JPH0573151B2 - - Google Patents
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- JPH0573151B2 JPH0573151B2 JP61110700A JP11070086A JPH0573151B2 JP H0573151 B2 JPH0573151 B2 JP H0573151B2 JP 61110700 A JP61110700 A JP 61110700A JP 11070086 A JP11070086 A JP 11070086A JP H0573151 B2 JPH0573151 B2 JP H0573151B2
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、カーボン粉、金属粉等の導電体粉末
が有機樹脂膜中に分散されてなるレジン系抵抗体
とその製造方法とに関する。
が有機樹脂膜中に分散されてなるレジン系抵抗体
とその製造方法とに関する。
レジン系抵抗体は、その有機樹脂膜を構成する
有機樹脂の種類により、溶剤型のレジン系抵抗体
と電子線硬化型のレジン系抵抗体とに大別され
る。
有機樹脂の種類により、溶剤型のレジン系抵抗体
と電子線硬化型のレジン系抵抗体とに大別され
る。
前者、すなわち、溶剤型のレジン系抵抗体は、
導電体粉末と熱硬化型樹脂等とを混合して製造し
た抵抗インキ組成物を、板紙、フエノール樹脂等
よりなる基板上に塗布して加熱硬化させた物であ
る。この溶剤型のレジン系抵抗体は、硬化に長時
間を要する他、硬化のために加熱することが必要
であるから、基板材が耐熱性である必要があり、
しかも、耐熱性基板材を選択しても、なお加熱硬
化中に基板が劣化しやすいという欠点があつた。
導電体粉末と熱硬化型樹脂等とを混合して製造し
た抵抗インキ組成物を、板紙、フエノール樹脂等
よりなる基板上に塗布して加熱硬化させた物であ
る。この溶剤型のレジン系抵抗体は、硬化に長時
間を要する他、硬化のために加熱することが必要
であるから、基板材が耐熱性である必要があり、
しかも、耐熱性基板材を選択しても、なお加熱硬
化中に基板が劣化しやすいという欠点があつた。
後者、すなわち、電子線硬化型のレジン系抵抗
体は、溶剤型のレジン系抵抗体のこれらの欠点を
解消するために開発されたものであり、これは、
導電体粉末と電子線硬化型のオリゴマー、モノマ
ー等の樹脂形成成分とを混合して製造した抵抗イ
ンキ組成物を、板紙、フエノール樹脂等よりなる
基板上に塗布して短時間電子照射をなして電子線
硬化させたものである。
体は、溶剤型のレジン系抵抗体のこれらの欠点を
解消するために開発されたものであり、これは、
導電体粉末と電子線硬化型のオリゴマー、モノマ
ー等の樹脂形成成分とを混合して製造した抵抗イ
ンキ組成物を、板紙、フエノール樹脂等よりなる
基板上に塗布して短時間電子照射をなして電子線
硬化させたものである。
この電子線硬化型のレジン系抵抗体は、溶剤型
のレジン系抵抗体のような高温・長時間の加熱工
程を必要とすることはないが、いくらか加熱され
ることは避け難い。そこで、耐熱性のすぐれた多
価アルコールのアクリル酸エステルまたは多価ア
ルコールのメタクリル酸エステル等をバインダー
として使用することが試みられているが、この場
合は導電体粉末のバインダー中への分散性が劣
り、これが塗布された抵抗インキ組成物の表面特
性が劣るという欠点がある。
のレジン系抵抗体のような高温・長時間の加熱工
程を必要とすることはないが、いくらか加熱され
ることは避け難い。そこで、耐熱性のすぐれた多
価アルコールのアクリル酸エステルまたは多価ア
ルコールのメタクリル酸エステル等をバインダー
として使用することが試みられているが、この場
合は導電体粉末のバインダー中への分散性が劣
り、これが塗布された抵抗インキ組成物の表面特
性が劣るという欠点がある。
この欠点を解消するために分散性のすぐれてい
るオリゴエステルアクリレート等をバインダーと
すると、耐熱性を十分でなく完成されたレジン系
抵抗体の性能のバランスを欠くという欠点があ
る。
るオリゴエステルアクリレート等をバインダーと
すると、耐熱性を十分でなく完成されたレジン系
抵抗体の性能のバランスを欠くという欠点があ
る。
要するに、導電体粉末の分散性・塗布表面の表
面特性と耐熱性レジン系抵抗体の特性アンバラン
スとが二律排反の関係になり、なお、改良の余地
を残しており、さらにすぐれたレジン系抵抗体及
びその製造方法の開発が望まれていた。
面特性と耐熱性レジン系抵抗体の特性アンバラン
スとが二律排反の関係になり、なお、改良の余地
を残しており、さらにすぐれたレジン系抵抗体及
びその製造方法の開発が望まれていた。
本発明の目的は、上記の要請に応えることにあ
り、導電体粉末の分散性がすぐれ、そのため、塗
布表面の表面特性がすぐれており、同時に、耐熱
性がすぐれ、特性がバランスして、抵抗値のばら
つきが少なく、絶縁耐力も大きい等多くの利益を
有する電子線硬化型のレジン系抵抗体と、これの
製造方法とを提供することにある。
り、導電体粉末の分散性がすぐれ、そのため、塗
布表面の表面特性がすぐれており、同時に、耐熱
性がすぐれ、特性がバランスして、抵抗値のばら
つきが少なく、絶縁耐力も大きい等多くの利益を
有する電子線硬化型のレジン系抵抗体と、これの
製造方法とを提供することにある。
上記の第1の目的を達成するために本発明が採
つた手段は、 導電体粉末と、 分子内に少なくとも3個の水酸基を有する多価
アルコールのアリクル酸エステルまたはメタクリ
ル酸エステルと、 フエノールホルムアルデヒド低縮合物のグリシ
ジルエーテル誘導体またはクレゾールホルムアル
デヒド低縮合物のグリシジルエーテル誘導体とア
クリル酸またはメタクリル酸との付加反応生成物
とを 混合・混練して製造した抵抗インキ組成物を、
電子線硬化して得た抵抗体を、 レジン系抵抗体の要素としたものである。
つた手段は、 導電体粉末と、 分子内に少なくとも3個の水酸基を有する多価
アルコールのアリクル酸エステルまたはメタクリ
ル酸エステルと、 フエノールホルムアルデヒド低縮合物のグリシ
ジルエーテル誘導体またはクレゾールホルムアル
デヒド低縮合物のグリシジルエーテル誘導体とア
クリル酸またはメタクリル酸との付加反応生成物
とを 混合・混練して製造した抵抗インキ組成物を、
電子線硬化して得た抵抗体を、 レジン系抵抗体の要素としたものである。
上記の第2の目的を達成するために本発明が採
つた手段は、 レジン系抵抗体を製造するために、 導電体粉末と、 分子内に少なくとも3個の水酸基を有する多価
アルコールのアクリル酸エステルまたはメタクリ
ル酸エステルと、 フエノールホルムアルデヒド低縮合物のグリシ
ジルエーテル誘導体またはクレゾールホルムアル
デヒド低縮合物のグリシジルエーテル誘導体とア
クリル酸またはメタクリル酸との付加反応生成物
と を含有する抵抗インキ組成物を基板上に塗布し、 この基板上に塗布された前記抵抗インキ組成物
