JPH0585216B2 - - Google Patents
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- JPH0585216B2 JPH0585216B2 JP63326404A JP32640488A JPH0585216B2 JP H0585216 B2 JPH0585216 B2 JP H0585216B2 JP 63326404 A JP63326404 A JP 63326404A JP 32640488 A JP32640488 A JP 32640488A JP H0585216 B2 JPH0585216 B2 JP H0585216B2
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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- C07C209/44—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of carboxylic acids or esters thereof in presence of ammonia or amines, or by reduction of nitriles, carboxylic acid amides, imines or imino-ethers
- C07C209/48—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of carboxylic acids or esters thereof in presence of ammonia or amines, or by reduction of nitriles, carboxylic acid amides, imines or imino-ethers by reduction of nitriles
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ニトリルの水素化のための触媒およ
び還元性アミン化触媒として有利に使用されるコ
バルト触媒の製法に関する。これらは、殊に、有
機窒素化合物が出発物質として関与するかまたは
それらが生成物として生じる反応で殊に効を奏す
る。
び還元性アミン化触媒として有利に使用されるコ
バルト触媒の製法に関する。これらは、殊に、有
機窒素化合物が出発物質として関与するかまたは
それらが生成物として生じる反応で殊に効を奏す
る。
コバルトとニツケルは、水素添加触媒として広
い用途が認められている。これらは、例えばニト
リルおよびジニトリルを水素化して相応するアミ
ンまたはジアミンにすることに使用される。一般
アミンの製造のための還元性アミン化も、アルデ
ヒドまたはケトンおよびアンモニアから成る混合
物を、触媒としてのコバルトまたはニツケルの存
在下に水素で処理することにより成る。
い用途が認められている。これらは、例えばニト
リルおよびジニトリルを水素化して相応するアミ
ンまたはジアミンにすることに使用される。一般
アミンの製造のための還元性アミン化も、アルデ
ヒドまたはケトンおよびアンモニアから成る混合
物を、触媒としてのコバルトまたはニツケルの存
在下に水素で処理することにより成る。
前記反応のために、ラニー−コバルト（Raney
−Kobalt）およびラニー−ニツケル（Raney−
Nickel）の使用が有効である。
−Kobalt）およびラニー−ニツケル（Raney−
Nickel）の使用が有効である。
従つてジエチルアミノアセトニトリルを、ウイ
ナンス（Winans）とアドキンス（Adkins）
（Am.Soc.55，4167（1933））の方法に従い水素化
して、収率37％でジアミンにすることができる。
このような収率が工業的方法にとつては低すぎる
ことは別として、ウイナンスとアドキンスの報告
は直ちには再現できなかつた（Houben−Weyl1
１／１，563頁参照）。
ナンス（Winans）とアドキンス（Adkins）
（Am.Soc.55，4167（1933））の方法に従い水素化
して、収率37％でジアミンにすることができる。
このような収率が工業的方法にとつては低すぎる
ことは別として、ウイナンスとアドキンスの報告
は直ちには再現できなかつた（Houben−Weyl1
