JPH059286A

JPH059286A - ポリカーボネート組成物の製造方法

Info

Publication number: JPH059286A
Application number: JP12139991A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Sakashita; 下健阪; Tomoaki Shimoda; 田智明下; Masanori Kusama; 間正則草; Kimiyoshi Miura; 浦公義三; Kazuhiko Yamamoto; 本和彦山
Original assignee: GE Plastics Japan Ltd
Current assignee: SABIC Innovative Plastics Japan KK
Priority date: 1991-04-30
Filing date: 1991-05-27
Publication date: 1993-01-19
Anticipated expiration: 2015-03-13
Also published as: JP3017559B2

Abstract

(57)【要約】【目的】本発明は、成形時の色相安定性、熱安定性な
どの滞留安定性に優れるとともに、耐水性、透明性にも
優れたポリカーボネート成形体を効率よく製造すること
ができるポリカーボネート組成物の製造方法を提供す
る。【構成】本発明に係るポリカーボネート組成物の製造
方法は、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルと
を、芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対して、１０^-8
〜１０^-3モルの量の(a) アルカリ金属化合物および／ま
たはアルカリ土類金属化合物を含有する触媒の存在下に
溶融重縮合させた後、反応生成物である［Ａ］ポリカー
ボネートが溶融状態にある間に、［Ｂ］リン化合物を添
加して得られる溶融混合物をペレット化し、該ペレット
を［Ｅ］添加剤とともに再混練することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の技術分野】本発明は、ポリカーボネート組成物
の製造方法に関し、さらに詳しくは、成形時の色相安定
性、熱安定性などの滞留安定性に優れるとともに、耐水
性にも優れた成形体を効率よく成形しうるポリカーボネ
ート組成物を製造しうるポリカーボネート組成物の製造
方法に関する。

【０００２】

【発明の技術的背景】ポリカーボネートは、耐衝撃性な
どの機械的特性に優れ、しかも耐熱性、透明性などにも
優れており、各種機械部品、光学用ディスク、自動車部
品などの用途に広く用いられている。

【０００３】このようなポリカーボネートは、従来、ビ
スフェノールなどの芳香族ジヒドロキシ化合物とホスゲ
ンとを直接反応させる方法（界面法）、あるいは、芳香
族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとをエステル交
換反応させる方法（溶融法）によって製造されている。

【０００４】これらのうち、後者は、前者界面法と比較
して安価にポリカーボネートを製造することができると
いう利点を有するとともに、ホスゲンなどの毒性物質を
用いないので、環境衛生上好ましい。

【０００５】一般的に、重縮合反応で得られたポリカー
ボネートは、ペレタイズされた後、使用目的に応じて各
小ロットに分配され、再溶融されて目的に応じた各種添
加剤を加えられたり、着色されたりして用いられてい
る。

【０００６】ところで、従来のポリカーボネートでは、
溶融時に、着色したり、分子量が低下したりすることが
あり、滞留安定性に欠けることがあった。このため、通
常、ポリカーボネートからなるペレットを再溶融する際
に、耐熱安定剤などを添加して、熱安定性を向上させて
いる。しかしながら、この方法では、熱安定性が低い状
態でポリカーボネートに加熱処理を施すことになる。

【０００７】また、上記耐熱安定剤の添加によって、ポ
リカーボネートの耐水性が低下することがあり、このよ
うなポリカーボネートから得られる成形体では、使用中
に透明性が低下してしまうことがあった。

【０００８】このため、成形時の色相安定性、熱安定性
などの滞留安定性に優れるとともに、耐水性、透明性に
も優れた成形体を、使用目的に応じて効率よく形成しう
るポリカーボネート組成物を製造することができるポリ
カーボネートの製造方法の出現が望まれている。

【０００９】

【発明の目的】本発明は、上記のような従来技術に鑑み
てなされたものであって、成形時の色相安定性、熱安定
性などの滞留安定性に優れるとともに、耐水性、透明性
にも優れた成形体を、使用目的に応じて効率よく形成し
うるポリカーボネート組成物を製造しうるポリカーボネ
ート組成物の製造方法を提供することを目的としてい
る。

【００１０】

【発明の概要】本発明に係るポリカーボネート組成物の
製造方法は、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステ
ルとを、芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対して、１
０^-8〜１０^-3モルの量の(a) アルカリ金属化合物および
／またはアルカリ土類金属化合物を含有する触媒の存在
下に溶融重縮合させた後、反応生成物である［Ａ］ポリ
カーボネートが溶融状態にある間に、［Ｂ］リン化合物
を添加して得られる溶融混合物をペレットに成形した
後、該ペレットと［Ｅ］添加剤とを再混練することを特
徴としている。

【００１１】本発明に係るポリカーボネート組成物の製
造方法は、好ましくは上記［Ｂ］リン化合物とともに、
［Ｃ］ｐＫａ値が３以下であるイオウ含有酸性化合物お
よび／または該酸性化合物から形成される誘導体、さら
に、［Ｄ］エポキシ化合物を添加している。

【００１２】本発明に係るポリカーボネート組成物の製
造方法によれば、まず、溶融重縮合により得られた反応
生成物であるポリカーボネートが溶融状態にある間に、
上記［Ｂ］リン化合物および好ましくは［Ｃ］、［Ｄ］
化合物を添加して、特に色相安定性、耐熱安定性などの
滞留安定性が向上されたペレットを得ている。したがっ
て、該ペレットを再溶融する際、ポリカーボネート組成
物が着色したり、熱分解するのを抑制することができ
る。

【００１３】このように、ペレタイズされる前に色相安
定性、熱安定性などの滞留安定性とともに、耐水性も向
上されたポリカーボネート溶融混合物からなるペレット
は、次工程において、小ロットに分けて使用目的に応じ
て効率よく再混練することができる。

【００１４】さらに好ましくは［Ｄ］エポキシ化合物が
添加されており、耐水性も向上されたポリカーボネート
組成物が得られる。本発明で得られるポリカーボネート
組成物は、成形時の着色が少なく、透明性、耐水性に優
れた成形体を効率よく形成しうる。

【００１５】

【発明の具体的説明】以下、本発明に係るポリカーボネ
ート組成物の製造方法について具体的に説明する。

【００１６】まず、本発明では、芳香族ジヒドロキシ化
合物と炭酸ジエステルとを、触媒の存在下に溶融重縮合
させてポリカーボネートを製造する。このような芳香族
ジヒドロキシ化合物としては、特に限定されないが、下
記式［Ｉ］で示される化合物を挙げることができる。

【００１７】

【化２】

【００１８】Ｒ¹およびＲ²は水素原子または１価の炭
化水素基であり、Ｒ³は２価の炭化水素基である。また
Ｒ⁴、Ｒ⁵は、ハロゲンまたは１価の炭化水素基であ
り、これらは、同一であっても異なっていてもよい。
ｐ、ｑは０〜４の整数を表す。）上記芳香族ジヒドロキ
シ化合物としては、具体的には、以下に示す化合物を挙
げることができるビス（4-ヒドロキシフェニル）メタ
ン、1,1-ビス（4-ヒドロキシフェニル）エタン、2,2-ビ
ス（4-ヒドロキシフェニル）プロパン、2,2-ビス（4-ヒ
ドロキシフェニル）ブタン、2,2-ビス（4-ヒドロキシフ
ェニル）オクタン、ビス（4-ヒドロキシフェニル）フェ
ニルメタン、2,2-ビス（4-ヒドロキシ-1- メチルフェニ
ル）プロパン、1,1-ビス（4-ヒドロキシ-t-ブチルフェ
ニル）プロパン、2,2-ビス（4-ヒドロキシ-3-ブロモフ
ェニル）プロパンなどのビス（ヒドロキシアリール）ア
ルカン類、1,1-ビス（4-ヒドロキシフェニル）シクロペ
ンタン、1,1-ビス（4-ヒドロキシフェニル）シクロヘキ
サンなどのビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン
類、4,4'-ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4'-ジヒ
ドロキシ-3,3'-ジメチルフェニルエーテルなどのジヒド
ロキシアリールエーテル類、4,4'-ジヒドロキシジフェ
ニルスルフィド、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジメチルジ
フェニルスルフィドなどのジヒドロキシジアリールスル
フィド類、4,4'- ジヒドロキシジフェニルスルホキシ
ド、4,4'- ジヒドロキシ-3,3'-ジメチルジフェニルスル
ホキシドなどのジヒドロキシジアリールスルホキシド
類、4,4'-ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4'-ジヒ
ドロキシ-3,3'-ジメチルジフェニルスルホンなどのジヒ
ドロキシジアリールスルホン類。

