/ja active Granted
-
1985
- 1985-09-12 US US06/775,263 patent/US4624555A/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-09-19 DE DE19853533474 patent/DE3533474A1/de not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4624555A (en) | 1986-11-25 |
| JPS6187125A (ja) | 1986-05-02 |
| DE3533474A1 (de) | 1986-03-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |