JPH0595079A - リードフレーム、半導体集積回路搭載用基板及び半導体装置並びにそれらの製造方法 - Google Patents
リードフレーム、半導体集積回路搭載用基板及び半導体装置並びにそれらの製造方法Info
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 リードを所定位置に保持でき、トランスファ
モールド中に金型からの樹脂の流出を防ぐことができ、
モールド後にダムバーを取り去る必要を無くした半導体
集積回路搭載用リードフレーム、基板あるいは半導体装
置並びにそれらの製造方法を提供すること。 【構成】 少なくとも封止樹脂の外表面に対応する位置
でリード間に延び、リードと同じ厚さを有する電気絶縁
性の樹脂の橋絡部材を備えている。 【効果】 リード間の空間が橋絡部材により密閉され、
金型からモールド樹脂が漏れ出ることがなく、バリ取り
工程が省け、リードが保持できる。また、絶縁性橋絡部
材は、モールド後にもリードから取り除く必要がなく、
ファインピッチリードのリードフレームも容易に実現で
きる。
モールド中に金型からの樹脂の流出を防ぐことができ、
モールド後にダムバーを取り去る必要を無くした半導体
集積回路搭載用リードフレーム、基板あるいは半導体装
置並びにそれらの製造方法を提供すること。 【構成】 少なくとも封止樹脂の外表面に対応する位置
でリード間に延び、リードと同じ厚さを有する電気絶縁
性の樹脂の橋絡部材を備えている。 【効果】 リード間の空間が橋絡部材により密閉され、
金型からモールド樹脂が漏れ出ることがなく、バリ取り
工程が省け、リードが保持できる。また、絶縁性橋絡部
材は、モールド後にもリードから取り除く必要がなく、
ファインピッチリードのリードフレームも容易に実現で
きる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、リードフレーム、半
導体集積回路搭載用基板及び半導体装置並びにそれらの
製造方法に関し、特にリードを間に挟んで成型空洞を形
成するモールド金型を用いて、トランスファモールドに
より封止樹脂で半導体集積回路を封止するためのリード
フレーム、半導体集積回路搭載用基板及び半導体装置並
びにそれらの製造方法に関するものである。この明細書
に於いて、「予備成型封止樹脂」とはモールド金型への
注入前の樹脂を意味し、「封止樹脂」とは注入後の、成
型の完了した樹脂を意味する。
導体集積回路搭載用基板及び半導体装置並びにそれらの
製造方法に関し、特にリードを間に挟んで成型空洞を形
成するモールド金型を用いて、トランスファモールドに
より封止樹脂で半導体集積回路を封止するためのリード
フレーム、半導体集積回路搭載用基板及び半導体装置並
びにそれらの製造方法に関するものである。この明細書
に於いて、「予備成型封止樹脂」とはモールド金型への
注入前の樹脂を意味し、「封止樹脂」とは注入後の、成
型の完了した樹脂を意味する。
【0002】
【従来の技術】モールド金型を用い封止樹脂により集積
回路等の半導体素子を封止するためのリードフレームは
広く知られている。このようなリードフレームは、導電
性の金属シート材料から、開口を有する導電性のフレー
ム部と、開口内に吊りピンにより支持されて、半導体素
子をその上に搭載するための導電性のアイランド部と、
フレーム部からアイランド部に向かって延びた多数のリ
ード部とを切り出したものである。リード部は、フレー
ム部からアイランド部に向かって延びてアイランド部か
ら離間した内端を有し、互いに離間して間に空間を有す
る複数の導電性のリード部であって、封止樹脂により封
止されるべきインナーリード部と、封止樹脂の外表面か
ら外部に突出すべきアウターリード部と、インナーリー
ド部とアウターリード部との境界とを有している。リー
ドフレームは更に、封止樹脂の外表面から僅かに外側の
位置で、リード部間に延びてリード部を互いに一体に接
続するタイバーを備え、リードフレームのリード部の位
置を適切に保ち、リード部が折れたり曲がったりしない
ようにしてある。このタイバーはまた、リードフレーム
にモールド金型を適用したときに金型間に挟まれたリー
ド部間に形成される空間に、モールド樹脂が流れるのを
妨げるダム状の障害物を形成し、トランスファモールド
の際にモールド樹脂がモールド金型の成型空洞から外部
に漏れはみ出さないようにようにする作用もし、この意
味でタイバーはダムバーとも呼ばれている。
回路等の半導体素子を封止するためのリードフレームは
広く知られている。このようなリードフレームは、導電
性の金属シート材料から、開口を有する導電性のフレー
ム部と、開口内に吊りピンにより支持されて、半導体素
子をその上に搭載するための導電性のアイランド部と、
フレーム部からアイランド部に向かって延びた多数のリ
ード部とを切り出したものである。リード部は、フレー
ム部からアイランド部に向かって延びてアイランド部か
ら離間した内端を有し、互いに離間して間に空間を有す
る複数の導電性のリード部であって、封止樹脂により封
止されるべきインナーリード部と、封止樹脂の外表面か
ら外部に突出すべきアウターリード部と、インナーリー
ド部とアウターリード部との境界とを有している。リー
ドフレームは更に、封止樹脂の外表面から僅かに外側の
位置で、リード部間に延びてリード部を互いに一体に接
続するタイバーを備え、リードフレームのリード部の位
置を適切に保ち、リード部が折れたり曲がったりしない
ようにしてある。このタイバーはまた、リードフレーム
にモールド金型を適用したときに金型間に挟まれたリー
ド部間に形成される空間に、モールド樹脂が流れるのを
妨げるダム状の障害物を形成し、トランスファモールド
の際にモールド樹脂がモールド金型の成型空洞から外部
に漏れはみ出さないようにようにする作用もし、この意
味でタイバーはダムバーとも呼ばれている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このようなタイバー
は、半導体素子の封止樹脂によるトランスファモールド
後は適当な打ち抜き金型によりリード部から取り除いて
各リード部が電気的に独立するようにしなければならな
い。しかしながら、打ち抜き金型により打ち抜ける微細
なパターンには限度があり、例えばリードピッチが0.
3mm乃至0.5mmのファインピッチリードのリード
フレームを用いたパッケージは製造ができなかった。
は、半導体素子の封止樹脂によるトランスファモールド
後は適当な打ち抜き金型によりリード部から取り除いて
各リード部が電気的に独立するようにしなければならな
い。しかしながら、打ち抜き金型により打ち抜ける微細
なパターンには限度があり、例えばリードピッチが0.
3mm乃至0.5mmのファインピッチリードのリード
フレームを用いたパッケージは製造ができなかった。
【0004】また、パッケージの完成後に導電性のタイ
バーを完全に取り去る必要があるために、タイバーはモ
ールド樹脂の端面から離れて外側に設けられている。従
ってリードとリードとの間かつタイバーとモールド樹脂
端面との間にモールド樹脂材料が入り込んでしまい、バ
リが形成される。このバリは多数のリード間空間に形成
されるものであるが、空間のうち或るものには形成さ
れ、別の或るものには形成されないという不規則かつ不
安定な現れ方をし、完成した半導体装置の外観が極めて
悪くなり商品価値を下げるものである。このため半導体
装置の製造工程にはバリ取り工程がふくまれている。
バーを完全に取り去る必要があるために、タイバーはモ
ールド樹脂の端面から離れて外側に設けられている。従
ってリードとリードとの間かつタイバーとモールド樹脂
端面との間にモールド樹脂材料が入り込んでしまい、バ
リが形成される。このバリは多数のリード間空間に形成
されるものであるが、空間のうち或るものには形成さ
れ、別の或るものには形成されないという不規則かつ不
安定な現れ方をし、完成した半導体装置の外観が極めて
悪くなり商品価値を下げるものである。このため半導体
装置の製造工程にはバリ取り工程がふくまれている。
【0005】従って、この出願の発明の目的は、半導体
装置の製造中はリードを所定位置に保持でき、トランス
ファモールド中にモールド金型からのモールド樹脂の流
出を防ぐことができ、トランスファモールド後にダムバ
ーを取り去る必要を無くしたリードフレームを提供する
ことである。
装置の製造中はリードを所定位置に保持でき、トランス
ファモールド中にモールド金型からのモールド樹脂の流
出を防ぐことができ、トランスファモールド後にダムバ
ーを取り去る必要を無くしたリードフレームを提供する
ことである。
【0006】この出願の別の発明の目的は、半導体装置
の製造中はリードを所定位置に保持でき、モールド金型
からのモールド樹脂の流出を防ぐことができ、トランス
ファモールド後にダムバーを取り去る必要を無くした半
導体集積回路搭載用基板を提供することである。
の製造中はリードを所定位置に保持でき、モールド金型
からのモールド樹脂の流出を防ぐことができ、トランス
ファモールド後にダムバーを取り去る必要を無くした半
導体集積回路搭載用基板を提供することである。
【0007】この出願の更に別の発明の目的は、半導体
装置の製造中はリードを所定位置に保持でき、モールド
金型からのモールド樹脂の流出を防ぐことができ、トラ
ンスファモールド後にダムバーを取り去る必要を無くし
た半導体装置を提供することである。
装置の製造中はリードを所定位置に保持でき、モールド
金型からのモールド樹脂の流出を防ぐことができ、トラ
ンスファモールド後にダムバーを取り去る必要を無くし
た半導体装置を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】この出願の請求項1記載
の発明によれば、モールド金型を用い封止樹脂により半
導体集積回路を封止するためのリードフレームは、開口
を有する導電性のフレーム部と、開口内に設けられ、半
導体集積回路をその上に搭載するための導電性のアイラ
ンド部と、アイランド部とフレーム部との間に接続され
て、アイランド部をフレーム部に対して所定位置に支持
する吊りピン部とを備えている。リードフレームはま
た、フレーム部に接続された外端及びフレーム部からア
イランド部に向かって延びてアイランド部から離間した
内端を有し、互いに離間して間に空間を有する複数の導
電性のリード部であって、封止樹脂により封止されるべ
きインナーリード部、封止樹脂の外表面から外部に突出
すべきアウターリード部及びインナーリード部とアウタ
ーリード部との境界を有するリード部を備えている。こ
の発明のリードフレームは更に、すくなくとも封止樹脂
の外表面に対応する位置で、リード部間に延び、少なく
ともリード部の厚さと同じ厚さを有する電気絶縁性かつ
耐熱性の樹脂の橋絡部材とを備え、モールド時にリード
フレームにモールド金型を適用したとき、リード部間の
空間がこの橋絡部材により密閉されるようにしてある。
の発明によれば、モールド金型を用い封止樹脂により半
導体集積回路を封止するためのリードフレームは、開口
を有する導電性のフレーム部と、開口内に設けられ、半
導体集積回路をその上に搭載するための導電性のアイラ
ンド部と、アイランド部とフレーム部との間に接続され
て、アイランド部をフレーム部に対して所定位置に支持
する吊りピン部とを備えている。リードフレームはま
た、フレーム部に接続された外端及びフレーム部からア
イランド部に向かって延びてアイランド部から離間した
内端を有し、互いに離間して間に空間を有する複数の導
電性のリード部であって、封止樹脂により封止されるべ
きインナーリード部、封止樹脂の外表面から外部に突出
すべきアウターリード部及びインナーリード部とアウタ
ーリード部との境界を有するリード部を備えている。こ
の発明のリードフレームは更に、すくなくとも封止樹脂
の外表面に対応する位置で、リード部間に延び、少なく
ともリード部の厚さと同じ厚さを有する電気絶縁性かつ
耐熱性の樹脂の橋絡部材とを備え、モールド時にリード
フレームにモールド金型を適用したとき、リード部間の
空間がこの橋絡部材により密閉されるようにしてある。
【0009】この出願の請求項7記載の発明によれば、
モールド金型を用い封止樹脂により半導体集積回路を実
装するためのリードフレームは、開口を有する導電性の
フレーム部と、フレーム部に接続された外端及びフレー
ム部から内方に向かって延び、互いに離間して内端面で
開口部を形成する内端を有し、互いに離間した複数の導
電性のリード部であって、封止樹脂により封止されるイ
ンナーリード部、封止樹脂の外表面から外部に突出する
アウターリード部及びインナーリード部とアウターリー
ド部との境界を有するリード部とを備えている。リード
フレームは更に、封止樹脂の外表面に対応する位置を含
み、それより内側の領域の全体に亙ってリード部間に延
び、半導体集積回路をその上に搭載するための搭載部を
有し、少なくともリード部の厚さと同じ厚さを有する電
気絶縁性かつ耐熱性の樹脂橋絡部材を備え、リードフレ
ームにモールド金型を適用したとき、リード部間の空間
が橋絡部材により密閉されるようにしてある。
モールド金型を用い封止樹脂により半導体集積回路を実
装するためのリードフレームは、開口を有する導電性の
フレーム部と、フレーム部に接続された外端及びフレー
ム部から内方に向かって延び、互いに離間して内端面で
開口部を形成する内端を有し、互いに離間した複数の導
電性のリード部であって、封止樹脂により封止されるイ
ンナーリード部、封止樹脂の外表面から外部に突出する
アウターリード部及びインナーリード部とアウターリー
ド部との境界を有するリード部とを備えている。リード
フレームは更に、封止樹脂の外表面に対応する位置を含
み、それより内側の領域の全体に亙ってリード部間に延
び、半導体集積回路をその上に搭載するための搭載部を
有し、少なくともリード部の厚さと同じ厚さを有する電
気絶縁性かつ耐熱性の樹脂橋絡部材を備え、リードフレ
ームにモールド金型を適用したとき、リード部間の空間
が橋絡部材により密閉されるようにしてある。
【0010】この出願の請求項8記載の発明によれば、
モールド金型を用い封止樹脂により半導体集積回路を実
