JPH0574561A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JPH0574561A JPH0574561A JP23591591A JP23591591A JPH0574561A JP H0574561 A JPH0574561 A JP H0574561A JP 23591591 A JP23591591 A JP 23591591A JP 23591591 A JP23591591 A JP 23591591A JP H0574561 A JPH0574561 A JP H0574561A
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- JP
- Japan
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- frequency
- heating chamber
- heating
- ghz
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- Pending
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- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、加熱室の高さを１２０mm以下に薄
型化しても、高周波エネルギーを加熱室内に導くことが
可能で被加熱物を均一に加熱することを目的とする。 【構成】 加熱室１の高さを１２０mm以下の立方体状に
形成し、高周波発生装置７で発生させるマイクロ波の周
波数を５．８ＧＨｚに設定したことを特徴とする。
型化しても、高周波エネルギーを加熱室内に導くことが
可能で被加熱物を均一に加熱することを目的とする。 【構成】 加熱室１の高さを１２０mm以下の立方体状に
形成し、高周波発生装置７で発生させるマイクロ波の周
波数を５．８ＧＨｚに設定したことを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、被加熱物を誘電加熱に
より調理する高周波加熱装置に関する。
より調理する高周波加熱装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】高周波加熱装置は、マイクロ波による誘
電加熱のみの単機能型から、電熱加熱装置を内蔵した複
合機能型のものへと発展し、マイクロ波と電熱装置の複
合的な加熱により、きめ細かい調理ができるようになっ
てきている。図３は、従来の複合機能型の高周波加熱装
置を示している。同図において、商用交流電源からの交
流電力が電源回路３により高周波発生装置であるマグネ
トロン２を駆動するのに必要な電力に変換される。マグ
ネトロン２から発生したマイクロ波は、導波管４を通し
て加熱室１０内に放射され、低回転するターンテーブル
５上の被加熱物８を誘電加熱するようになっている。６
は魚調理などに使用する電熱加熱用のヒータである。
電加熱のみの単機能型から、電熱加熱装置を内蔵した複
合機能型のものへと発展し、マイクロ波と電熱装置の複
合的な加熱により、きめ細かい調理ができるようになっ
てきている。図３は、従来の複合機能型の高周波加熱装
置を示している。同図において、商用交流電源からの交
流電力が電源回路３により高周波発生装置であるマグネ
トロン２を駆動するのに必要な電力に変換される。マグ
ネトロン２から発生したマイクロ波は、導波管４を通し
て加熱室１０内に放射され、低回転するターンテーブル
５上の被加熱物８を誘電加熱するようになっている。６
は魚調理などに使用する電熱加熱用のヒータである。
【０００３】従来の高周波加熱装置は、このような構成
のもとで複合機能調理が実現されていたが、さらに以下
の理由により加熱室１０の薄型化が望まれていた。即
ち、被加熱物８の大きさに対して加熱室１０の形状が大
きく加熱室１０自体の熱損失が無視できないこと、また
電熱加熱用のヒータ６により輻射加熱を行う場合、ヒー
タ６から被加熱物８までの距離が大きく、ヒータ６の加
熱効率が悪いことである。この他、今後予測される高周
波加熱装置の車載化などを考慮すると、加熱室１０の薄
型化は益々必要になってくる。これに対し、従来の加熱
室１０の高さを単に低くすればよいかというと、マイク
ロ波加熱の点で次のような問題が生じてくる。
のもとで複合機能調理が実現されていたが、さらに以下
の理由により加熱室１０の薄型化が望まれていた。即
ち、被加熱物８の大きさに対して加熱室１０の形状が大
きく加熱室１０自体の熱損失が無視できないこと、また
電熱加熱用のヒータ６により輻射加熱を行う場合、ヒー
タ６から被加熱物８までの距離が大きく、ヒータ６の加