【００１９】これらのうちでは、特に2,2-ビス（4-ヒド
ロキシフェニル）プロパンが好ましく用いられる。ま
た、芳香族ジヒドロキシ化合物として、下記一般式［I
I］で表される化合物を用いることもできる。

【００２０】

【化３】

【００２１】式中、Ｒ₆は、それぞれ炭素数１〜１０の
炭化水素基またはそのハロゲン化物、またはハロゲンで
あり、同一であっても異なっていてもよい。ｎは０〜４
の整数である。

【００２２】上記一般式［II］で表される芳香族ジヒド
ロキシ化合物としては、具体的に、レゾルシンおよび3-
メチルレゾルシン、3-エチルレゾルシン、3-プロピルレ
ゾルシン、3-ブチルレゾルシン、3-t-ブチルレゾルシ
ン、3-フェニルレゾルシン、3-クミルレゾルシン、2,3,
4,6-テトラフルオロレゾルシン、2,3,4,6-テトラブロム
レゾルシンなどの置換レゾルシン、カテコール、ハイド
ロキノンおよび3-メチルハイドロキノン、3-エチルハイ
ドロキノン、3-プロピルハイドロキノン、3-ブチルハイ
ドロキノン、3-t-ブチルハイドロキノン、3-フェニルハ
イドロキノン、3-クミルハイドロキノン、2,3,5,6-テト
ラメチルハイドロキノン、2,3,5,6-テトラ-t-ブチルハ
イドロキノン、2,3,5,6-テトラフルオロハイドロキノ
ン、2,3,5,6-テトラブロムハイドロキノンなどの置換ハ
イドロキノンを挙げることができる。

【００２３】また、本発明では芳香族ジヒドロキシ化合
物として、下記一般式で表される2,2,2',2'-テトラヒド
ロ-3,3,3',3'-テトラメチル-1,1'-スピロビ-［IH-イン
デン］-6,6'-ジオールを用いることもできる。

【００２４】

【化４】

【００２５】これらの芳香族ジヒドロキシ化合物は、単
独であるいは組み合わせて用いることができる。また炭
酸ジエステルとしては、具体的には、ジフェニルカーボ
ネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロフェニ
ル）カーボネート、m-クレジルカーボネート、ジナフチ
ルカーボネート、ビス（ジフェニル）カーボネート、ジ
エチルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジブチル
カーボネート、ジシクロヘキシルカーボネートなどを挙
げることができる。

【００２６】これらのうち特にジフェニルカーボネート
が好ましく用いられる。これらの炭酸ジエステルは、単
独であるいは組み合わせて用いることができる。

【００２７】また上記のような炭酸ジエステルは、好ま
しくは５０モル％以下、さらに好ましくは３０モル％以
下の量で、ジカルボン酸あるいはジカルボン酸エステル
を含有していてもよい。

【００２８】このようなジカルボン酸あるいはジカルボ
ン酸エステルとしては、テレフタル酸、イソフタル酸、
テレフタル酸ジフェニル、イソフタル酸ジフェニルなど
の芳香族ジカルボン酸類、コハク酸、グルタル酸、アジ
ピン酸、ピメリン酸、スペリン酸、アゼライン酸、セバ
シン酸、デカン二酸、ドデカン二酸、セバシン酸ジフェ
ニル、デカン二酸ジフェニル、ドデカン二酸ジフェニル
などの脂肪族ジカルボン酸類、シクロプロパンジカルボ
ン酸、1,2-シクロブタンジカルボン酸、1,3-シクロブタ
ンジカルボン酸、1,2-シクロペンタンジカルボン酸、1,
3-シクロペンタンジカルボン酸、1,2-シクロヘキサンジ
カルボン酸、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸、1,4-シ
クロヘキサンジカルボン酸、シクロプロパンジカルボン
酸ジフェニル、1,2-シクロブタンジカルボン酸ジフェニ
ル、1,3-シクロブタンジカルボン酸ジフェニル、1,2-シ
クロペンタンジカルボン酸ジフェニル、1,3-シクロペン
タンジカルボン酸ジフェニル、1,2-シクロヘキサンジカ
ルボン酸ジフェニル、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸
ジフェニル、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジフェニ
ルなどの脂環族ジカルボン酸類を挙げることができる。

【００２９】このようなジカルボン酸あるいはジカルボ
ン酸エステルは、単独であるいは組み合わせて含有され
ていていてよい。上記のような炭酸ジエステルは、芳香
族ジヒドロキシ化合物１モルに対して、通常、１.０〜
１.３０モル、好ましくは１.０１〜１.２０モルの量で
用いられることが望ましい。

【００３０】また本発明では、ポリカーボネートを製造
するに際して、上記のような芳香族ジヒドロキシ化合物
と炭酸ジエステルとともに、１分子中に３個以上の官能
基を有する多官能化合物とを用いることもできる。

【００３１】このような多官能化合物としては、フェノ
ール性水酸基またはカルボキシル基を有する化合物が好
ましく、特にフェノール性水酸基を３個含有する化合物
が好ましい。具体的には、たとえば、1,1,1-トリス（4-
ヒドロキシフェニル) エタン、2,2',2"-トリス（4-ヒド
ロキシフェニル）ジイソプロピルベンゼン、α-メチル-
α,α',α'-トリス(4-ヒドロキシフェニル)-1,4-ジエチ
ルベンゼン、α, α',α"-トリス（4-ヒドロキシフェニ
ル）-1,3,5-トリイソプロピルベンゼン、フロログリシ
ン、4,6-ジメチル-2,4,6-トリ（4-ヒドロキシフェニ
ル）-ヘプタン-2、1,3,5-トリ（4-ヒドロキシフェニル)
ベンゼン、2,2-ビス-［4,4-(4,4'-ジヒドロキシフェニ
ル)-シクロヘキシル］-プロパン、トリメリット酸、1,
3,5-ベンゼントリカルボン酸、ピロメリット酸などが挙
げられる。

【００３２】これらのうち、1,1,1-トリス(4-ヒドロキ
シフェニル) エタン、α, α',α"-トリス(4-ヒドロキ
シフェニル)-1,3,5-トリイソプロピルベンゼンなどが好
ましく用いられる。

【００３３】多官能化合物は、芳香族ジヒドロキシ化合
物１モルに対して、通常は０.０３モル以下好ましくは
０.００１〜０.０２モルさらに好ましくは０.００１〜
０.０１モルの量で用いられる。

【００３４】本発明で用いられるポリカーボネートは、
上記のような芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステ
ルとを、触媒の存在下に溶融重縮合させて得られる。こ
のような触媒として、(a) アルカリ金属化合物および／
またはアルカリ土類金属化合物を用いることが好まし
い。

