JPH0596063U - グロー放電分解装置 - Google Patents
グロー放電分解装置Info
- Publication number
- JPH0596063U JPH0596063U JP3632192U JP3632192U JPH0596063U JP H0596063 U JPH0596063 U JP H0596063U JP 3632192 U JP3632192 U JP 3632192U JP 3632192 U JP3632192 U JP 3632192U JP H0596063 U JPH0596063 U JP H0596063U
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- glow discharge
- ring
- substrate
- discharge decomposition
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- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】製造の歩留まりが向上するとともに、高性能且
つ高信頼性の電子写真感光体を提供する。 【構成】成膜用ガスが導入される反応室内部に、導電性
円筒体と、該円筒体と対向するグロー放電用電極板とを
配置し、グロー放電により円筒体周面を成膜するグロー
放電分解装置において、前記円筒体の端部に切欠きを入
れたリング状体を冠着したことを特徴とする。
つ高信頼性の電子写真感光体を提供する。 【構成】成膜用ガスが導入される反応室内部に、導電性
円筒体と、該円筒体と対向するグロー放電用電極板とを
配置し、グロー放電により円筒体周面を成膜するグロー
放電分解装置において、前記円筒体の端部に切欠きを入
れたリング状体を冠着したことを特徴とする。
Description
【0001】
本考案は例えばアモルファスシリコンから成る電子写真感光体ドラムを製造す るためのグロー放電分解装置に関するものである。
【0002】
今日、アモルファスシリコン(以下アモルファスシリコンをa−Siと略記す る)を光導電層とした電子写真感光体が実用化されており、その優れた耐磨耗性 、耐熱性及び光感度特性並びに無公害性等々により市場に急速に浸透しつつある 。
【0003】 このa−Si感光体はアルミニウム製ドラム(円筒体)の周面にa−Si層を グロー放電分解法により形成して得られるが、そのドラムの基板温度を約300 ℃に設定しており、そのために成膜後に基板温度が室温にまでに降下した場合に 、a−Si層とドラムとの熱膨張率の差が原因になってドラム端部に応力が集中 し、これにより、ドラム端部が変形したり、あるいはその端部付近に成膜された a−Si層が剥離するという問題点があった。
【0004】 かかる問題点を解決するために、ドラム端部にマスク体を設置して、その端部 が成膜されないようにグロー放電分解装置が提案されている。
【0005】
しかしながら、上記提案のグロー放電分解装置であれば、ドラムとマスク体と の間の隙間に成膜用ガスが入ってa−Si層が形成されないように、その隙間を なくす必要があり、そのためにマスク体の形状がきわめて精度の高い加工が要求 されるという問題点がある。
【0006】 しかも、このマスク体もその外面に形成されたa−Si層の応力により収縮変 形を受けるために、その精度を維持することが困難であり、これにより、それを 一回の成膜でもって廃棄しなくてはならず,その結果、製造コストが高くなると いう問題点があった。
【0007】
本考案のグロー放電分解装置は、成膜用ガスが導入される反応室内部に、導電 性円筒体と、該円筒体と対向するグロー放電用電極板とを配置し、グロー放電に より円筒体周面を成膜する構成において、前記円筒体の端部に切欠きを入れたリ ング状体を冠着したことを特徴とするグロー放電分解装置。
【0008】
以下、この考案の実施例を述べる。
【0009】 次に図1のグロー放電分解装置1の構成を説明する。
【0010】 同図中、2は円筒形状の金属製反応炉、3は感光体ドラム装着用の円筒形状の 導電性基板支持体、4は基板加熱用ヒーター、5はa−Siの成膜に用いられる 円筒形状のグロー放電用電極板であり、この電極板5にはガス噴出口6が形成さ れており、そして、7は反応炉内部へガスを導入するためのガス導入口、8はグ ロー放電に晒されたガスの残余ガスを排気するためのガス排出口であり、9は基 板支持体3とグロー放電用電極板5の間でグロー放電を発生させる高周波電源で ある。また、この反応炉2は円筒体2aと、蓋体2bと、底体2cとからなり、 そして、円筒体2aと蓋体2bとの間、並びに円筒体2aと底体2cとの間には それぞれ絶縁性のリング10、11を設けており、これによって高周波電源9の 一方の端子は円筒体2aを介してグロー放電用電極板5と導通しており、他方の 端子は蓋体2bや底体2cを介して基板支持体3と導通している。また、蓋体2 bに上に付設したモーター12により回転軸13を介して基板支持体3が回転駆 動され、これに伴って導電性基板支持体3に装着したドラム状基板14も回転す る。
【0011】 このグロー放電分解装置1においては、基板14の上端及び/又は下端にそれ ぞれ切欠きを入れたリング状体15を冠着しており、その基板14の冠着領域が 成膜されないようになっている。図2はこのリング状体15を表しており、15 aは鍔部であり、15bは切欠きであり、このリング状体15は図3に示すよう に冠着する。
【0012】 このグロー放電分解装置1を用いてa−Si感光体ドラムを作製する場合には 、a−Si成膜用のドラム状基板14を基板支持体3に装着し、a−Si生成用 ガスをガス導入口7より反応炉内部へ導入し、このガスをガス噴出口14を介し て基板面へ噴出し、更にヒーター4によって基板を所要の温度に設定するととも に基板支持体3と電極板5の間でグロー放電を発生させ、更に基板14を回転さ せることによって基板14の周面にa−Si膜が成膜できる。
【0013】 かくして上記構成のグロー放電分解装置1により製作したa−Si感光体は、 図4に示すような成膜状態になる。同図によれば、その感光体の端部を示し、1 6の斜線領域はa−Si層である。16aはリング状体15の切欠き15bに対 応しており、また、17に示すように非成膜領域ができる。