装するための半導体集積回路搭載用基板は、開口を有す
る導電性のフレーム部と、開口内に設けられて回路導体
を有し、半導体集積回路をその上に搭載するための電気
絶縁性の基板と、フレーム部に接続された外端及びフレ
ーム部から基板に向かって延びて基板に入込んで固着さ
れ、半導体集積回路に電気的に接続された内端を有し、
樹脂により封止されるべきインナーリード部、封止樹脂
の外表面から外部に突出すべきアウターリード部及びイ
ンナーリード部とアウターリード部との境界を有する複
数の導電性のリード部とを備えている。この半導体集積
回路搭載用基板には更に、基板の外周からすくなくとも
封止樹脂の外表面に対応する位置までの間に亙って、リ
ード部間に延び、少なくともリード部の厚さと同じ厚さ
を有する電気絶縁性かつ耐熱性樹脂の橋絡部材が設けら
れ、リードフレームにモールド金型を適用したとき、リ
ード部間の空間がこの橋絡部材により密閉されるように
してある。
モールド金型を用い封止樹脂により半導体集積回路を実
装するための半導体集積回路搭載用基板は、開口を有す
る導電性のフレーム部と、開口内に設けられて回路導体
を有し、半導体集積回路をその上に搭載するための電気
絶縁性の基板と、フレーム部に接続された外端及びフレ
ーム部から基板に向かって延びて基板に入込んで固着さ
れ、半導体集積回路に電気的に接続された内端を有し、
樹脂により封止されるべきインナーリード部、封止樹脂
の外表面から外部に突出すべきアウターリード部及びイ
ンナーリード部とアウターリード部との境界を有する複
数の導電性のリード部とを備えている。この半導体集積
回路搭載用基板には更に、基板の外周からすくなくとも
封止樹脂の外表面に対応する位置までの間に亙って、リ
ード部間に延び、少なくともリード部の厚さと同じ厚さ
を有する電気絶縁性かつ耐熱性樹脂の橋絡部材が設けら
れ、リードフレームにモールド金型を適用したとき、リ
ード部間の空間がこの橋絡部材により密閉されるように
してある。
【0011】この出願の請求項9記載の発明によれば、
半導体装置は、半導体集積回路をその上に搭載するため
の導電性のアイランドと、アイランド上に搭載された半
導体集積回路と、アイランド部から離間した内端を有し
外方に向かって延び、互いに離間して間に空間を有する
複数の導電性のリードと、半導体集積回路とリードの内
端とを電気的に接続する導電性ワイヤと、アイランド、
半導体集積回路、リード及び導電性ワイヤを封止する封
止樹脂であって、リードを、封止樹脂により封止された
インナーリード部、封止樹脂の外表面から外部に突出し
たアウターリード部に境界により区画する封止樹脂と、
少なくとも封止樹脂の外表面に対応する位置で、リード
間に設けられ、少なくともリードの厚さと同じ厚さを有
する電気絶縁性かつ耐熱性樹脂の橋絡部材とを備えてい
る。
半導体装置は、半導体集積回路をその上に搭載するため
の導電性のアイランドと、アイランド上に搭載された半
導体集積回路と、アイランド部から離間した内端を有し
外方に向かって延び、互いに離間して間に空間を有する
複数の導電性のリードと、半導体集積回路とリードの内
端とを電気的に接続する導電性ワイヤと、アイランド、
半導体集積回路、リード及び導電性ワイヤを封止する封
止樹脂であって、リードを、封止樹脂により封止された
インナーリード部、封止樹脂の外表面から外部に突出し
たアウターリード部に境界により区画する封止樹脂と、
少なくとも封止樹脂の外表面に対応する位置で、リード
間に設けられ、少なくともリードの厚さと同じ厚さを有
する電気絶縁性かつ耐熱性樹脂の橋絡部材とを備えてい
る。
【0012】この出願の請求項16記載の発明によれば
半導体装置は、半導体集積回路に近接した内端を有し外
方に向かって延び、導電性ワイヤで半導体集積回路に接
続された導電性のリードと、半導体集積回路をリード及
び導電性ワイヤと共に封止する封止樹脂を備え、更に封
止樹脂の外表面に対応する位置を含みそれより内側の領
域の全体に亙ってリード間に、少なくともリードの厚さ
と同じ厚さを有する電気絶縁性の板状橋絡部材が設けら
れている。
半導体装置は、半導体集積回路に近接した内端を有し外
方に向かって延び、導電性ワイヤで半導体集積回路に接
続された導電性のリードと、半導体集積回路をリード及
び導電性ワイヤと共に封止する封止樹脂を備え、更に封
止樹脂の外表面に対応する位置を含みそれより内側の領
域の全体に亙ってリード間に、少なくともリードの厚さ
と同じ厚さを有する電気絶縁性の板状橋絡部材が設けら
れている。
【0013】また、この出願の請求項19記載のリード
フレームの製造方法によれば、先ず、開口を有する導電
性のフレーム部と、開口内に設けられ、半導体集積回路
搭載用の導電性アイランド部と、アイランド部をフレー
ム部に支持する吊りピンと、フレーム部に接続された外
端及びフレーム部からアイランド部に向かって延びてア
イランド部から離間した内端を有し、互いに離間して間
に空間を有する複数の導電性のリード部とを備えたフレ
ームシートを用意する。これらリード部は、封止樹脂に
より封止されるべきインナーリード部と、封止樹脂の外
表面から外部に突出すべきアウターリード部と、これら
リード部間の境界とを有している。リード部上のすくな
くとも封止樹脂の外表面に対応する位置には、リード部
間の境界に跨った領域を除いて、第1マスク材料層を設
け、加熱加圧して境界に跨った領域を除いてリード部間
に流動充填させて、リード部間の境界に跨った領域に電
気絶縁性かつ耐熱性の樹脂を充填して加熱硬化させる。
次に第1マスク材料を取り除いて、境界に跨った領域で
リード部間に少なくともリード部の厚さと同じ厚さを有
する電気絶縁性かつ耐熱性の樹脂の橋絡部材が形成され
る。
フレームの製造方法によれば、先ず、開口を有する導電
性のフレーム部と、開口内に設けられ、半導体集積回路
搭載用の導電性アイランド部と、アイランド部をフレー
ム部に支持する吊りピンと、フレーム部に接続された外
端及びフレーム部からアイランド部に向かって延びてア
イランド部から離間した内端を有し、互いに離間して間
に空間を有する複数の導電性のリード部とを備えたフレ
ームシートを用意する。これらリード部は、封止樹脂に
より封止されるべきインナーリード部と、封止樹脂の外
表面から外部に突出すべきアウターリード部と、これら
リード部間の境界とを有している。リード部上のすくな
くとも封止樹脂の外表面に対応する位置には、リード部
間の境界に跨った領域を除いて、第1マスク材料層を設
け、加熱加圧して境界に跨った領域を除いてリード部間
に流動充填させて、リード部間の境界に跨った領域に電
気絶縁性かつ耐熱性の樹脂を充填して加熱硬化させる。
次に第1マスク材料を取り除いて、境界に跨った領域で
リード部間に少なくともリード部の厚さと同じ厚さを有
する電気絶縁性かつ耐熱性の樹脂の橋絡部材が形成され
る。
【0014】この出願の請求項22記載の発明によれ
ば、半導体集積回路搭載用基板の製造方法は、開口を有
する導電性のフレーム部と、フレーム部に接続された外
端及びフレーム部から基板に向かって延びて基板に入り
込んで固着され、基板の回路導体に電気的に接続される
内端を有し、封止樹脂により封止されるべきインナーリ
ード部、封止樹脂の外表面から外部に突出すべきアウタ
ーリード部及びインナーリード部とアウターリード部と
の境界を有する複数の導電性のリード部とを備えたフレ
ームシートを用意し、リード部上の少なくとも封止樹脂
の外表面に対応する境界位置よりも外側の領域に第1マ
スク材料層を設け、第1マスク材料を加熱加圧して境界
の外側の領域でリード部間に流動させて充填し、リード
部間の第1マスク材料及びリード部上の位置であって、
基板を形成すべき位置よりも外側の領域に第2マスク材
料層を設け、第2マスク材料層を含めてフレームシート
上に電気絶縁性の樹脂基板材料層を形成し、基板材料層
上にリード部の内端に電気的に接続された導電性回路を
形成し、リード部のアウターリード部上の基板材料層を
第2マスク材料と共に取り除き、第1マスク材料を取り
除き、もって封止樹脂の外表面に対応する位置を含みそ
れより内側の領域全体に亙ってリード部間に延び、少な
くともリード部の厚さと同じ厚さを有する電気絶縁性か
つ耐熱性の樹脂の橋絡部材を形成する。
ば、半導体集積回路搭載用基板の製造方法は、開口を有
する導電性のフレーム部と、フレーム部に接続された外
端及びフレーム部から基板に向かって延びて基板に入り
込んで固着され、基板の回路導体に電気的に接続される
内端を有し、封止樹脂により封止されるべきインナーリ
ード部、封止樹脂の外表面から外部に突出すべきアウタ
ーリード部及びインナーリード部とアウターリード部と
の境界を有する複数の導電性のリード部とを備えたフレ
ームシートを用意し、リード部上の少なくとも封止樹脂
の外表面に対応する境界位置よりも外側の領域に第1マ
スク材料層を設け、第1マスク材料を加熱加圧して境界
の外側の領域でリード部間に流動させて充填し、リード
部間の第1マスク材料及びリード部上の位置であって、
基板を形成すべき位置よりも外側の領域に第2マスク材
料層を設け、第2マスク材料層を含めてフレームシート
上に電気絶縁性の樹脂基板材料層を形成し、基板材料層
上にリード部の内端に電気的に接続された導電性回路を
形成し、リード部のアウターリード部上の基板材料層を
第2マスク材料と共に取り除き、第1マスク材料を取り
除き、もって封止樹脂の外表面に対応する位置を含みそ
れより内側の領域全体に亙ってリード部間に延び、少な
くともリード部の厚さと同じ厚さを有する電気絶縁性か
つ耐熱性の樹脂の橋絡部材を形成する。
【0015】この出願の請求項23、24および25記
載の発明によれば、半導体装置の製造方法は、上述の如
くリードフレームあるいは半導体集積回路搭載用基板を
用意し、半導体集積回路を搭載して半導体集積回路とリ
ード部の内端とを導電性ワイヤで電気的に接続し、モー
ルド金型によりリード部を間に挟んで、成型空洞をリー
ド部間の橋絡部材により密閉し、橋絡部材の少なくとも
一部を金型成型空洞内に収容し、トランスファモールド
により半導体集積回路を封止樹脂で封止し、フレーム部
をリード部から切り離す工程を備えている。
載の発明によれば、半導体装置の製造方法は、上述の如
くリードフレームあるいは半導体集積回路搭載用基板を
用意し、半導体集積回路を搭載して半導体集積回路とリ
ード部の内端とを導電性ワイヤで電気的に接続し、モー
ルド金型によりリード部を間に挟んで、成型空洞をリー
ド部間の橋絡部材により密閉し、橋絡部材の少なくとも
一部を金型成型空洞内に収容し、トランスファモールド
により半導体集積回路を封止樹脂で封止し、フレーム部
をリード部から切り離す工程を備えている。
【0016】
【作用】この発明のリードフレームによれば、すくなく
とも封止樹脂の外表面に対応する位置でリード部間に延
び、少なくともリード部の厚さと同じ厚さを有する電気
絶縁性かつ耐熱性の樹脂の橋絡部材を備えているため、
リードフレームにモールド金型を適用したとき、リード
部間の空間がこの橋絡部材により密閉され、モールド金
型の成型空洞からモールド樹脂材料が漏れ出ることがな
い。また、このような橋絡部材は、絶縁性であるので半
導体集積回路の封止樹脂によるトランスファモールド後
にも打ち抜き金型等によりリードから取り除く必要がな
く、例えばリードピッチが0.3mm乃至0.5mmのフ
ァインピッチリードのリードフレームも容易に実現でき
る。
とも封止樹脂の外表面に対応する位置でリード部間に延
び、少なくともリード部の厚さと同じ厚さを有する電気
絶縁性かつ耐熱性の樹脂の橋絡部材を備えているため、
リードフレームにモールド金型を適用したとき、リード
部間の空間がこの橋絡部材により密閉され、モールド金
型の成型空洞からモールド樹脂材料が漏れ出ることがな
い。また、このような橋絡部材は、絶縁性であるので半
導体集積回路の封止樹脂によるトランスファモールド後
にも打ち抜き金型等によりリードから取り除く必要がな
く、例えばリードピッチが0.3mm乃至0.5mmのフ
ァインピッチリードのリードフレームも容易に実現でき
る。
【0017】また、リードとリードとの間にはモールド
樹脂材料のバリが形成されることがないので、半導体装
置の製造工程からはバリ取り工程を省くことができる。
樹脂材料のバリが形成されることがないので、半導体装
置の製造工程からはバリ取り工程を省くことができる。
【0018】このように、この出願の発明によれば、半
導体装置の製造中はリードを所定位置に保持でき、モー
ルド金型からのモールド樹脂の流出を防ぐことができ、
トランスファモールド後にダムバーを取り去る必要を無
くすことができる。
導体装置の製造中はリードを所定位置に保持でき、モー
ルド金型からのモールド樹脂の流出を防ぐことができ、
トランスファモールド後にダムバーを取り去る必要を無
くすことができる。
【0019】
【実施例】図1には、モールド金型を用い粉末あるいは
予備成型封止樹脂を熔融し注入流動させて半導体集積回
路を封止し実装するための本発明の実施例のDIP(Du
alIn-line Package)用のリードフレームを示す。図2
には図1のリードフレームを用いて半導体素子を搭載し
た半導体装置を断面図で示している。リードフレーム
は、リードフレーム材料として周知の銅合金あるいは鉄
合金(42アロイ、コバール)等の帯状の導電性金属板
材から打ち抜いて形成したものであって、略々正方形の
フレーム部1が幾つか連続して形成されており、フレー
ム部1の内側には全体的に見て略々正方形の開口2が形
成されている。この開口2の略々中心部には、半導体集
積回路(図2参照)をその上に搭載するための導電性の
アイランド部3が設けられ、このアイランド部3とフレ
ーム部1との間にはアイランド部3をフレーム部1に対
して所定位置に支持する吊りピン部4が設けられてい
る。更に、フレーム部1に一体に接続された外端5及び
フレーム部1からアイランド部3に向かって延びている
がアイランド部3から離間した内端6を有し、互いに離
間して間に空間7を有する複数の導電性のリード部8が
設けられている。リード部8は、トランスファモールド
された時に成型後の封止樹脂9(図2参照)の外側面1