に電子線照射をなして硬化することにある。
つた手段は、 レジン系抵抗体を製造するために、 導電体粉末と、 分子内に少なくとも3個の水酸基を有する多価
アルコールのアクリル酸エステルまたはメタクリ
ル酸エステルと、 フエノールホルムアルデヒド低縮合物のグリシ
ジルエーテル誘導体またはクレゾールホルムアル
デヒド低縮合物のグリシジルエーテル誘導体とア
クリル酸またはメタクリル酸との付加反応生成物
と を含有する抵抗インキ組成物を基板上に塗布し、 この基板上に塗布された前記抵抗インキ組成物
に電子線照射をなして硬化することにある。
換言すれば、本発明の要旨は、
抵抗インキ組成物のバインダーとして、
(イ) 3価以上の多価アルコールの水酸基をアクリ
ル酸またはメタクリル酸と反応させて得られる
少なくとも3個以上のアクリロイル基またはメ
タクリロイル基を有するポリオールポリ(メ
タ)アクリレートと、 (ロ) フエノールホルムアルデヒド低縮合物あるい
はクレゾールホルムアルデヒド低縮合物のグリ
シジルエーテル誘導体とアクリル酸またはメタ
クリル酸との付加反応生成物(以下、ノボラツ
クアクリレート等と記述する。)を混合して混
合物を製造し、 (ハ) この混合物を、抵抗インキ組成物のバインダ
ーとして使用することにある。
ル酸またはメタクリル酸と反応させて得られる
少なくとも3個以上のアクリロイル基またはメ
タクリロイル基を有するポリオールポリ(メ
タ)アクリレートと、 (ロ) フエノールホルムアルデヒド低縮合物あるい
はクレゾールホルムアルデヒド低縮合物のグリ
シジルエーテル誘導体とアクリル酸またはメタ
クリル酸との付加反応生成物(以下、ノボラツ
クアクリレート等と記述する。)を混合して混
合物を製造し、 (ハ) この混合物を、抵抗インキ組成物のバインダ
ーとして使用することにある。
〈ポリオールポリ(メタ)アクリレート〉
上記ポリオールポリ(メタ)アクリレートとし
ては、分子中に少なくとも3個のアクリロイル基
またはメタクリロイル基を有するポリオールポリ
(メタ)アクリレートが使用できる。これらのポ
リオールポリ(メタ)アクリレートとしては一種
類でも使用出来るし、混合糸で使用することも出
来る。これに使用出来るポリオールポリ(メタ)
アクリレートの例としては、トリメチロールプロ
パンの(メタ)アクリル酸エステル、トリメチロ
ールプロパンのアルキレンオキシド(炭素数2〜
4)付加物の(メタ)アクリル酸エステル、トリ
ス((ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの
(メタ)アクリル酸エステル、トリス(ヒドロキ
シエチル)イソシアヌレートのアルキレンオキシ
ド(炭素数2〜4)付加物の(メタ)アクリル酸
エステル、ペンタエリスリトールの(メタ)アク
リル酸エステル、ペンタエリスリトールのアルキ
レンオキシド(炭素数2〜4)付加物の(メタ)
アクリル酸エステル、ジペンタエリスリトールの
(メタ)アクリル酸エステル、ジペンタエリスリ
トールのアルキレンオキシド(炭素数2〜4)付
加物の(メタ)アクリル酸エステルなどがある。
ては、分子中に少なくとも3個のアクリロイル基
またはメタクリロイル基を有するポリオールポリ
(メタ)アクリレートが使用できる。これらのポ
リオールポリ(メタ)アクリレートとしては一種
類でも使用出来るし、混合糸で使用することも出
来る。これに使用出来るポリオールポリ(メタ)
アクリレートの例としては、トリメチロールプロ
パンの(メタ)アクリル酸エステル、トリメチロ
ールプロパンのアルキレンオキシド(炭素数2〜
4)付加物の(メタ)アクリル酸エステル、トリ
ス((ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの
(メタ)アクリル酸エステル、トリス(ヒドロキ
シエチル)イソシアヌレートのアルキレンオキシ
ド(炭素数2〜4)付加物の(メタ)アクリル酸
エステル、ペンタエリスリトールの(メタ)アク
リル酸エステル、ペンタエリスリトールのアルキ
レンオキシド(炭素数2〜4)付加物の(メタ)
アクリル酸エステル、ジペンタエリスリトールの
(メタ)アクリル酸エステル、ジペンタエリスリ
トールのアルキレンオキシド(炭素数2〜4)付
加物の(メタ)アクリル酸エステルなどがある。
好ましいポリオールポリ(メタ)アクリレート
としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリ
スリトール、ジペンタエリスリトールのポリ(メ
タ)アクリレートがあげられる。これらポリオー
ルポリ(メタ)アクリレートは特に抵抗値の温度
依存性(温度によつて抵抗値が変化する性質)の
少ない高性能抵抗体ペーストが要求される場合に
適する。
としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリ
スリトール、ジペンタエリスリトールのポリ(メ
タ)アクリレートがあげられる。これらポリオー
ルポリ(メタ)アクリレートは特に抵抗値の温度
依存性(温度によつて抵抗値が変化する性質)の
少ない高性能抵抗体ペーストが要求される場合に
適する。
〈ポリオールポリ(メタ)アクリレートとノボラ
ツクアクリレート等との混合割合〉 上記ポリオールポリ(メタ)アクリレートとノ
ボラツクアクリレート等との混合割合は、抵抗体
に要求される特性に応じて任意に選ぶことが出来
るが、硬化後の抵抗体の抵抗・温度特性と表面平
滑性のバランスを良好ならしめるためには、ポリ
オールポリ(メタ)アクリレートとノボラツクア
クリレート等との混合割合(前者/後者)は、重
量比で500/500から999/1が好ましい。
ツクアクリレート等との混合割合〉 上記ポリオールポリ(メタ)アクリレートとノ
ボラツクアクリレート等との混合割合は、抵抗体
に要求される特性に応じて任意に選ぶことが出来
るが、硬化後の抵抗体の抵抗・温度特性と表面平
滑性のバランスを良好ならしめるためには、ポリ
オールポリ(メタ)アクリレートとノボラツクア
クリレート等との混合割合(前者/後者)は、重
量比で500/500から999/1が好ましい。
バインダー中のポリオールポリ(メタ)アクリ
レートとして、低粘度の液状のポリオールポリ
(メタ)アクリレート{トリメチロールプロパン
の(メタ)アクリル酸エステル、トリメチロール
プロパンのアルキレンオキシド(炭素数2〜4)
付加物の(メタ)アクリル酸エステル等}を選ぶ
ことによつて、無溶剤型抵抗体ペーストを製造す
ることも可能である。
レートとして、低粘度の液状のポリオールポリ
(メタ)アクリレート{トリメチロールプロパン
の(メタ)アクリル酸エステル、トリメチロール
プロパンのアルキレンオキシド(炭素数2〜4)
付加物の(メタ)アクリル酸エステル等}を選ぶ
ことによつて、無溶剤型抵抗体ペーストを製造す
ることも可能である。
一方、バインダー中のポリオールポリ(メタ)