【0014】 また、このリング状体15の周面上にもa−Si層が形成されるが、その膜が その周面に対して応力を加えることになる。しかしながら、この応力は切欠き1 5bに逃がすことができ、これにより、基板14が変形したり、それによって膜 の剥離が生じなくなる。
【0015】 このように上記切欠き15bはリング状体15にスプリング効果をもたせるこ とになり、成膜時にa−Si層に応力を受けて収縮したにしても、繰り返し使用 することができ、また、リング状体15を基板14に装着する際に、それを広げ ながら装着したり、装着後にスプリング効果により基板14に密着させることが できる。
【0016】 更にリング状体15の熱膨張率が基板14のものに比べて同等もしくは小さく するのが望ましく、これにより、グロー放電に伴う昇温によって両者間に隙間が 生じなくなる。
【0017】 このリング状体15は350℃以下で変形しなく、更に耐熱性に優れているの がよく、その材質としてはステンレス、アルミニウム、セラミック等がある。
【0018】 次に本考案者等の実験結果を表1に示す。この実験においては、基板14の寸 法は外径120mmΦ、内径112mmΦ、長さ330mmである。
【0019】
【表1】
【0020】 この表において、実施例1は本考案に係るアルミニウム製リング状体15であ り、それは内径120.15mmΦ、長さ15mmのリング寸法に対して幅1m mの切込みを入れたものである。これに対して、実施例2は、基板14の外径に 対して更に0.05mmを加えた内径を有して、長さ15mmのリング体を用い ているが、それには上記のような切欠き15bが形成されていない。また、実施 例3においては、基板14の外径に対して更に0.15mmを加えた内径を有し て、長さ15mmのリング体を用いているが、それにも上記のような切欠き15 bが形成されていない。そして、いずれも実施例においても基板端部と重なる長 さ寸法は5mmとした。次いで、上述のように各3種類のリング体に対応してそ れぞれa−Si層を成膜して、リング体内の膜の回り込み状態と、並びに基板1 4の端部の変形具合を目視により確認したところ、表1に示すような結果が得ら れた。そして、このような実験を各々同じリング状体を用いて繰り返し3回以上 行った。尚、この表において、○は何ら不都合が認められず、問題なく実用レベ ルにある場合であり、△はその問題が多少認められて実用上支障がある場合であ り、×はその問題が顕著であって実用不可である場合を表す。
【0021】 この表より明らかな通り、本考案は同じリング状体を繰り返し使用しても高品 質なa−Si感光体が提供できることが判る。
【0022】
以上のように、本考案のグロー放電分解装置においては、成膜用ガスが導入さ れる反応室内部に、導電性円筒体と、円筒体と対向するグロー放電用電極板とを 配置し、グロー放電により円筒体周面を成膜する場合に、円筒体の端部に切欠き を入れたリング状体を冠着したことにより、それ自体に生じる応力が緩和され、 これにより、この円筒体が変形したり、それに起因する膜の剥離が生じなくなり 、その結果、製造の歩留まりが向上するとともに、高性能且つ高信頼性の電子写 真感光体を提供することができた。
【図1】実施例のグロー放電分解装置の説明図である。
【図2】実施例のグロー放電分解装置におけるリング体
の斜視図である。
の斜視図である。
【図3】実施例のグロー放電分解装置における冠着状態
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図4】実施例のグロー放電分解装置により製作した電
子写真感光体の一部拡大図である。
子写真感光体の一部拡大図である。
2・・・・・反応炉 3・・・・・基板支持体 5・・・・・グロー放電用電極板 14・・・・ドラム状基板 15・・・・リング状体 15b・・・切欠き
Claims (1)
- 【請求項1】成膜用ガスが導入される反応室内部に、導
電性円筒体と、該円筒体と対向するグロー放電用電極板
とを配置し、グロー放電により円筒体周面を成膜するグ
ロー放電分解装置において、前記円筒体の端部に切欠き
を入れたリング状体を冠着したことを特徴とするグロー
放電分解装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3632192U JPH0596063U (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | グロー放電分解装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3632192U JPH0596063U (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | グロー放電分解装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0596063U true JPH0596063U (ja) | 1993-12-27 |
Family
ID=12466577
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3632192U Pending JPH0596063U (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | グロー放電分解装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0596063U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015191960A (ja) * | 2014-03-27 | 2015-11-02 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 成膜装置、成膜方法及びリフレクタユニット |
-
1992
- 1992-05-29 JP JP3632192U patent/JPH0596063U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015191960A (ja) * | 2014-03-27 | 2015-11-02 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 成膜装置、成膜方法及びリフレクタユニット |
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