JPH0574726A - 縦型熱処理装置 - Google Patents
縦型熱処理装置Info
- Publication number
- JPH0574726A JPH0574726A JP23261491A JP23261491A JPH0574726A JP H0574726 A JPH0574726 A JP H0574726A JP 23261491 A JP23261491 A JP 23261491A JP 23261491 A JP23261491 A JP 23261491A JP H0574726 A JPH0574726 A JP H0574726A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- clean
- air
- heat treatment
- horizontally
- boat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims abstract description 19
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 8
- 239000000969 carrier Substances 0.000 abstract 2
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】
【目的】縦型熱処理装置において、キャリアおよびボー
ト内に水平に収納されているウエハに、水平方向から清
浄な空気を流すことによってウエハ間の空気の澱みをな
くす。 【構成】裏面クリーンユニット１８は、ファン１９とフ
ィルター２０により構成され、装置下部に取付けられた
下部導入口１６よりクリーンルーム３の空気を取り入れ
て装置下部の導入空間１７を通して裏面クリーンユニッ
ト１８に送り、フィルター２０にて塵埃が除去された清
浄な空気がキャリア８及びボート１１に水平に収納され
たウエハに水平に吹き出す構造を有する。
ト内に水平に収納されているウエハに、水平方向から清
浄な空気を流すことによってウエハ間の空気の澱みをな
くす。 【構成】裏面クリーンユニット１８は、ファン１９とフ
ィルター２０により構成され、装置下部に取付けられた
下部導入口１６よりクリーンルーム３の空気を取り入れ
て装置下部の導入空間１７を通して裏面クリーンユニッ
ト１８に送り、フィルター２０にて塵埃が除去された清
浄な空気がキャリア８及びボート１１に水平に収納され
たウエハに水平に吹き出す構造を有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造工程に使用
する半導体ウエハを高温炉内にて酸化拡散処理する縦型
拡散装置、および、高温かつ真空炉内にて成膜する縦型
ＬＰＣＶＤ装置に代表される縦型熱処理装置に関する。
する半導体ウエハを高温炉内にて酸化拡散処理する縦型
拡散装置、および、高温かつ真空炉内にて成膜する縦型
ＬＰＣＶＤ装置に代表される縦型熱処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の縦型熱処理装置を図を用いて説明
する。図３は、その概要構成を示す縦断面図である。図
３に示すように、縦型熱処理装置は、装置前面が高清浄
に維持されたクリーンルーム３に面し、清浄度の低い用
力室４内に設置されている。クリーンルーム３の圧力は
用力室４の圧力より高く維持され、隙間を通して用力室
４の塵埃がクリーンルーム３に侵入しないようになって
おり、壁１およびスカート２が取付けられ、隙間をふさ
いでいる。装置前面がクリーンルーム３に面しており、
ウエハ７を収納したキャリア８はクリーンルーム３の装
置前面開口部５より取り出し取り入れを行う。
する。図３は、その概要構成を示す縦断面図である。図
３に示すように、縦型熱処理装置は、装置前面が高清浄
に維持されたクリーンルーム３に面し、清浄度の低い用
力室４内に設置されている。クリーンルーム３の圧力は
用力室４の圧力より高く維持され、隙間を通して用力室
４の塵埃がクリーンルーム３に侵入しないようになって
おり、壁１およびスカート２が取付けられ、隙間をふさ
いでいる。装置前面がクリーンルーム３に面しており、
ウエハ７を収納したキャリア８はクリーンルーム３の装
置前面開口部５より取り出し取り入れを行う。
【０００３】装置におけるクリーンルーム３と用力室４
との隔たりは、用力室内の装置外板にて行っており、ク
リーンルーム３の空気が装置前面開口部５を通り用力室
４に流れないようにしている。キャリア８内のウエハ７