アクリレートとして、高粘度の液状または固体の
ポリオールポリ(メタ)アクリレート{トリス
(ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの(メタ)
アクリル酸エステル、トリス(ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレートのアルキレンオキシド(炭
素数2〜4)付加物の(メタ)アクリル酸エステ
ル、ペンタエリスリトールの(メタ)アクリル酸
エステル、ペンタエリスリトールのアルキレンオ
キシド(炭素数2〜4)付加物の(メタ)アクリ
ル酸エステル、ジペンタエリスリトールの(メ
タ)アクリル酸エステル、ジペンタエリスリトー
ルのアルキレンオキシド(炭素数2〜4)付加物
の(メタ)アクリル酸エステル等}を選ぶ場合
は、抵抗体ペーストの粘度が高くなりすぎるた
め、溶剤としてブチルセロソルブ、ブチルカルビ
トール、ブチルセロソルブアセテートおよびブチ
ルカルビトールアセテート等を使用することが望
ましい。
アクリレートとして、高粘度の液状または固体の
ポリオールポリ(メタ)アクリレート{トリス
(ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの(メタ)
アクリル酸エステル、トリス(ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレートのアルキレンオキシド(炭
素数2〜4)付加物の(メタ)アクリル酸エステ
ル、ペンタエリスリトールの(メタ)アクリル酸
エステル、ペンタエリスリトールのアルキレンオ
キシド(炭素数2〜4)付加物の(メタ)アクリ
ル酸エステル、ジペンタエリスリトールの(メ
タ)アクリル酸エステル、ジペンタエリスリトー
ルのアルキレンオキシド(炭素数2〜4)付加物
の(メタ)アクリル酸エステル等}を選ぶ場合
は、抵抗体ペーストの粘度が高くなりすぎるた
め、溶剤としてブチルセロソルブ、ブチルカルビ
トール、ブチルセロソルブアセテートおよびブチ
ルカルビトールアセテート等を使用することが望
ましい。
しかし、溶剤を使用した場合には、抵抗インキ
組成物を基板上にスクリーン印刷した後、電子線
照射による抵抗体の硬化の前に80〜200℃で3〜
30分間溶剤を乾燥させる工程を必要とする。
組成物を基板上にスクリーン印刷した後、電子線
照射による抵抗体の硬化の前に80〜200℃で3〜
30分間溶剤を乾燥させる工程を必要とする。
〈ノボラツクアクリレート〉
ノボラツクアクリレート等は、市販のフエノー
ル(またはクレゾール)ノボラツク樹脂変性グリ
シジルエーテルと(メタ)アクリル酸との付加反
応により得られる。
ル(またはクレゾール)ノボラツク樹脂変性グリ
シジルエーテルと(メタ)アクリル酸との付加反
応により得られる。
市販のフエノールノボラツク樹脂(またはクレ
ゾールノボラツク樹脂)変性グリシジルエーテル
としては、エピクロンN−665、N−690、N−
730、N−740、N−775(大日本インキ化学(株)製)
や、エポトートYDCN−701、YDCN−704、
YDCN−638(東都化成(株)製)、EOCN−102、
EOCN−104(日本化薬(株)製)等があげられてい
る。
ゾールノボラツク樹脂)変性グリシジルエーテル
としては、エピクロンN−665、N−690、N−
730、N−740、N−775(大日本インキ化学(株)製)
や、エポトートYDCN−701、YDCN−704、
YDCN−638(東都化成(株)製)、EOCN−102、
EOCN−104(日本化薬(株)製)等があげられてい
る。
上記エポキシ樹脂の大半は常温で固体の物が多
いので、アクリル酸との付加反応は溶媒系で実施
することが好ましい。溶媒としてはメチルイソブ
チルケトン、メチルエチルケトン等のケトン類、
トルエン、キシレン、酢酸ブチル、酢酸エチル等
及びそれらの混合物で、エポキシ樹脂を溶解する
物が使われる。エポキシ樹脂と(メタ)アクリル
酸との仕込み比率は、エポキシ基/カルボキシル
基のモル比で0.9〜2.0が好ましい。
いので、アクリル酸との付加反応は溶媒系で実施
することが好ましい。溶媒としてはメチルイソブ
チルケトン、メチルエチルケトン等のケトン類、
トルエン、キシレン、酢酸ブチル、酢酸エチル等
及びそれらの混合物で、エポキシ樹脂を溶解する
物が使われる。エポキシ樹脂と(メタ)アクリル
酸との仕込み比率は、エポキシ基/カルボキシル
基のモル比で0.9〜2.0が好ましい。
エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸とを反応さ
せて、エポキシアクリレートを製造する方法は公
知であり、特公昭44−31472、特公昭45−40069、
特公昭56−4565等記載の方法が使われる。
せて、エポキシアクリレートを製造する方法は公
知であり、特公昭44−31472、特公昭45−40069、
特公昭56−4565等記載の方法が使われる。
反応は無触媒系でも可能であるが、触媒を用い
る方が反応時間が短縮されるし、反応温度も低く
することができ有利である。
る方が反応時間が短縮されるし、反応温度も低く
することができ有利である。
触媒としてはBF3・エーテライト等のルイス
酸、テトラブチルアンモニウムクロライド、トリ
エチルベンジル、アンモニウムブロマイド等の第
4級アンモニウム塩や塩化コリン等が使われる。
触媒の添加量は0.1〜10%、より好ましくは0.5〜
5%である。
酸、テトラブチルアンモニウムクロライド、トリ
エチルベンジル、アンモニウムブロマイド等の第
4級アンモニウム塩や塩化コリン等が使われる。
触媒の添加量は0.1〜10%、より好ましくは0.5〜
5%である。
反応温度は、好ましくは50〜200℃、より好ま
しくは70〜150℃である。
しくは70〜150℃である。
〈導電体粉末〉
これらの樹脂組成物中に分散させる導電体粉末
としては、従来公知のものを使用することが出来
る。例えば、銀、銅またはそれらの合金等の金属
粉末、金属酸化物粉末、金属窒化物粉末、金属炭
化物粉末、金属ホウ化物粉末、金属ケイ化物粉
末、各種カーボンブラツク、グラフアイトまたは
これらの混合物を挙げることが出来る。
としては、従来公知のものを使用することが出来
る。例えば、銀、銅またはそれらの合金等の金属
粉末、金属酸化物粉末、金属窒化物粉末、金属炭
化物粉末、金属ホウ化物粉末、金属ケイ化物粉
末、各種カーボンブラツク、グラフアイトまたは
これらの混合物を挙げることが出来る。
〈導電体粉末とバインダー組成物との混合割合〉
これらの導電体粉末と上記バインダー組成物と
の混合割合は従来公知の範囲でよい。バインダー
組成物と導電体粉末とは必要に応じて溶媒を加え
て公知の方法で混合・混練し、基板上に塗布し、
必要に応じて乾燥した後0.1〜50Mradの電子線照
射を施して抵抗体とする。
の混合割合は従来公知の範囲でよい。バインダー
