JPH0573971A - 光磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
光磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH0573971A JPH0573971A JP23126691A JP23126691A JPH0573971A JP H0573971 A JPH0573971 A JP H0573971A JP 23126691 A JP23126691 A JP 23126691A JP 23126691 A JP23126691 A JP 23126691A JP H0573971 A JPH0573971 A JP H0573971A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magneto
- recording medium
- optical recording
- film
- sputtering
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】 光磁気記録媒体の製造方法に関し、特に再生
レーザパワーを大にした場合でも、再生信号の劣化し難
い光磁気記録媒体の製造方法の提供を目的とする。 【構成】 基板１上に不活性ガスを用いてスパッタ法に
より遷移金属−希土類金属合金薄膜の磁性膜より成る記
録膜３を形成する光磁気記録媒体の製造に於いて、前記
スパッタに用いるスパッタガスのガス圧を0.5 〜1.5Pa
としたことを特徴とする。
レーザパワーを大にした場合でも、再生信号の劣化し難
い光磁気記録媒体の製造方法の提供を目的とする。 【構成】 基板１上に不活性ガスを用いてスパッタ法に
より遷移金属−希土類金属合金薄膜の磁性膜より成る記
録膜３を形成する光磁気記録媒体の製造に於いて、前記
スパッタに用いるスパッタガスのガス圧を0.5 〜1.5Pa
としたことを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光磁気記録媒体の製造方
法に係り、特に記録情報の再生に用いるレーザパワーを
大にした場合でも、Ｃ／Ｎの劣化し難い光磁気記録媒体
の製造方法に関する。
法に係り、特に記録情報の再生に用いるレーザパワーを
大にした場合でも、Ｃ／Ｎの劣化し難い光磁気記録媒体
の製造方法に関する。
【０００２】光磁気記録に於いて情報を記録する場合
は、光磁気記録媒体にレーザ光を照射して部分的に温度
上昇させて、その温度上昇した領域の磁化を外部磁界に
より反転させ、この記録した情報を読み出す際には再生
レーザ光を照射してこの入射光が光磁気記録媒体に当た
って反射する反射光の偏光面が回転するカー効果を用い
て読み出している。
は、光磁気記録媒体にレーザ光を照射して部分的に温度
上昇させて、その温度上昇した領域の磁化を外部磁界に
より反転させ、この記録した情報を読み出す際には再生
レーザ光を照射してこの入射光が光磁気記録媒体に当た
って反射する反射光の偏光面が回転するカー効果を用い
て読み出している。
【０００３】このカー効果と称する偏光面の回転は極め
て僅かな回転であり、この回転を信号として検出してお
り、このため、Ｃ／Ｎの値の大きい信号を得るために
は、再生レーザパワーを増大させて再生レーザ光の光量
を増加して検出する必要がある。
て僅かな回転であり、この回転を信号として検出してお
り、このため、Ｃ／Ｎの値の大きい信号を得るために
は、再生レーザパワーを増大させて再生レーザ光の光量
を増加して検出する必要がある。
【０００４】
【従来の技術】然し、再生レーザパワーを上昇すると、
光磁気記録媒体が加熱されるので、この熱によりＣ／Ｎ
が劣化する恐れがあり、また再生レーザパワーを上昇さ
せなくても、この光磁気記録媒体を用いた光ディスクを
収容する装置の環境温度が高いと、その予熱効果によっ
て、より高温に光磁気記録媒体が加熱されやすい。
光磁気記録媒体が加熱されるので、この熱によりＣ／Ｎ
が劣化する恐れがあり、また再生レーザパワーを上昇さ
せなくても、この光磁気記録媒体を用いた光ディスクを
収容する装置の環境温度が高いと、その予熱効果によっ
て、より高温に光磁気記録媒体が加熱されやすい。
【０００５】従って、このような光磁気記録媒体は加熱