は水平になるように装置前面開口部５を通して装置内に
取り入れられ、取り入れられたウエハは立替器９の動作
によりボートエレベータ１０上のボート１１に水平にか
つ平行に収納され、ボートエレベータ１０の上昇動作に
より高温に維持された炉１２内に挿入され熱処理を行
う。
との隔たりは、用力室内の装置外板にて行っており、ク
リーンルーム３の空気が装置前面開口部５を通り用力室
４に流れないようにしている。キャリア８内のウエハ７
は水平になるように装置前面開口部５を通して装置内に
取り入れられ、取り入れられたウエハは立替器９の動作
によりボートエレベータ１０上のボート１１に水平にか
つ平行に収納され、ボートエレベータ１０の上昇動作に
より高温に維持された炉１２内に挿入され熱処理を行
う。
【０００４】ここで、キャリア８と立替器９の上部に
は、上部クリーンユニット１３が取付けられている。上
部クリーンユニット１３は、ファン１４とフィルター１
５により構成されている。クリーンルーム３の空気は、
上部開口部６からファン１４により取り入れられ、フィ
ルター１５を通して塵埃が除去されて下方に流れ、立替
器９、キャリア８、ウエハ７を経て装置前面開口部５よ
り吐き出される。以上により、装置内の立替器９、キャ
リア８、ウエハ７の存在するエリアの清浄度は、高清浄
に維持される。
は、上部クリーンユニット１３が取付けられている。上
部クリーンユニット１３は、ファン１４とフィルター１
５により構成されている。クリーンルーム３の空気は、
上部開口部６からファン１４により取り入れられ、フィ
ルター１５を通して塵埃が除去されて下方に流れ、立替
器９、キャリア８、ウエハ７を経て装置前面開口部５よ
り吐き出される。以上により、装置内の立替器９、キャ
リア８、ウエハ７の存在するエリアの清浄度は、高清浄
に維持される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この従来の縦型熱処理
装置において、装置内を高清浄にするクリーンユニット
は、立替器９およびキャリア８の上部に取付けられた上
部クリーンユニット１３のみであるため、下記のような
欠点がある。炉１２の下部に位置するボート１１、お
よびボート１１内に水平に収納されたウエハ付近の空気
は、上部クリーンユニット１３からの流れがなく、澱ん
でいる。キャリア８内のウエハ７は、水平に収納され
ているにもかかわらず、上部クリーンユニット１３から
の空気の流れは下方への流れであるため、ウエハ７間の
空気は澱んでいる。装置外板の用力室４側は、クリー
ンルーム３と用力室４との隔壁の役割があるが、外板取
付けの隙間が生じるなど実際構造においては密閉性は良
好でなく、また、上部クリーンユニット１３の吹出し容
量が多くないため、装置内の圧力はクリーンルーム３内
の圧力より低下し、クリーンルーム３から装置前面開口
部５を通り用力室４に空気が流れ、キャリア取り入れ取
り出し時の作業者の塵埃が装置内に流れる。
装置において、装置内を高清浄にするクリーンユニット
は、立替器９およびキャリア８の上部に取付けられた上
部クリーンユニット１３のみであるため、下記のような
欠点がある。炉１２の下部に位置するボート１１、お
よびボート１１内に水平に収納されたウエハ付近の空気
は、上部クリーンユニット１３からの流れがなく、澱ん
でいる。キャリア８内のウエハ７は、水平に収納され
ているにもかかわらず、上部クリーンユニット１３から
の空気の流れは下方への流れであるため、ウエハ７間の
空気は澱んでいる。装置外板の用力室４側は、クリー
ンルーム３と用力室４との隔壁の役割があるが、外板取
付けの隙間が生じるなど実際構造においては密閉性は良
好でなく、また、上部クリーンユニット１３の吹出し容
量が多くないため、装置内の圧力はクリーンルーム３内
の圧力より低下し、クリーンルーム３から装置前面開口
部５を通り用力室４に空気が流れ、キャリア取り入れ取
り出し時の作業者の塵埃が装置内に流れる。
【０００６】また、用力室内の空気を取り入れ装置内に
水平に流すクリーンユニットを装置裏面に取付けること
も試みられているが、圧力の低い用力室の空気を圧力の
高い装置内に流すための差圧を充分に取れるクリーンユ
ニットは、大型になる欠点があった。
水平に流すクリーンユニットを装置裏面に取付けること
も試みられているが、圧力の低い用力室の空気を圧力の
高い装置内に流すための差圧を充分に取れるクリーンユ
ニットは、大型になる欠点があった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の縦型熱処理装置
は、立替器及びキャリア上部に位置する上部クリーンユ