組成物と導電体粉末とは必要に応じて溶媒を加え
て公知の方法で混合・混練し、基板上に塗布し、
必要に応じて乾燥した後0.1〜50Mradの電子線照
射を施して抵抗体とする。
〈電子線照射後の加熱処理〉
電子線照射によつて硬化させた抵抗体の種類に
よつては、硬化後48時間程度の間、抵抗値が若干
変動することがある。この変動が問題となる場合
には、100℃〜200℃で3分〜30分間の加熱処理に
よつて速やかに抵抗値を安定化させることができ
る。
よつては、硬化後48時間程度の間、抵抗値が若干
変動することがある。この変動が問題となる場合
には、100℃〜200℃で3分〜30分間の加熱処理に
よつて速やかに抵抗値を安定化させることができ
る。
〈耐湿性能の付与〉
通常の場合、ここに得られた抵抗体において
は、非導電性無機フイラー等を加える必要はない
が、特に高抵抗の抵抗体において高度の耐湿性能
が必要な場合、コロイド状シリカ、溶融シリカ、
アルミナ粉末、タルク粉末、マイカ粉末、酸化鉄
粉末等の非導電性無機フイラーを使用することに
よつて高度の耐湿性能を付与することが出来る。
フイラーとしては、例えば、日本タルク(株)製のミ
クロエースK−1、(株)龍森製のフユーズレツクス
E−2、フユーズレツクスX、フユーズレツクス
RD−8、日本アエロジル(株)製のアエロジルR−
972、アエロジル300等の如き市販品が好適に用い
られることができるが、これら以外の非導電性無
機フイラーを単独または組み合わせて使用しても
よい。非導電性無機フイラーの添加によつて、特
に高抵抗において、耐湿試験(気温40℃湿度50%
の恒温恒湿槽中に240時間放置)における抵抗値
の変化が1/2程度に押えられる。
は、非導電性無機フイラー等を加える必要はない
が、特に高抵抗の抵抗体において高度の耐湿性能
が必要な場合、コロイド状シリカ、溶融シリカ、
アルミナ粉末、タルク粉末、マイカ粉末、酸化鉄
粉末等の非導電性無機フイラーを使用することに
よつて高度の耐湿性能を付与することが出来る。
フイラーとしては、例えば、日本タルク(株)製のミ
クロエースK−1、(株)龍森製のフユーズレツクス
E−2、フユーズレツクスX、フユーズレツクス
RD−8、日本アエロジル(株)製のアエロジルR−
972、アエロジル300等の如き市販品が好適に用い
られることができるが、これら以外の非導電性無
機フイラーを単独または組み合わせて使用しても
よい。非導電性無機フイラーの添加によつて、特
に高抵抗において、耐湿試験(気温40℃湿度50%
の恒温恒湿槽中に240時間放置)における抵抗値
の変化が1/2程度に押えられる。
〈耐摩耗性〉
ここに得られた抵抗体は耐摩耗性に優れてお
り、特にこれを必要とする可変抵抗器用の抵抗体
として好ましいものである。
り、特にこれを必要とする可変抵抗器用の抵抗体
として好ましいものである。
主に、ポリオールポリ(メタ)アクリレートは
バインダーの架橋密度を高め、耐熱性を付与する
が、バインダーのすべてをポリオールポリ(メ
タ)アクリレートにとつて構成させると、導電性
微粉末に対する分散性が悪くなり、製造した抵抗
体の表面が平滑でなくなる。
バインダーの架橋密度を高め、耐熱性を付与する
が、バインダーのすべてをポリオールポリ(メ
タ)アクリレートにとつて構成させると、導電性
微粉末に対する分散性が悪くなり、製造した抵抗
体の表面が平滑でなくなる。
さらに、抵抗インキ組成物がステージに付着す
るため、スクリーン印刷法をもつて繰り返し印刷
することが困難になり、この様にして製造した抵
抗体の抵抗値は安定せず大きくばらついたものと
なる。
るため、スクリーン印刷法をもつて繰り返し印刷
することが困難になり、この様にして製造した抵
抗体の抵抗値は安定せず大きくばらついたものと
なる。
一方、ノボラツクアクリレート等は、導電性微
粉末に対する分散性をバインダーに付与すること
ができるが、バインダーのすべてをノボラツクア
クリレート等で構成させると、耐熱性が乏しくな
つたり、導電性が悪くなつたりする。
粉末に対する分散性をバインダーに付与すること
ができるが、バインダーのすべてをノボラツクア
クリレート等で構成させると、耐熱性が乏しくな
つたり、導電性が悪くなつたりする。
このため、本発明者等は、上記の問題点につい
て鋭意検討した結果、ポリオールポリ(メタ)ア
クリレートおよびノボラツクアクリレート等の両
者を併用することによつて上記の問題点を解決す
ることができた。
て鋭意検討した結果、ポリオールポリ(メタ)ア
クリレートおよびノボラツクアクリレート等の両
者を併用することによつて上記の問題点を解決す
ることができた。
これらの混合物に金属粉、カーボンブラツク、
グラフアイト等従来公知の導電性微粉末を分散
し、必要により溶媒を加えて製造した抵抗インキ
組成物を基板上にスクリーン印刷によつて塗布
し、必要により乾燥させた後、電子線を照射する
ことにより、実施例にみられるように、極めて短
時間で優れた特性の抵抗体を得ることが出来る。
グラフアイト等従来公知の導電性微粉末を分散
し、必要により溶媒を加えて製造した抵抗インキ
組成物を基板上にスクリーン印刷によつて塗布
し、必要により乾燥させた後、電子線を照射する
ことにより、実施例にみられるように、極めて短
時間で優れた特性の抵抗体を得ることが出来る。
以下、具体的な実施例により説明する。
参考例 1
〈フエノールノボラツクエポキシ樹脂アクリル
酸付加物の合成方法〉 東都化成(株)製エポトートYDPN−638(フエノ
ールノボラツク樹脂:エポキシ当量180g/eq)
180gとトルエン200gを混合した後に、触媒とし
て、臭化テトラブチルアンモニウムを1g加えた
溶液を、三ツ口フラスコに仕込み、95℃で攪拌し
ながら、アクリル酸72gを滴下ロートより1時間
かけて滴下し、中和滴定によつてアクリル酸が十
分反応したことが確認できるまで約10時間反応さ
せた。水洗によつて触媒の臭化テトラブチルアン
モニウムを取り除いた後、トルエンを留去し、固
形分が75wt%のフエノールノボラツクエポキシ
樹脂アクリル酸付加物溶液を合成した。
酸付加物の合成方法〉 東都化成(株)製エポトートYDPN−638(フエノ
ールノボラツク樹脂:エポキシ当量180g/eq)
180gとトルエン200gを混合した後に、触媒とし
て、臭化テトラブチルアンモニウムを1g加えた
溶液を、三ツ口フラスコに仕込み、95℃で攪拌し
ながら、アクリル酸72gを滴下ロートより1時間
かけて滴下し、中和滴定によつてアクリル酸が十
分反応したことが確認できるまで約10時間反応さ
せた。水洗によつて触媒の臭化テトラブチルアン
モニウムを取り除いた後、トルエンを留去し、固
形分が75wt%のフエノールノボラツクエポキシ
樹脂アクリル酸付加物溶液を合成した。
参考例 2
〈クレゾールノボラツクエポキシ樹脂アクリル
酸付加物の合成方法〉 東都化成(株)製エポトートYDCN−701(クレゾ
ールノボラツク樹脂:エポキシ当量200g/eq)