【００３５】アルカリ金属化合物およびアルカリ土類金
属化合物としては、具体的には、アルカリ金属およびア
ルカリ土類金属の有機酸塩、無機酸塩、酸化物、水酸化
物、水素化物あるいはアルコラートなどが好ましく挙げ
られる。

【００３６】より具体的に、アルカリ金属化合物として
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素
リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウ
ム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、ス
テアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステア
リン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ
素リチウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナ
トリウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、リン
酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水
素二リチウム、ビスフェノールＡの二ナトリウム塩、二
カリウム塩、二リチウム塩、フェノールのナトリウム
塩、カリウム塩、リチウム塩などを挙げることができ
る。

【００３７】またアルカリ土類金属化合物としては、具
体的に、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マ
グネシウム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カルシウ
ム、炭酸水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水
素ストロンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭
酸マグネシウム、炭酸ストロンチウム、酢酸カルシウ
ム、酢酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸ストロンチ
ウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウ
ム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸ストロン
チウムなどを挙げることができる。

【００３８】これら化合物は単独で、あるいは組み合わ
せて用いることができる。このような(a) アルカリ金属
化合物および／またはアルカリ土類金属化合物は、上記
芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対して１０^-8〜１０
^-3モル、好ましくは１０^-7〜２×１０^-6モルの量で用い
られる。

【００３９】上記のように、触媒として、(a) アルカリ
金属化合物またはアルカリ土類金属化合物を、芳香族ジ
ヒドロキシ化合物１モルに対して１０^-8〜１０^-3モルの
量で使用すると、高い重合活性でポリカーボネートを製
造できるとともに、得られるポリカーボネートに悪影響
を及ぼさない量で後述する酸性化合物を添加して、これ
ら化合物が示す塩基性を充分に中和するかあるいは弱め
ることができる。

【００４０】本発明では、触媒として、上記のような
(a) アルカリ金属化合物および／またはアルカリ土類金
属化合物とともに、(b) 塩基性化合物および／または
(c) ホウ酸化合物を用いることもできる。

【００４１】このような(b) 塩基性化合物としては、た
とえば高温で易分解性あるいは揮発性の含窒素塩基性化
合物が挙げられ、具体的には、以下のような化合物を挙
げることができる。

【００４２】テトラメチルアンモニウムヒドロキシド
（Me₄NOH）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド
（Et₄NOH）、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド
（Bu₄NOH）、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキ
シド（φ−CH₂(Me)₃NOH ）などのアルキル、アリール、
アルアリール基などを有するアンモニウムヒドロオキシ
ド類、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジメチル
ベンジルアミン、トリフェニルアミンなどの三級アミン
類、Ｒ₂ＮＨ（式中Ｒはメチル、エチルなどのアルキ
ル、フェニル、トルイルなどのアリール基などである）
で示される二級アミン類、ＲＮＨ₂（式中Ｒは上記と同
じである）で示される一級アミン類、2-メチルイミダゾ
ール、2-フェニルイミダゾールなどのイミダゾール類、
あるいはアンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハ
イドライド（Me₄NBH₄）、テトラブチルアンモニウムボ
ロハイドライド（Bu₄NBH₄ ）、テトラブチルアンモニウ
ムテトラフェニルボレート（Bu₄NBPh₄）、テトラメチル
アンモニウムテトラフェニルボレート（Me₄NBPh₄）など
の塩基性塩。

【００４３】これらのうち、テトラアルキルアンモニウ
ムヒドロキシド類、特に金属不純物の少ない電子用テト
ラアルキルアンモニウムヒドロキシド類が好ましく用い
られる。

【００４４】触媒として(b) 含窒素塩基性化合物が用い
られるときは、(b) 含窒素塩基性化合物は、芳香族ジヒ
ドロキシ化合物１モルに対して、１０^-6〜１０^-1モル以
下、好ましくは１０^-5〜１０^-2モルの量で用いられる。

【００４５】また、(c) ホウ酸化合物としては、ホウ酸
およびホウ酸エステルなどを挙げることができる。ホウ
酸エステルとしては、下記一般式で示されるホウ酸エス
テルを挙げることができる。

【００４６】Ｂ（ＯＲ）_n（ＯＨ）_3-n 式中、Ｒはメチル、エチルなどのアルキル、フェニルな
どのアリールなどであり、ｎは１，２または３である。

【００４７】このようなホウ酸エステルとしては、具体
的には、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリエチル、ホウ酸
トリブチル、ホウ酸トリヘキシル、ホウ酸トリヘプチ
ル、ホウ酸トリフェニル、ホウ酸トリトリル、ホウ酸ト
リナフチルなどが挙げられる。

【００４８】触媒として、(c) ホウ酸またはホウ酸エス
テルが用いられるときは、芳香族ジヒドロキシ化合物１
モルに対して、１０^-8〜１０^-1モル、好ましくは１０^-7
〜１０^-2モル、さらに好ましくは１０^-6〜１０^-4モルの
量で用いられる。

【００４９】これらは、たとえば、(a) アルカリ金属化
合物および／またはアルカリ土類金属化合物および
(b) 含窒素塩基性化合物を組合せて、さらに、(a) アル
カリ金属化合物および／またはアルカリ土類金属化合
物、(b) 含窒素塩基性化合物および(c) ホウ酸または
ホウ酸エステルの三者を組合せて、好ましく用いること
ができる。

【００５０】このように上記のような使用量で、(a) ア
ルカリ金属化合物および／またはアルカリ土類金属化合
物と、(b) 含窒素塩基性化合物とを組合せた触媒は、重
縮合反応を十分な速度で進行させ、高分子量のポリカー
ボネートを、高い重合活性で生成させることができて好
ましい。

【００５１】さらに、上記のような使用量で、三者を組
合せた触媒は、熱老化後に分子量低下を起こしにくいポ
リカーボネートを製造することができ、好ましい。この
ような触媒の存在下、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸
ジエステルとの重縮合反応は、従来知られている重縮合
反応条件と同様な条件下で行なうことができる。

【００５２】具体的には、第一段目の反応を８０〜２５
０℃、好ましくは１００〜２３０℃、さらに好ましくは
１２０〜１９０℃の温度で、０〜５時間、好ましくは０
〜４時間、さらに好ましくは０〜３時間、常圧下、芳香
族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを反応させ
る。次いで反応系を減圧にしながら反応温度を高めて、
芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの反応を
行ない、最終的には５mmＨｇ以下、好ましくは１mmＨｇ
以下の減圧下で、２４０〜３２０℃で芳香族ジヒドロキ
シ化合物と炭酸ジエステルとの重縮合反応を行なう。

【００５３】上記のような重縮合反応は、連続式で行な
ってもよく、バッチ式で行なってもよい。また上記の反
応を行なうに際して用いられる反応装置は、槽型であっ
ても管型であっても塔型であってもよい。

【００５４】上記のようにして得られる反応生成物であ
るポリカーボネートでは、通常、２０℃塩化メチレン中
で測定した極限粘度が、０.１０〜１.０dl／ｇ、好まし
くは０.３０〜０.６５dl／ｇである。

【００５５】上記のように本発明に係る製造方法は、溶
融重縮合に際して、毒性物質であるホスゲンや塩化メチ
レンなどを用いないので、環境衛生上好ましい。本発明
では、上記のようにして得られる反応生成物である
［Ａ］ポリカーボネートを冷却することなく重縮合反応
後ただちに、下記［Ｂ］リン化合物を添加する。すなわ
ち、重縮合反応が終了して得られる溶融状態にある反応
器内または押出機内の反応生成物である［Ａ］ポリカー
ボネートが溶融状態にある間に、直接、［Ｂ］リン化合
物を添加する。