１／１，563頁参照）。
英国特許（GB−PS）第745684号明細書には、
過大気圧および110℃を下まわる温度でラニー−
コバルトの存在下に、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ
アセトニトリルを触媒的水素化することによる
Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノエチルアミンの製法が
記載されている。この方法は、液体アンモニアの
使用を必要とし、収率92％をもたらす。
過大気圧および110℃を下まわる温度でラニー−
コバルトの存在下に、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ
アセトニトリルを触媒的水素化することによる
Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノエチルアミンの製法が
記載されている。この方法は、液体アンモニアの
使用を必要とし、収率92％をもたらす。
とりわけラニー−ニツケル−触媒を用いるカル
ボニル化合物の還元性アミン化に関する詳細な記
載は、ホウベン−ウエイル（Houben−Weyl）の
メトーデン・デア・オルガニツシエン・ケミー、
シユトウツトガルト1957、第／1602ff頁
（Methodon der organischen Chemie，
Stuttgart1957，Band ／１，Seiten602ff）
に存在する。
ボニル化合物の還元性アミン化に関する詳細な記
載は、ホウベン−ウエイル（Houben−Weyl）の
メトーデン・デア・オルガニツシエン・ケミー、
シユトウツトガルト1957、第／1602ff頁
（Methodon der organischen Chemie，
Stuttgart1957，Band ／１，Seiten602ff）
に存在する。
その高い活性度にかかわらず、ラニー−触媒は
工業的実際では部分的にのみ採用されている。そ
の理由は、その困難な取扱い性である。これらは
懸濁された形でのみ使用でき、従つて固定層とし
ては使用できない。さらにこの製造は、相当な費
用と結びついている。
工業的実際では部分的にのみ採用されている。そ
の理由は、その困難な取扱い性である。これらは
懸濁された形でのみ使用でき、従つて固定層とし
ては使用できない。さらにこの製造は、相当な費
用と結びついている。
従つて、本発明の課題は、前記の欠点を有しな
い触媒を開発することにある。これらは容易に製
造でき、固定層として使用でき、ラニー−コバル
ト−触媒と比較可能な活性度を有すべきである。
い触媒を開発することにある。これらは容易に製
造でき、固定層として使用でき、ラニー−コバル
ト−触媒と比較可能な活性度を有すべきである。
この課題は、本発明によつて解決される。これ
は、20〜95℃で、コバルト塩の水溶液から炭酸ア
ルカリ水溶液を用いて炭酸コバルトを沈殿させ、
濾過し、洗浄し、かつ場合によつては触媒物質を
成形し、引続いて水素を用いて還元することによ
る、ニトリルの水素化および還元性アミン化のた
めのコバルト触媒の製法よりなる。これは還元を
温度200〜300℃、有利には220〜280℃で実施する
ことを特徴とする。
は、20〜95℃で、コバルト塩の水溶液から炭酸ア
ルカリ水溶液を用いて炭酸コバルトを沈殿させ、
濾過し、洗浄し、かつ場合によつては触媒物質を
成形し、引続いて水素を用いて還元することによ
る、ニトリルの水素化および還元性アミン化のた
めのコバルト触媒の製法よりなる。これは還元を
温度200〜300℃、有利には220〜280℃で実施する
ことを特徴とする。
この新規触媒は、有機化合物の水素化に、殊に
ニトリルを水素化してアミンにするため、かつ、
カルボニル化合物の還元性アミン化のために際立
つて好適である。
ニトリルを水素化してアミンにするため、かつ、
カルボニル化合物の還元性アミン化のために際立
つて好適である。
本発明による触媒は、還元された状態のコバル
トより成る。有利な実施形によれば、さらに
SiO2，MnO2，ZrO2，Al2O3またMgO0.25〜15重
量％を、酸化物、水酸化物または酸化物水和物の
形で含有する。これらの添加物質は、単独でまた
は２種以上の物質の組み合わせとしても使用され
る。これらの配分は１〜８殊に２〜５重量％であ