0の内側に位置して封止樹脂9により封止されるインナ
ーリード部11と、封止樹脂9の外表面10から外部に
突出するアウターリード部12と、インナーリード部1
1とアウターリード部12との間の境界13とを有して
いる。
予備成型封止樹脂を熔融し注入流動させて半導体集積回
路を封止し実装するための本発明の実施例のDIP(Du
alIn-line Package)用のリードフレームを示す。図2
には図1のリードフレームを用いて半導体素子を搭載し
た半導体装置を断面図で示している。リードフレーム
は、リードフレーム材料として周知の銅合金あるいは鉄
合金(42アロイ、コバール)等の帯状の導電性金属板
材から打ち抜いて形成したものであって、略々正方形の
フレーム部1が幾つか連続して形成されており、フレー
ム部1の内側には全体的に見て略々正方形の開口2が形
成されている。この開口2の略々中心部には、半導体集
積回路(図2参照)をその上に搭載するための導電性の
アイランド部3が設けられ、このアイランド部3とフレ
ーム部1との間にはアイランド部3をフレーム部1に対
して所定位置に支持する吊りピン部4が設けられてい
る。更に、フレーム部1に一体に接続された外端5及び
フレーム部1からアイランド部3に向かって延びている
がアイランド部3から離間した内端6を有し、互いに離
間して間に空間7を有する複数の導電性のリード部8が
設けられている。リード部8は、トランスファモールド
された時に成型後の封止樹脂9(図2参照)の外側面1
0の内側に位置して封止樹脂9により封止されるインナ
ーリード部11と、封止樹脂9の外表面10から外部に
突出するアウターリード部12と、インナーリード部1
1とアウターリード部12との間の境界13とを有して
いる。
【0020】本発明のリードフレームは更に、すくなく
とも封止樹脂9の外表面10に対応する位置、即ち境界
13の位置で、リード部8間に固着されてリード部8間
に延び、少なくともリード部8の厚さと同じ厚さを有す
る橋絡部材14を備えている。橋絡部材14は、リード
部8を互いに結合してそれらの位置を維持させると共
に、トランスファモールドのためにリードフレームにモ
ールド金型(図示してない)を適用してリード部8を金
型で挟んだ場合に、リード部8間の空間7が橋絡部材1
4により密閉されて、モールド金型の成型空洞から注入
された封止樹脂がこの空間7を通って外部に漏出しない
ようにするものである。橋絡部材14は、電気絶縁性か
つ耐熱性であり、封止樹脂の注入圧力に耐える強度を有
する樹脂で形成される。このような樹脂は例えば、ビス
マレイミド・トリアジン樹脂、ポリイミド樹脂、エポキ
シ樹脂、テトラフルオロエチレンで良く、またこれら樹
脂に無機フィラーを混入させたものでも良い。トランス
ファモールドに用いる樹脂と同じエポキシ樹脂を用いる
こともできる。更に、後に説明する電気絶縁性の基板と
リードフレームとを組み合わせた半導体集積回路搭載用
基板に用いる場合には、基板に用いる樹脂と同じものと
することもできる。橋絡部材14の幅寸法は、図示の例
では、境界13にちょうど跨って延びるのにだけ充分
な、即ち境界13の両側に僅かに延びる大きさであり、
この幅寸法は0.2乃至0.5mmである。橋絡部材1
4の厚さは、図示の例では、リード部8と等しいので、
従来のタイバーを有するリードフレームに用いるモール
ド金型がそのまま使用できる。リード部8の無い側、即
ち図1の上下にあって水平方向に延びるフレーム部1に
沿った部分にも橋絡部材14がフレーム部1に沿って設
けられているので、この部分には封止樹脂のバリができ
ないが、橋絡部材14が封止樹脂の側面にフランジ状に
突出することになる。この突出部分は必要があれば吊り
ピン4と共にパンチング等により容易に除去することが
できる。
とも封止樹脂9の外表面10に対応する位置、即ち境界
13の位置で、リード部8間に固着されてリード部8間
に延び、少なくともリード部8の厚さと同じ厚さを有す
る橋絡部材14を備えている。橋絡部材14は、リード
部8を互いに結合してそれらの位置を維持させると共
に、トランスファモールドのためにリードフレームにモ
ールド金型(図示してない)を適用してリード部8を金
型で挟んだ場合に、リード部8間の空間7が橋絡部材1
4により密閉されて、モールド金型の成型空洞から注入
された封止樹脂がこの空間7を通って外部に漏出しない
ようにするものである。橋絡部材14は、電気絶縁性か
つ耐熱性であり、封止樹脂の注入圧力に耐える強度を有
する樹脂で形成される。このような樹脂は例えば、ビス
マレイミド・トリアジン樹脂、ポリイミド樹脂、エポキ
シ樹脂、テトラフルオロエチレンで良く、またこれら樹
脂に無機フィラーを混入させたものでも良い。トランス
ファモールドに用いる樹脂と同じエポキシ樹脂を用いる
こともできる。更に、後に説明する電気絶縁性の基板と
リードフレームとを組み合わせた半導体集積回路搭載用
基板に用いる場合には、基板に用いる樹脂と同じものと
することもできる。橋絡部材14の幅寸法は、図示の例
では、境界13にちょうど跨って延びるのにだけ充分
な、即ち境界13の両側に僅かに延びる大きさであり、
この幅寸法は0.2乃至0.5mmである。橋絡部材1
4の厚さは、図示の例では、リード部8と等しいので、
従来のタイバーを有するリードフレームに用いるモール
ド金型がそのまま使用できる。リード部8の無い側、即
ち図1の上下にあって水平方向に延びるフレーム部1に
沿った部分にも橋絡部材14がフレーム部1に沿って設
けられているので、この部分には封止樹脂のバリができ
ないが、橋絡部材14が封止樹脂の側面にフランジ状に
突出することになる。この突出部分は必要があれば吊り
ピン4と共にパンチング等により容易に除去することが
できる。
【0021】図2に示す半導体装置は、図1のリードフ
レームのアイランド部3上に半導体集積回路15を固着
し、これとインナーリード部11とをボンディングワイ
ヤ16で接続し、封止樹脂9で封止して実装したもので
ある。
レームのアイランド部3上に半導体集積回路15を固着
し、これとインナーリード部11とをボンディングワイ
ヤ16で接続し、封止樹脂9で封止して実装したもので
ある。
【0022】図3および図4には、橋絡部材17がリー
ド18よりも約0.005mm乃至約0.010mm厚
くなっていて、橋絡部材17の上下の表面がそれぞれ連
続していて、橋絡部材17をリード18が貫通して延び
た関係にある半導体装置の例を示す。このような場合に
は、金型の成型空洞の高さを決定する際には橋絡部材1
7の厚さを考慮する必要がある。橋絡部材17は更に、
リード18のアウターリード12に沿って境界13から
外方に比較的大きな所定距離だけ延ばされていて、アウ
ターリード12がその部分について補強されている。こ
の場合、橋絡部材17の幅寸法は1mm乃至2mmであ
る。この実施例では、リード18の曲がり(バタツキ)
に対する抵抗が大きくなり、リード18に沿った水分の
侵入径路が長くなるので耐湿性が大きくなるという効果
もある。
ド18よりも約0.005mm乃至約0.010mm厚
くなっていて、橋絡部材17の上下の表面がそれぞれ連
続していて、橋絡部材17をリード18が貫通して延び
た関係にある半導体装置の例を示す。このような場合に
は、金型の成型空洞の高さを決定する際には橋絡部材1
7の厚さを考慮する必要がある。橋絡部材17は更に、
リード18のアウターリード12に沿って境界13から
外方に比較的大きな所定距離だけ延ばされていて、アウ
ターリード12がその部分について補強されている。こ
の場合、橋絡部材17の幅寸法は1mm乃至2mmであ
る。この実施例では、リード18の曲がり(バタツキ)
に対する抵抗が大きくなり、リード18に沿った水分の
侵入径路が長くなるので耐湿性が大きくなるという効果
もある。
【0023】図5および図6に示す実施例は、本発明を
QFP(Quad Flat L-Leaded Package)用リードフレー
ムに適用した例であり、それぞれ複数のリードフレーム
を有するフレームシートの平面図およびこのリードフレ
ームを用いて製造した半導体装置の断面図である。図5
のリードフレームと図1のリードフレームとの主な相異
点は、図5のリードフレームでは略々正方形のアイラン
ド部の4つの辺の総てに沿ってリード部が設けられてお
り、リード部を結合する橋絡部材が正方形の総ての辺に
沿ってアイランド部の周囲でリード部に設けられている
ことである。
QFP(Quad Flat L-Leaded Package)用リードフレー
ムに適用した例であり、それぞれ複数のリードフレーム
を有するフレームシートの平面図およびこのリードフレ
ームを用いて製造した半導体装置の断面図である。図5
のリードフレームと図1のリードフレームとの主な相異
点は、図5のリードフレームでは略々正方形のアイラン
ド部の4つの辺の総てに沿ってリード部が設けられてお
り、リード部を結合する橋絡部材が正方形の総ての辺に
沿ってアイランド部の周囲でリード部に設けられている
ことである。
【0024】即ち、リードフレームは、開口22を有す
る導電性のフレーム部21と、半導体集積回路(図6)
を搭載するための導電性のアイランド部23と、アイラ
ンド部23をフレーム部21に対して支持する吊りピン
部24と、フレーム部21に接続された外端25及びフ
レーム部21からアイランド部23に向かって延びてア
イランド部23から離間した内端26を有し、互いに離
間して間に空間27を有する複数の導電性のリード部2
8とを備えている。リード部28は、封止樹脂29(図
6)により封止されるべきインナーリード部31と、封
止樹脂29の外表面30から外部に突出すべきアウター
リード部32とを備え、インナーリード部31とアウタ
ーリード部32とは境界33により区画される。リード
部28上の封止樹脂29の外表面30に対応する位置、
即ち境界33に跨った位置に於いて、リード部28上で
アイランド部23を囲むように延びた橋絡部材34が設
けられている。橋絡部材34の厚さは、リード部28の
厚さよりも例えば0.010〜0.005mmだけ厚く
なっている。勿論、橋絡部材34を研磨して厚さをリー
ド部28と同じ厚さにすることもできる。
る導電性のフレーム部21と、半導体集積回路(図6)
を搭載するための導電性のアイランド部23と、アイラ
ンド部23をフレーム部21に対して支持する吊りピン
部24と、フレーム部21に接続された外端25及びフ
レーム部21からアイランド部23に向かって延びてア
イランド部23から離間した内端26を有し、互いに離
間して間に空間27を有する複数の導電性のリード部2
8とを備えている。リード部28は、封止樹脂29(図
6)により封止されるべきインナーリード部31と、封
止樹脂29の外表面30から外部に突出すべきアウター
リード部32とを備え、インナーリード部31とアウタ
ーリード部32とは境界33により区画される。リード
部28上の封止樹脂29の外表面30に対応する位置、
即ち境界33に跨った位置に於いて、リード部28上で
アイランド部23を囲むように延びた橋絡部材34が設
けられている。橋絡部材34の厚さは、リード部28の
厚さよりも例えば0.010〜0.005mmだけ厚く
なっている。勿論、橋絡部材34を研磨して厚さをリー
ド部28と同じ厚さにすることもできる。
【0025】図7乃至図12は、一例として図5に示す
QFPリードフレームの製造方法及び図6に示す半導体
装置の製造方法を概略的に示すものである。まず、図7
及び図8に示す如く、リードフレーム22を複数個形成
したフレームシートをパンチング等の周知の方法で用意
する。リードフレーム22は、図5に示すリードフレー
ムに比較して橋絡部材34が設けられていないことだけ
が相異するが、その他の点では同じ構造である。即ち、
リードフレームは、開口20を有するフレーム部21
と、導電性のアイランド部23と、吊りピン部24と、
フレーム部21に接続されて互いに離間して間に空間2
7を有する複数の導電性のリード部28とを備え、リー
ド部28は、封止樹脂29(図6)により封止されるべ
きインナーリード部31と、封止樹脂29の外表面30
から外部に突出すべきアウターリード部32と、インナ
ーリード部31とアウターリード部32とを区画する境
界33を有している。
QFPリードフレームの製造方法及び図6に示す半導体
装置の製造方法を概略的に示すものである。まず、図7
及び図8に示す如く、リードフレーム22を複数個形成
したフレームシートをパンチング等の周知の方法で用意
する。リードフレーム22は、図5に示すリードフレー
ムに比較して橋絡部材34が設けられていないことだけ
が相異するが、その他の点では同じ構造である。即ち、
リードフレームは、開口20を有するフレーム部21
と、導電性のアイランド部23と、吊りピン部24と、
フレーム部21に接続されて互いに離間して間に空間2
7を有する複数の導電性のリード部28とを備え、リー
ド部28は、封止樹脂29(図6)により封止されるべ
きインナーリード部31と、封止樹脂29の外表面30
から外部に突出すべきアウターリード部32と、インナ
ーリード部31とアウターリード部32とを区画する境
界33を有している。
【0026】次に図9に示す如く、リード部28上の少
なくとも封止樹脂29の外表面30に対応する位置にあ
りかつ境界33に跨った領域35を除いてリードフレー
ム全体に第1マスク材料層36を設ける。第1マスク材
料層36は、溶剤や薬品(酸、アルカリ)等に容易に溶
解し、リード部28間に侵入できる程度の熱可塑性を有
する樹脂であり、例えば、ポリカーボネート、ポリサル
フォン、ポリフェニレンオキシド等で良い。これらの樹
脂は塩化メチレン等の塩素系溶剤に容易に溶解する。第
1マスク材料層36は上述の樹脂材料の厚さ0.03m
m乃至0.05mmのフィルムをリードフレーム上の所
定位置に乗せて形成したものである。
なくとも封止樹脂29の外表面30に対応する位置にあ
りかつ境界33に跨った領域35を除いてリードフレー
ム全体に第1マスク材料層36を設ける。第1マスク材
料層36は、溶剤や薬品(酸、アルカリ)等に容易に溶
解し、リード部28間に侵入できる程度の熱可塑性を有
