JPH0579964U - 磁気センサ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 膜厚の厚い貫通電極と膜厚の薄い配線部との
間の接続部分の断線を防止するようにする。 【構成】 絶縁基板１のスルーホール２内に貫通電極３
を形成し、この絶縁基板１の一方の面に形成した感磁部
４と貫通電極３との間を配線部５で接続する。そして配
線部５を介して、第１の電極６Ａと第２の電極６Ｂから
成る補強電極６を貫通電極３の上方に形成する。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、回転体の回転速度、回転角等の検出に用いられる磁気センサに関す る。

【０００２】

【従来の技術】

従来の磁気センサとして図４に示したような構造が知られている。１１はスル ーホール１２が形成された絶縁基板で、スルーホール１２の内部には貫通電極１ ３が形成されると共に、絶縁基板１１の一方の面には感磁部１４が形成されてこ の一端は貫通電極１３に接続されている。絶縁基板１１の他方の面には半田１５ を介して外部リード１６が貫通電極１３に接続されている。１７は感磁部１４の 表面を覆う保護膜である。

【０００３】 貫通電極１３は厚膜電極から成っており、一方、感磁部１４は強磁性金属薄膜 から成っておりこの膜厚は貫通電極１３に比べて著しく薄くなっている。

【０００４】

【考案が解決しようとする課題】

ところで従来の磁気センサでは、膜厚の著しく異なる貫通電極１３と感磁部１ ４とが直接接続されているため、この接続部分で断線が生じ易いという問題があ る。

【０００５】 すなわち、図５及び図６に示すように、貫通電極１３を形成する際にスルーホ ール１２からこの貫通電極１３が浮き上がったり、沈んだりして形成されること が多いので、このように高さの一定しない貫通電極１３に対して膜厚の薄い感磁 部１４を接続すると断線が生じ易い。これを防止するには感磁部１４の膜厚を厚 くすることが考えられるが、厚膜化してもせいぜい数１０００Å程度しか形成で きず、数μｍもの貫通電極１３の段差に対して電気的に断線し易い。また感磁部 １４の膜はその性質上厚膜化を図ると剥離が生じ易いので、磁気センサとしての 信頼性が低下する。

【０００６】 本考案は以上のような問題に対処してなされたもので、貫通電極１３と配線部 として働く感磁部１４との接続部分における断線を防止するようにした磁気セン サを提供することを目的とするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】

上記目的を達成するために本考案は、スルーホールが形成された絶縁基板と、 スルーホール内部に形成された貫通電極と、絶縁基板の少なくとも一方の面に形 成された感磁部と、この一方の面に形成された前記貫通電極と感磁部とを接続す る配線部と、前記配線部を介して貫通電極の上方に形成された補強電極とを備え たことを特徴とするものである。

【０００８】

【作用】

貫通電極に接続されている配線部を介して貫通電極の上方に補強電極を形成す るようにしたので、配線部の膜厚が薄くとも貫通電極と配線部との接続部分で断 線は生じない。

【０００９】

【実施例】

以下図面を参照して本考案の実施例を説明する。 図１は本考案の磁気センサの実施例を示す断面図で、１はスルーホール２が形 成された例えば感光性結晶化ガラスセラミックから成る絶縁基板、３はＡｇ，Ｃ ｕもしくはこれらの合金から成る貫通電極である。

【００１０】 ４は絶縁基板１の一方の面のほぼ中央部に形成されたＮｉ−Ｆｅ、Ｎｉ−Ｃｏ 等のＮｉ合金強磁性金属から成る感磁部、５は絶縁基板１の一方の面に形成され 貫通電極３と感磁部４とを接続する配線部である。６Ａは配線部５を介して貫通 電極３の上方に形成されたＡｌ，Ｍｏ，Ｃｒ，Ｔｉ，Ｎｉ又はこれらを含んだ合 金から成る第１の電極、６Ｂはこの第１の電極６Ａに積層されたＣｕ，Ａｌ等か ら成る第２の電極で、これら第１の電極６Ａと第２の電極６Ｂとによって補強電 極６が構成される。第１の電極６Ａが厚く形成できるＡｌ等から成る場合は第２ の電極６Ｂは不要となして、一層のみで補強電極とすることができる。７は感磁 部４、配線部５及び補強電極６を覆う保護膜である。

【００１１】 また、絶縁基板１の他方の面には半田８を介して外部リード９が貫通電極３に 接続され、これら半田８と外部リード９との接続部分は保護膜１０で覆われてい る。

【００１２】 このような本実施例の磁気センサによれば、貫通電極３と感磁部４とを接続す る配線部５を介して貫通電極３の上方に膜厚の厚い補強電極６を形成するように したので、配線部５の膜厚が薄くともこの配線部５と貫通電極３との接続部分で 断線は生じない。よって信頼性の高い磁気センサを得ることができる。

【００１３】 次に、本実施例の磁気センサの製造方法を説明する。まず、絶縁基板１を用意 してスルーホール２を形成する。次にスルーホール２内に例えばＡｇ系ペースト 、又はＣｕ系ペーストを充填した後、焼成処理して貫通電極３を形成する。

【００１４】 続いて、絶縁基板１の一方の面に感磁部４を形成した後、配線部５を形成する 。次に補強電極６となる第１の電極６Ａ及び第２の電極６Ｂを形成する。これは 各電極材料を真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等により成膜し た後、所望のパターンとなるようにフォトリソグラフィー技術を適用することに よって形成する。あるいはマスク蒸着等によって初めから所望のパターンとなる ように形成することができる。

【００１５】 なお、補強電極６を形成する際のエッチングによって、既に形成されている感 磁部４及び配線部５がダメージを受けるので、予め図３のように絶縁膜２０で配 線部５の一部を露出するようにマスクした状態で、図４のように補強電極６を形 成する。

【００１６】 次に絶縁基板１の一方の面に保護膜７を形成する。続いて絶縁基板１の他方の 面に半田８を介して外部リード９を貫通電極３に接続した後、保護膜１０を形成 することにより、図１の磁気センサが完成する。絶縁基板１として用いる感光性 結晶化ガラスセラミックは、表面粗度、平坦性がガラス基板並の優れた特性を有 しているため、良好なセンサ特性（感度、ブリッジ回路のインピーダンスのばら つきが少ない）の磁気センサを構成することができる。

【００１７】

【考案の効果】

以上述べたように本考案によれば、貫通電極と感磁部とを接続している配線部 を介して貫通電極の上方に補強電極を形成するようにしたので、貫通電極と配線 部との接続部分における断線を防止できるため、信頼性の高い磁気センサを提供 することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の磁気センサの実施例を示す断面図であ
る。

【図２】本実施例の磁気センサの一製造工程を示す断面
図である。

【図３】本実施例の磁気センサの一製造工程を示す断面
図である。

【図４】従来の磁気センサを示す断面図である。

【図５】従来の問題点の説明図である。

【図６】従来の問題点の説明図である。

【符号の説明】

１ 絶縁基板 ２ スルーホール ３ 貫通電極 ４ 感磁部 ５ 配線部 ６ 補強電極 ７ 保護膜

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 スルーホールが形成された絶縁基板と、
   スルーホール内部に形成された貫通電極と、絶縁基板の
   少なくとも一方の面に形成された感磁部と、この一方の
   面に形成された前記貫通電極と感磁部とを接続する配線
   部と、前記配線部を介して貫通電極の上方に形成された
   補強電極とを備えたことを特徴とする磁気センサ。