るのが有利である。全ての前記記載の重量パーセ
ントの指示は、還元前の水不含の状態の全触媒量
に関連している。
トより成る。有利な実施形によれば、さらに
SiO2，MnO2，ZrO2，Al2O3またMgO0.25〜15重
量％を、酸化物、水酸化物または酸化物水和物の
形で含有する。これらの添加物質は、単独でまた
は２種以上の物質の組み合わせとしても使用され
る。これらの配分は１〜８殊に２〜５重量％であ
るのが有利である。全ての前記記載の重量パーセ
ントの指示は、還元前の水不含の状態の全触媒量
に関連している。
前記の式は、ただ触媒物質の量的組成の記載に
役立つのみであり、これらは添加物質の正確な化
学構造を必ずしも表現していない。これらは、酸
化物として以外に、非還元のまたは還元された触
媒中に水酸化物として、かつ殊に酸化物水和物と
して含有されていてよい。
役立つのみであり、これらは添加物質の正確な化
学構造を必ずしも表現していない。これらは、酸
化物として以外に、非還元のまたは還元された触
媒中に水酸化物として、かつ殊に酸化物水和物と
して含有されていてよい。
添加物質の作用は、すべての詳細には解明され
ていない。実験結果は、これらが、触媒の構造、
殊に高温度での焼結作用に対するその表面構造を
安定化することを示している。さらに、これらが
触媒物質から製造された成形体の機械的安定性を
も高める。
ていない。実験結果は、これらが、触媒の構造、
殊に高温度での焼結作用に対するその表面構造を
安定化することを示している。さらに、これらが
触媒物質から製造された成形体の機械的安定性を
も高める。
コバルト触媒の製造のために、20〜95℃の温度
で、コバルト塩水溶液から炭酸アルカリ水溶液を
用いて炭酸コバルトを析出させる。炭酸コバルト
の概念は、化合物CoCO3だけではない。これは、
塩基性炭酸塩も、選択反応条件下におけるコバル
ト塩と炭酸アルカリの水溶液との反応による他の
生成物も包含している。好適なコバルト塩は、例
えば硝酸コバルト、塩化コバルト、硫酸コバル
ト、酢酸コバルトである。炭酸アルカリとして
は、殊にナトリウムまたはカリウム化合物がこれ
に該当する。出発物質の溶液は、コバルト塩、も
しくは炭酸アルカリを各々Coもしくは炭酸アル
カリ25〜150ｇ／溶液の濃度で含有する。コバ
ルト塩および炭酸アルカリは、相互に当モル量で
反応することができるが、炭酸アルカリ過剰を用
いて実施するのが有利である。コバルト塩１モル
当り、炭酸アルカリ1.1〜1.5、殊に1.2〜1.3モル
を使用するのが効を奏する。
で、コバルト塩水溶液から炭酸アルカリ水溶液を
用いて炭酸コバルトを析出させる。炭酸コバルト
の概念は、化合物CoCO3だけではない。これは、
塩基性炭酸塩も、選択反応条件下におけるコバル
ト塩と炭酸アルカリの水溶液との反応による他の
生成物も包含している。好適なコバルト塩は、例
えば硝酸コバルト、塩化コバルト、硫酸コバル
ト、酢酸コバルトである。炭酸アルカリとして
は、殊にナトリウムまたはカリウム化合物がこれ
に該当する。出発物質の溶液は、コバルト塩、も
しくは炭酸アルカリを各々Coもしくは炭酸アル
カリ25〜150ｇ／溶液の濃度で含有する。コバ
ルト塩および炭酸アルカリは、相互に当モル量で
反応することができるが、炭酸アルカリ過剰を用
いて実施するのが有利である。コバルト塩１モル
当り、炭酸アルカリ1.1〜1.5、殊に1.2〜1.3モル
を使用するのが効を奏する。
一種以上の添加物質を含有するコバルト触媒を
製造するために、相応する物質をコバルト塩溶液
または炭酸アルカリ溶液中に懸濁させることがで
きる。しかし沈殿の前に添加物質の可溶性塩をコ
バルト塩溶液に加え、炭酸コバルトと添加物質を
一緒に沈殿させても同じく良好な結果を得ること
ができる。最後に、炭酸コバルト沈殿を別個に行
ない、引き続き、添加物質を炭酸コバルト上に沈
殿させることも可能である。
製造するために、相応する物質をコバルト塩溶液
または炭酸アルカリ溶液中に懸濁させることがで
きる。しかし沈殿の前に添加物質の可溶性塩をコ
バルト塩溶液に加え、炭酸コバルトと添加物質を
一緒に沈殿させても同じく良好な結果を得ること
ができる。最後に、炭酸コバルト沈殿を別個に行
ない、引き続き、添加物質を炭酸コバルト上に沈
殿させることも可能である。
添加物質として使用されたケイ素の化合物は、