熱効率が悪いことである。この他、今後予測される高周
波加熱装置の車載化などを考慮すると、加熱室１０の薄
型化は益々必要になってくる。これに対し、従来の加熱
室１０の高さを単に低くすればよいかというと、マイク
ロ波加熱の点で次のような問題が生じてくる。
【０００４】広く民生用に用いられている高周波加熱装
置は、そのマイクロ波周波数としてＩ．Ｓ．Ｍ．（工業
・科学・医療用）周波数バンドの一つである２．４５Ｇ
Ｈｚを使用している。ところで、加熱室１０は直六面体
共振器として考えられ、次式のように共振器形状から決
まる共振周波数で加熱を行っている。
置は、そのマイクロ波周波数としてＩ．Ｓ．Ｍ．（工業
・科学・医療用）周波数バンドの一つである２．４５Ｇ
Ｈｚを使用している。ところで、加熱室１０は直六面体
共振器として考えられ、次式のように共振器形状から決
まる共振周波数で加熱を行っている。
【０００５】 ｆ（Ｈｚ）＝［１／２（ε・μ）1/2 ］ ・［（ｍ／Ｗ）2 ＋（ｎ／Ｄ）2 ＋（ｐ／Ｈ）2 ］1/2 ここで、Ｗ，Ｄ，Ｈは加熱室１０の幅、奥行き、高さ
（単位mm）、またε，μは加熱室１０内媒体の誘電率、
透磁率である。ｍ，ｎ，ｐは各方向の電磁界の変化数で
あり、共振モードの次数（零又は正の整数）を示す。
（単位mm）、またε，μは加熱室１０内媒体の誘電率、
透磁率である。ｍ，ｎ，ｐは各方向の電磁界の変化数で
あり、共振モードの次数（零又は正の整数）を示す。
【０００６】いま、従来の高周波加熱装置の一例として
Ｗ＝２８５mm、Ｄ＝２８４mm、Ｈ＝１９３mmという加熱
室寸法を考える。ターンテーブル５の回転により加熱室
１０のインピーダンスが変化し、これによりマグネトロ
ン２の発振周波数も中心周波数から±２０ＭＨｚ以内で
変化することを考慮すると、この場合、２．４５ＧＨｚ
を中心に±２０ＭＨｚ内にある共振周波数及び共振モー
ドは図４のようになる。図中（）内の数字は共振モード
の次数を示す。これに対し、高さを低くすると近接する
共振モード数が減少するか、或いは共振モードが存在し
なくなる。図５はＨ＝８１mmにした場合の共振周波数及
び共振モードであるが、±２０ＭＨｚ内に共振モードが
１つしかない。
Ｗ＝２８５mm、Ｄ＝２８４mm、Ｈ＝１９３mmという加熱
室寸法を考える。ターンテーブル５の回転により加熱室
１０のインピーダンスが変化し、これによりマグネトロ
ン２の発振周波数も中心周波数から±２０ＭＨｚ以内で
変化することを考慮すると、この場合、２．４５ＧＨｚ
を中心に±２０ＭＨｚ内にある共振周波数及び共振モー
ドは図４のようになる。図中（）内の数字は共振モード
の次数を示す。これに対し、高さを低くすると近接する
共振モード数が減少するか、或いは共振モードが存在し
なくなる。図５はＨ＝８１mmにした場合の共振周波数及
び共振モードであるが、±２０ＭＨｚ内に共振モードが
１つしかない。
【０００７】同じ変動周波数幅でも共振モードは多数あ
る方がよい。即ち、複数のモードの何れかが共振もしく
はそれに近い状態になるため、発振周波数が変っても高
周波エネルギーは加熱室１０に導かれ易い。しかも共振
モード毎に電磁界の変化数ｍ，ｎ，ｐは異なるため、加
熱室１０内の電磁界分布は絶えず変化することになり均
一加熱に効果がある。通常、中心周波数付近とその低周
波側及び高周波側とで３つ以上のモード数があるのがよ
いと考えられている。
る方がよい。即ち、複数のモードの何れかが共振もしく
はそれに近い状態になるため、発振周波数が変っても高
周波エネルギーは加熱室１０に導かれ易い。しかも共振
モード毎に電磁界の変化数ｍ，ｎ，ｐは異なるため、加
熱室１０内の電磁界分布は絶えず変化することになり均
一加熱に効果がある。通常、中心周波数付近とその低周
波側及び高周波側とで３つ以上のモード数があるのがよ
いと考えられている。
【０００８】Ｈ＝８１mmの加熱室１０では、図５に示す
ように２．４５ＧＨｚ帯では共振モードが１つしかな
く、マグネトロン２の発振周波数が共振周波数から離れ
た場合、高周波エネルギーが加熱室１０に入りにくくな
る。また、電磁界分布が固定されるため、均一加熱がさ
れにくい。上記の幅・奥行の寸法例Ｗ＝２８５mm、Ｄ＝
２８４mmの場合、Ｈ＝６２mm以下では共振モードはな
い。また、Ｈ＝６２mm以上１２０mm以下の間では、共振
モード数は２．４５ＧＨｚ±２０ＭＨｚで最大２つしか
存在しないため、均一加熱の点で不十分である。
ように２．４５ＧＨｚ帯では共振モードが１つしかな
く、マグネトロン２の発振周波数が共振周波数から離れ
た場合、高周波エネルギーが加熱室１０に入りにくくな
る。また、電磁界分布が固定されるため、均一加熱がさ
れにくい。上記の幅・奥行の寸法例Ｗ＝２８５mm、Ｄ＝
２８４mmの場合、Ｈ＝６２mm以下では共振モードはな