【００５６】この際、［Ｂ］リン化合物とともに、後述
するような［Ｃ］ｐＫａ値が３以下であるイオウ含有酸
性化合物および／または該酸性化合物から形成される誘
導体、さらに、［Ｄ］エポキシ化合物を添加することが
好ましい。

【００５７】まず、［Ｂ］リン化合物について説明す
る。［Ｂ］リン化合物としては、リン酸、亜リン酸、次
亜リン酸、ピロリン酸、ポリリン酸、リン酸エステルお
よび亜リン酸エステルを用いることができる。

【００５８】このようなリン酸エステルとしては、具体
的に、たとえば、トリメチルホスフェート、トリエチル
ホスフェート、トリブチルホスフェート、トリオクチル
ホスフェート、トリデシルホスフェート、トリオクタデ
シルホスフェート、ジステアリルペンタエリスリチルジ
ホスフェート、トリス（2-クロロエチル）ホスフェー
ト、トリス（2,3-ジクロロプロピル）ホスフェートなど
のトリアルキルホスフェート、トリシクロヘキシルホス
フェートなどのトリシクロアルキルホスフェート、トリ
フェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、ト
リス（ノニルフェニル）ホスフェート、2-エチルフェニ
ルジフェニルホスフェートなどのトリアリールホスフェ
ートなどを挙げることができる。

【００５９】また、亜リン酸エステルとしては、下記一
般式で表される化合物を挙げることができる。Ｐ（ＯＲ）₃ （式中、Ｒは脂環族炭化水素基、脂肪族炭化水素基また
は芳香族炭化水素基を表す。これらは同一であっても異
なっていてもよい。）このような式で表される化合物と
して、たとえば、トリメチルホスファイト、トリエチル
ホスファイト、トリブチルホスファイト、トリオクチル
ホスファイト、トリス（2-エチルヘキシル）ホスファイ
ト、トリノニルホスファイト、トリデシルホスファイ
ト、トリオクタデシルホスファイト、トリステアリルホ
スファイト、トリス（2-クロロエチル）ホスファイト、
トリス（2,3-ジクロロプロピル）ホスファイトなどのト
リアルキルホスファイト、トリシクロヘキシルホスファ
イトなどのトリシクロアルキルホスファイト、トリフェ
ニルホスファイト、トリクレジルホスファイト、トリス
（エチルフェニル）ホスファイト、トリス（2,4-ジ-t-
ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニ
ル）ホスファイト、トリス（ヒドロキシフェニル）ホス
ファイトなどのトリアリールホスファイト、フェニルジ
デシルホスファイト、ジフェニルデシルホスファイト、
ジフェニルイソオクチルホスファイト、フェニルイソオ
クチルホスファイト、2-エチルヘキシルジフェニルホス
ファイトなどのアリールアルキルホスファイトなどを挙
げることができる。

【００６０】さらに亜リン酸エステルとして、ジステア
リルペンタエリスリチルジホスファイト、ビス（2,4-ジ
-t-ブチルフェニル）ペンタエリスリチルジホスファイ
トなどを挙げることができる。

【００６１】これらの化合物は、単独で、あるいは組み
合わせて用いることができる。これらのうち、［Ｂ］リ
ン化合物として、上記一般式で表される亜リン酸エステ
ルが好ましく、さらに芳香族亜リン酸エステルが好まし
く、特にトリス（2,4-ジ-t-ブチルフェニル）ホスファ
イトが好ましく用いられる。

【００６２】本発明では、上記のような［Ｂ］リン化合
物を、［Ａ］ポリカーボネートに対して、１０〜１００
０ppm 、好ましくは５０〜５００ppm の量で添加する。
次に、本発明で用いられる［Ｃ］ｐＫａ値が３以下であ
るイオウ含有酸性化合物および／または該酸性化合物か
ら形成される誘導体について説明する。

【００６３】本発明では、［Ｃ］イオウ含有酸性化合物
および該酸性化合物から形成される誘導体としては、亜
硫酸、硫酸、スルフィン酸系化合物、スルホン酸系化合
物およびこれらの誘導体を挙げることができる。具体的
に、亜硫酸誘導体としては、ジメチル亜硫酸、ジエチル
亜硫酸、ジプロピル亜硫酸、ジブチル亜硫酸、ジフェニ
ル亜硫酸などを挙げることができる。

【００６４】硫酸誘導体としては、ジメチル硫酸、ジエ
チル硫酸、ジプロピル硫酸、ジブチル硫酸、ジフェニル
硫酸などを挙げることができる。スルフィン酸系化合物
としては、ベンゼンスルフィン酸、トルエンスルフィン
酸、ナフテレンスルフィン酸などを挙げることができ
る。

【００６５】また、スルホン酸系化合物およびこの誘導
体としては、下記一般式［III］で表わされる化合物や
それらのアンモニウム塩を挙げることができる。

【００６６】

【化５】

【００６７】式中、Ｒ⁷は炭素数１〜５０の炭化水素基
（水素はハロゲンで置換されていてもよい）であり、Ｒ
⁸は水素または炭素数１〜５０の炭化水素基（水素はハ
ロゲンで置換されていてもよい）であり、ｎは０〜３の
整数である。

【００６８】このようなスルホン酸系化合物およびこの
誘導体としては、以下のような化合物を挙げることがで
きる。ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸など
のスルホン酸、ベンゼンスルホン酸メチル、ベンゼンス
ルホン酸エチル、ベンゼンスルホン酸ブチル、ベンゼン
スルホン酸オクチル、ベンゼンスルホン酸フェニル、p-
トルエンスルホン酸メチル、p-トルエンスルホン酸エチ
ル、p-トルエンスルホン酸ブチル、p-トルエンスルホン
酸オクチル、p-トルエンスルホン酸フェニルなどのスル
ホン酸エステル、p-トルエンスルホン酸アンモニウムな
どのスルホン酸アンモニウム塩。

【００６９】さらに上記一般式［III］で表されるスル
ホン酸化合物以外にも、トリフルオロメタンスルホン
酸、ナフタレンスルホン酸、スルホン化ポリスチレン、
アクリル酸メチル-スルホン化スチレン共重合体などの
スルホン酸化合物を挙げることができる。

【００７０】これらの化合物は、単独で、あるいは組み
合わせて用いることができる。本発明では、［Ｃ］イオ
ウ含有酸性化合物および該酸性化合物から形成される誘
導体として、上記一般式［III］で表されるスルホン酸
系化合物およびこの誘導体が好ましく用いられる。さら
に、上記一般式［III］において、Ｒ⁷、Ｒ⁸は炭素数
１〜１０の置換脂肪族炭化水素基、ｎは０〜１の整数で
表される化合物が好ましく用いられる。具体的には、ベ
ンゼンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸ブチル、p-トル
エンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸エチル、p-トル
エンスルホン酸ブチルが好ましく用いられる。

【００７１】特に、本発明では、p-トルエンスルホン酸
ブチルが好ましく用いられる。本発明では、上記のよう
な［Ｃ］ｐＫａ値が３以下であるイオウ含有酸性化合物
および／または該酸性化合物から形成される誘導体を、
上記［Ａ］ポリカーボネートに対して、０.１〜１０pmm
、好ましくは０.１〜８ppm 、特に好ましくは０.１〜
５ppm の量で添加する。