例えばケイ酸ナトリウム溶液の酸性化またはハロ
ゲン化ケイ素の加水分解によつて得られる。マン
ガンの酸素化合物を製造するために、マンガン
（）−化合物、例えば硝酸塩または塩化物から出
発し、それらを水酸化アルカリ−または炭酸アル
カリ溶液と反応させる。相応した方法で、例えば
Zr（NO3）4・5H2ＯまたはZrOCl2・8H2Ｏとアン
モニア、水酸化アルカリまたは炭酸アルカリとの
反応によつて、添加物質として好適なジルコニウ
ムの酸素化合物が得られる。同様に、アルミニウ
ム−およびマグネシウム化合物は、その水に溶解
させた化合物、例えば硝酸塩と、アンモニアまた
は炭酸アルカリ（アルミニウムの場合）もしくは
水酸化アルカリまたは炭酸アルカリ（マグネシウ
ムの場合）との反応によつて得られる。酸素化合
物の沈殿は70〜95℃、殊に80〜90℃で行なう。
例えばケイ酸ナトリウム溶液の酸性化またはハロ
ゲン化ケイ素の加水分解によつて得られる。マン
ガンの酸素化合物を製造するために、マンガン
（）−化合物、例えば硝酸塩または塩化物から出
発し、それらを水酸化アルカリ−または炭酸アル
カリ溶液と反応させる。相応した方法で、例えば
Zr（NO3）4・5H2ＯまたはZrOCl2・8H2Ｏとアン
モニア、水酸化アルカリまたは炭酸アルカリとの
反応によつて、添加物質として好適なジルコニウ
ムの酸素化合物が得られる。同様に、アルミニウ
ム−およびマグネシウム化合物は、その水に溶解
させた化合物、例えば硝酸塩と、アンモニアまた
は炭酸アルカリ（アルミニウムの場合）もしくは
水酸化アルカリまたは炭酸アルカリ（マグネシウ
ムの場合）との反応によつて得られる。酸素化合
物の沈殿は70〜95℃、殊に80〜90℃で行なう。
還元およびそれに伴なう活性化の実施は、触媒
の能力にとつて極めて重要である。これは、200
℃、有利には220℃で開始し、および300℃、有利
には280℃を上まわらない温度範囲で行なう。少
なくとも３段階で各段ごとに上昇性の温度で還元
することが特に有利である。
の能力にとつて極めて重要である。これは、200
℃、有利には220℃で開始し、および300℃、有利
には280℃を上まわらない温度範囲で行なう。少
なくとも３段階で各段ごとに上昇性の温度で還元
することが特に有利である。
還元剤として水素を使用し、これを、触媒１
および１時間当りH2200〜2000の空間速度
（200〜2000VH／Ｖ触媒・ｈ）、有利には300〜
1000VH／Ｖ触媒・ｈ、殊に400〜700VH／Ｖ触
媒・ｈ、で触媒積層物に導入する。
および１時間当りH2200〜2000の空間速度
（200〜2000VH／Ｖ触媒・ｈ）、有利には300〜
1000VH／Ｖ触媒・ｈ、殊に400〜700VH／Ｖ触
媒・ｈ、で触媒積層物に導入する。
第１段階で温度を200〜255℃、有利には230〜
240℃に調整し、１〜４、殊に２〜３時間維持す
ることが効を奏する。第２段階では、還元を、
245〜260℃、有利には250〜250℃で１〜５時間、
殊に２〜３時間の間に行なう。引続き、還元を、
さらに255〜280℃、有利には260〜270℃で１〜５
時間、殊に２〜３時間で終結させる。
240℃に調整し、１〜４、殊に２〜３時間維持す
ることが効を奏する。第２段階では、還元を、
245〜260℃、有利には250〜250℃で１〜５時間、
殊に２〜３時間の間に行なう。引続き、還元を、
さらに255〜280℃、有利には260〜270℃で１〜５
時間、殊に２〜３時間で終結させる。
この記載の範囲内では、温度段階を増やすこと
ができ、および還元時間を各段階で相応して短か
くすることができる。例えば第１段階を２段階に
分けることも可能で、この際にはまず温度220〜
230℃を１時間、さらに温度230〜240℃を1.5時間
維持する。
ができ、および還元時間を各段階で相応して短か
くすることができる。例えば第１段階を２段階に
分けることも可能で、この際にはまず温度220〜
230℃を１時間、さらに温度230〜240℃を1.5時間
維持する。
還元された触媒は自然発火性で、空気中で自然
発火する。従つて、より良好な取扱い性のため
に、酸素を濃度約0.5〜約１容量％で含有するN2
−流をこの触媒上に作用させる。この処理につい
て触媒は表面的に酸化され；この状態で触媒は空
気中でも約80℃まで安定で、かつ自然発火性では
ない。
発火する。従つて、より良好な取扱い性のため