ニットのほかに、装置下部または側面にクリーンルーム
内の空気を取り入れる導入口および導入空間を設け、か
つ、導入口および導入空間を通して取り入れた清浄な空
気をボート及びキャリアに水平に収納されたウエハに対
し水平に吹き流すクリーンユニットを装置裏面に有して
いる。
は、立替器及びキャリア上部に位置する上部クリーンユ
ニットのほかに、装置下部または側面にクリーンルーム
内の空気を取り入れる導入口および導入空間を設け、か
つ、導入口および導入空間を通して取り入れた清浄な空
気をボート及びキャリアに水平に収納されたウエハに対
し水平に吹き流すクリーンユニットを装置裏面に有して
いる。
【０００８】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図１は本発明の一実施例の縦型熱処理炉の概要構成
を示す縦断面図である。 キャリア８と立替器９の上部
には、上部クリーンユニット１３が取付けられている。
上部クリーンユニット１３は、ファン１４とフィルター
１５により構成されている。クリーンルーム３の空気
は、上部開口部６からファン１４により取り入れられ、
フィルター１５を通して塵埃が除去され下方に流れ、立
替器９、キャリア８、ウエハ７に流れる。裏面クリーン
ユニット１８は、ファン１９とフィルター２０により構
成されている。装置下部に取付けられた下部導入口１６
よりクリーンルーム３の空気は取り入れられ、装置の下
部空間１７を通り裏面クリーンユニット１８に入り、フ
ィルター２０にて塵埃が除去された清浄な空気が炉１２
の下部に水平に吹き流れ、炉１２下部に位置するボート
１１、及び、装置内の立替器９、キャリア８を流れる。
そして、上部クリーンユニット１３より下方に流れる空
気と共に前面開口部５からクリーンルームに吐き出され
る。以上のように装置内のウエハの水平に移動するエリ
アには、クリーンユニットより吹き出された清浄の空気
が水平に流れる。
る。図１は本発明の一実施例の縦型熱処理炉の概要構成
を示す縦断面図である。 キャリア８と立替器９の上部
には、上部クリーンユニット１３が取付けられている。
上部クリーンユニット１３は、ファン１４とフィルター
１５により構成されている。クリーンルーム３の空気
は、上部開口部６からファン１４により取り入れられ、
フィルター１５を通して塵埃が除去され下方に流れ、立
替器９、キャリア８、ウエハ７に流れる。裏面クリーン
ユニット１８は、ファン１９とフィルター２０により構
成されている。装置下部に取付けられた下部導入口１６
よりクリーンルーム３の空気は取り入れられ、装置の下
部空間１７を通り裏面クリーンユニット１８に入り、フ
ィルター２０にて塵埃が除去された清浄な空気が炉１２
の下部に水平に吹き流れ、炉１２下部に位置するボート
１１、及び、装置内の立替器９、キャリア８を流れる。
そして、上部クリーンユニット１３より下方に流れる空
気と共に前面開口部５からクリーンルームに吐き出され
る。以上のように装置内のウエハの水平に移動するエリ
アには、クリーンユニットより吹き出された清浄の空気
が水平に流れる。
【０００９】図２は、本発明の他の実施例を示す縦断面
図である。本実施例では、裏面クリーンユニット１８に
空気を導入するために、装置側面を使用している。装置
の側面に取付けられた側面導入口２１よりクリーンルー
ム３の空気は取り入れられ、装置側面空間２２を通り裏
面クリーンユニット１８に入り、フィルター２０にて塵
埃が除去された清浄な空気が炉１２の下部に水平に吹き
流れる。
図である。本実施例では、裏面クリーンユニット１８に
空気を導入するために、装置側面を使用している。装置
の側面に取付けられた側面導入口２１よりクリーンルー
ム３の空気は取り入れられ、装置側面空間２２を通り裏
面クリーンユニット１８に入り、フィルター２０にて塵
埃が除去された清浄な空気が炉１２の下部に水平に吹き
流れる。
【００１０】
【発明の効果】以上説明したように本発明の縦型熱処理
装置は、装置前面にクリーンルーム内の空気を取り入れ
る導入口および導入空間を設け、かつ、導入口および導
入空間を通して取り入れられ炉下部に位置するボートに
清浄な空気を水平に吹き流すクリーンユニットを装置裏
面に有する事により、下記のような効果が得られる。
装置は、装置前面にクリーンルーム内の空気を取り入れ
る導入口および導入空間を設け、かつ、導入口および導
入空間を通して取り入れられ炉下部に位置するボートに
清浄な空気を水平に吹き流すクリーンユニットを装置裏
面に有する事により、下記のような効果が得られる。
【００１１】炉の下部に位置するボート、およびボー
ト内に水平に収納されたウエハ付近の空気は、裏面クリ