い。また、Ｈ＝６２mm以上１２０mm以下の間では、共振
モード数は２．４５ＧＨｚ±２０ＭＨｚで最大２つしか
存在しないため、均一加熱の点で不十分である。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】従来の高周波加熱装置
は、加熱室の薄型化を行うため、その高さを１２０mm以
下にした場合、マイクロ波周波数２．４５ＧＨｚでは均
一加熱が難しく加熱むらが大きくなる。また高さを６２
mm以下まで薄くすると加熱室に高周波エネルギーが入ら
なくなるという問題があった。
は、加熱室の薄型化を行うため、その高さを１２０mm以
下にした場合、マイクロ波周波数２．４５ＧＨｚでは均
一加熱が難しく加熱むらが大きくなる。また高さを６２
mm以下まで薄くすると加熱室に高周波エネルギーが入ら
なくなるという問題があった。
【００１０】そこで、本発明は、加熱室の高さを１２０
mm以下に薄型化しても高周波エネルギーを加熱室内に導
くことができて被加熱物を均一に加熱することができる
高周波加熱装置を提供することを目的とする。
mm以下に薄型化しても高周波エネルギーを加熱室内に導
くことができて被加熱物を均一に加熱することができる
高周波加熱装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、加熱室に収納した被加熱物を高周波発生装
置で発生させたマイクロ波で加熱する高周波加熱装置で
あって、前記加熱室は高さが１２０mm以下の直方体状に
形成し、前記高周波発生装置で発生させるマイクロ波の
周波数は５．８ＧＨｚに設定してなることを要旨とす
る。
するために、加熱室に収納した被加熱物を高周波発生装
置で発生させたマイクロ波で加熱する高周波加熱装置で
あって、前記加熱室は高さが１２０mm以下の直方体状に
形成し、前記高周波発生装置で発生させるマイクロ波の
周波数は５．８ＧＨｚに設定してなることを要旨とす
る。
【００１２】
【作用】高さが１２０mm以下の薄型の直方体状加熱室の
場合、加熱室の寸法から決まる共振モードは２．４５Ｇ
Ｈｚよりも５．８ＧＨｚの方が多数存在する。したがっ
て、加熱室のインピーダンス変化により高周波発生装置
の発振周波数が変化しても、高周波エネルギーは加熱室
に導かれ易くなり、また、被加熱物の均一加熱が可能と
なる。
場合、加熱室の寸法から決まる共振モードは２．４５Ｇ
Ｈｚよりも５．８ＧＨｚの方が多数存在する。したがっ
て、加熱室のインピーダンス変化により高周波発生装置
の発振周波数が変化しても、高周波エネルギーは加熱室
に導かれ易くなり、また、被加熱物の均一加熱が可能と
なる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の実施例を図１及び図２に基づ
いて説明する。
いて説明する。
【００１４】なお、図１において前記図３における機器
及び部材等と同一ないし均等のものは、前記と同一符号
を以って示し、重複した説明を省略する。
及び部材等と同一ないし均等のものは、前記と同一符号
を以って示し、重複した説明を省略する。
【００１５】この実施例では、加熱室１の形状が幅、奥
行は従来と同じでＷ＝２８５mm、Ｄ＝２８４mmである
が、高さがＨ＝８１mmで薄型の直方体状に形成されてい
る。また、高周波発生装置であるマグネトロン７の発振
周波数は５．８ＧＨｚに設定されている。
行は従来と同じでＷ＝２８５mm、Ｄ＝２８４mmである
が、高さがＨ＝８１mmで薄型の直方体状に形成されてい
る。また、高周波発生装置であるマグネトロン７の発振
周波数は５．８ＧＨｚに設定されている。
【００１６】図２は、このような加熱室１の形状に対す
る共振周波数及び共振モードを示している。比較のた
め、マグネトロン７の周波数変動幅は２．４５ＧＨｚの
場合と同様に±２０ＭＨｚにしてある。従来の２．４５
ＧＨｚ±２０ＭＨｚでは、前記図５に示したように共振
モード数は１つしかなかったのに対し、５．８ＧＨｚ±
高周波側にバランスよく存在している。これにより、マ
グネトロンの発振周波数が変化しても加熱室１に高周波
エネルギーが入りにくくなるということはない。また、
図５と比較して分るように、各共振モードの次数が高
い、即ち、一方向に対する電磁界の変化数が多いため、
２．４５ＧＨｚ±２０ＭＨＺよりもさらに均一な加熱が
期待できる。５．８ＧＨｚ±２０ＭＨｚでは、加熱室１
は、Ｈ＝２６mmまでは３個以上のモード数が存在するた
め、本実施例のように高さを８１mmに限定する必要はな
い。
る共振周波数及び共振モードを示している。比較のた
め、マグネトロン７の周波数変動幅は２．４５ＧＨｚの
場合と同様に±２０ＭＨｚにしてある。従来の２．４５
ＧＨｚ±２０ＭＨｚでは、前記図５に示したように共振