220gとトルエン200gを混合した後に、触媒とし
て、臭化テトラブチルアンモニウムを1g加えた
溶液を、三つ口フラスコに仕込み、95℃で攪拌し
ながら、アクリル酸72gを滴下ロートより1時間
かけて滴下し、中和滴定によつてアクリル酸が十
分反応したことが確認できるまで約10時間反応さ
せた。水洗によつて触媒の臭化テトラブチルアン
モニウムを取り除いた後、トリエンを留去し、固
形分が75wt%のクレゾールノボラツクエポキシ
樹脂アクリル酸付加物溶液を合成した。
酸付加物の合成方法〉 東都化成(株)製エポトートYDCN−701(クレゾ
ールノボラツク樹脂:エポキシ当量200g/eq)
220gとトルエン200gを混合した後に、触媒とし
て、臭化テトラブチルアンモニウムを1g加えた
溶液を、三つ口フラスコに仕込み、95℃で攪拌し
ながら、アクリル酸72gを滴下ロートより1時間
かけて滴下し、中和滴定によつてアクリル酸が十
分反応したことが確認できるまで約10時間反応さ
せた。水洗によつて触媒の臭化テトラブチルアン
モニウムを取り除いた後、トリエンを留去し、固
形分が75wt%のクレゾールノボラツクエポキシ
樹脂アクリル酸付加物溶液を合成した。
参考例 3
〈フエノールノボラツクエポキシ樹脂アクリル
酸付加物の合成方法〉 大日本インキ化学(株)製エピクロンN−740(フエ
ノールノボラツク樹脂:エポキシ当量185g/
eq)185gとトルエン200gを混合した後に、触
媒として、臭化テトラブチルアンモニウムを1g
加えた溶液を、三ツ口フラスコに仕込み、95℃で
攪拌しながら、アクリル酸72gを滴下ロートより
1時間かけて滴下し、中和滴定によつてアクリル
酸が十分反応したことが確認できるまで約10時間
反応させた。水洗によつて触媒の臭化テトラブチ
ルアンモニウムを取り除いた後、トルエンを留去
し、固形分が75wt%のフエノールノボラツクエ
ポキシ樹脂アクリル酸付加物溶液を合成した。
酸付加物の合成方法〉 大日本インキ化学(株)製エピクロンN−740(フエ
ノールノボラツク樹脂:エポキシ当量185g/
eq)185gとトルエン200gを混合した後に、触
媒として、臭化テトラブチルアンモニウムを1g
加えた溶液を、三ツ口フラスコに仕込み、95℃で
攪拌しながら、アクリル酸72gを滴下ロートより
1時間かけて滴下し、中和滴定によつてアクリル
酸が十分反応したことが確認できるまで約10時間
反応させた。水洗によつて触媒の臭化テトラブチ
ルアンモニウムを取り除いた後、トルエンを留去
し、固形分が75wt%のフエノールノボラツクエ
ポキシ樹脂アクリル酸付加物溶液を合成した。
実施例 1
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
(東亜合成化学工業(株)製アロニツクスM−400)17
g、(参考例1)で合成したフエノールノボラツ
クエポキシ樹脂アクリル酸付加物4g、カーボン
粉末5g、および、ブチルセロソルブ10gを混合
した後、三本ルールミルで混練し、抵抗インキ組
成物を作成した。この抵抗インキ組成物を紙−フ
エノール樹脂基板上にスクリーン印刷し、150℃
で5分間乾燥させた後、165KeVの加速電圧の電
子線を10Mrad照射して抵抗体を製造した。15cm
の長さを照射するのに要する時間は0.05秒であつ
た。
(東亜合成化学工業(株)製アロニツクスM−400)17
g、(参考例1)で合成したフエノールノボラツ
クエポキシ樹脂アクリル酸付加物4g、カーボン
粉末5g、および、ブチルセロソルブ10gを混合
した後、三本ルールミルで混練し、抵抗インキ組
成物を作成した。この抵抗インキ組成物を紙−フ
エノール樹脂基板上にスクリーン印刷し、150℃
で5分間乾燥させた後、165KeVの加速電圧の電
子線を10Mrad照射して抵抗体を製造した。15cm
の長さを照射するのに要する時間は0.05秒であつ
た。
ここに得られた抵抗体は19KΩ/□の面積抵抗
を有し、その表面は滑らかであつた。さらに、40
℃、95%の耐湿試験および70℃の耐熱試験1000時
間において、それぞれ2%、−2%の変化を示し
た。比較のため現在使用されている熱硬化型抵抗
体ペースト(フエノール樹脂使用)についても、
同様の試験を行なつたところ、それぞれ5.5%お
よび−4.5%の変化を示した。
を有し、その表面は滑らかであつた。さらに、40
℃、95%の耐湿試験および70℃の耐熱試験1000時
間において、それぞれ2%、−2%の変化を示し
た。比較のため現在使用されている熱硬化型抵抗
体ペースト(フエノール樹脂使用)についても、
同様の試験を行なつたところ、それぞれ5.5%お
よび−4.5%の変化を示した。
実施例 2
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
(東亜合成化学工業(株)製アロニツクスM−400)10
g、(参考例1)で合成したフエノールノボラツ
クエポキシ樹脂アクリル酸付加物13.3g、カーボ
ン粉末5g、および、ブチルセロソルブ10gを混
合した後、三本ロールミルで混練し、抵抗インキ
組成物を作成した。この抵抗インキ組成物を紙−
フエノール樹脂基板上にスクリーン印刷し、150
℃で5分間乾燥させた後、165KeVの加速電圧の
電子線を10Mrad照射して抵抗体を製造した。
(東亜合成化学工業(株)製アロニツクスM−400)10
g、(参考例1)で合成したフエノールノボラツ
クエポキシ樹脂アクリル酸付加物13.3g、カーボ
ン粉末5g、および、ブチルセロソルブ10gを混
合した後、三本ロールミルで混練し、抵抗インキ
組成物を作成した。この抵抗インキ組成物を紙−
フエノール樹脂基板上にスクリーン印刷し、150
℃で5分間乾燥させた後、165KeVの加速電圧の
電子線を10Mrad照射して抵抗体を製造した。
ここに得られた抵抗体は590KΩ/□の面積抵
抗を有し、その表面は滑らかであつた。さらに40
℃、95%の耐湿試験および70℃の耐熱試験1000時
間において、それぞれ5%、−5%の変化を示し
たにとどまつた。
抗を有し、その表面は滑らかであつた。さらに40
℃、95%の耐湿試験および70℃の耐熱試験1000時
間において、それぞれ5%、−5%の変化を示し
たにとどまつた。
実施例 3
トリメチロールプロパンのアクリル酸エステル
(東亜合成化学工業(株)製アロニツクスM−309)17
g、(参考例2)で合成したクレゾールノボラツ
クエポキシ樹脂アクリル酸付加物4g、カーボン
粉末5gを三本ロールミルで混練し、抵抗インキ
組成物を作成した。この抵抗インキ組成物を紙−
フエノール樹脂基板上にスクリーン印刷した後、
165KeVの加速電圧の電子線を10Mrad照射して、
無溶剤系で抵抗体を製造した。
(東亜合成化学工業(株)製アロニツクスM−309)17
g、(参考例2)で合成したクレゾールノボラツ
クエポキシ樹脂アクリル酸付加物4g、カーボン
粉末5gを三本ロールミルで混練し、抵抗インキ