ーンユニットからの水平の流れにより澱みなく、常に清
浄な空気となる。キャリア内に水平に収納されている
ウエハ間の空気は、裏面クリーンユニットからの水平の
空気の流れにより淀みなく常に清浄な空気となる。大
型のクリーンユニットを用いることなくクリーンルーム
の圧力と用力室の圧力との圧力差に無関係に装置内への
クリーンユニットの吹出し容量を多くでき、装置内の圧
力はクリーンルーム内の圧力より高くでき、装置前面開
口部において、キャリア取り入れ取り出し時にクリーン
ルームから作業者の塵埃が装置内に流れる事を防止す
る。
ト内に水平に収納されたウエハ付近の空気は、裏面クリ
ーンユニットからの水平の流れにより澱みなく、常に清
浄な空気となる。キャリア内に水平に収納されている
ウエハ間の空気は、裏面クリーンユニットからの水平の
空気の流れにより淀みなく常に清浄な空気となる。大
型のクリーンユニットを用いることなくクリーンルーム
の圧力と用力室の圧力との圧力差に無関係に装置内への
クリーンユニットの吹出し容量を多くでき、装置内の圧
力はクリーンルーム内の圧力より高くでき、装置前面開
口部において、キャリア取り入れ取り出し時にクリーン
ルームから作業者の塵埃が装置内に流れる事を防止す
る。
【図１】本発明の一実施例の縦断面図である。
【図２】本発明の他の実施例の縦断面図である。
【図３】従来の縦型熱処理装置の縦断面図である。
１ 壁 ２ スカート ３ クリーンルーム ４ 用力室 ５ 前面開口部 ６ 上部開口部 ７ ウエハ ８ キャリア ９ 立替器 １０ ボートエレベータ １１ ボート １２ 炉 １３ 上部クリーンユニット １４ ファン １５ フィルター １６ 下部導入口 １７ 下部空間 １８ 裏面クリーンユニット １９ ファン ２０ フィルター ２１ 側面導入口 ２２ 側面空間
Claims (3)
- 【請求項１】 半導体ウエハを熱処理する縦型熱処理装
置において、装置前面にクリーンルーム内の空気を取り
入れる導入口および導入空間を設け、かつ前記導入口お
よび導入空間を通して取り入れた空気をボート及びキャ
リアに水平に収納されているウエハに対し水平方向から
送り込むクリーンユニットを装置裏面に有する事を特徴
とする縦型熱処理装置。 - 【請求項２】 前記導入口および導入空間を装置下部に
有する請求項１記載の縦型熱処理装置。 - 【請求項３】 前記導入口および導入空間を装置側面に
有する請求項１記載の縦型熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23261491A JPH0574726A (ja) | 1991-09-12 | 1991-09-12 | 縦型熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23261491A JPH0574726A (ja) | 1991-09-12 | 1991-09-12 | 縦型熱処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0574726A true JPH0574726A (ja) | 1993-03-26 |
Family
ID=16942102
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23261491A Pending JPH0574726A (ja) | 1991-09-12 | 1991-09-12 | 縦型熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0574726A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101113165B1 (ko) * | 2009-12-31 | 2012-02-21 | 주식회사 웰탑테크노스 | 자동 공구 팁 커팅머신 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS628633B2 (ja) * | 1980-06-09 | 1987-02-24 | Hitachi Ltd | |
| JPS62116349A (ja) * | 1985-11-14 | 1987-05-27 | 三菱電機株式会社 | 搬送装置 |
| JPH01117022A (ja) * | 1987-10-29 | 1989-05-09 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 半導体ウェーハの縦型熱処理装置 |