する樹脂であり、例えば、ポリカーボネート、ポリサル
フォン、ポリフェニレンオキシド等で良い。これらの樹
脂は塩化メチレン等の塩素系溶剤に容易に溶解する。第
1マスク材料層36は上述の樹脂材料の厚さ0.03m
m乃至0.05mmのフィルムをリードフレーム上の所
定位置に乗せて形成したものである。
【0027】次に第1マスク材料層36を加熱しながら
上下から圧力を加えると、リード部28の境界33に跨
った領域35を除いてリード部28間の空間27(図
7)に流動して充填され、図10に示す如き状態となる
ので、これを硬化させれば領域35に間隙37が形成さ
れる。このとき第1マスク材料層36の材料が領域35
内で横方向に僅かにはみ出すので間隙37は領域35よ
りも僅かに小さくなるが、後に明らかになる目的のため
には充分な大きさである。この状態で、リード部28上
の第1マスク材料層36の厚さは0.010〜0.00
5mm、間隙37の幅は0.050mmである。
上下から圧力を加えると、リード部28の境界33に跨
った領域35を除いてリード部28間の空間27(図
7)に流動して充填され、図10に示す如き状態となる
ので、これを硬化させれば領域35に間隙37が形成さ
れる。このとき第1マスク材料層36の材料が領域35
内で横方向に僅かにはみ出すので間隙37は領域35よ
りも僅かに小さくなるが、後に明らかになる目的のため
には充分な大きさである。この状態で、リード部28上
の第1マスク材料層36の厚さは0.010〜0.00
5mm、間隙37の幅は0.050mmである。
【0028】図11には、このように形成された第1マ
スク材料層36上から、リード部28間の境界33に跨
って形成された間隙37に橋絡部材34、即ち電気絶縁
性かつ耐熱性の樹脂を充填して加熱硬化させる工程を示
してある。この工程は、熱硬化性樹脂をスクーン印刷に
より間隙37に充填し、オーブンにより加熱硬化させる
工程である。
スク材料層36上から、リード部28間の境界33に跨
って形成された間隙37に橋絡部材34、即ち電気絶縁
性かつ耐熱性の樹脂を充填して加熱硬化させる工程を示
してある。この工程は、熱硬化性樹脂をスクーン印刷に
より間隙37に充填し、オーブンにより加熱硬化させる
工程である。
【0029】次に、第1マスク材料層36を上述の溶剤
で取り除けば、図12に示す如く境界33に跨った領域
35でリード部28間に橋絡部材34が形成され、この
発明のリードフレーム21(図4も参照)が完成する。
この橋絡部材34の厚さは、リード部28の厚さよりも
第1マスク材料層36の厚さの分だけ(例えば0.01
0〜0.005mm)厚くなっている。このとき橋絡部
材34を研磨して厚さをリード部28と同じ厚さにする
こともできる。
で取り除けば、図12に示す如く境界33に跨った領域
35でリード部28間に橋絡部材34が形成され、この
発明のリードフレーム21(図4も参照)が完成する。
この橋絡部材34の厚さは、リード部28の厚さよりも
第1マスク材料層36の厚さの分だけ(例えば0.01
0〜0.005mm)厚くなっている。このとき橋絡部
材34を研磨して厚さをリード部28と同じ厚さにする
こともできる。
【0030】図13には、このようにして製造された本
発明のリードフレームを成型空洞38を有するモールド
金型39および40の間に挟んでトランスファモールド
をした状態を示してある。図13から明らかな如く、上
下の金型39および40の橋絡部材34に接触する部
分、即ちインナーリード部31とアウターリード部32
との境界33に対応する角部41は、橋絡部材34に連
続的に密着し、橋絡部材34に沿って成型空洞38を囲
んでおり、リード部28の間にもトランスファモールド
樹脂が漏れだすような間隙は形成されていない。リード
フレームのアイランド部23上には半導体素子即ち半導
体集積回路15が固着され、リード部28と導電性ワイ
ヤ16により電気的に接続されている。モールド金型3
9及び40により形成された成型空洞40は、封止樹脂
29により充填されていて、半導体素子15、リード部
28、導電性ワイヤ16及び橋絡部材34の一部が樹脂
29により気密封止され、半導体装置がモールド金型3
8および39内に完成している。
発明のリードフレームを成型空洞38を有するモールド
金型39および40の間に挟んでトランスファモールド
をした状態を示してある。図13から明らかな如く、上
下の金型39および40の橋絡部材34に接触する部
分、即ちインナーリード部31とアウターリード部32
との境界33に対応する角部41は、橋絡部材34に連
続的に密着し、橋絡部材34に沿って成型空洞38を囲
んでおり、リード部28の間にもトランスファモールド
樹脂が漏れだすような間隙は形成されていない。リード
フレームのアイランド部23上には半導体素子即ち半導
体集積回路15が固着され、リード部28と導電性ワイ
ヤ16により電気的に接続されている。モールド金型3
9及び40により形成された成型空洞40は、封止樹脂
29により充填されていて、半導体素子15、リード部
28、導電性ワイヤ16及び橋絡部材34の一部が樹脂
29により気密封止され、半導体装置がモールド金型3
8および39内に完成している。
【0031】図14乃至図21には、橋絡部材が、アイ
ランド部の外周から外方に、リード部の境界を越えた位
置まで連続して延びてなるリードフレームと、そのリー
ドフレームを用いた半導体装置と、それらの製造方法を
示す。
ランド部の外周から外方に、リード部の境界を越えた位
置まで連続して延びてなるリードフレームと、そのリー
ドフレームを用いた半導体装置と、それらの製造方法を
示す。
【0032】まず、図14に示す如く、図7および図8
と同様のリードフレームシートを用意し、これに図15
及び図16に示す如く図9の実施例で用いた第1マスク
材料層36と同じ材料の第1マスク材料層45を同様の
方法で形成する。このとき、第1マスク材料層45は図
9の比較的幅の狭い領域35を除いた全面に設けられて
いるのではなく、リード部28の境界33よりも僅かに
外側の位置から更に外側の部分にだけ設けられている点
で図9に示す先の実施例と相違している。
と同様のリードフレームシートを用意し、これに図15
及び図16に示す如く図9の実施例で用いた第1マスク
材料層36と同じ材料の第1マスク材料層45を同様の
方法で形成する。このとき、第1マスク材料層45は図
9の比較的幅の狭い領域35を除いた全面に設けられて
いるのではなく、リード部28の境界33よりも僅かに
外側の位置から更に外側の部分にだけ設けられている点
で図9に示す先の実施例と相違している。
【0033】次に、図17に示す如く、リード部28間
の空間27(図7参照)も含め第1マスク材料層45、
リード部28およびアイランド部23の全面を、リード
部28とアイランド部23との間のアイランド部23の
外周に沿って延びる空間46を除いて、完全に上下面共
第2マスクフィルム47により覆う。従ってリード部2
8のインナーリード部31間には各インナーリード部3
1の側面と第2マスクフィルム47により囲まれた空間
48が形成される。第2マスクフィルム47は、熱硬化
性樹脂を射出成型して橋絡部材を形成する際にボンデイ
ングパッドを樹脂から保護する作用と共に、第1マスク
45と橋絡部材用の樹脂とを離型させる離型マスクの作
用をもする。第2マスクフィルム47の材料は、ポリパ
ラバン酸、ポリフェニレンサルフフォン、テトラフルオ
ロエチレンあるいはポリエチレンテレフタレートであ
る。
の空間27(図7参照)も含め第1マスク材料層45、
リード部28およびアイランド部23の全面を、リード
部28とアイランド部23との間のアイランド部23の
外周に沿って延びる空間46を除いて、完全に上下面共
第2マスクフィルム47により覆う。従ってリード部2
8のインナーリード部31間には各インナーリード部3
1の側面と第2マスクフィルム47により囲まれた空間
48が形成される。第2マスクフィルム47は、熱硬化
性樹脂を射出成型して橋絡部材を形成する際にボンデイ
ングパッドを樹脂から保護する作用と共に、第1マスク
45と橋絡部材用の樹脂とを離型させる離型マスクの作
用をもする。第2マスクフィルム47の材料は、ポリパ
ラバン酸、ポリフェニレンサルフフォン、テトラフルオ
ロエチレンあるいはポリエチレンテレフタレートであ
る。
【0034】次に図18に示す如く、射出成型金型49
および50を適用し、上述の空間48内に射出成型によ
り熱硬化性樹脂を充填し、加熱して硬化させ、射出成型
金型49および50を取り外して第2マスクフィルム4
7を除去すれば図19に示す如き状態になる。これから
更に第1マスクフィルム45を除去すると、図20に示
すように、リード部28の境界33よりも僅かに外側の
位置からアイランド部23の外周縁にまで連続して延び
た、アイランド部23を囲む幅の広い橋絡部材51が得
られる。橋絡部材51の厚さは、リード部28の厚さと
同じであるが、アイランド部23を囲む部分には、第2
マスクフィルム47の厚さだけ厚くなった部分52があ
る。これは、図18に示す射出成型工程で第2マスクフ
ィルム47の無い部分に対応して形成されたものであ
る。図21は、このようにして製造されたリードフレー
ムを用いて製造した半導体装置を示し、図20のリード
フレームのアイランド部23に半導体素子15が搭載さ
れ、導電性ワイヤ16でリード28と接続され、封止樹
脂29により気密封止されており、フレーム部21がリ
ード28から切り離されている。
および50を適用し、上述の空間48内に射出成型によ
り熱硬化性樹脂を充填し、加熱して硬化させ、射出成型
金型49および50を取り外して第2マスクフィルム4
7を除去すれば図19に示す如き状態になる。これから
更に第1マスクフィルム45を除去すると、図20に示
すように、リード部28の境界33よりも僅かに外側の
位置からアイランド部23の外周縁にまで連続して延び
た、アイランド部23を囲む幅の広い橋絡部材51が得
られる。橋絡部材51の厚さは、リード部28の厚さと
同じであるが、アイランド部23を囲む部分には、第2
マスクフィルム47の厚さだけ厚くなった部分52があ
る。これは、図18に示す射出成型工程で第2マスクフ
ィルム47の無い部分に対応して形成されたものであ
る。図21は、このようにして製造されたリードフレー
ムを用いて製造した半導体装置を示し、図20のリード
フレームのアイランド部23に半導体素子15が搭載さ
れ、導電性ワイヤ16でリード28と接続され、封止樹
脂29により気密封止されており、フレーム部21がリ
ード28から切り離されている。
【0035】この実施例によれば、先に説明した実施例
の効果の他に、インナーリード31が曲がるのを防ぐこ
とができ、またアイランド23部およびインナーリード
31のワイヤボンディング部の位置精度を維持すること
ができ、ワイヤボンディング作業の確実性が高くなると
いう効果もある。
の効果の他に、インナーリード31が曲がるのを防ぐこ
とができ、またアイランド23部およびインナーリード
31のワイヤボンディング部の位置精度を維持すること
ができ、ワイヤボンディング作業の確実性が高くなると
いう効果もある。
【0036】図22に示す半導体装置は、アイランド部
23の外周縁に沿って設けられた立ち上がり部53を有
する橋絡部材54を備えたリードフレームを用いて半導
体素子15を実装している。立ち上がり部54は図17
に示す工程の2枚の第2マスクフィルム47の内上面即
ち半導体素子15を搭載する面側の第2マスクフィルム
47を必要な立ち上がり部53の高さに相当する所望の
厚さとすることにより得ることができる。または、図1
8に示す工程のモールド金型の上型49の形を変えて、
立ち上がり部53を形成するための成型空洞を設けるこ
とによっても形成することができる。立ち上がり部53
の高さは、例えば厚さ0.4mmの半導体素子15をリ
ードフレームに搭載する場合には0.6mmである。
23の外周縁に沿って設けられた立ち上がり部53を有
する橋絡部材54を備えたリードフレームを用いて半導
体素子15を実装している。立ち上がり部54は図17
に示す工程の2枚の第2マスクフィルム47の内上面即
ち半導体素子15を搭載する面側の第2マスクフィルム
47を必要な立ち上がり部53の高さに相当する所望の
厚さとすることにより得ることができる。または、図1
8に示す工程のモールド金型の上型49の形を変えて、
立ち上がり部53を形成するための成型空洞を設けるこ
とによっても形成することができる。立ち上がり部53
の高さは、例えば厚さ0.4mmの半導体素子15をリ
ードフレームに搭載する場合には0.6mmである。
【0037】この実施例によれば、トランスファーモー
ルド時に、モールド樹脂29の流れによりボンディング
ワイヤ16の曲がり部が所定の位置から移動させられた
場合にも、ボンディングワイヤ16の移動はこの立ち上
がり部53により制限されて所定の範囲内に留められ、
ボンディングワイヤ16が互いに接触したり絶縁不良を
起こしたりすることがなく、半導体装置の歩留まりおよ
び信頼性が高まる。
ルド時に、モールド樹脂29の流れによりボンディング
ワイヤ16の曲がり部が所定の位置から移動させられた
場合にも、ボンディングワイヤ16の移動はこの立ち上
がり部53により制限されて所定の範囲内に留められ、
ボンディングワイヤ16が互いに接触したり絶縁不良を
起こしたりすることがなく、半導体装置の歩留まりおよ
び信頼性が高まる。
【0038】図23に示す半導体装置は、アイランド部
23の下面全面に亙って延びた裏打ち部55を有する橋
絡部材56を備えたリードフレームを用いて半導体素子
15を実装している。アイランド部23下面の裏打ち部
55は、図17に示す工程に於いてアイランド部23下
面には第2マスクフィルム47を設けずに図18に示す
射出成型金型49および50を適用することによりアイ
ランド部23下面に薄い空洞を形成し、この空洞の中に
橋絡部材56を構成する樹脂を充填することにより形成
できる。必要ならば、図18に示す工程のモールド金型
の下型50の形を変えて、裏打ち部55を形成するため
の成型空洞を設けることによっても形成することができ
る。裏打ち部55とアイランド部23との間の接合を強
