JPH058675Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本考案は、半導体基板や、液晶基板等の薄板状
の基板を、現像液・エツチング液・レジスト剥離
液・洗浄液などの処理液槽内に順次浸漬して処理
する浸漬型基板処理装置に関し、とくにかかる浸
漬型基板処理装置の最終洗浄槽に、他の処理液が
混入することを防止するための洗浄装置を設けた
浸漬型基板処理装置に関する。

＜従来技術＞ このような浸漬型基板処理装置としては、従来
より例えば第５図に示すようなものが知られてい
る。

即ち、浸漬型基板処理装置は、第４図に示すよ
うに多数の基板１を収納した収納容器２を、搬送
ロボツトと称される搬送作動装置３で挟持・搬
送・昇降して順吹各処理槽４に浸漬して基板１を
処理するように構成され、基板１にはローデイン
グから乾燥までの所定の処理が一貫してなされる
よう構成されている。

これらの図において、搬送作動装置３は挟持手
段３１と昇降手段３３と搬送手段３４とを具備し
て成り、挟持手段３１は一対の挟持用取手３２を
矢印Ａ方向に開閉駆動させて収納容器２を挟持す
ることにより保持し、昇降手段３３は挟持手段３
１を上下方向に昇降し、搬送手段３４は前記複数
の処理槽４と平行に設けられたレール３５に沿つ
て昇降手段３３及び挟持手段３１を往復・搬送す
るように構成されている。

そして、上記のように、収納容器２はこの搬送
作動装置３によつて所定の処理槽４に順送りされ
て所要の処理がなされるが、この時、搬送作動装
置３は多数の収納容器２を効率よく取扱うことが
できるように、所定のプログラムに従つて駆動さ
れ、矢印Ｂ方向へ順送り及び逆送り駆動される。

ところで、このような処理装置においては、収
納容器２や挟持用取手３２に付着した前工程の処
理液が、後工程の処理液中に混入することは望ま
しくないとされているが、無視できない場合を除
いて、許容される工程：例えば薬液処理工程４１
〜４６に対しては１台の搬送作動装置３ａを対応
させ、また、例えば最終薬液処理槽４６から高純
度の純水を貯溜した超純水洗浄槽４８へのように
処理液の混入が許容されない工程では、その間に
さらに１つ純水による前段洗浄槽４７を設けると
ともに、別の搬送作動装置３ｂを対応させてい
た。

同様に、リンサードライヤー等の乾燥装置４９
内からの収納容器２の取出し用には基板１への水
滴の付着を避けるために、さらに別に搬送作動装
置３ｃを対応させていた。

＜考案が解決しようとする問題点＞ しかるに、近年、基板処理の高度化が要請され
るようになるにつれて、従来無視されていたある
処理工程の処理液が他の処理工程、とくに最終洗
浄槽の洗浄液中にたとえわずかにせよ混入するこ
とによる弊害は無視することができないようにな
つてきた。

たとえ混入する処理液が純水であつたとしても
混入した超純水の純度が低下するため許されない
場合がある。

また、上記のように、最終薬液処理を終えた基
板を前段洗浄槽内に浸漬し、あらかじめ洗浄する
ようにした場合には、多量の純水を必要とし、コ
スト高となる。

その上、前述のように別の搬送作動装置を複数
配設して使い分けなければならず、全体として装
置が複雑となり、製造コストも高価となる等の難
点があつた。

本考案はこのような事情に鑑みてなされたもの
で、 イ 搬送作動装置の一対の挟持用取手に付着した
処理液及び洗浄液を完璧に除去して、これらの
不純液が最終洗浄工程の超純水中に持ち込まれ
るのを阻止すること、 ロ 処理工程に対応して搬送作動装置を複数配設
して、それらを使い分けるという無駄を無くす
ること、 ハ 超純水洗槽の前段の洗浄工程において、純水
の消費量を節約するとともに、超純水洗槽の超
純水の純度を長く維持すること、 を目的とする。

＜問題点を解決するための手段＞ 本考案は上記目的を達成するために、冒述の浸
漬型基板処理装置において、 上記処理液槽又は超純水洗浄槽のいずれかに洗
浄装置を並設して成り、 上記洗浄装置は、搬送作動装置の一対の挟持用
取手に洗浄液を噴射するための洗浄ノズルと、 この洗浄ノズルの上部に設けられ、一対の挟持
用取手のそれぞれに向けてエアーを噴射するそれ
ぞれ一対のエアーナイフと、 これらの下部に設けられた洗浄液受槽と を具備して成り、 上記各一対のエアーナイフに複数のエアー吹出
孔を開口形成し、大部分のエアー吹出孔は、挟持
用取手の水平部分に対して略同一平面上で斜めに
向けて開口したことを特徴とするものである。