組成物を作成した。この抵抗インキ組成物を紙−
フエノール樹脂基板上にスクリーン印刷した後、
165KeVの加速電圧の電子線を10Mrad照射して、
無溶剤系で抵抗体を製造した。
ここに得られた抵抗体は10KΩ/□の面積抵抗
を有し、その表面は滑らかであつた。さらに40
℃、95%の耐湿試験および70℃の耐熱試験1000時
間において、それぞれ1.5%、−2%の変化を示し
たにすぎなかつた。
を有し、その表面は滑らかであつた。さらに40
℃、95%の耐湿試験および70℃の耐熱試験1000時
間において、それぞれ1.5%、−2%の変化を示し
たにすぎなかつた。
実施例 4
トリメチロールプロパンのエチレンオキシド付
加物のアクリル酸エステル(東亜合成化学工業(株)
製アロニツクスM−310)17g、(参考例2)で合
成したクレゾールノボラツクエポキシ樹脂アクリ
ル酸付加物4g、カーボン粉末5gを混合した
後、三本ロールミルで混練し、抵抗インキ組成物
を作成した。この抵抗インキ組成物を紙−フエノ
ール樹脂基板上にスクリーン印刷した後、
165KeVの加速電圧の電子線を10Mrad照射して、
無溶剤系で抵抗体を製造した。
加物のアクリル酸エステル(東亜合成化学工業(株)
製アロニツクスM−310)17g、(参考例2)で合
成したクレゾールノボラツクエポキシ樹脂アクリ
ル酸付加物4g、カーボン粉末5gを混合した
後、三本ロールミルで混練し、抵抗インキ組成物
を作成した。この抵抗インキ組成物を紙−フエノ
ール樹脂基板上にスクリーン印刷した後、
165KeVの加速電圧の電子線を10Mrad照射して、
無溶剤系で抵抗体を製造した。
ここに得られた抵抗体は10KΩ/□の面積抵抗
を有し、その表面は滑らかであつた。さらに40
℃、95%の耐湿試験および70℃の耐熱試験1000時
間において、それぞれ2.0%、−2.6%の変化を示
したにすぎない。
を有し、その表面は滑らかであつた。さらに40
℃、95%の耐湿試験および70℃の耐熱試験1000時
間において、それぞれ2.0%、−2.6%の変化を示
したにすぎない。
実施例 5
トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート
のアクリル酸エステル(東亜合成化学工業(株)製ア
ロニツクスM−315)17g、(参考例3)で合成し
たフエノールノボラツクエポキシ樹脂アクリル酸
付加物4g、カーボン粉末5gおよびブチルセル
ソルブ10gを混合した後、三本ロールミルで混練
し抵抗インキ組成物を作成した。この抵抗インキ
組成物を紙−フエノール樹脂基板上にスクリーン
印刷し、150℃で5分間乾燥させた後、165KeV
の加速電圧の電子線を10Mrad照射して、無溶剤
系で抵抗体を製造した。
のアクリル酸エステル(東亜合成化学工業(株)製ア
ロニツクスM−315)17g、(参考例3)で合成し
たフエノールノボラツクエポキシ樹脂アクリル酸
付加物4g、カーボン粉末5gおよびブチルセル
ソルブ10gを混合した後、三本ロールミルで混練
し抵抗インキ組成物を作成した。この抵抗インキ
組成物を紙−フエノール樹脂基板上にスクリーン
印刷し、150℃で5分間乾燥させた後、165KeV
の加速電圧の電子線を10Mrad照射して、無溶剤
系で抵抗体を製造した。
ここに得られた抵抗体は14KΩ/□の面積抵抗
を有し、その表面は滑らかであつた。さらに40
℃、95%の耐湿試験および70℃の耐熱試験1000時
間において、それぞれ3%、−3%の変化を示し
たにとどまつた。
を有し、その表面は滑らかであつた。さらに40
℃、95%の耐湿試験および70℃の耐熱試験1000時
間において、それぞれ3%、−3%の変化を示し
たにとどまつた。
実施例 6
トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート
のアクリル酸エステル(東亜合成化学工業(株)製ア
ロニツクスM−315)8.5%、トリメチロールプロ
パンのトリアクリレート(東亜合成化学工業(株)製
アロニツクスM−309)8.5g、(参考例1)で合
成したフエノールノボラツクエポキシ樹脂アクリ
ル酸付加物4g、カーボン粉末5gおよびブチル
セロソルブ5gを混合した後、三本ロールミルで
混練し、抵抗インキ組成物を作成した。この抵抗
インキ組成物を紙−フエノール樹脂基板上にスク
リーン印刷し、150℃で5分間乾燥させた後、
165KeVの加速電圧の電子線を10Mrad照射して、
無溶剤系で抵抗体を製造した。
のアクリル酸エステル(東亜合成化学工業(株)製ア
ロニツクスM−315)8.5%、トリメチロールプロ
パンのトリアクリレート(東亜合成化学工業(株)製
アロニツクスM−309)8.5g、(参考例1)で合
成したフエノールノボラツクエポキシ樹脂アクリ
ル酸付加物4g、カーボン粉末5gおよびブチル
セロソルブ5gを混合した後、三本ロールミルで
混練し、抵抗インキ組成物を作成した。この抵抗
インキ組成物を紙−フエノール樹脂基板上にスク
リーン印刷し、150℃で5分間乾燥させた後、
165KeVの加速電圧の電子線を10Mrad照射して、
無溶剤系で抵抗体を製造した。
ここに得られた抵抗体は12KΩ/□の面積抵抗
を有し、その表面は滑らかであつた。さらに、40
℃、95%の耐湿試験および70℃の耐熱試験1000時
間において、それぞれ3%、−2%の変化を示し
ただけであつた。
を有し、その表面は滑らかであつた。さらに、40
℃、95%の耐湿試験および70℃の耐熱試験1000時
間において、それぞれ3%、−2%の変化を示し
ただけであつた。
実施例 7
実施例1において、カーボン粉末に代えて平均
粒度5μmのグラフアイト粉末とカーボン粉末の
1:1混合物を使用した場合は、面積抵抗
6KΩ/□の抵抗体を得た。
粒度5μmのグラフアイト粉末とカーボン粉末の
1:1混合物を使用した場合は、面積抵抗
6KΩ/□の抵抗体を得た。
実施例 8
実施例1において、カーボン粉末に代えて平均
粒度0.2μmの二酸化スズ粉末20gを使用した場合
は、面積抵抗45KΩ/□の抵抗体を得た。
粒度0.2μmの二酸化スズ粉末20gを使用した場合
は、面積抵抗45KΩ/□の抵抗体を得た。
実施例 9
実施例1において、カーボン粉末に代えて平均
粒度1μmの銀粉末80gを使用した場合は、面積
抵抗0.13Ω/□の抵抗体を得た。
粒度1μmの銀粉末80gを使用した場合は、面積
抵抗0.13Ω/□の抵抗体を得た。
実施例 10
実施例1にいおて製造した印刷抵抗体をそのま
ま用いて、ワイヤーブラシを用いた精密ポテンシ
ヨメータを作成し摺動寿命を測定したところ、1
千5百万回の摺動にも耐え得るものであつた。
ま用いて、ワイヤーブラシを用いた精密ポテンシ
ヨメータを作成し摺動寿命を測定したところ、1
千5百万回の摺動にも耐え得るものであつた。
因に、現在用いられている熱硬化型抵抗体を使
用した精密ポテンシヨメータの摺動寿命は1千万