固なものとするために、アイランド部23の下面に粗化
処理を施すのが望ましい。粗化処理は、リードフレーム
が銅あるいは銅合金である場合には黒化(酸化)処理を
し、リードフレームが42アロイ(商品名)、コバール
(商品名)あるいはステンレス鋼等である場合には一旦
銅めっきをしてこれに黒化処理をする。
23の下面全面に亙って延びた裏打ち部55を有する橋
絡部材56を備えたリードフレームを用いて半導体素子
15を実装している。アイランド部23下面の裏打ち部
55は、図17に示す工程に於いてアイランド部23下
面には第2マスクフィルム47を設けずに図18に示す
射出成型金型49および50を適用することによりアイ
ランド部23下面に薄い空洞を形成し、この空洞の中に
橋絡部材56を構成する樹脂を充填することにより形成
できる。必要ならば、図18に示す工程のモールド金型
の下型50の形を変えて、裏打ち部55を形成するため
の成型空洞を設けることによっても形成することができ
る。裏打ち部55とアイランド部23との間の接合を強
固なものとするために、アイランド部23の下面に粗化
処理を施すのが望ましい。粗化処理は、リードフレーム
が銅あるいは銅合金である場合には黒化(酸化)処理を
し、リードフレームが42アロイ(商品名)、コバール
(商品名)あるいはステンレス鋼等である場合には一旦
銅めっきをしてこれに黒化処理をする。
【0039】この実施例によれば、先に説明した実施例
による効果の他に更に、リードフレームのアイランド部
23から封止樹脂29内に走るパッシベーションクラッ
クが生じるのを防止することができる。
による効果の他に更に、リードフレームのアイランド部
23から封止樹脂29内に走るパッシベーションクラッ
クが生じるのを防止することができる。
【0040】図24に示す半導体装置は、アイランド部
23の他にリード28のインナーリード部31の下面全
体にも裏打ち部57が形成された橋絡部材58を有する
リードフレームに半導体装置を実装し、裏打ち部57の
下面には更に熱拡散板59を設けている。この裏打ち部
57も第2マスクフィルム47を設けずに形成した成型
空洞により形成できる。熱拡散板59は、銅、アルミニ
ウム等の金属板で、半導体素子15の発生する熱を、ア
イランド部23、裏打ち部57、熱拡散板59、リード
28下面の裏打ち部57およびリード28を通して外部
に消散させるためのものであり、半導体装置の熱放散が
効果的である。
23の他にリード28のインナーリード部31の下面全
体にも裏打ち部57が形成された橋絡部材58を有する
リードフレームに半導体装置を実装し、裏打ち部57の
下面には更に熱拡散板59を設けている。この裏打ち部
57も第2マスクフィルム47を設けずに形成した成型
空洞により形成できる。熱拡散板59は、銅、アルミニ
ウム等の金属板で、半導体素子15の発生する熱を、ア
イランド部23、裏打ち部57、熱拡散板59、リード
28下面の裏打ち部57およびリード28を通して外部
に消散させるためのものであり、半導体装置の熱放散が
効果的である。
【0041】図25に示す半導体装置は、アイランド部
を持たないリードフレームであって、橋絡部材60に半
導体素子15を搭載する半導体素子搭載部61を設けた
半導体装置であり、リードフレームの製造は、図7のリ
ードフレームと同様、導電性のフレーム部から内方に向
かって延び、互いに離間して内端面で開口部を形成する
内端を有し、互いに離間した複数の導電性のリード部を
備えているが、アイランド部の無いフレームシートから
先の実施例と同様に製造される。即ち、図18の工程に
於いて、モールド金型49および50の成型空洞を変形
して半導体集積回路搭載部59を形成できるような形の
金型を第2マスク材料層47上に適用し、射出成型によ
りリード部28間の境界33位置を含む内側の領域に電
気絶縁性かつ耐熱性の樹脂を充填して加熱硬化させ、半
導体集積回路15をその上に搭載するための搭載部59
を有する樹脂橋絡部材60を形成することができる。次
に、このようなリードフレームの樹脂橋絡部材60の搭
載部61上に半導体集積回路15を搭載し、半導体集積
回路15とリード部28の内端とを導電性ワイヤ16で
電気的に接続し、成型空洞を有するモールド金型により
リード部を間に挟んで、成型空洞をリード部間の橋絡部
材により密閉し、半導体集積回路15、リード部28の
アウターリード部、導電性ワイヤ16及び橋絡部材60
の一部を、成型空洞内に収容し、トランスファモールド
により半導体集積回路を封止樹脂で封止し、フレーム部
をリード部28から切り離すと、図25に示す半導体装
置が製造できる。
を持たないリードフレームであって、橋絡部材60に半
導体素子15を搭載する半導体素子搭載部61を設けた
半導体装置であり、リードフレームの製造は、図7のリ
ードフレームと同様、導電性のフレーム部から内方に向
かって延び、互いに離間して内端面で開口部を形成する
内端を有し、互いに離間した複数の導電性のリード部を
備えているが、アイランド部の無いフレームシートから
先の実施例と同様に製造される。即ち、図18の工程に
於いて、モールド金型49および50の成型空洞を変形
して半導体集積回路搭載部59を形成できるような形の
金型を第2マスク材料層47上に適用し、射出成型によ
りリード部28間の境界33位置を含む内側の領域に電
気絶縁性かつ耐熱性の樹脂を充填して加熱硬化させ、半
導体集積回路15をその上に搭載するための搭載部59
を有する樹脂橋絡部材60を形成することができる。次
に、このようなリードフレームの樹脂橋絡部材60の搭
載部61上に半導体集積回路15を搭載し、半導体集積
回路15とリード部28の内端とを導電性ワイヤ16で
電気的に接続し、成型空洞を有するモールド金型により
リード部を間に挟んで、成型空洞をリード部間の橋絡部
材により密閉し、半導体集積回路15、リード部28の
アウターリード部、導電性ワイヤ16及び橋絡部材60
の一部を、成型空洞内に収容し、トランスファモールド
により半導体集積回路を封止樹脂で封止し、フレーム部
をリード部28から切り離すと、図25に示す半導体装
置が製造できる。
【0042】このような半導体装置によれば、リードフ
レームにアイランド部23が無いためにアイランド部2
3をフレーム部21に対して支持する吊りピン24(図
7)が不要になり、インナーリード31の設計に寸法的
余裕が生じ、ファインピッチ化に更に有利となる。
レームにアイランド部23が無いためにアイランド部2
3をフレーム部21に対して支持する吊りピン24(図
7)が不要になり、インナーリード31の設計に寸法的
余裕が生じ、ファインピッチ化に更に有利となる。
【0043】図26乃至図31には、リードフレーム上
に導電性回路を有し半導体素子を搭載するための絶縁性
の樹脂基板を備えた本発明の半導体集積回路搭載用基
板、それを用いた半導体装置およびそれらの製造方法を
示す。図26に於いて、図14乃至図17に示す工程と
同様に、リード部28の境界33から僅かに外側の位置
よりも外部の領域で第1マスクフィルム45が適用さ
れ、熱圧着によりこの部分でリード部28間に充填され
る。次に、リード部28間の空間27も含め第1マスク
材料層45およびリード部28上の位置であって、絶縁
基板を形成すべき位置よりも外側の領域を、完全に上下
面共第2マスクフィルム47により覆う。従ってリード
部28のインナーリード部31間には各インナーリード
部31の側面と第2マスクフィルム47により囲まれた
空間48が形成される。
に導電性回路を有し半導体素子を搭載するための絶縁性
の樹脂基板を備えた本発明の半導体集積回路搭載用基
板、それを用いた半導体装置およびそれらの製造方法を
示す。図26に於いて、図14乃至図17に示す工程と
同様に、リード部28の境界33から僅かに外側の位置
よりも外部の領域で第1マスクフィルム45が適用さ
れ、熱圧着によりこの部分でリード部28間に充填され
る。次に、リード部28間の空間27も含め第1マスク
材料層45およびリード部28上の位置であって、絶縁
基板を形成すべき位置よりも外側の領域を、完全に上下
面共第2マスクフィルム47により覆う。従ってリード
部28のインナーリード部31間には各インナーリード
部31の側面と第2マスクフィルム47により囲まれた
空間48が形成される。
【0044】図27に示す工程に於いては、第2マスク
材料層47を含めてフレームシート上に電気絶縁性のプ
リプレグ樹脂基板材料層64がフレームシートの両側か
ら押圧され、プリプレグ樹脂がリード部28間の空間2
7にまで入り込んでいる。基板材料層64の上面には半
導体装置を電気的に接続するための導電性回路用の導電
材料層65が形成されている。
材料層47を含めてフレームシート上に電気絶縁性のプ
リプレグ樹脂基板材料層64がフレームシートの両側か
ら押圧され、プリプレグ樹脂がリード部28間の空間2
7にまで入り込んでいる。基板材料層64の上面には半
導体装置を電気的に接続するための導電性回路用の導電
材料層65が形成されている。
【0045】図28に於いては、基板材料層上に導電性
回路パターン66が形成され、その一部はスルーホール
67を介してインナーリード31に接続されている。
回路パターン66が形成され、その一部はスルーホール
67を介してインナーリード31に接続されている。
【0046】次に絶縁基板68の外縁の位置(第2マス
クフィルム47の縁に対応する)で絶縁基板材料層64
にレーザー加工により溝を形成し、絶縁基板68を形成
すべき位置よりも外側の部分を第2マスクフィルム47
と共にリードフレームから取り除くと、インナーリード
31とアウタリード32の一部とが露出されて図29に
示す状態となる。
クフィルム47の縁に対応する)で絶縁基板材料層64
にレーザー加工により溝を形成し、絶縁基板68を形成
すべき位置よりも外側の部分を第2マスクフィルム47
と共にリードフレームから取り除くと、インナーリード
31とアウタリード32の一部とが露出されて図29に
示す状態となる。
【0047】これからさらに第1マスク材料45を取り
除き、フレーム部21(例えば図20参照)を取り除け
ば、図30に示す半導体集積回路搭載用基板が得られ
る。この半導体集積回路搭載用基板は、絶縁基板68の
外周から少なくとも封止樹脂(図31)の外表面に対応
する位置(境界33)までの間に亙って、リード部28
間に延び、少なくともリード部28の厚さと同じ厚さを
有する電気絶縁性かつ耐熱性樹脂の橋絡部材69とを備
えている。この実施例では、絶縁基板68と橋絡部材6
9とは同材質の一体のものであり、厚さが異なるだけで
ある。
除き、フレーム部21(例えば図20参照)を取り除け
ば、図30に示す半導体集積回路搭載用基板が得られ
る。この半導体集積回路搭載用基板は、絶縁基板68の
外周から少なくとも封止樹脂(図31)の外表面に対応
する位置(境界33)までの間に亙って、リード部28
間に延び、少なくともリード部28の厚さと同じ厚さを
有する電気絶縁性かつ耐熱性樹脂の橋絡部材69とを備
えている。この実施例では、絶縁基板68と橋絡部材6
9とは同材質の一体のものであり、厚さが異なるだけで
ある。
【0048】図31にはこの半導体集積回路搭載用基板
に半導体素子15を搭載し、導電性ワイヤ16でスルー
ホール67を含む導電性回路66に接続し、これらをイ
ンナーリード31と共にトランスファーモールドにより
封止樹脂29で気密に封止して実装した半導体装置を示
す。
に半導体素子15を搭載し、導電性ワイヤ16でスルー
ホール67を含む導電性回路66に接続し、これらをイ
ンナーリード31と共にトランスファーモールドにより
封止樹脂29で気密に封止して実装した半導体装置を示
す。
【0049】図32に示す半導体装置に於いては、絶縁
基板70にヒートシンク71が固着されている。図示の
例では、図31のアイランド部23は除去され、絶縁基
板70の上面に開口72が設けられてヒートシンク71
の上面が露出され、このヒートシンク71の露出面に半
導体集積回路15が熱伝導関係に固着されている。ヒー
トシンク71の下部は絶縁基板70から突出していて、
下面が封止樹脂29から露出している。この実施例に於
いては、重量の大きなヒートシンク71を高強度の絶縁
基板70に容易にしっかりと取り付けることができ、半
導体装置の放熱性を高めることができる。
基板70にヒートシンク71が固着されている。図示の
例では、図31のアイランド部23は除去され、絶縁基
板70の上面に開口72が設けられてヒートシンク71
の上面が露出され、このヒートシンク71の露出面に半
導体集積回路15が熱伝導関係に固着されている。ヒー
トシンク71の下部は絶縁基板70から突出していて、
下面が封止樹脂29から露出している。この実施例に於
いては、重量の大きなヒートシンク71を高強度の絶縁
基板70に容易にしっかりと取り付けることができ、半
導体装置の放熱性を高めることができる。
【0050】図33に示す半導体装置に於いては、絶縁
基板74の側面端面が境界33の僅かに外側の位置にあ
り、図31の橋絡部材69の厚さが絶縁基板74の厚さ
と同じにされ、側面が完成した半導体装置の封止樹脂2
9の側面から露出しているものと考えることができる。
この構造は、図26の第2マスク47を第1マスク45
上にだけ設け、図29のレーザー加工による切断剥離作
業を第1マスク45の端面の位置で行うことにより得ら
れる。
基板74の側面端面が境界33の僅かに外側の位置にあ
り、図31の橋絡部材69の厚さが絶縁基板74の厚さ
と同じにされ、側面が完成した半導体装置の封止樹脂2
9の側面から露出しているものと考えることができる。
この構造は、図26の第2マスク47を第1マスク45
上にだけ設け、図29のレーザー加工による切断剥離作
業を第1マスク45の端面の位置で行うことにより得ら
れる。
【0051】図34に示す半導体装置は、リード28の
外端部に固着されて外端部を互いに剛体的に結合する電
気絶縁性の保護部材76を設けた半導体集積回路搭載用
基板77を用いて製造したものである。この構造の半導
体集積回路搭載用基板77を製造するためには、図26
の工程に於いて、リード部28上の少なくとも封止樹脂