される機会が多いので、この加熱によって影響を受けな
いような光磁気記録媒体が望まれ、そのためには、Ｃ／
Ｎが劣化する温度が可能な限り高い光磁気記録媒体が望
まれる。
される機会が多いので、この加熱によって影響を受けな
いような光磁気記録媒体が望まれ、そのためには、Ｃ／
Ｎが劣化する温度が可能な限り高い光磁気記録媒体が望
まれる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記したＣ／
Ｎが劣化する温度が高い光磁気記録媒体が得られるよう
な光磁気記録媒体の製造方法の提供を目的とする。
Ｎが劣化する温度が高い光磁気記録媒体が得られるよう
な光磁気記録媒体の製造方法の提供を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の光磁気記録媒体
の製造方法は、基板上に不活性ガスを用いてスパッタ法
により希土類−遷移金属合金薄膜の磁性膜よりなる記録
膜を形成する光磁気記録媒体の製造に於いて、前記スパ
ッタ法に用いるスパッタガスのガス圧を0.5 〜1.5Pa と
したことを特徴とするものである。
の製造方法は、基板上に不活性ガスを用いてスパッタ法
により希土類−遷移金属合金薄膜の磁性膜よりなる記録
膜を形成する光磁気記録媒体の製造に於いて、前記スパ
ッタ法に用いるスパッタガスのガス圧を0.5 〜1.5Pa と
したことを特徴とするものである。
【０００８】
【作用】希土類−遷移金属合金薄膜よりなる磁性膜をス
パッタ法を用いて成膜する場合、スパッタガス圧を大に
して成膜した磁性膜である程、再生レーザパワーを高め
てもＣ／Ｎが劣化し難い傾向がある。
パッタ法を用いて成膜する場合、スパッタガス圧を大に
して成膜した磁性膜である程、再生レーザパワーを高め
てもＣ／Ｎが劣化し難い傾向がある。
【０００９】このことは、スパッタガス圧が高くなる
程、スパッタにより形成される磁性膜の光磁気記録媒体
のビットが動き難くなるためと考えられる。またこのス
パッタガス圧力を高めてもＣ／Ｎ値の変動や、記録感度
等の記録特性の変動するような現象は見られない。
程、スパッタにより形成される磁性膜の光磁気記録媒体
のビットが動き難くなるためと考えられる。またこのス
パッタガス圧力を高めてもＣ／Ｎ値の変動や、記録感度
等の記録特性の変動するような現象は見られない。
【００１０】
【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例につき詳
細に説明する。図１は本発明の方法で形成した光磁気記
録媒体の断面図、図２は上記実施例の光磁気記録媒体の
製造方法に用いる装置の説明図である。
細に説明する。図１は本発明の方法で形成した光磁気記
録媒体の断面図、図２は上記実施例の光磁気記録媒体の
製造方法に用いる装置の説明図である。
【００１１】図１に示すようにポリカーボネイト製の基
板１上に、厚さが1600Åのテルビウム- 二酸化シリコン
(Tb-SiO2) 膜よりなる下部保護膜２が設けられ、その上
には厚さが1200Åのテルビウム- 鉄- コバルト(Tb-Fe-C
o)よりなる記録膜３が設けられ、最上層には厚さが1600
Åのテルビウム- 二酸化シリコン膜(Tb-SiO2) 膜より成
る上部保護膜４が設けられている。
板１上に、厚さが1600Åのテルビウム- 二酸化シリコン
(Tb-SiO2) 膜よりなる下部保護膜２が設けられ、その上
には厚さが1200Åのテルビウム- 鉄- コバルト(Tb-Fe-C
o)よりなる記録膜３が設けられ、最上層には厚さが1600
Åのテルビウム- 二酸化シリコン膜(Tb-SiO2) 膜より成
る上部保護膜４が設けられている。
【００１２】このような本発明の光磁気記録媒体を製造
するには、図１および図２に示すように、スパッタ容器
11の排気管12のバルブ13を開放にして該排気管12に連な
る排気ポンプ（図示せず）を用いてスパッタ容器11内を
５×10-5Pa程度の真空度に成る迄排気する。
するには、図１および図２に示すように、スパッタ容器
11の排気管12のバルブ13を開放にして該排気管12に連な
る排気ポンプ（図示せず）を用いてスパッタ容器11内を
５×10-5Pa程度の真空度に成る迄排気する。
【００１３】次いでガス導入管14のバルブ15を開いてア