回程度である。
用した精密ポテンシヨメータの摺動寿命は1千万
回程度である。
比較例 1
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
(東亜合成化学工業(株)製アロニツクスM−400)20
g、カーボン粉末5g、および、ブチルセロソル
ブ7gを混合した後、三本ロールミルで混練し、
抵抗インキ組成物を作成した。この抵抗インキ組
成物を紙−フエノール樹脂基板上にスクリーン印
刷し、150℃で5分間乾燥させた後、165KeVの
加速電圧の電子線を10Mrad照射して抵抗体を製
造した。
(東亜合成化学工業(株)製アロニツクスM−400)20
g、カーボン粉末5g、および、ブチルセロソル
ブ7gを混合した後、三本ロールミルで混練し、
抵抗インキ組成物を作成した。この抵抗インキ組
成物を紙−フエノール樹脂基板上にスクリーン印
刷し、150℃で5分間乾燥させた後、165KeVの
加速電圧の電子線を10Mrad照射して抵抗体を製
造した。
ここに得られた抵抗体は1.7KΩ/□の面積抵抗
を有し、40℃、95%の耐湿試験および70℃の耐湿
試験1000時間において、それぞれ1.2%、−0.7%
の変化を示した。しかし、その表面は非常に荒れ
ており、スクリーンに由来する織り目状の凹凸が
できていた。
を有し、40℃、95%の耐湿試験および70℃の耐湿
試験1000時間において、それぞれ1.2%、−0.7%
の変化を示した。しかし、その表面は非常に荒れ
ており、スクリーンに由来する織り目状の凹凸が
できていた。
比較例 2
フエノールノボラツクエポキシ樹脂アクリル酸
付加物(実施例1の合成品)26.7g、カーボン粉
末5g、および、ブチルセロソルブ18gを混合し
た後、三本ロールミルで混練し、抵抗インキ組成
物を作成した。この抵抗インキ組成物を紙−フエ
ノール樹脂基板上にスクリーン印刷し、150℃で
5分間乾燥させた後、165KeVの加速電圧の電子
線を10Mrad照射して抵抗体を製造した。
付加物(実施例1の合成品)26.7g、カーボン粉
末5g、および、ブチルセロソルブ18gを混合し
た後、三本ロールミルで混練し、抵抗インキ組成
物を作成した。この抵抗インキ組成物を紙−フエ
ノール樹脂基板上にスクリーン印刷し、150℃で
5分間乾燥させた後、165KeVの加速電圧の電子
線を10Mrad照射して抵抗体を製造した。
ここに得られた抵抗体は18KΩ/□の面積抵抗
を有し、40℃、95%の耐湿試験および70℃の耐熱
試験1000時間において、それぞれ34%、−74%に
達する変化を示した。
を有し、40℃、95%の耐湿試験および70℃の耐熱
試験1000時間において、それぞれ34%、−74%に
達する変化を示した。
比較例 3
ポリウレタンアクリレート(大阪有機化学工業
(株)製ビスコート#823)56g、エポキシアクリレ
ート(大阪有機化学工業(株)製ビスコート#540)
25g、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト5g、カーボン粉末30g、および、シクロヘキ
サノール40gを混合し三本ロールミルで混練して
製造した抵抗ペーストを用いて印刷抵抗体を作成
したところ、表面に印刷時に用いたスクリーンに
由来する織り目状の凹凸ができ、これを用いて作
成した精密ポテンシヨメータは、摺動時の出力変
動が非常に大きかつた。
(株)製ビスコート#823)56g、エポキシアクリレ
ート(大阪有機化学工業(株)製ビスコート#540)
25g、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト5g、カーボン粉末30g、および、シクロヘキ
サノール40gを混合し三本ロールミルで混練して
製造した抵抗ペーストを用いて印刷抵抗体を作成
したところ、表面に印刷時に用いたスクリーンに
由来する織り目状の凹凸ができ、これを用いて作
成した精密ポテンシヨメータは、摺動時の出力変
動が非常に大きかつた。
以上説明せるとおり、本発明は、
(イ) 多価アルコールの水酸基を、少なくとも3個
以上のアクリル基またはメタクリル基と反応さ
せて得たポリオールポリ(メタ)アクリレート
と、 (ロ) フエノールホルムアルデヒド低縮合物、ある
いは、クレゾールホルムアルデヒド低縮合物の
グリシジルエーテル誘導体とアクリル酸または
メタクリル酸との付加反応生成物とを混合して
混合物を製造し、 (ハ) この混合物を、抵抗インキ組成物のバインダ
ーとして使用することを要旨とするので、 (ニ) 第1の発明によつて、導電体粉末の分散性が
すぐれており、そのため塗布表面の表面特性が
すぐれており、しかも、耐熱性もすぐれてお
り、抵抗値のばらつきが少なく、絶縁耐力が大
きく、耐熱性・耐湿性も良好であり、全体とし
て特性のバランスが良好であるレジン系抵抗体
を提供することができ、 (ホ) 第2の発明によつて、導電体粉末の分散性が
すぐれておりそのため塗布表面の表面特性がす
ぐれているのでスクリーン印刷法等を使用して
製造することが容易であり、そのためばらつき
も少なく、従来技術に係る電子線硬化型の場合
より低い温度で容易・確実・短時間に硬化をな
すことができ、しかも、得られる抵抗体は耐熱
性もすぐれているので、短時間の電子線照射を
もつて、高効率にレジン系抵抗体を製造するこ
との可能なレジン系抵抗体の製造方法を提供す
ることができる。
以上のアクリル基またはメタクリル基と反応さ
せて得たポリオールポリ(メタ)アクリレート
と、 (ロ) フエノールホルムアルデヒド低縮合物、ある
いは、クレゾールホルムアルデヒド低縮合物の
グリシジルエーテル誘導体とアクリル酸または
メタクリル酸との付加反応生成物とを混合して
混合物を製造し、 (ハ) この混合物を、抵抗インキ組成物のバインダ
ーとして使用することを要旨とするので、 (ニ) 第1の発明によつて、導電体粉末の分散性が
すぐれており、そのため塗布表面の表面特性が
すぐれており、しかも、耐熱性もすぐれてお
り、抵抗値のばらつきが少なく、絶縁耐力が大
きく、耐熱性・耐湿性も良好であり、全体とし
て特性のバランスが良好であるレジン系抵抗体
を提供することができ、 (ホ) 第2の発明によつて、導電体粉末の分散性が
すぐれておりそのため塗布表面の表面特性がす
ぐれているのでスクリーン印刷法等を使用して
製造することが容易であり、そのためばらつき
も少なく、従来技術に係る電子線硬化型の場合
より低い温度で容易・確実・短時間に硬化をな
すことができ、しかも、得られる抵抗体は耐熱
性もすぐれているので、短時間の電子線照射を
もつて、高効率にレジン系抵抗体を製造するこ
との可能なレジン系抵抗体の製造方法を提供す
ることができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 導電体粉末と、 分子内に少なくとも3個の水酸基を有する多価
アルコールのアクリル酸エステルまたはメタクリ