29の外表面に対応する境界33の位置よりも外側であ
って、リード部28の外端を除く領域に第1マスク材料
層45を設け、第1マスク材料層45上にだけ第2マス
ク材料層47を設け、第2マスク材料層47を含めてフ
レームシート上に電気絶縁性の樹脂基板材料層54を形
成し、リード部28のアウターリード部32上の基板材
料層54を第2マスク材料47と共に取り除く。このよ
うにすると、リード部28の外端に沿って枠状に連続し
てリード部を互いに剛体的に結合する基板のプリプレグ
材料製の保護部材76が形成される。この保護部材76
により、各リード28は電気的独立を維持しながら機械
的に保持されるので、半導体集積回路15を搭載する前
の半導体素子搭載用基板77の状態でも、あるいは半導
体集積回路15を搭載した後でも、パターンや各接続部
の電気的試験を行うことができ、出荷や輸送の途中での
リード部の損傷を防ぐことができる。この保護部材76
は、図31に示す半導体装置に限らず図32乃至図34
に示す半導体装置に設けることもできる。
外端部に固着されて外端部を互いに剛体的に結合する電
気絶縁性の保護部材76を設けた半導体集積回路搭載用
基板77を用いて製造したものである。この構造の半導
体集積回路搭載用基板77を製造するためには、図26
の工程に於いて、リード部28上の少なくとも封止樹脂
29の外表面に対応する境界33の位置よりも外側であ
って、リード部28の外端を除く領域に第1マスク材料
層45を設け、第1マスク材料層45上にだけ第2マス
ク材料層47を設け、第2マスク材料層47を含めてフ
レームシート上に電気絶縁性の樹脂基板材料層54を形
成し、リード部28のアウターリード部32上の基板材
料層54を第2マスク材料47と共に取り除く。このよ
うにすると、リード部28の外端に沿って枠状に連続し
てリード部を互いに剛体的に結合する基板のプリプレグ
材料製の保護部材76が形成される。この保護部材76
により、各リード28は電気的独立を維持しながら機械
的に保持されるので、半導体集積回路15を搭載する前
の半導体素子搭載用基板77の状態でも、あるいは半導
体集積回路15を搭載した後でも、パターンや各接続部
の電気的試験を行うことができ、出荷や輸送の途中での
リード部の損傷を防ぐことができる。この保護部材76
は、図31に示す半導体装置に限らず図32乃至図34
に示す半導体装置に設けることもできる。
【0052】
【発明の効果】 本発明によれば、モールド金型を用い
粉末あるいは予備成型封止樹脂を熔融し注入流動させて
半導体集積回路を封止して実装するためのリードフレー
ムあるいは半導体集積回路搭載用基板は、フレーム部に
接続され、封止樹脂により部分的に封止されてインナー
リード部とアウターリード部とに境界される複数の導電
性のリード部と、少なくとも封止樹脂の外表面に対応す
る位置で、リード部間に延び、少なくともリード部の厚
さと同じ厚さを有する電気絶縁性かつ耐熱性の樹脂の橋
絡部材とを備えており、リード部が電気的に独立したま
ま機械的に保持されると共に、リードフレームにモール
ド金型を適用したとき、リード部間の空間が橋絡部材に
より密閉される。従って、従来必要であったタイバーの
打ち抜き作業が不必要になり、リードのピッチを極めて
小さくすることができる。
粉末あるいは予備成型封止樹脂を熔融し注入流動させて
半導体集積回路を封止して実装するためのリードフレー
ムあるいは半導体集積回路搭載用基板は、フレーム部に
接続され、封止樹脂により部分的に封止されてインナー
リード部とアウターリード部とに境界される複数の導電
性のリード部と、少なくとも封止樹脂の外表面に対応す
る位置で、リード部間に延び、少なくともリード部の厚
さと同じ厚さを有する電気絶縁性かつ耐熱性の樹脂の橋
絡部材とを備えており、リード部が電気的に独立したま
ま機械的に保持されると共に、リードフレームにモール
ド金型を適用したとき、リード部間の空間が橋絡部材に
より密閉される。従って、従来必要であったタイバーの
打ち抜き作業が不必要になり、リードのピッチを極めて
小さくすることができる。
【図1】本発明によるDIP用リードフレームの平面図
【図2】図1に示すリードフレームを用いた半導体装置
の側面断面図
の側面断面図
【図3】本発明による別の実施例の半導体装置を示す側
面断面図
面断面図
【図4】図3の半導体装置の橋絡部材を示す斜視図
【図5】本発明によるQFP用リードフレームの平面図
【図6】図5に示すリードフレームを用いた半導体装置
の側面断面図
の側面断面図
【図7】図5のリードフレームを製造するためのフレー
ムシートの平面図
ムシートの平面図
【図8】図7の線VIII−VIIIに沿ったリードフ
レームの断面図
レームの断面図
【図9】リードフレームに第1マスク材料層を施す工程
を示す断面図
を示す断面図
【図10】第1マスク材料層を熱圧着した状態を示す断
面図
面図
【図11】熱硬化性樹脂を充填した状態を示す断面図
【図12】第1マスク材料層を除去して完成したリード
フレームの断面図
フレームの断面図
【図13】図12のリードフレームに半導体集積回路を
実装してトランスファモールドした半導体装置の断面図
実装してトランスファモールドした半導体装置の断面図
【図14】本発明による別の製造工程を示すリードフレ
ームの側面断面図
ームの側面断面図
【図15】第1マスク材料層を施す工程を示す断面図
【図16】第1マスク材料を熱圧着した状態を示す断面
図
図
【図17】第2マスクを施した状態を示す断面図
【図18】射出成型金型を適用した状態を示す断面図
【図19】第2マスクを除去した状態を示す断面図
【図20】第1マスク材料層を除去して完成したリード
フレームの断面図
フレームの断面図
【図21】図20のリードフレームに半導体集積回路を
実装してトランスファモールドした半導体装置の断面図
実装してトランスファモールドした半導体装置の断面図
【図22】立上り部を有する橋絡部材を備えた半導体装
置の断面図
置の断面図
【図23】アイランド部の下面に橋絡部材の裏打ち部が
設けられた半導体装置の断面図
設けられた半導体装置の断面図
【図24】熱拡散板を備えた半導体装置の断面図
【図25】半導体集積回路搭載部を有する橋絡部材を備
えた半導体装置の断面図
えた半導体装置の断面図
【図26】本発明の絶縁基板を備えた半導体集積回路搭
載用基板の製造工程を示す図17に対応する断面図
載用基板の製造工程を示す図17に対応する断面図
【図27】絶縁基板用のプリプレグ樹脂を施した状態を
示す断面図
示す断面図
【図28】スルーホールを形成した状態を示す断面図
【図29】絶縁基板の一部を除去した状態を示す断面図
【図30】第1マスクを除去した半導体集積回路搭載用
基板を示す断面図
基板を示す断面図
【図31】図30の集積回路搭載用基板を用いた半導体
装置の断面図
装置の断面図
【図32】ヒートシンクを備えた半導体装置の断面図
【図33】半導体集積回路搭載用基板を用い、半導体装
置の断面図
置の断面図
【図34】リード外端部に保護部材を備えた半導体装置
の断面図
の断面図
1、21 フレーム部 15 半導体集積回路 3、23 アイランド部 4、24 吊りピン部 8、28 リード部 9、29 封止樹脂 11、31 インナーリード部 12、32 アウターリード部 14、17、34、51、54、56、58、60、6
9 橋絡部材 13、33 境界
9 橋絡部材 13、33 境界
Claims (29)
- 【請求項1】 モールド金型を用い粉末あるいは予備成
型封止樹脂を熔融し注入流動させて半導体集積回路を封
止するためのリードフレームであって、 開口を有する導電性のフレーム部と、 上記開口内に設けられ、半導体集積回路をその上に搭載
するための導電性のアイランド部と、 上記アイランド部と上記フレーム部との間に接続されて
上記アイランド部を上記フレーム部に対して所定位置に
支持する吊りピン部と、 上記フレーム部に接続された外端及び上記フレーム部か
ら上記アイランド部に向かって延びて上記アイランド部
から離間した内端を有し、互いに離間して間に空間を有
する複数の導電性のリード部であって、封止樹脂により
封止されるべきインナーリード部、上記封止樹脂の外表
面から外部に突出すべきアウターリード部及び上記イン
ナーリード部と上記アウターリード部との境界を有する
リード部と、 すくなくとも上記封止樹脂の上記外表面に対応する位置
で、上記リード部間に延び、少なくとも上記リード部の
厚さと同じ厚さを有する電気絶縁性かつ耐熱性の樹脂の
橋絡部材とを備え、 上記リードフレームに上記モールド金型を適用したと
き、上記リード部間の上記空間が上記橋絡部材により密
閉されるリードフレーム。 - 【請求項2】 上記橋絡部材の幅寸法が上記境界にちょ
うど跨って延びるのにだけ充分な大きさである請求項1
記載のリードフレーム。 - 【請求項3】 上記橋絡部材が、上記リード部の上記ア
ウターリード部に沿って上記境界から外方に所定距離だ
け延びて、上記アウターリード部をその部分について補
強してなる請求項1記載のリードフレーム。 - 【請求項4】 上記橋絡部材が、上記アイランド部の外
周から外方に、上記リード部の上記境界を越えて延びて
なる請求項1あるいは3記載のリードフレーム。 - 【請求項5】 上記橋絡部材が、上記アイランド部の外
周に立上り部分を有する請求項1、3あるいは4記載の
リードフレーム。 - 【請求項6】 上記橋絡部材が、上記アイランド部の裏
面にまで延びてなる請求項1及び3乃至5のいづれか記
載のリードフレーム。 - 【請求項7】 モールド金型を用い粉末あるいは予備成
型封止樹脂を熔融し注入流動させて半導体集積回路を封
止するためのリードフレームであって、 開口を有する導電性のフレーム部と、 上記フレーム部に接続された外端及び上記フレーム部か
ら内方に向かって延び、互いに離間して内端面で開口部
を形成する内端を有し、互いに離間した複数の導電性の
リード部であって、封止樹脂により封止されるインナー
リード部、上記封止樹脂の外表面から外部に突出するア
ウターリード部及び上記インナーリード部と上記アウタ
ーリード部との境界を有するリード部と、 上記封止樹脂の上記外表面に対応する位置を含みそれよ
り内側の領域の全体に亙って上記リード部間に延び、上
記半導体集積回路をその上に搭載するための搭載部を有
し、少なくとも上記リード部の厚さと同じ厚さを有する
電気絶縁性かつ耐熱性の樹脂橋絡部材とを備えたリード
フレーム。 - 【請求項8】 モールド金型を用い粉末あるいは予備成
型封止樹脂を熔融し注入流動させて半導体集積回路を封
止するための半導体集積回路搭載用基板であって、 開口を有する導電性のフレーム部と、 上記開口内に設けられて半導体集積回路に接続される回
路導体を有し、半導体集積回路をその上に搭載するため
の電気絶縁性の基板と、 上記フレーム部に接続された外端及び上記フレーム部か
ら上記基板に向かって延びて上記基板に入り込んで固着
され、上記回路導体に電気的に接続された内端を有し、
封止樹脂により封止されるべきインナーリード部、上記
封止樹脂の外表面から外部に突出すべきアウターリード
部及び上記インナーリード部と上記アウターリード部と
の境界を有する複数の導電性のリード部と、 上記基板の外周からすくなくとも上記封止樹脂の上記外
表面に対応する位置までの間に亙って、上記リード部間
に延び、少なくとも上記リード部の厚さと同じ厚さを有
する電気絶縁性かつ耐熱性樹脂の橋絡部材とを備え、 上記フレーム部に上記モールド金型を適用したとき、上
記リード部間の上記空間が上記橋絡部材により密閉され
る半導体集積回路搭載用基板。 - 【請求項9】 半導体集積回路をその上に搭載するため
の導電性のアイランドと、 上記アイランド上に搭載された半導体集積回路と、 上記アイランドから離間した内端を有し外方に向かって
延び、互いに離間して間に空間を有する複数の導電性の
リードと、 上記半導体集積回路と上記リードの上記内端とを電気的
に接続する導電性ワイヤと、 上記アイランド、上記半導体集積回路、上記リード及び
上記導電性ワイヤを封止する封止樹脂であって、上記リ
ードを、上記封止樹脂により封止されたインナーリード
部、上記封止樹脂の外表面から外部に突出したアウター
リード部に境界により区画する封止樹脂と、 少なくとも上記封止樹脂の上記外表面に対応する位置
で、上記リード間に設けられ、少なくとも上記リードの
厚さと同じ厚さを有する電気絶縁性かつ耐熱性樹脂の橋
絡部材とを備えてなる半導体装置。 - 【請求項10】 上記橋絡部材の幅寸法が上記境界にち
ょうど跨って延びるのにだけ充分な大きさである請求項
9記載の半導体装置。 - 【請求項11】 上記橋絡部材が、上記リードの上記ア
ウターリード部に沿って上記境界から外方に所定距離だ
け延びて、上記アウターリード部をその部分について補
強してなる請求項9あるいは10記載の半導体装置。 - 【請求項12】 上記橋絡部材が、上記アイランドの外
周から外方に、上記リードの上記境界を越えて延びてな
る請求項9あるいは11記載の半導体装置。 - 【請求項13】 上記橋絡部材が、上記アイランドの外
周に立上り部分を有する請求項9、11あるいは12記
載の半導体装置。 - 【請求項14】 上記橋絡部材が、上記アイランドの裏
面にまで延びてなる請求項9、11、12あるいは13
記載の半導体装置。 - 【請求項15】 上記アイランドの裏面の上記橋絡部材
に熱拡散板が設けられてなる請求項14記載の半導体装
置。 - 【請求項16】 半導体集積回路と、 上記半導体集積回路に近接した内端を有し外方に向かっ
て延び、互いに離間して間に空間を有する複数の導電性
のリードと、 上記半導体集積回路と上記リードの上記内端とを電気的
に接続する導電性ワイヤと、 上記半導体集積回路、上記リード及び上記導電性ワイヤ
を封止する封止樹脂であって、上記リードを、上記封止
樹脂により封止されたインナーリード部、上記封止樹脂
の外表面から外部に突出したアウターリード部に境界に
より区画する封止樹脂と、 上記封止樹脂の上記外表面に対応する位置を含みそれよ
り内側の領域の全体に亙って上記リード間に延び、少な
くとも上記リードの厚さと同じ厚さを有する電気絶縁性