＜作用＞ 搬送作動装置の挟持用取手は、処理液槽のいず
れかに並設された洗浄装置内において、洗浄ノズ
ルから噴射される洗浄液で洗浄され、次いで洗浄
ノズルの上方に設けられたエアーナイフで挟持用
取手に付着した洗浄液が吹き飛ばされる。

特に本考案では、超純水洗浄槽の前段に付設配
置した洗浄装置の各一対のエアーナイフが、複数
のエアー吹出孔を開口形成して成り、大部分のエ
アー吹出孔は、挟持用取手の水平部分に対して略
同一平面上で斜めに向けて開口されているので、
挟持用取手の水平部分に付着した水滴は、その水
平部分の下面に垂れ下がることなく、エアーで一
方向へ一様に押されて、水平部分の一端部に吹き
寄せられ、吹き飛ばされる。これにより、水滴は
完璧に除去される。

従つて、挟持用取手に付着した処理液が最終洗
浄槽中の超純水に混入することを避ける必要があ
る場合には、その都度（あらかじめ定めたプログ
ラムに基づいて）洗浄及び液切りがなされること
となる。

＜実施例＞ 以下本考案に係る浸漬型基板処理装置の１実施
例を図面に基づいて説明する。

第１図は本考案に係る浸漬型基板処理装置の実
施例を示す概要正面図、第２図は第１図の−
矢視平面図である。これらの図において、符号３
２は前記した従来装置と同様の挟持手段３１の挟
持用取手、５は挟持用取手３２を洗浄する洗浄装
置であり、洗浄装置５は純水等の洗浄液を噴射す
る洗浄ノズル５１と、この洗浄ノズル５１の上方
に設けられたエアーナイフ５２とこれらの下側に
設けられた洗浄液受槽５３によつて構成され、複
数個並設された処理液槽又は超純水洗浄槽のいず
れかに並設することができる。洗浄ノズル５１は
一対の挟持用取手３２に外側より純水を噴射して
洗浄することができるように相対向して略水平に
配設され、必要な場合は仮想線で示す洗浄ノズル
５１ａを追加してもよい。

エアーナイフ５２は、一対の挟持用取手３２の
それぞれに対して各一対が略水平に対向して配設
され、各エアーナイフ５２のエアー吹出孔５２ａ
は第１図及び第２図に示すように、挟持用取手３
２の水平部分３２ｂに対して略同一平面上で斜め
（約45度）に向けて開口されている。なお第２図
において符号５４は流量調節弁、５５は開閉弁で
ある。

上記洗浄装置５の機能について説明すると、処
理液が付着した挟持用取手３２は第１図の仮想線
で示す位置まで降下されつつ洗浄ノズル５１から
噴射させた純水で洗浄され、次いで第１図の実線
で示す位置まで上昇されつつ、エアーナイフ５２
から噴出させたエアーでまず、当該挟持用取手３
２の縦部分３２ａに付着した水滴が吹き飛ばさ
れ、次に、挟持用取手３２の水平部分３２ｂに付
着した水滴は両側から45度の傾斜角度で吹きつけ
られ、挟持用取手３２の一端部３２ｃに吹き寄せ
られ、最終的に吹き飛ばされることとなる。

この際、挟持用取手３２の上昇は連続的であつ
ても良く、または挟持用取手３２がエアーナイフ
５２に対向する位置で、いつたん停止するように
しても良く、場合によつては対となつたエアーナ
イフ５２を多段に配設して水滴を吹き飛ばすよう
にすることもできる。

また、かかる洗浄装置５は、例えば収納容器ご
と洗浄する際にも使用することができ、この場合
には、一対のエアーナイフ５２の一方を回転中心
として２点鎖線で示す位置に適宜退避し得るよう
構成されている。