【００７２】本発明では、［Ｄ］エポキシ化合物とし
て、１分子中にエポキシ基を１個以上有する化合物が用
いられる。具体的には、エポキシ化大豆油、エポキシ化
アマニ油、フェニルグリシジルエーテル、アリルグリシ
ジルエーテル、t-ブチルフェニルグリシジルエーテル、
3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3',4'-エポキシシ
クロヘキシルカルボキシレート、3,4-エポキシ-6-メチ
ルシクロヘキシルメチル-3',4'-エポキシ-6'-メチルシ
クロヘキシルカルボキシレート、2,3-エポキシシクロヘ
キシルメチル-3',4'-エポキシシクロヘキシルカルボキ
シレート、4-（3,4-エポキシ-5-メチルシクロヘキシ
ル）ブチル-3',4'-エポキシシクロヘキシルカルボキシ
レート、3,4-エポキシシクロヘキシルエチレンオキシ
ド、シクロヘキシルメチル3,4-エポキシシクロヘキシル
カルボキシレート、3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキ
シルメチル-6'- メチルシロヘキシルカルボキシレー
ト、ビスフェノール−Ａジグリシジルエーテル、テトラ
ブロモビスフェノール−Ａグリシジルエーテル、フタル
酸のジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸のジ
グリシジルエステル、ビス-エポキシジシクロペンタジ
エニルエーテル、ビス-エポキシエチレングリコール、
ビス-エポキシシクロヘキシルアジペート、ブタジエン
ジエポキシド、テトラフェニルエチレンエポキシド、オ
クチルエポキシタレート、エポキシ化ポリブタジエン、
3,4-ジメチル-1,2-エポキシシクロヘキサン、3,5-ジメ
チル-1,2-エポキシシクロヘキサン、3-メチル-5-t-ブチ
ル-1,2-エポキシシクロヘキサン、オクタデシル-2,2-ジ
メチル-3,4-エポキシシクロヘキシルカルボキシレー
ト、N-ブチル-2,2-ジメチル-3,4-エポキシシクロヘキシ
ルカルボキシレート、シクロヘキシル-2-メチル-3,4-エ
ポキシシクロヘキシルカルボキシレート、N-ブチル-2-
イソプロピル-3,4-エポキシ-5-メチルシクロヘキシルカ
ルボキシレート、オクタデシル-3,4-エポキシシクロヘ
キシルカルボキシレート、2-エチルヘキシル-3',4'-エ
ポキシシクロヘキシルカルボキシレート、4,6-ジメチル
-2,3-エポキシシクロヘキシル-3',4'-エポキシシクロヘ
キシルカルボキシレート、4,5-エポキシ無水テトラヒド
ロフタル酸、3-t-ブチル-4,5-エポキシ無水テトラヒド
ロフタル酸、ジエチル4,5-エポキシ-シス-1,2-シクロヘ
キシルジカルボキシレート、ジ-n-ブチル-3-t-ブチル-
4,5-エポキシ-シス-1,2-シクロヘキシルジカルボキシレ
ートなどを挙げることができる。

【００７３】これらのうち、脂環族エポキシ化合物が好
ましく用いられ、特に3,4-エポキシシクロヘキシルメチ
ル-3',4'-エポキシシクロヘキシルカルボキシレートが
好ましく用いられる。

【００７４】これらは単独で用いても２種以上混合して
用いてもよい。本発明では、このような［Ｄ］エポキシ
化合物を、上記［Ａ］ポリカーボネートに対して、１〜
２０００ppm の量で、好ましくは１０〜１０００ppm の
量で添加することが好ましい。

【００７５】本発明では、上述したように、得られる反
応生成物である［Ａ］ポリカーボネートを冷却すること
なく重縮合反応後ただちに、これに上記［Ｂ］リン化合
物および好ましくは［Ｃ］、［Ｄ］化合物を添加して、
得られる溶融混合物をペレタイズする。具体的には、た
とえば、反応器内にある重縮合反応で得られた［Ａ］ポ
リカーボネートに、［Ｂ］、［Ｃ］および［Ｄ］化合物
を添加した後、押出機を通してペレタイズしてもよい
し、また、重縮合反応で得られた［Ａ］ポリカーボネー
トが反応器から押出機を通ってペレタイズされる間に、
［Ｂ］、［Ｃ］および［Ｄ］化合物を添加してもよい。
［Ｂ］、［Ｃ］および［Ｄ］化合物を添加する順序は問
わない。

【００７６】このようにして得られる［Ａ］、［Ｂ］お
よび好ましくは［Ｃ］からなるペレットは、ポリカーボ
ネート中に残存するアルカリ性触媒が中性化あるいは弱
められており、［Ａ］ポリカーボネートに比べて、特に
溶融時の色相安定性、熱安定性などの滞留安定性が向上
されている。さらに、［Ｄ］エポキシ化合物が添加され
ることにより、ペレット中に上記［Ｂ］、［Ｃ］化合物
が過剰に残存しても、これらが［Ｄ］エポキシ化合物と
反応して中性化され、耐水性および透明性が向上された
溶融混合物からなるペレットが得られる。

【００７７】このようなペレットは、次工程で、たとえ
ば使用目的に応じた添加剤とともに再混練されるが、上
記のように滞留安定性が向上されているので、この際
に、着色したり、熱分解したりすることが抑制されてい
る。また、耐水性も向上されている。

【００７８】本発明では、このようにして得られるペレ
ットを、［Ｅ］添加剤とともに再混練してポリカーボネ
ート組成物を製造する。この際、使用目的に応じて小ロ
ットに分けて、目的に応じた添加剤とともに再混練する
ことが好ましい。

【００７９】混練は、一軸押出機、二軸押出機またはブ
ラベンダーなどで行うことができる。混練温度は、通
常、２００〜３８０℃、好ましくは２２０〜３６０℃で
行われる。

【００８０】このような［Ｅ］添加剤は、目的によって
異なり、また特に限定されないが、たとえば、以下のよ
うな添加剤を挙げることができる。また、この再混練に
際しては、必要に応じて上記のような［Ｂ］、［Ｃ］お
よび［Ｄ］化合物を添加してもよい。

【００８１】本発明で再混練の際に用いられる［Ｅ］添
加剤としては、たとえば、以下に示すような通常の耐熱
安定剤、紫外線吸収剤、離型剤、着色剤、難燃剤、帯電
防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、滑剤、防
曇剤、天然油、合成油、ワックス、有機系充填剤、ガラ
ス粉、ガラス繊維などの無機系充填剤などを挙げること
ができる。

【００８２】上記のような耐熱安定剤としては、具体的
には、たとえば、フェノール系安定剤、有機チオエーテ
ル系安定剤、ヒンダードアミン系安定剤などを挙げるこ
とができる。

【００８３】フェノール系安定剤としては、たとえば、
n-オクタデシル-3-(4-ヒドロキシ-3',5'-ジ-t-ブチルフ
ェニル）プロピオネート、テトラキス［メチレン-3-
(3',5'-ジ-t- ブチル-4-ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート］メタン、1,1,3-トリス（2-メチル-4-ヒドロキ
シ-5-t- ブチルフェニル）ブタン、ジステアリル（4-ヒ
ドロキシ-3-メチル-5-t-ブチル）ベンジルマロネート、
4-ヒドロキシメチル-2,6-ジ-t-ブチルフェノール等が挙
げられ、これらを単独で用いても２種以上混合して用い
てもよい。

【００８４】チオエーテル系安定剤としては、たとえ
ば、ジラウリル・チオジプロピオネート、ジステアリル
・チオジプロピオネート、ジミリスチル-3,3'-チオジプ
ロピオネート、ジトリデシル-3,3'-チオジプロピオネー
ト、ペンタエリスリトール-テトラキス-(β-ラウリル-
チオプロピオネート）などを挙げることができる。