の板状橋絡部材とを備えてなる半導体装置。 - 【請求項17】 半導体集積回路に接続される回路導体
を有し、半導体集積回路をその上に搭載するための電気
絶縁性の基板と、 外端及び上記外端から上記基板に向かって延びて上記基
板に入り込んで固着されて上記回路導体に電気的に接続
された内端を有する互いに離間した複数の導電性のリー
ドと、 上記半導体集積回路と上記リードの上記内端とを電気的
に接続する導電性ワイヤと、 上記半導体集積回路、上記リード及び上記導電性ワイヤ
を封止する封止樹脂であって、上記リードを、上記封止
樹脂により封止されたインナーリード部、上記封止樹脂
の外表面から外部に突出したアウターリード部に境界に
より区画する封止樹脂と、 上記基板の外周から少なくとも上記封止樹脂の上記外表
面に対応する位置までの間に亙って上記リード部間に延
び、上記半導体集積回路をその上に搭載するための搭載
部を有し、少なくとも上記リード部の厚さと同じ厚さを
有する電気絶縁性の橋絡部材とを備えた半導体装置。 - 【請求項18】 上記基板に支持されて上記半導体集積
回路と熱伝導関係に接続され、少なくとも一部が上記封
止樹脂から露出したヒートシンクを備えた請求項17記
載の半導体装置。 - 【請求項19】 請求項1乃至3のいづれか記載のリー
ドフレームを製造するために、 開口を有する導電性のフレーム部と、上記開口内に設け
られ、半導体集積回路をその上に搭載するための導電性
のアイランド部と、上記アイランド部と上記フレーム部
との間に接続されて上記アイランド部を上記フレーム部
に対して所定位置に支持する吊りピンと、上記フレーム
部に接続された外端及び上記フレーム部から上記アイラ
ンド部に向かって延びて上記アイランド部から離間した
内端を有し、互いに離間して間に空間を有する複数の導
電性のリード部であって、上記封止樹脂により封止され
るべきインナーリード部、上記封止樹脂の外表面から外
部に突出すべきアウターリード部及び上記インナーリー
ド部と上記アウターリード部との境界を有するリード部
とを備えたフレームシートを用意し、 上記リード部上のすくなくとも上記封止樹脂の上記外表
面に対応する位置にありかつ上記境界に跨った領域を除
いて第1マスク材料層を設け、 上記第1マスク材料を加熱加圧して上記境界に跨った領
域を除いて上記リード部間に流動させて充填し、 上記リード部間の上記境界に跨った領域に電気絶縁性か
つ耐熱性の樹脂を充填して加熱硬化させ、 上記第1マスク材料を取り除いて、上記境界に跨った領
域で上記リード部間に少なくとも上記リード部の厚さと
同じ厚さを有する上記電気絶縁性かつ耐熱性の樹脂の橋
絡部材を形成する工程を備えたリードフレームの製造方
法。 - 【請求項20】 請求項1及び4乃至6のいづれか記載
のリードフレームを製造するために、 開口を有する導電性のフレーム部と、上記開口内に設け
られ、半導体集積回路をその上に搭載するための導電性
のアイランド部と、上記アイランド部と上記フレーム部
との間に接続されて上記アイランド部を上記フレーム部
に対して所定位置に支持する吊りピンと、上記フレーム
部に接続された外端及び上記フレーム部から上記アイラ
ンド部に向かって延びて上記アイランド部から離間した
内端を有し、互いに離間して間に空間を有する複数の導
電性のリード部であって、上記封止樹脂により封止され
るべきインナーリード部、上記封止樹脂の外表面から外
部に突出すべきアウターリード部及び上記インナーリー
ド部と上記アウターリード部との境界を有するリード部
とを備えたフレームシートを用意し、 上記リード部上のすくなくとも上記封止樹脂の上記外表
面に対応する境界位置よりも外側の領域に第1マスク材
料層を設け、 上記第1マスク材料を加熱加熱して上記境界の外側の領
域で上記リード部間に流動させて充填し、 上記リード部上に第2マスク材料層を設け、 上記第2マスク材料層上に金型を適用して、射出成型に
より上記リード部間の上記境界位置を含む内側の領域に
電気絶縁性かつ耐熱性の樹脂を充填して加熱硬化させ、 上記第1及び第2マスク材料を取り除いて、上記アイラ
ンド部の外周から上記境界を越えて延びた内側領域で上
記リード部および上記アイランド部間に、少なくとも上
記リード部の厚さと同じ厚さを有する上記電気絶縁性か
つ耐熱性の樹脂の橋絡部材を形成する工程を備えたリー
ドフレームの製造方法。 - 【請求項21】 請求項7記載のリードフレームを製造
するために、 開口を有する導電性のフレーム部と、上記フレーム部に
接続された外端及び上記フレーム部から内方に向かって
延び、互いに離間して内端面で開口部を形成する内端を
有し、互いに離間した複数の導電性のリード部であっ
て、上記封止樹脂により封止されるインナーリード部、
上記封止樹脂の外表面から外部に突出するアウターリー
ド部及び上記インナーリード部と上記アウターリード部
との境界を有するリード部とを備えたフレームシートを
用意し、 上記リード部上のすくなくとも上記封止樹脂の上記外表
面に対応する境界位置よりも外側の領域に第1マスク材
料層を設け、 上記第1マスク材料を加熱加圧して上記境界の外側の領
域で上記リード部間に流動させて充填し、 上記リード部上に第2マスク材料層を設け、 上記第2マスク材料層上に金型を適用して、射出成型に
より上記リード部間の上記境界位置を含む内側の領域に
電気絶縁性かつ耐熱性の樹脂を充填して加熱硬化させ、 上記第1及び第2マスク材料を取り除いて、上記封止樹
脂の上記外表面に対応する位置を含みそれより内側の領
域の全体に亙って上記リード部間に延び、上記半導体集
積回路をその上に搭載するための搭載部を有し、少なく
とも上記リード部の厚さと同じ厚さを有する電気絶縁性
かつ耐熱性の樹脂橋絡部材を形成する工程を備えたリー
ドフレームの製造方法。 - 【請求項22】 請求項8記載の半導体集積回路搭載用
基板を製造するために、 開口を有する導電性のフレーム部と、上記フレーム部に
接続された外端及び上記フレーム部から上記基板に向か
って延びて上記基板に入り込んで固着され、上記基板の
上記回路導体に電気的に接続される内端を有し、上記封
止樹脂により封止されるべきインナーリード部、上記封
止樹脂の外表面から外部に突出すべきアウターリード部
及び上記インナーリード部と上記アウターリード部との
境界を有する複数の導電性のリード部とを備えたフレー
ムシートを用意し、 上記リード部上のすくなくとも上記封止樹脂の上記外表
面に対応する境界位置よりも外側の領域に第1マスク材
料層を設け、 上記第1マスク材料を加熱加熱して上記境界の外側の領
域で上記リード部間に流動させて充填し、 上記リード部間の上記第1マスク材料及び上記リード部
上の位置であって、上記基板を形成すべき位置よりも外
側の領域に第2マスク材料層を設け、 上記第2マスク材料層を含めて上記フレームシート上に
電気絶縁性の樹脂基板材料層を形成し、 上記基板材料層上に上記リード部の上記内端に電気的に
接続された導電性回路を形成し、 上記リード部の上記アウターリード部上の上記基板材料
層を上記第2マスク材料と共に取り除き、 上記第1マスク材料を取り除き、 もって上記封止樹脂の上記外表面に対応する位置を含み
それより内側の領域全体に亙って上記リード部間に延
び、少なくとも上記リード部の厚さと同じ厚さを有する
電気絶縁性かつ耐熱性の樹脂の橋絡部材を形成する工程
を備えた半導体集積回路搭載用基板の製造方法。 - 【請求項23】 請求項9記載の半導体装置を製造する
ために、 請求項19記載のリードフレームの製造方法により請求
項1記載のリードフレームを用意し、 上記アイランド部上に半導体集積回路を搭載し、 上記半導体集積回路と上記リード部の上記内端とを導電
性ワイヤで電気的に接続し、 成型空洞を有する上記モールド金型により上記リード部
を間に挟んで、上記成型空洞を上記リード部間の上記橋
絡部材により密閉し、上記アイランド部、上記半導体集
積回路、上記リード部の上記アウターリード部、上記導
電性ワイヤ及び少なくとも上記橋絡部材の一部を、上記
成型空洞内に収容し、 トランスファモールドにより上記半導体集積回路を封止
樹脂で封止し、 上記フレーム部を上記リード部から切り離す工程を備え
た半導体装置の製造方法。 - 【請求項24】 請求項16記載の半導体装置を製造す
るために、 請求項21記載のリードフレームの製造方法により請求
項7記載のリードフレームを用意し、 上記樹脂橋絡部材の上記搭載部上に半導体集積回路を搭
載し、 上記半導体集積回路と上記リード部の上記内端とを導電
性ワイヤで電気的に接続し、 成型空洞を有する上記モールド金型により上記リード部
を間に挟んで、上記成型空洞を上記リード部間の上記橋
絡部材により密閉し、上記半導体集積回路、上記リード
部の上記アウターリード部、上記導電性ワイヤ及び少な
くとも上記橋絡部材の一部を、上記成型空洞内に収容
し、 トランスファモールドにより上記半導体集積回路を封止
樹脂で封止し、 上記フレーム部を上記リード部から切り離す工程を備え
た半導体装置の製造方法。 - 【請求項25】 請求項17記載の半導体装置を製造す
るために、 請求項22記載の半導体集積回路搭載用基板の製造方法
により請求項8記載の半導体集積回路搭載用基板を用意
し、 上記基板上に上記半導体集積回路を搭載し、 上記半導体集積回路と上記リード部の上記内端とを導電
性ワイヤで電気的に接続し、 成型空洞を有するモールド金型により上記リード部を間
に挟んで、上記成型空洞を上記リード部間の上記橋絡部
材により密閉し、上記半導体集積回路、上記リード部の
上記アウターリード部、上記導電性ワイヤおよび少なく
とも上記橋絡部材の一部を上記成型空洞内に収容し、 トランスファモールドにより上記半導体集積回路を封止
樹脂で封止し、 上記フレーム部を上記リード部から切り離す工程を備え
た半導体装置の製造方法。 - 【請求項26】 モールド金型を用い、粉末あるいは予
備成型封止樹脂を熔融し注入流動させて半導体集積回路
を封止するための半導体集積回路搭載用基板であって、 半導体集積回路に電気的に接続される回路導体を有し、
半導体集積回路をその上に搭載するための電気絶縁性の
基板と、 内端部が上記基板に入り込んで固着されて上記基板の回
路導体に電気的に接続され、外端部が上記基板から突出
した複数の導電性のリードであって、各々封止樹脂によ
り封止されるべきインナーリード部、上記封止樹脂の外
表面から外部に突出すべきアウターリード部及び上記イ
ンナーリード部と上記アウターリード部との境界を有す
るリードと、 上記基板の外周から少なくとも上記封止樹脂の上記外表
面に対応する位置までの間に亙って、上記リード間に延
び、少なくとも上記リードの厚さと同じ厚さを有する電
気絶縁性かつ耐熱性樹脂の橋絡部材と、 上記リードの上記外端部に固着されて上記外端部を互い
に剛体的に結合する電気絶縁性の保護部材とを備え、 上記フレーム部に上記モールド金型を適用したとき、上
記リード部間の上記空間が上記橋絡部材により密閉され
る半導体集積回路搭載用基板。 - 【請求項27】 上記リードの上記外端に固着されて上
記外端を互いに剛体的に結合する電気絶縁性の保護部材
とを備えた請求項17記載の半導体装置。 - 【請求項28】 請求項26記載の半導体集積回路搭載
用基板を製造するために、 開口を有する導電性のフレーム部と、上記フレーム部に
接続された外端及び上記フレーム部から上記基板に向か
って延びて上記基板に入り込んで固着され、上記半導体
集積回路に電気的に接続される内端を有し、上記封止樹
脂により封止されるべきインナーリード部、上記封止樹
脂の外表面から外部に突出すべきアウターリード部及び
上記インナーリード部と上記アウターリード部との境界
を有する複数の導電性のリード部とを備えたフレームシ
ートを用意し、 上記リード部上の上記外端を除いて上記リード部上のす
くなくとも上記封止樹脂の上記外表面に対応する境界位
置よりも外側の領域に第1マスク材料層を設け、 上記第1マスク材料に圧力を加えて上記外端と上記境界
との間の領域で上記第1マスク材料を上記リード部間に
流動させて充填して硬化させ、 上記リード部間の上記第1マスク材料及び上記リード部
上の位置であって、上記基板を形成すべき位置よりも外
側の領域に、上記リード部の上記外端を除いて第2マス
ク材料層を設け、 上記第2マスク材料層を含めて上記フレームシート上に
電気絶縁性の樹脂基板材料層を形成し、 上記基板材料層上に上記リード部の内端に接続された導
電性回路を形成し、 上記リード部の上記第2マスク材料層上の上記基板材料
層を上記第2マスク材料と共に取り除いて、上記リード
部の上記外端を互いに剛体的に結合する上記基板材料の
保護部材と上記樹脂基板とを形成し、 上記第1マスク材料を取り除き、 もって上記封止樹脂の上記外表面に対応する位置を含み
それより内側の領域全体に亙って上記リード部間に延
び、少なくとも上記リード部の厚さと同じ厚さを有する
電気絶縁性かつ耐熱性の樹脂の橋絡部材を形成する工程
を備えた半導体集積回路搭載用基板の製造方法。 - 【請求項29】 上記第1マスク材料を取り除く工程の
後に、上記保護部材の外側で上記フレーム部を上記リー
ド部から切り離す工程を備えた請求項28記載の半導体
集積回路搭載用基板の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3255516A JPH0595079A (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | リードフレーム、半導体集積回路搭載用基板及び半導体装置並びにそれらの製造方法 |
| US07/953,048 US5285104A (en) | 1991-10-02 | 1992-09-29 | Encapsulated semiconductor device with bridge sealed lead frame |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3255516A JPH0595079A (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | リードフレーム、半導体集積回路搭載用基板及び半導体装置並びにそれらの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0595079A true JPH0595079A (ja) | 1993-04-16 |