に、酸素を濃度約0.5〜約１容量％で含有するN2
−流をこの触媒上に作用させる。この処理につい
て触媒は表面的に酸化され；この状態で触媒は空
気中でも約80℃まで安定で、かつ自然発火性では
ない。
本発明方法により製造された触媒は、BETに
より測定された表面積10〜80、有利には40〜60
m2／ｇを有する。その細孔容積は0.1〜0.6、有利
には0.3〜0.4ml／ｇである。これらは公知法で棒
に成形でき、殊に高い応力下でも低い摩滅性を有
する錠剤に成形することができる。
より測定された表面積10〜80、有利には40〜60
m2／ｇを有する。その細孔容積は0.1〜0.6、有利
には0.3〜0.4ml／ｇである。これらは公知法で棒
に成形でき、殊に高い応力下でも低い摩滅性を有
する錠剤に成形することができる。
この触媒は、溶剤中に懸濁させて使用すること
ができる。特に、固定層としての使用が有利であ
る。
ができる。特に、固定層としての使用が有利であ
る。
次の例で、この新規方法により製造される触媒
の製造および使用を記載する。本発明は、もちろ
んこれらの特別な実施形に限定されるものではな
い。
の製造および使用を記載する。本発明は、もちろ
んこれらの特別な実施形に限定されるものではな
い。
例 １
添加物質不含のコバルト触媒の製造
脱イオン水7.5中のNa2CO3 800ｇの90℃に
加熱した溶液に、強力攪拌下に２分かけて、脱イ
オン水7.5中のCo（NO3）2・6H2Ｏ（∧＝Co 375ｇ）
1852ｇの90℃に加熱した溶液を流入させる。沈殿
懸濁液はPH値8.2〜8.4を有する。沈殿生成物を濾
別し、縮合水約90（温度：70℃）で、洗浄水の
伝導率が100μsになるまで充分に洗浄する。な
お湿つている触媒前駆物質を再度懸濁させ、スプ
レー乾燥または押出しし、空気流中で、50から75
℃に上昇性の温度で12時間乾燥させる。押出品
は、次の特性値を有する： 嵩密度：600〜770ｇ／ Co−含有率：約53.5重量％ Co3−含有率：23.5重量％ 残留アルカリ含有率：Na2Ｏ約0.06〜0.2重量％ 残留水分：10重量％ 還元のために、管状反応器（直径：50ml）中
で、押出され乾燥された触媒物質0.5に、240℃
で２時間の間、H2 200／ｈを導入する。さら
に温度を250℃に高め、H2 200／ｈでさらに
２時間還元し、260℃ H2 200／ｈでさらに
２時間触媒を処理することによつて還元を終結さ
せる。
加熱した溶液に、強力攪拌下に２分かけて、脱イ
オン水7.5中のCo（NO3）2・6H2Ｏ（∧＝Co 375ｇ）
1852ｇの90℃に加熱した溶液を流入させる。沈殿
懸濁液はPH値8.2〜8.4を有する。沈殿生成物を濾
別し、縮合水約90（温度：70℃）で、洗浄水の
伝導率が100μsになるまで充分に洗浄する。な
お湿つている触媒前駆物質を再度懸濁させ、スプ
レー乾燥または押出しし、空気流中で、50から75
℃に上昇性の温度で12時間乾燥させる。押出品
は、次の特性値を有する： 嵩密度：600〜770ｇ／ Co−含有率：約53.5重量％ Co3−含有率：23.5重量％ 残留アルカリ含有率：Na2Ｏ約0.06〜0.2重量％ 残留水分：10重量％ 還元のために、管状反応器（直径：50ml）中
で、押出され乾燥された触媒物質0.5に、240℃
で２時間の間、H2 200／ｈを導入する。さら
に温度を250℃に高め、H2 200／ｈでさらに
２時間還元し、260℃ H2 200／ｈでさらに
２時間触媒を処理することによつて還元を終結さ
せる。
操作をより改良するために、還元された触媒を
まず室温で４時間、次いで70℃で２時間、O2
0.7容量％を含有するN2−流を用いて、N2 1000
／触媒１・ｈで処理する。このようにして得
られた触媒は、粉砕して粉末にするか、または圧
縮して錠剤にすることができる。
まず室温で４時間、次いで70℃で２時間、O2
0.7容量％を含有するN2−流を用いて、N2 1000
／触媒１・ｈで処理する。このようにして得
られた触媒は、粉砕して粉末にするか、または圧
縮して錠剤にすることができる。
例 ２
添加物質を含有する触媒の製造
脱イオン水7.5中のNa2CO3 840ｇの90℃に
加熱した溶液に、強力攪拌下に２分かけて、脱イ
オン水7.5中のCo（NO3）2・6H2Ｏ（∧＝Co 375ｇ）
1852ｇおよびMn（NO3）2・4H2Ｏ 85.73ｇの95℃