【００８５】これらは単独で用いても２種以上混合して
用いてもよい。またヒンダードアミン系安定剤として
は、たとえば、ビス（2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリ
ジル）セバケート、ビス（1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-
ピペリジル）セバケート、1-［2-｛3-（3,5-ジ-t-ブチ
ル-4-ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ｝エチ
ル］-4-｛3-（3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシ｝-2,2,6,6-テトラメチルピペ
リジン、8-ベンジル-7,7,9,9-テトラメチル-3-オクチル
-1,2,3-トリアザスピロ［4,5］ウンデカン-2,4-ジオ
ン、4-ベンゾイルオキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリ
ジン、2-（3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル）-2
-n-ブチルマロン酸ビス（1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピ
ペリジル）、テトラキス（2,2,6,6-テトラメチル-4-ピ
ペリジル）1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシレートなど
を挙げることができる。

【００８６】これらは単独で用いても２種以上混合して
用いてもよい。これらの耐熱安定剤は、ポリカーボネー
ト１００重量部に対して、０.００１〜５重量部、好ま
しくは０.００５〜０.５重量部、さらに好ましくは０.
０１〜０.３重量部の量で用いられることが望ましい。

【００８７】このような耐熱安定剤は、固体状で添加し
てもよく、液体状で添加してもよい。また紫外線吸収剤
としては、一般的な紫外線吸収剤でよく、特に限定され
ないが、たとえば、サリチル酸系紫外線吸収剤、ベンゾ
フェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線
吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤などを挙げ
ることができる。

【００８８】サリチル酸系紫外線吸収剤としては、具体
的には、フェニルサリシレート、p-t-ブチルフェニルサ
リシレートが挙げられる。ベンゾフェノン系紫外線吸収
剤としては、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒド
ロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2,2'-ジヒドロキシ
-4- メトキシベンゾフェノン、2,2'-ジヒドロキシ-4,4'
-ジメトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ
-2'-カルボキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メト
キシ-5-スルホベンゾフェノントリヒドレート、2-ヒド
ロキシ-4-n-オクトキシベンゾフェノン、2,2',4,4'-テ
トラヒドロキシベンゾフェノン、4-ドデシロキシ-2-ヒ
ドロキシベンゾフェノン、ビス（5-ベンゾイル-4-ヒド
ロキシ-2-メトキシフェニル）メタン、2-ヒドロキシ-4-
メトキシベンゾフェノン-5-スルホン酸などが挙げられ
る。

【００８９】ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として
は、2-（2'-ヒドロキシ-5'-メチル-フェニル）ベンゾト
リアゾール、2-（2'-ヒドロキシ-3',5'-ジ-t-ブチル-フ
ェニル）ベンゾトリアゾール、2-（2'-ヒドロキシ-3'-t
-ブチル-5'-メチル-フェニル）-5-クロロベンゾトリア
ゾール、2-（2'-ヒドロキシ-3',5'-ジ-t-ブチル-フェニ
ル）-5-クロロベンゾトリアゾール、2-（2'-ヒドロキシ
-5'-t-オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、2-（2'
-ヒドロキシ-3',5'-ジ-t-アミルフェニル）ベンゾトリ
アゾール、2-［2'-ヒドロキシ-3'-(3",4",5",6"-テトラ
ヒドロフタルイミドメチル）-5'-メチルフェニル］ベン
ゾトリアゾール、2,2'-メチレンビス［4-（1,1,3,3-テ
トラメチルブチル）-6-（2H-ベンゾトリアゾール-2-イ
ル）フェノール］などを挙げることができる。

【００９０】シアノアクリレート系紫外線吸収剤として
は、2-エチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリ
レート、エチル-2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリレート
などを挙げることができる。これらを単独で用いても、
２種以上混合して用いてもよい。

【００９１】これらの紫外線吸収剤は、［Ａ］ポリカー
ボネート１００重量部に対して、通常０.００１〜５重
量部、好ましくは０.００５〜１.０重量部、さらに好ま
しくは０.０１〜０.５重量部の量で用いることができ
る。

【００９２】さらに、離型剤としては、一般的な離型剤
でよく、特に限定されない。たとえば、炭化水素系離型
剤としては、天然、合成パラフィン類、ポリエチレンワ
ックス類、フルオロカーボン類などを挙げることができ
る。

【００９３】脂肪酸系離型剤としては、ステアリン酸、
ヒドロキシステアリン酸などの高級脂肪酸、オキシ脂肪
酸類などを挙げることができる。脂肪酸アミド系離型剤
としては、ステアリン酸アミド、エチレンビスステアロ
アミドなどの脂肪酸アミド、アルキレンビス脂肪酸アミ
ド類などを挙げることができる。

【００９４】アルコール系離型剤としては、ステアリル
アルコール、セチルアルコールなどの脂肪族アルコー
ル、多価アルコール、ポリグリコール、ポリグリセロー
ル類などを挙げることができる。

【００９５】脂肪酸エステル系離型剤としては、ブチル
ステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレー
トなどの脂肪族酸低級アルコールエステル、脂肪酸多価
アルコールエステル、脂肪酸ポリグリコールエステル類
などを挙げることができる。

【００９６】シリコーン系離型剤としては、シリコーン
オイル類などを挙げることができる。これらは単独で用
いても、２種以上混合して用いてもよい。

【００９７】これらの離型剤は、［Ａ］ポリカーボネー
ト１００重量部に対して、通常、０.００１〜５重量
部、好ましくは０.００５〜１重量部、さらに好ましく
は０.０１〜０.５重量部の量で用いることができる。

【００９８】さらに、着色剤としては、顔料であっても
よく、染料であってもよい。着色剤には、無機系と有機
系の着色剤があるが、どちらを使用してもよく、また、
組み合わせて用いてもよい。

【００９９】無機系着色剤として、具体的には、二酸化
チタン、ベンガラなどの酸化物、アルミナホワイトなど
の水酸化物、硫化亜鉛などの硫化物、セレン化物、紺青
などのフェロシアン化物、ジンククロメート、モリブデ
ンレッドなどのクロム酸塩、硫酸バリウムなどの硫酸
塩、炭酸カルシウムなどの炭酸塩、群青などの硅酸塩、
マンガンバイオレットなどのリン酸塩、カーボンブラッ
クなどの炭素、ブロンズ粉やアルミニウム粉などの金属
粉着色剤などが挙げられる。

【０１００】有機系着色剤としては、具体的には、ナフ
トールグリーンＢなどのニトロソ系、ナフトールイエロ
−Ｓなどのニトロ系、リソールレッドやボルドー１０
Ｂ、ナフトールレッド、クロモフタールイエローなどの
アゾ系、フタロシアニンブルーやファストスカイブルー
などのフタロシアニン系、インダントロンブルーやキナ
クリドンバイオレット、ジオクサジンバイオレットなど
の縮合多環系着色剤などが挙げられる。

【０１０１】これらの着色剤は、単独で用いても組み合
わせて用いてもよい。これらの着色剤は、［Ａ］ポリカ
ーボネート１００重量部に対して、通常１×１０^-6〜５
重量部、好ましくは１×１０^-5〜３重量部、さらに好ま
しくは１×１０^-5〜１重量部の量で用いることができ
る。

【０１０２】上記のように、本発明では、重縮合反応
後、耐熱安定性が向上された溶融混合物としてペレタイ
ズされる。そして、このようにして得られるペレット
を、使用目的に応じた添加剤とともに、再混練してポリ
カーボネート組成物を得ている。

【０１０３】したがって、目的に応じたポリカーボネー
ト組成物を、再混練によって黄色化させたり、分子量を
低下させたりすることなく、効率よく製造することがで
きる。