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ID=17279840
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3255516A Pending JPH0595079A (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | リードフレーム、半導体集積回路搭載用基板及び半導体装置並びにそれらの製造方法 |
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| US (1) | US5285104A (ja) |
| JP (1) | JPH0595079A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09129802A (ja) * | 1995-08-30 | 1997-05-16 | Samsung Electron Co Ltd | 半導体チップパッケージの製造方法 |
| JPH1056126A (ja) * | 1996-08-12 | 1998-02-24 | Nec Corp | リードフレーム及びその製造方法並びに樹脂封止型半導体装置 |
| WO2012111254A1 (ja) * | 2011-02-15 | 2012-08-23 | パナソニック株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
| DE102021006157A1 (de) | 2020-12-18 | 2022-06-23 | Semiconductor Components Industries, Llc | Mehrfachsubstratgehäusesysteme und verwandte verfahren |
| CN115692398A (zh) * | 2022-11-17 | 2023-02-03 | 海信家电集团股份有限公司 | 功率模块和具有其的电子设备 |
Families Citing this family (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2682936B2 (ja) * | 1992-02-07 | 1997-11-26 | ローム株式会社 | 半導体装置 |
| US5589668A (en) * | 1993-05-12 | 1996-12-31 | Hitachi Cable, Ltd. | Multi-metal layer wiring tab tape carrier and process for fabricating the same |
| US6339191B1 (en) * | 1994-03-11 | 2002-01-15 | Silicon Bandwidth Inc. | Prefabricated semiconductor chip carrier |
| US5821457A (en) * | 1994-03-11 | 1998-10-13 | The Panda Project | Semiconductor die carrier having a dielectric epoxy between adjacent leads |
| US5824950A (en) * | 1994-03-11 | 1998-10-20 | The Panda Project | Low profile semiconductor die carrier |
| JP2928120B2 (ja) * | 1995-01-18 | 1999-08-03 | 日本電気株式会社 | 樹脂封止型半導体装置用リードフレームおよび樹脂封止型半導体装置の製造方法 |
| KR100214480B1 (ko) * | 1996-05-17 | 1999-08-02 | 구본준 | 반도체 패키지용 리드 프레임 |
| US5886397A (en) * | 1996-09-05 | 1999-03-23 | International Rectifier Corporation | Crushable bead on lead finger side surface to improve moldability |
| US5939775A (en) * | 1996-11-05 | 1999-08-17 | Gcb Technologies, Llc | Leadframe structure and process for packaging intergrated circuits |
| EP1021831A1 (en) * | 1997-01-30 | 2000-07-26 | GCB Technologies, Inc | Improved leadframe structure with preplated leads and process for manufacturing the same |
| US5929512A (en) * | 1997-03-18 | 1999-07-27 | Jacobs; Richard L. | Urethane encapsulated integrated circuits and compositions therefor |
| US6861735B2 (en) * | 1997-06-27 | 2005-03-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Resin molded type semiconductor device and a method of manufacturing the same |
| US6078102A (en) * | 1998-03-03 | 2000-06-20 | Silicon Bandwidth, Inc. | Semiconductor die package for mounting in horizontal and upright configurations |
| JP4030200B2 (ja) * | 1998-09-17 | 2008-01-09 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体パッケージおよびその製造方法 |
| US6141869A (en) | 1998-10-26 | 2000-11-07 | Silicon Bandwidth, Inc. | Apparatus for and method of manufacturing a semiconductor die carrier |
| US6576496B1 (en) * | 2000-08-21 | 2003-06-10 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for encapsulating a multi-chip substrate array |
| JP3819728B2 (ja) * | 2001-04-13 | 2006-09-13 | 三洋電機株式会社 | リードフレームを具えた電子部品 |
| JP3939554B2 (ja) * | 2002-01-15 | 2007-07-04 | シャープ株式会社 | 半導体用リードフレーム |
| JP3846437B2 (ja) * | 2003-03-17 | 2006-11-15 | 株式会社日立製作所 | 自動車用コントロールユニット |
| JP2004335710A (ja) * | 2003-05-07 | 2004-11-25 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
| US7592691B2 (en) * | 2006-09-01 | 2009-09-22 | Micron Technology, Inc. | High density stacked die assemblies, structures incorporated therein and methods of fabricating the assemblies |
| US9761435B1 (en) | 2006-12-14 | 2017-09-12 | Utac Thai Limited | Flip chip cavity package |
| US9711343B1 (en) | 2006-12-14 | 2017-07-18 | Utac Thai Limited | Molded leadframe substrate semiconductor package |
| US7742309B2 (en) * | 2006-12-29 | 2010-06-22 | Nokia Corporation | Electronic device and method of assembling an electronic device |
| US9355940B1 (en) * | 2009-12-04 | 2016-05-31 | Utac Thai Limited | Auxiliary leadframe member for stabilizing the bond wire process |
| CN103311210B (zh) * | 2012-03-06 | 2017-03-01 | 飞思卡尔半导体公司 | 用于组装半导体器件的引线框 |
| US10075108B2 (en) * | 2014-08-08 | 2018-09-11 | Johnson Electric S.A. | Integrated circuit, motor component and application device having the motor component |
| JP7109347B2 (ja) * | 2018-12-03 | 2022-07-29 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置および電力変換装置 |
| JP2025527352A (ja) * | 2022-08-18 | 2025-08-20 | ヒタチ・エナジー・リミテッド | 半導体パワーモジュールおよび半導体パワーモジュールを製造するための方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6396947A (ja) * | 1986-10-13 | 1988-04-27 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置用リ−ドフレ−ム |
| JPH02292836A (ja) * | 1989-05-02 | 1990-12-04 | Nippon Steel Corp | Icチップ実装用フィルムキャリア |
-
1991
- 1991-10-02 JP JP3255516A patent/JPH0595079A/ja active Pending
-
1992
- 1992-09-29 US US07/953,048 patent/US5285104A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09129802A (ja) * | 1995-08-30 | 1997-05-16 | Samsung Electron Co Ltd | 半導体チップパッケージの製造方法 |
| JPH1056126A (ja) * | 1996-08-12 | 1998-02-24 | Nec Corp | リードフレーム及びその製造方法並びに樹脂封止型半導体装置 |
| WO2012111254A1 (ja) * | 2011-02-15 | 2012-08-23 | パナソニック株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
| US8772923B2 (en) | 2011-02-15 | 2014-07-08 | Panasonic Corporation | Semiconductor device having leads with cutout and method of manufacturing the same |
| JP5873998B2 (ja) * | 2011-02-15 | 2016-03-01 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
| DE102021006157A1 (de) | 2020-12-18 | 2022-06-23 | Semiconductor Components Industries, Llc | Mehrfachsubstratgehäusesysteme und verwandte verfahren |
| US12211775B2 (en) | 2020-12-18 | 2025-01-28 | Semiconductor Components Industries, Llc | Multiple substrate package systems and related methods |
| CN115692398A (zh) * | 2022-11-17 | 2023-02-03 | 海信家电集团股份有限公司 | 功率模块和具有其的电子设备 |
| CN115692398B (zh) * | 2022-11-17 | 2023-12-05 | 海信家电集团股份有限公司 | 功率模块和具有其的电子设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5285104A (en) | 1994-02-08 |
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