| JPH0256926A (ja) * | 1988-05-27 | 1990-02-26 | Tel Sagami Ltd | 処理装置 |
| JPH03109750A (ja) * | 1989-09-25 | 1991-05-09 | Nikon Corp | 基板の管理及び保管装置 |
-
1991
- 1991-09-12 JP JP23261491A patent/JPH0574726A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS628633B2 (ja) * | 1980-06-09 | 1987-02-24 | Hitachi Ltd | |
| JPS62116349A (ja) * | 1985-11-14 | 1987-05-27 | 三菱電機株式会社 | 搬送装置 |
| JPH01117022A (ja) * | 1987-10-29 | 1989-05-09 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 半導体ウェーハの縦型熱処理装置 |
| JPH0256926A (ja) * | 1988-05-27 | 1990-02-26 | Tel Sagami Ltd | 処理装置 |
| JPH03109750A (ja) * | 1989-09-25 | 1991-05-09 | Nikon Corp | 基板の管理及び保管装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101113165B1 (ko) * | 2009-12-31 | 2012-02-21 | 주식회사 웰탑테크노스 | 자동 공구 팁 커팅머신 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5934991A (en) | Pod loader interface improved clean air system | |
| KR0155387B1 (ko) | 반도체 처리 장치 | |
| US5261167A (en) | Vertical heat treating apparatus | |
| US5261935A (en) | Clean air apparatus | |
| JP6613864B2 (ja) | ミニエンバイロメント装置 | |
| US5219464A (en) | Clean air apparatus | |
| JPWO2010137556A1 (ja) | 雰囲気置換装置 | |
| US9153468B2 (en) | Load port apparatus | |
| JP4374133B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| US7935185B2 (en) | Film forming system and film forming method | |
| JPH04269825A (ja) | 縦型熱処理装置 | |
| JP2005072544A (ja) | ウエハー供給回収装置 | |
| KR20190108237A (ko) | 이에프이엠 | |
| JPH0574726A (ja) | 縦型熱処理装置 | |
| JP2014067797A (ja) | 基板処理装置、基板処理方法及び半導体装置の製造方法 | |
| TWM527792U (zh) | 潔淨系統及其晶圓盒 | |
| JP3697275B2 (ja) | 局所クリーン化におけるインターフェイスボックス及びそのクリーンルーム | |
| JPH07283288A (ja) | 処理装置 | |
| JPS62206826A (ja) | 半導体熱処理装置 | |
| JP2007095879A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP3856726B2 (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP2011044633A (ja) | 基板処理装置 | |
| JPH06224143A (ja) | 処理装置及びガスシャワーノズル | |
| JP5027430B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JPH1092760A (ja) | 熱処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19971216 |