ルゴン(Ar)ガスを0.2Pa の圧力迄導入し、この圧力でTb
- SiO2よりなる保護膜形成用ターゲット16と基板１間に
高周波電力を印加し、マグネトロンスパッタ法により基
板１上にTb- SiO2よりなる下部保護膜２を1600Åの厚さ
で成膜する。
ルゴン(Ar)ガスを0.2Pa の圧力迄導入し、この圧力でTb
- SiO2よりなる保護膜形成用ターゲット16と基板１間に
高周波電力を印加し、マグネトロンスパッタ法により基
板１上にTb- SiO2よりなる下部保護膜２を1600Åの厚さ
で成膜する。
【００１４】次いでArガスの圧力を0.5Pa より順次高く
した状態で、室温近傍に補償温度を有するテルビウム-
鉄- コバルト(Tb-Fe-Co)よりなる記録膜３を、基板１と
テルビウム- 鉄-コバルトの記録膜形成用ターゲット17
間に高周波電力を印加し、マグネトロンスパッタ法によ
り1200Åの厚さに成膜する。
した状態で、室温近傍に補償温度を有するテルビウム-
鉄- コバルト(Tb-Fe-Co)よりなる記録膜３を、基板１と
テルビウム- 鉄-コバルトの記録膜形成用ターゲット17
間に高周波電力を印加し、マグネトロンスパッタ法によ
り1200Åの厚さに成膜する。
【００１５】次いでArガスの圧力を0.2Pa の圧力に戻
し、Tb- SiO2よりなる保護膜形成用ターゲット16と基板
１間に高周波電力を印加し、マグネトロンスパッタ法に
より基板１上にTb- SiO2よりなる上部保護膜４を1600Å
の厚さで成膜する。
し、Tb- SiO2よりなる保護膜形成用ターゲット16と基板
１間に高周波電力を印加し、マグネトロンスパッタ法に
より基板１上にTb- SiO2よりなる上部保護膜４を1600Å
の厚さで成膜する。
【００１６】このようにして、記録膜３を形成する際の
スパッタガス圧の値を0.5Pa より順次上昇させて形成し
た光磁気記録媒体を用いて、再生レーザパワーの値を種
々変動させてＣ／Ｎが変動し始める再生レーザパワーの
上限の値を調査した結果を表１に示す。
スパッタガス圧の値を0.5Pa より順次上昇させて形成し
た光磁気記録媒体を用いて、再生レーザパワーの値を種
々変動させてＣ／Ｎが変動し始める再生レーザパワーの
上限の値を調査した結果を表１に示す。
【００１７】
【表１】
【００１８】表１に示すように、例えばスパッタガス圧
が0.5Pa の時、Ｃ／Ｎが変動し始める再生レーザパワー
の上限は2.0mW であり、スパッタガス圧が1.5Pa の時、
Ｃ／Ｎが変動し始める再生レーザパワーの上限は4.5mW
であり、スパッタガス圧を大にして形成した光磁気記録
媒体である程、Ｃ／Ｎが変動し始める再生レーザパワー
の値は大となる。
が0.5Pa の時、Ｃ／Ｎが変動し始める再生レーザパワー
の上限は2.0mW であり、スパッタガス圧が1.5Pa の時、
Ｃ／Ｎが変動し始める再生レーザパワーの上限は4.5mW
であり、スパッタガス圧を大にして形成した光磁気記録
媒体である程、Ｃ／Ｎが変動し始める再生レーザパワー
の値は大となる。
【００１９】つまり、スパッタガス圧が大になる程、成
膜した光磁気記録媒体の再生レーザパワーの加熱により
Ｃ／Ｎが劣化し難い光磁気記録媒体が得られることにな
る。また本発明者等は、このスパッタガス圧が1.5Pa 以
上になるとスパッタ膜の膜質が劣化し、結晶性が悪く成
り、この影響でＣ／Ｎが劣化するおそれがあり、スパッ
タガス圧を1.5Pa 以下で成膜することで実用的な光磁気
記録媒体が得られることを確認した。
膜した光磁気記録媒体の再生レーザパワーの加熱により
Ｃ／Ｎが劣化し難い光磁気記録媒体が得られることにな
る。また本発明者等は、このスパッタガス圧が1.5Pa 以
上になるとスパッタ膜の膜質が劣化し、結晶性が悪く成
り、この影響でＣ／Ｎが劣化するおそれがあり、スパッ
タガス圧を1.5Pa 以下で成膜することで実用的な光磁気
記録媒体が得られることを確認した。
【００２０】またスパッタガス圧を0.5Pa としたのは、
現在スパッタ法でこの光磁気記録媒体を成膜する際に、
Arガスをスパッタガスとして用い、この値のスパッタガ
ス圧を用いて実施しており、この値より低いスパッタガ
ス圧で光磁気記録媒体を形成すると、表１に示すように
更にＣ／Ｎが劣化する際の再生レーザパワーの値が、2.