【０１０４】このようにして得られるポリカーボネート
組成物は、使用目的に応じて効率よく用いることができ
るとともに、成形時に、黄色化しにくく、色相安定性に
も優れているとともに熱分解が起こりにくく、分子量が
低下しにくい。

【０１０５】さらに、エポキシ化合物を含有するポリカ
ーボネート組成物では、特に耐水性が向上されており、
透明性も低下しにくい。

【０１０６】

【発明の効果】本発明によれば、溶融時の熱安定性、色
相安定性などの滞留安定性に優れたポリカーボネート組
成物を製造することができる。

【０１０７】このような本発明で得られるポリカーボネ
ート組成物は、成形時の熱安定性に優れるとともに、使
用時においても長時間に亘って色相安定性に優れるとと
もに、耐水性および透明性に優れた成形体、効率よくを
形成しうる。以下本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。

【０１０８】

【実施例】本明細書において、ポリカーボネート組成物
の極限粘度〔ＩＶ〕、ＭＦＲ、色相〔ＹＩ〕、光線透過
率、ヘイズ、滞留安定性、耐水性は、以下のようにして
測定される。

【０１０９】［極限粘度〔ＩＶ〕］塩化メチレン中、２
０℃でウベローデ粘度計を用いて測定した。［ＭＦＲ］ＪＩＳＫ−７２１０の方法に準拠し、温度
３００℃、荷重１.２Kgで測定した。

【０１１０】［色相］３ｍｍ厚の射出成形板をシリンダ
ー温度２９０℃、射出圧力１０００Kg／cm、１サイクル
４５秒、金型温度１００℃で成形し、Ｘ、Ｙ、Ｚ値を日
本電色工業（株) 製の Colorand Color Defference Met
er ND-1001 DP を用いて透過法で測定し、黄色度〔Ｙ
Ｉ〕を測定した。

【０１１１】ＹＩ＝１００（１.２７７Ｘ−１.０６０Ｚ）／Ｙ［光線透過率］ＡＳＴＭＤ１００３の方法に従い、
色相測定用の射出成形板を用いて測定した。

【０１１２】［ヘイズ］日本電色工業( 株) 製のＮＤＨ
−２００を用い、色相測定用の射出成形板のヘイズを測
定した。

【０１１３】［滞留安定性］３２０℃の温度で１５分間
射出成形機のシリンダー内に樹脂を滞留させた後、そ
の温度で射出成形を行い、その成形板のＭＦＲ、色相
（ＹＩ）、光線透過率を測定した。

【０１１４】［耐水性］色相測定用の射出成形板をオー
トクレーブ中の水に浸漬し、１２５℃のオーブン中に５
日間保持する。この試験片を用いてヘイズを測定した。

【０１１５】［添加剤］以下に使用した添加剤を示す。耐熱安定剤：Mark 2112［アデカアーガス社製；トリス
（2,4-ジ-t- ブチルフェニル）ホスファイト Mark AO-50［アデカアーガス社製；n-オクタデシル-3-
(4'-ヒドロキシ-3',5'-ジ-t-ブチルフェニル）プロピオ
ネート］紫外線吸収剤：サイアソルブUV 5411［アメリカンサイ
ナミッド社製；2-(2'-ヒドロキシ-5'-t-オクチルフェニ
ル) ベンゾトリアゾール］離型剤：TSF 437 （東芝シリコーン社製；シリコー
ン系）エポキシ系安定剤：セロキサイド 2021P（ダイセル化
学社製；アリサイクリックジエポキシカルボキシレー
ト）着色剤：Plast Violet 8840 （有本化学社製；スチ
レン系）

【０１１６】

【実施例１】ビスフェノールＡ（日本ジーイープラスチ
ック（株）製）０．４４キロモルと、ジフェニルカーボ
ネート（エニィ社製）０．４６キロモルとを２５０リッ
トル槽型攪拌槽に仕込み、窒素置換をした後に、１４０
℃で溶解した。

【０１１７】次にこれを１８０℃の温度まで昇温し、触
媒としてテトラメチルアンモニウムヒドロキシドを０．
１１モルおよび水酸化ナトリウムを０．０００４４モル
（１×１０^-6モル／モル-ビスフェノールＡ）添加し３
０分間攪拌する。

【０１１８】次に、温度を２１０℃まで昇温させると同
時に徐々に２００mmHgまで下げて３０分後、温度を２４
０℃まで昇温させると同時に徐々に１５mmHgまで下げて
温度圧力を一定に保ち留出するフェノールの量を測定
し、留出するフェノールがなくなった時点で窒素にて大
気圧に戻した。反応に要した時間は１時間であった。得
られた反応物の極限粘度〔η〕は０．１５ｄｌ／ｇであ
った。

【０１１９】次にこの反応物をギヤポンプで昇圧し、遠
心式薄膜蒸発機に送入し、反応を進めた。薄膜蒸発機の
温度、圧力はそれぞれ２７０℃、２mmHgにコントロール
した。蒸発機下部よりギヤポンプにて２９０℃、０．２
mmHgにコントロールされた二軸横型攪拌重合槽（Ｌ／Ｄ
＝３、攪拌翼回転直径２２０mm、内容積８０リットル）
に４０Kg／時間で送り込み滞留時間３０分にて重合させ
た。

【０１２０】次に、溶融状態のままで、このポリマーを
ギヤポンプにて二軸押出機（Ｌ／Ｄ＝１７．５、バレル
温度２８５℃）に送入し、樹脂に対して、p-トルエンス
ルホン酸ブチル１．８ppm、トリス（2,4-ジ-t-ブチルフ
ェニル) ホスファイト（Ｍａｒｋ２１１２：アデカアー
ガス社製）３００ppm、3,4-エポキシシクロヘキシルメ
チル-3,4-エポキシシクロヘキシルカルボキシレート
（セロキサイド２０２１Ｐ：ダイセル化学社製）３００
ppmを混練し、ダイを通してストランド状とし、カッタ
ーで切断してペレットとした。

【０１２１】次に、このペレットに、表１に示す添加剤
を、表１に示す量を添加して、通常の一軸押出機で２８
５℃で再混練してペレットを得た。得られたポリマーの
極限粘度（ＩＶ）は０．４９ｄｌ／ｇであった。

【０１２２】結果を表１に示す。

【０１２３】

【実施例２、３】実施例１において、重合直後、p-トル
エンスルホン酸ブチルのかわりに表１に記載の化合物を
表１に記載した量で用いた他は実施例１と同様の方法に
よってペレットを得て、表１に示す添加剤を、表１に示
す量を添加して実施例１と同様の方法によって再混練し
てペレットを得た。

【０１２４】結果を表１に示す。

【０１２５】

【実施例４】実施例１において、重合直後、p-トルエン
スルホン酸ブチルとトリス（2,4-ジ-t-ブチルフェニ
ル）ホスファイトのみを使用した以外は実施例１と同様
の方法でペレットを得て、表１に示す添加剤を、表１に
示す量を添加して実施例１と同様の方法によって再混練
してペレットを得た。

【０１２６】結果を表１に示す。

【０１２７】

【実施例５】実施例１において、重合直後、トリス（2,
4-ジ-t-ブチルフェニル）ホスファイトのみを使用した
以外は実施例１と同様の方法でペレットを得て、表１に
示す添加剤を、表１に示す量を添加して実施例１と同様
の方法によって再混練してペレットを得た。

【０１２８】結果を表１に示す。

【０１２９】

【実施例６】実施例１において、重合直後、トリス（2,
4-ジ-t-ブチルフェニル）ホスファイト、セロキサイド
２０２１Ｐのみを使用した以外は実施例１と同様の方法
でペレットを得て、表１に示す添加剤を、表１に示す量
を添加して実施例１と同様の方法によって再混練してペ
レットを得た。