に加熱された溶液を均一に流入させる。水中の炭
酸コバルトおよび炭酸マンガンの懸濁液（PH8.2
〜8.4）が生じる。沈殿生成物を濾別し、70℃の
縮合水約90で充分に洗浄すると、洗浄水の伝導
率は、洗浄工程の終結後に100μsより小さくなる。
加熱した溶液に、強力攪拌下に２分かけて、脱イ
オン水7.5中のCo（NO3）2・6H2Ｏ（∧＝Co 375ｇ）
1852ｇおよびMn（NO3）2・4H2Ｏ 85.73ｇの95℃
に加熱された溶液を均一に流入させる。水中の炭
酸コバルトおよび炭酸マンガンの懸濁液（PH8.2
〜8.4）が生じる。沈殿生成物を濾別し、70℃の
縮合水約90で充分に洗浄すると、洗浄水の伝導
率は、洗浄工程の終結後に100μsより小さくなる。
なお湿つている触媒前駆物質を、改めて、脱イ
オン水中に懸濁させ、さらにスプレー乾燥または
押出しし、空気流中、50から75℃に上昇性の温度
で、12時間乾燥させる。押出品は次の特性値を有
する： 嵩密度：600〜730ｇ／ Co−含有率：約52重量％ MnO2−含有率：4.1重量％ Co3−含有率：22.5重量％ 残留アルカリ含有率：Na2Ｏ約0.08〜0.3重量％ 残留水分：10重量％ 触媒の還元は、例１に記載のように実施する。
オン水中に懸濁させ、さらにスプレー乾燥または
押出しし、空気流中、50から75℃に上昇性の温度
で、12時間乾燥させる。押出品は次の特性値を有
する： 嵩密度：600〜730ｇ／ Co−含有率：約52重量％ MnO2−含有率：4.1重量％ Co3−含有率：22.5重量％ 残留アルカリ含有率：Na2Ｏ約0.08〜0.3重量％ 残留水分：10重量％ 触媒の還元は、例１に記載のように実施する。
例 ３
ジエチルアミノアセトニトリルの水素化
内径28mmおよび長さ３ｍの加熱可能な二重ジヤ
ケツト管中に、例１に記載の直径６mmの錠剤の形
のコバルト触媒1.8を、固定層として配置する。
70℃に加熱し、8MPaの圧力下で水素を、並びに
シクロヘキサン中のジエチルアミノアセトニトリ
ル溶液（溶液に対してニトリル15重量％）を１時
間当り600mlで連続的にピストンポンプを介して、
反応管の棚段に導入する。反応器頭部に流出する
生成物は、ジエチルアミノアセトニトリルを含有
しない。ガスクロマトグラフイーにより、溶剤
86.5％の他にジエチルアミノエチルアミン11％が
検出される。
ケツト管中に、例１に記載の直径６mmの錠剤の形
のコバルト触媒1.8を、固定層として配置する。
70℃に加熱し、8MPaの圧力下で水素を、並びに
シクロヘキサン中のジエチルアミノアセトニトリ
ル溶液（溶液に対してニトリル15重量％）を１時
間当り600mlで連続的にピストンポンプを介して、
反応管の棚段に導入する。反応器頭部に流出する
生成物は、ジエチルアミノアセトニトリルを含有
しない。ガスクロマトグラフイーにより、溶剤
86.5％の他にジエチルアミノエチルアミン11％が
検出される。
例 ４
ジエチルアミノアセトニトリルの水素化
例３の反応器中で、60℃およびH2圧8MPaで、
例２からの触媒1.8の使用下に、シクロヘキサ
ン中のジエチルアミノアセトニトリルを、30重量
％溶液（溶液に対して）の形で変換させる。同時
に、この反応器にNH3 2.5モル／ニトリル１モ
ルを装入し、装入量を900ml／ｈに高める。ジエ
チルアミノアセトニトリルは完全に変換される。
反応生成物は、ガスクロマトグラフイー評価によ
れば、シクロヘキサン73.2％およびジエチルアミ
ノエチルアミン25.1％を含有する。
例２からの触媒1.8の使用下に、シクロヘキサ
ン中のジエチルアミノアセトニトリルを、30重量
％溶液（溶液に対して）の形で変換させる。同時
に、この反応器にNH3 2.5モル／ニトリル１モ
ルを装入し、装入量を900ml／ｈに高める。ジエ
チルアミノアセトニトリルは完全に変換される。
反応生成物は、ガスクロマトグラフイー評価によ
れば、シクロヘキサン73.2％およびジエチルアミ
ノエチルアミン25.1％を含有する。
例 ５
ジエチルアミノアセトニトリルの水素化
例３の反応器中で、50℃およびH2圧8MPaで、
非希釈ジエチルアミノアセトニトリルを変換させ
る。反応器にニトリル１モル当りNH3 2.5モル
を添加し、その装入量を180ml／ｈ∧＝Ｖ／Vh＝
0.1に調整する。ニトリルは完全に変換し、反応