ル酸エステルと、 フエノールホルムアルデヒド低縮合物のグリシ
ジルエーテル誘導体またはクレゾールホルムアル
デヒド低縮合物のグリシジルエーテル誘導体とア
クリル酸またはメタクリル酸との付加反応生成物
と を含有する抵抗インキ組成物の電子線照射硬化物
を抵抗体要素とするレジン系抵抗体。 2 前記分子内に少なくとも3個の水酸基を有す
る多価アルコールのアクリル酸エステルまたはメ
タクリル酸エステルは、 トリメチロールプロパン、トリメチロールプロ
パンのアルキレンオキシド(炭素数2〜4)付加
物、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレー
ト、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレー
トのアルキレンオキシド(炭素数2〜4)付加
物、ペンタエリスリトール、ペンタエリスリトー
ルのアルキレンオキシド(炭素数2〜4)付加
物、ジペンタエリスリトール、および、ジペンタ
エリスリトールのアルキレンオキシド(炭素数2
〜4)付加物から選択された多価アルコールのア
クリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルよ
りなるグループから選択されてなる 特許請求の範囲第1項記載のレジン系抵抗体。 3 前記分子内に少なくとも3個の水酸基を有す
る多価アルコールのアクリル酸エステルまたはメ
タクリル酸エステルと、前記フエノールホルムア
ルデヒド低縮合物のグリシジルエーテル誘導体ま
たはクレゾールホルムアルデヒド低縮合物のグリ
シジルエーテル誘導体とアクリル酸またはメタク
リル酸との付加反応生成物との混合重量比は、 500/500乃至999/1の範囲にある 特許請求の範囲第1項または第2項記載のレジ
ン系抵抗体。 4 前記導電体粉末は、 銀、銅の粉末もしくはこれらの合金の粉末、金
属酸化物の粉末、金属窒化物の粉末、金属炭化物
の粉末、金属ホウ化物の粉末、金属ケイ化物の粉
末、または、カーボンもしくはグラフアイトの粉
末、または、これらの混合物である 特許請求の範囲第1項、第2項または第3項記
載のレジン系抵抗体。 5 導電体粉末と、 分子内に少なくとも3個の水酸基を有する多価
アルコールのアクリル酸エステルまたはメタクリ
ル酸エステルと、 フエノールホルムアルデヒド低縮合物のグリシ
ジルエーテル誘導体またはクレゾールホルムアル
デヒド低縮合物のグリシジルエーテル誘導体とア
クリル酸またはメタクリル酸との付加反応生成物
と を含有する抵抗インキ組成物を、基板上に塗布
し、 該基板上に塗布された前記抵抗インキ組成物に
電子線を照射し硬化させる ことを特徴とするレジン系抵抗体の製造方法。 6 前記分子内に少なくとも3個の水酸基を有す
る多価アルコールのアクリル酸エステルまたはメ
タクリル酸エステルは、 トリメチロールプロパン、トリメチロールプロ
パンのアルキレンオキシド(炭素数2〜4)付加
物、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレー
ト、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレー
トのアルキレンオキシド(炭素数2〜4)付加
物、ペンタエリスリトール、ペンタエリスリトー
ルのアルキレンオキシド(炭素数2〜4)付加
物、ジペンタエリスリトール、および、ジペンタ
エリスリトールのアルキレンオキシド(炭素数2
〜4)付加物から選択された多価アルコールのア
クリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルよ
りなるグループから選択されてなる 特許請求の範囲第5項記載のレジン系抵抗体の
製造方法。 7 前記分子内に少なくとも3個の水酸基を有す
る多価アルコールのアクリル酸エステルまたはメ
タクリル酸エステルと、前記フエノールホルムア
ルデヒド低縮合物のグリシジルエーテル誘導体ま
たはクレゾールホルムアルデヒド低縮合物のグリ
シジルエーテル誘導体とアクリル酸またはメタク
リル酸との付加反応生成物との混合重量比は、 500/500乃至999/1の範囲にある 特許請求の範囲第5項または第6項記載のレジ
ン系抵抗体の製造方法。 8 前記導電体粉末は、 銀、銅の粉末もしくはこれらの合金の粉末、金
属酸化物の粉末、金属窒化物の粉末、金属炭化物
の粉末、金属ホウ化物の粉末、金属ケイ化物の粉
末、または、カーボンもしくはグラフアイトの粉
末、または、これらの混合物である 特許請求の範囲第5項、第6項または第7項記
載のレジン系抵抗体の製造方法。 9 前記抵抗インキ組成物に、溶剤を混入してな
す 特許請求の範囲第5項、第6項、第7項または
第8項記載のレジン系抵抗体の製造方法。 10 前記電子線照射の強度は0.1〜50Mradであ
る 特許請求の範囲第5項、第6項、第7項、第8
項または第9項記載のレジン系抵抗体の製造方
法。 11 前記工程完了後に、3〜30分間、100〜200
℃をもつて熱処理する工程の付加された 特許請求の範囲第5項、第6項、第7項、第8
項、第9項または第10項記載のレジン系抵抗体
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61110700A JPS62267381A (ja) | 1986-05-16 | 1986-05-16 | レジン系抵抗体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61110700A JPS62267381A (ja) | 1986-05-16 | 1986-05-16 | レジン系抵抗体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62267381A JPS62267381A (ja) | 1987-11-20 |
| JPH0573151B2 true JPH0573151B2 (ja) | 1993-10-13 |
Family
ID=14542235
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61110700A Granted JPS62267381A (ja) | 1986-05-16 | 1986-05-16 | レジン系抵抗体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62267381A (ja) |
-
1986
- 1986-05-16 JP JP61110700A patent/JPS62267381A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62267381A (ja) | 1987-11-20 |
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