【０１３０】結果を表１に示す。

【０１３１】

【実施例７、８】実施例１において、重合直後、p-トル
エンスルホン酸ブチルを表１に記載した量用いた他は実
施例１と同様の方法によってペレットを得て、表１に示
す添加剤を、表１に示す量を添加して実施例１と同様の
方法によって再混練してペレットを得た。

【０１３２】結果を表１に示す。

【０１３３】

【実施例９】実施例１において、再混練時に着色剤を用
いなかった以外は実施例１と同様の方法によってペレッ
トを得た。

【０１３４】結果を表１に示す。

【０１３５】

【比較例１】実施例１において、重合直後、トリス（2,
4-ジ-t-ブチルフェニル）ホスファイトを添加しなかっ
た以外は実施例１と同様の方法でペレットを得て、表１
に示す添加剤を、表１に示す量を添加して実施例１と同
様の方法によって再混練してペレットを得た。

【０１３６】結果を表１に示す。

【０１３７】

【比較例２】実施例１において、重合直後、トリス（2,
4-ジ-t-ブチルフェニル）ホスファイトとセロキサイド
２０２１Ｐを添加しなかった以外は実施例１と同様の方
法でペレットを得て、表１に示す添加剤を、表１に示す
量を添加して実施例１と同様の方法によって再混練して
ペレットを得た。

【０１３８】結果を表１に示す。

【０１３９】

【比較例３】実施例１において、重合直後、セロキサイ
ド２０２１Ｐのみを添加した以外は実施例１と同様の方
法でペレットを得て、表１に示す添加剤を、表１に示す
量を添加して実施例１と同様の方法によって再混練して
ペレットを得た。

【０１４０】結果を表１に示す。

【０１４１】

【比較例４、５】実施例１において、重合直後、なにも
添加しなかった以外は実施例１と同様の方法でペレット
を得て、表１に示す添加剤を、表１に示す量を添加して
実施例１と同様の方法によって再混練してペレットを得
た。

【０１４２】結果を表１に示す。

【０１４３】

【比較例６】比較例５において、再混練時に着色剤を用
いなかった以外は比較例５と同様の方法によってペレッ
トを得た。

【０１４４】結果を表１に示す。

【０１４５】

【表１】

【０１４６】

【表２】

【０１４７】

【表３】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者三浦公義山口県玖珂郡和木町和木六丁目１番２号三井石油化学工業株式会社内 (72)発明者山本和彦山口県玖珂郡和木町和木六丁目１番２号三井石油化学工業株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステ
ルとを、芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対して、１０^-8〜１
０^-3モルの量の (a) アルカリ金属化合物および／またはアルカリ土類金
属化合物を含有する触媒の存在下に溶融重縮合させた
後、反応生成物である［Ａ］ポリカーボネートが溶融状態に
ある間に、［Ｂ］リン化合物を添加して得られる溶融混合物をペレットに成形した
後、該ペレットと［Ｅ］添加剤とを再混練することを特
徴とするポリカーボネート組成物の製造方法。
【請求項２】芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステ
ルとを、芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対して、１０^-8〜１
０^-3モルの量の (a) アルカリ金属化合物および／またはアルカリ土類金
属化合物を含有する触媒の存在下に溶融重縮合させた
後、反応生成物である［Ａ］ポリカーボネートが溶融状態に
ある間に、［Ｂ］リン化合物と、［Ｃ］ｐＫａ値が３以下であるイオウ含有酸性化合物お
よび／または該酸性化合物から形成される誘導体とを添加して得られる溶融混合物をペレットに成形した
後、該ペレットと［Ｅ］添加剤とを再混練することを特
徴とするポリカーボネート組成物の製造方法。
【請求項３】芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステ
ルとを、芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対して、１０^-8〜１
０^-3モルの量の (a) アルカリ金属化合物および／またはアルカリ土類金
属化合物を含有する触媒の存在下に溶融重縮合させた
後、反応生成物である［Ａ］ポリカーボネートが溶融状態に
ある間に、［Ｂ］リン化合物と、［Ｃ］ｐＫａ値が３以下であるイオウ含有酸性化合物お
よび／または該酸性化合物から形成される誘導体と、［Ｄ］エポキシ化合物とを添加して得られる溶融混合物をペレットに成形した
後、該ペレットと［Ｅ］添加剤とを再混練することを特
徴とするポリカーボネート組成物の製造方法。
【請求項４】(a) アルカリ金属化合物および／またはア
ルカリ土類金属化合物を芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対して、１０^-7〜２
×１０^-6モルの量で用いることを特徴とする請求項１〜
３のいずれかに記載のポリカーボネート組成物の製造方
法。
【請求項５】［Ｂ］リン化合物を、反応生成物である
［Ａ］ポリカーボネートに対して、１０〜１０００ppm
の量で用いることを特徴とする請求項１〜４のいずれか
に記載のポリカーボネート組成物の製造方法。
【請求項６】［Ｂ］リン化合物として、芳香族亜リン酸
エステル化合物を用いることを特徴とする請求項１〜５
のいずれかに記載のポリカーボネート組成物の製造方
法。
【請求項７】［Ｂ］リン化合物として、トリス（2,4-ジ
-t-ブチルフェニル) ホスファイトを用いることを特徴
とする請求項１〜６のいずれかに記載のポリカーボネー
ト組成物の製造方法。
【請求項８】［Ｃ］ｐＫａ値が３以下であるイオウ含有
酸性化合物および／または該酸性化合物から形成される
誘導体を、反応生成物である［Ａ］ポリカーボネートに対して、
０.１〜１０ppmの量で用いることを特徴とする請求項１
〜７のいずれかに記載のポリカーボネート組成物の製造
方法。
【請求項９】［Ｃ］ｐＫａ値が３以下であるイオウ含有
酸性化合物および／または該酸性化合物から形成される
誘導体を、反応生成物である［Ａ］ポリカーボネートに対して、
０.１〜５ppm の量で用いることを特徴とする請求項１
〜８のいずれかに記載のポリカーボネート組成物の製造
方法。
【請求項１０】［Ｃ］ｐＫａ値が３以下であるイオウ含
有酸性化合物および／または該酸性化合物から形成され
る誘導体として、下記一般式［III］で表される化合物
を用いることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記
載のポリカーボネート組成物の製造方法：【化１】式中、Ｒ⁷は炭素数１〜５０の炭化水素基（水素はハロ
ゲンで置換されていてもよい）であり、Ｒ⁸は水素また
は炭素数１〜５０の炭化水素基（水素はハロゲンで置換
されていてもよい）であり、ｎは０〜３の整数である。
【請求項１１】［Ｃ］ｐＫａ値が３以下であるイオウ含
有酸性化合物および／または該酸性化合物から形成され
る誘導体として、p-トルエンスルホン酸ブチルを用いる
ことを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載のポ
リカーボネート組成物の製造方法。
【請求項１２】［Ｄ］エポキシ化合物を、反応生成物で
ある［Ａ］ポリカーボネートに対して、１〜２０００pp
m の量で用いることを特徴とする請求項１〜１１のいず
れかに記載のポリカーボネート組成物の製造方法。
【請求項１３】［Ｄ］エポキシ化合物として、脂環族エ
ポキシ化合物を用いることを特徴とする請求項１〜１２
のいずれかに記載のポリカーボネート組成物の製造方
法。
【請求項１４】［Ｄ］エポキシ化合物として、3,4-エポ
キシシクロヘキシルメチル-3',4'-エポキシシクロヘキ
シルカルボキシレートを用いることを特徴とする請求項
１〜１３のいずれかに記載のポリカーボネート組成物の
製造方法。