モード数は１つしかなかったのに対し、５．８ＧＨｚ±
高周波側にバランスよく存在している。これにより、マ
グネトロンの発振周波数が変化しても加熱室１に高周波
エネルギーが入りにくくなるということはない。また、
図５と比較して分るように、各共振モードの次数が高
い、即ち、一方向に対する電磁界の変化数が多いため、
２．４５ＧＨｚ±２０ＭＨＺよりもさらに均一な加熱が
期待できる。５．８ＧＨｚ±２０ＭＨｚでは、加熱室１
は、Ｈ＝２６mmまでは３個以上のモード数が存在するた
め、本実施例のように高さを８１mmに限定する必要はな
い。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
高周波発生装置で発生させるマイクロ波の周波数を５．
８ＧＨｚに設定したため、加熱室の高さを１２０mm以下
に薄型化しても、加熱室内の共振モード数が多くなって
高周波エネルギーを加熱室内に導くことができ、また被
加熱物を均一に加熱することができる。
高周波発生装置で発生させるマイクロ波の周波数を５．
８ＧＨｚに設定したため、加熱室の高さを１２０mm以下
に薄型化しても、加熱室内の共振モード数が多くなって
高周波エネルギーを加熱室内に導くことができ、また被
加熱物を均一に加熱することができる。
【図１】本発明に係る高周波加熱装置の実施例の構成を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図２】本実施例の加熱室形状から決まる５．８ＧＨｚ
帯の共振周波数及び共振モードを示す図である。
帯の共振周波数及び共振モードを示す図である。
【図３】従来の高周波加熱装置の構成を示す斜視図であ
る。
る。
【図４】従来例の加熱室形状から決まる２．４５ＧＨｚ
帯の共振周波数及び共振モードを示す図である。
帯の共振周波数及び共振モードを示す図である。
【図５】加熱室を薄型化したとき、その加熱室形状から
決まる２．４５ＧＨｚ帯の共振周波数及び共振モードを
示す図である。
決まる２．４５ＧＨｚ帯の共振周波数及び共振モードを
示す図である。
１ 加熱室 ７ マグネトロン（高周波発生装置） ８ 被加熱物
Claims (1)
- 【請求項１】 加熱室に収納した被加熱物を高周波発生
装置で発生させたマイクロ波で加熱する高周波加熱装置
であって、 前記加熱室は高さが１２０mm以下の直方体状に形成し、
前記高周波発生装置で発生させるマイクロ波の周波数は
５．８ＧＨｚに設定してなることを特徴とする高周波加
熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23591591A JPH0574561A (ja) | 1991-09-17 | 1991-09-17 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23591591A JPH0574561A (ja) | 1991-09-17 | 1991-09-17 | 高周波加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0574561A true JPH0574561A (ja) | 1993-03-26 |
Family
ID=16993127
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23591591A Pending JPH0574561A (ja) | 1991-09-17 | 1991-09-17 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0574561A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012117677A1 (ja) * | 2011-03-02 | 2012-09-07 | 三菱電機株式会社 | 加熱調理器 |
-
1991
- 1991-09-17 JP JP23591591A patent/JPH0574561A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012117677A1 (ja) * | 2011-03-02 | 2012-09-07 | 三菱電機株式会社 | 加熱調理器 |
| CN103403455A (zh) * | 2011-03-02 | 2013-11-20 | 三菱电机株式会社 | 加热烹调器 |
| JPWO2012117677A1 (ja) * | 2011-03-02 | 2014-07-07 | 三菱電機株式会社 | 加熱調理器 |
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