0Wよりも低下するようになり、高品質な光磁気記録媒体
が得られないのでこの値とした。
現在スパッタ法でこの光磁気記録媒体を成膜する際に、
Arガスをスパッタガスとして用い、この値のスパッタガ
ス圧を用いて実施しており、この値より低いスパッタガ
ス圧で光磁気記録媒体を形成すると、表１に示すように
更にＣ／Ｎが劣化する際の再生レーザパワーの値が、2.
0Wよりも低下するようになり、高品質な光磁気記録媒体
が得られないのでこの値とした。
【００２１】
【発明の効果】以上述べたように本発明の方法によれ
ば、Ｃ／Ｎの値が劣化する再生レーザパワーの上限が高
い光磁気記録媒体が得られる。つまり大きいＣ／Ｎの再
生信号を得るために、再生レーザパワーの値を向上させ
た場合でも、Ｃ／Ｎの劣化の少ない高品質の光磁気記録
媒体が得られる効果を生じる。
ば、Ｃ／Ｎの値が劣化する再生レーザパワーの上限が高
い光磁気記録媒体が得られる。つまり大きいＣ／Ｎの再
生信号を得るために、再生レーザパワーの値を向上させ
た場合でも、Ｃ／Ｎの劣化の少ない高品質の光磁気記録
媒体が得られる効果を生じる。
【図１】 本発明の光磁気記録媒体の断面図である。
【図２】 本発明の光磁気記録媒体の製造方法に用いる
装置の説明図である。
装置の説明図である。
1 基板 2 下部保護膜 3 記録膜 4 上部保護膜 11 スパッタ容器 12 排気管 13,15 バルブ 14 ガス導入管 16 保護膜形成用ターゲット 17 記録膜形成用ターゲット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 努 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 沼田 健彦 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 基板(1) 上に不活性ガスを用いてスパッ
タ法により希土類−遷移金属合金薄膜の磁性膜より成る
記録膜(3) を形成する光磁気記録媒体の製造に於いて、 前記スパッタに用いるスパッタガスのガス圧を0.5 〜1.
5Pa としたことを特徴とする光磁気記録媒体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23126691A JPH0573971A (ja) | 1991-09-11 | 1991-09-11 | 光磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23126691A JPH0573971A (ja) | 1991-09-11 | 1991-09-11 | 光磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0573971A true JPH0573971A (ja) | 1993-03-26 |
Family
ID=16920917
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23126691A Withdrawn JPH0573971A (ja) | 1991-09-11 | 1991-09-11 | 光磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0573971A (ja) |
-
1991
- 1991-09-11 JP JP23126691A patent/JPH0573971A/ja not_active Withdrawn
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4929320A (en) | Method of making magneto-optical recording medium | |
| JPH0573971A (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2943607B2 (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP3977238B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP3414823B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP2555113B2 (ja) | 光学的磁気記録媒体の製造法 | |
| JPH0619859B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP2663881B2 (ja) | 光磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JP2943606B2 (ja) | 光磁気記録媒体とその製造方法 | |
| JP2830385B2 (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP3237977B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH0944919A (ja) | 光磁気ディスク | |
| JP2001126331A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH0917050A (ja) | 光磁気ディスク | |
| JP2846872B2 (ja) | 磁気光学記憶素子の製造方法 | |
| JP2775853B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH0729230A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH05290431A (ja) | 光磁気記録媒体およびその製法 | |
| JPH0785521A (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2003272264A (ja) | 光磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH01112549A (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH09147434A (ja) | 光磁気ディスク | |
| JP2000187892A (ja) | ＳｉＯ２膜、相変化型光デイスク媒体および製造方法 | |
| JPH0660448A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH08329542A (ja) | 光磁気記録層の製法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981203 |