このようにして洗浄された挟持用取手３２はあ
らかじめ定められた手順に従つて、次の処理工程
のために所定の処理液槽に搬送されることとな
る。

なお第３図ａは、エアー吹出孔５２ａを別の態
様で示したものであり、エアー吹出孔５２ａのう
ちの吹出方向側先端部のエアー吹出孔５２ａを、
挟持用取手３２の水平部分３２ｂと略同一平面上
であつて、この水平部分３２ｂに対して垂直に向
けて開口形成するとともに、その余の大部分のエ
アー吹出孔５２ａを、挟持用取手３２の水平部分
３２ｂ対して略同一平面上で斜め（約45度）に向
けて開口形成したもので、このように形成した場
合には、前記吹き寄せられた水滴を上記先端部の
エアー吹出孔５２ａより垂直にエアーを噴射して
吹き飛ばし、液切れ効果をさらに高めることがで
きる。

また、挟持用取手３２のエアーナイフ５２によ
るエアー吹出方向端部を、例えば第３図ｂにその
断面を示す如く流線型とすることにより液切れ効
果をさらに高めることも可能である。

上記実施例においては、洗浄装置５の洗浄液と
して純水を使用したものについて説明したが、こ
れに限るものではなく、必要に応じてアルコール
等の有機溶剤を使用するものについても適用する
ことができることは云うまでもない。

＜考案の効果＞ 本考案によれば、前記のように構成され作用す
るから次のような効果を奏する。

イ 本考案では、一対のエアーナイフの大部分の
エアー吹出孔は、挟持用取手の水平部分に対し
て略同一平面上で斜めに向けて開口されてお
り、挟持用取手に付着した水滴は、その水平部
分の一端部に吹き寄せられて吹き飛ばされ、完
璧に除去されるので、前記不純物が最終洗浄工
程の超純水中に持ち込まれることはなくなる。

ロ 搬送作動装置は１台で足りるから、複数配設
して、処理工程に対応して使い分けるというよ
うな無駄を無くすることができ、それだけ簡素
にしかも安価に製造することができる。

ハ 特に最終薬液処理槽と超純水洗浄槽との間に
従来の純水洗浄槽を設けるのに対して、本考案
の洗浄装置を設けた場合には、使用する純水を
大幅に節約することができるとともに、超純水
洗浄槽の超純水の純度を長く維持することがで
き、基板の性能をさらに高めることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の要部正面図、第２図は第１図
の−矢視平面図、第３図ａはエアーナイフの
要部平面図、第３図ｂは挟持用取手の要部断面
図、第４図は挟持取手の斜視図、第５図は従来技
術に係る浸漬型基板処理装置の斜視図である。 １……基板、２……収納容器、３……搬送作動
装置、４……処理液槽、５……洗浄装置、３２…
…挟持用取手、３２ｂ……挟持用取手の水平部
分、５１……洗浄ノズル、５２……エアーナイ
フ、５２ａ……吹出孔、５３……洗浄液受槽。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ 処理液を貯溜した処理液槽を所定の処理工程
   に対応させて複数個配設するとともに、超純水
   洗浄槽を併設して成り、基板を収納した収納容
   器を搬送作動装置で、挟持・搬送し、順次所定
   の処理液槽に浸漬して基板の表面処理をするよ
   うに構成した浸漬型基板処理装置において、 上記処理液槽又は超純水洗浄槽のいずれかに
   洗浄装置を並設して成り、 上記洗浄装置は、搬送作動装置の一対の挟持
   用取手に洗浄液を噴射するための洗浄ノズル
   と、 この洗浄ノズルの上部に設けられ、一対の挟
   持用取手のそれぞれに向けてエアーを噴射する
   それぞれ一対のエアーナイフと、 これらの下部に設けられた洗浄液受槽とを具
   備して成り、 上記各一対のエアーナイフに複数のエアー吹
   出孔を開口形成し、大部分のエアー吹出孔は、
   挟持用取手の水平部分に対して略同一平面上で
   斜めに向けて開口したことを特徴とする浸漬型
   基板処理装置。 ２ 上記各一対のエアーナイフの複数のエアー吹
   出孔のうち、吹出方向側先端部のエアー吹出孔
   は、挟持用取手の水平部分に対して略同一平面
   上で垂直に向けて開口した実用新案登録請求の
   範囲第１項に記載の浸漬型基板処理装置。 ３ 上記各一対のエアーナイフを少なくともその
   一端部で保持するとともに、収納容器の昇降空
   間内に位置する各一対のエアーナイフを昇降空
   間外へ揺動退避させるように構成した実用新案
   登録請求の範囲第１項又は第２項に記載の浸漬
   型基板処理装置。