生成物はガスクロマトグラフイー分析によると、
ジエチルアミノエチルアミン89.7％を含有し、残
りは分解生成物である。反応生成物の後処理は、
24の理論的棚段を有する塔中で行なわれる。ジエ
チルアミノアセトニトリルが純度99％以上で得ら
れる。
非希釈ジエチルアミノアセトニトリルを変換させ
る。反応器にニトリル１モル当りNH3 2.5モル
を添加し、その装入量を180ml／ｈ∧＝Ｖ／Vh＝
0.1に調整する。ニトリルは完全に変換し、反応
生成物はガスクロマトグラフイー分析によると、
ジエチルアミノエチルアミン89.7％を含有し、残
りは分解生成物である。反応生成物の後処理は、
24の理論的棚段を有する塔中で行なわれる。ジエ
チルアミノアセトニトリルが純度99％以上で得ら
れる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 20〜90℃で、炭酸アルカリ水溶液を用いるコ
バルト塩水溶液からの炭酸コバルトの沈殿、濾
過、洗浄および場合によつては触媒物質の成形、
かつ引続く水素を用いる還元によつてニトリルの
水素化および還元性アミン化のためのコバルト触
媒を製造する方法において、還元を200〜300℃の
間で行なうことを特徴とするコバルト触媒の製
法。 ２ 触媒は、付加的に、全触媒量に対して0.25〜
15重量％のSiO2，MnO2，ZrO2，Al2O3または
MgOを、単独でまたはこれらの物質の２種以上
の組み合わせで、酸化物、水酸化物または酸化物
水和物の形で含有する、請求項１記載の方法。 ３ SiO2，MnO2，ZrO2，Al2O3またはMgOを全
触媒量に対して１〜８重量％の量で触媒中に含有
する、請求項２記載の方法。 ４ 触媒を、触媒を１および１時間当りH2200
〜2000の空間速度で水素を用いて還元する、請
求項１から３までのいずれか１項に記載の方法。 ５ 還元を少なくとも３段階に分け、各段階ごと
に上昇する温度で行なう、請求項１から４までの
いずれか１項に記載の方法。 ６ 還元を第１段階では220〜250℃の温度で、第
２段階では245〜260℃、第３段階では255〜280℃
で実施する、請求項５記載の方法。 ７ 第１段階の温度を１〜４時間、第２段階の温
度を１〜５時間かつ第３段階の温度を１〜５時間
保持する、請求項６記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19873744507 DE3744507A1 (de) | 1987-12-30 | 1987-12-30 | Verfahren zur herstellung von kobaltkatalysatoren |
| DE3744507.3 | 1987-12-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH024449A JPH024449A (ja) | 1990-01-09 |
| JPH0585216B2 true JPH0585216B2 (ja) | 1993-12-06 |
Family
ID=6343835
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63326404A Granted JPH024449A (ja) | 1987-12-30 | 1988-12-26 | コバルト触媒の製法 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5039648A (ja) |
| EP (1) | EP0322760B2 (ja) |
| JP (1) | JPH024449A (ja) |
| AT (1) | ATE73360T1 (ja) |
| AU (1) | AU605951B2 (ja) |
| BR (1) | BR8806912A (ja) |
| CA (1) | CA1332935C (ja) |
| DE (2) | DE3744507A1 (ja) |
| ES (1) | ES2031224T3 (ja) |
| ZA (1) | ZA889608B (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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