JPH059699A - 電気めつきライン用コンダクタロ−ル及びその製造方法 - Google Patents

電気めつきライン用コンダクタロ−ル及びその製造方法

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JPH059699A
JPH059699A JP19280591A JP19280591A JPH059699A JP H059699 A JPH059699 A JP H059699A JP 19280591 A JP19280591 A JP 19280591A JP 19280591 A JP19280591 A JP 19280591A JP H059699 A JPH059699 A JP H059699A
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川 悟 緑
Satoshi Kasai
井 聡 笠
Yoshinobu Masuchi
地 義 信 曽
Masaaki Takagishi
岸 正 章 高
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 電気めっきライン用コンダクタロ−ルとして
の一般的性能に優れることは勿論、更に金属炭化物粒子
の脱落の少ない溶射皮膜を形成した電気めっきライン用
コンダクタロ−ル及びその製造方法を提供する。 【構成】 電気めっきライン用コンダクタロ−ルにおい
て、該ロ−ルの胴部1表面に、WC20〜80重量%、残部が
Ni−Cr系自溶合金から成る混合粉末を溶射して被覆する
と共に、形成された皮膜層中に混在するWC粒子2が楕円
状に変形し且つこのWC粒子の長径を皮膜層と平行に配列
させた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電気めっきライン用の
コンダクタロ−ルに係り、特に耐食性と耐摩耗性に優れ
たコンダクタロ−ル及びその製造方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】一般に、ブリキ原板等のストリップに
は、表面処理として電気めっき処理が施されており、そ
のための電気めっき処理装置には、めっき液中に浸漬さ
れる浸漬ロ−ル,めっき液表面近傍に設置されるコンダ
クタロ−ル或いはストリップを案内するガイドロ−ルな
どが配設されている。
【0003】この種の電気めっき処理装置においては、
コンダクタロ−ルはめっき液と直接に或いはストリップ
を介して間接的に接触するため、めっき液による侵食
が起りにくいこと、ストリップと接触しても摩耗しに
くいこと、付着しためっき液中の溶解金属の剥離が容
易なこと、ロ−ルとしての寿命が長いこと、が要求さ
れる。これらの要求に応えられる電気めっき処理用のコ
ンダクタロ−ルの従来技術としては、ロ−ルの表面に硬
質クロムめっき処理を施したものがよく知られている。
【0004】而して、前記従来技術によるコンダクタロ
−ルは、無処理ロ−ルに比べると、寿命は長くなってい
るものの、めっき液には強酸又は強アルカリ性のものが
用いられているので、2〜3週間程度の使用によって、
硬質クロムめっき皮膜の一部が腐食されて地鉄が露出
し、その露出した地鉄にめっき液中の金属が付着して、
ストリップに押疵を発生させ、商品価値を著しく低下さ
せるという問題点があった。このような問題点を解決す
るため、本発明者等は先に特公昭61-21320号公報に記載
されたコンダクタロ−ルを提案した。このコンダクタロ
−ルは、ロ−ルの胴部表面に、金属炭化物粉末10〜90重
量%、残部がNi−Cr合金粉末から成る混合粉末を溶射し
て被覆させたことを特徴とするもので、溶射により形成
された皮膜はNi−Cr合金中に球状の金属炭化物粒子がラ
ンダムに分散した組織である。従って、めっき液に接触
した場合にもNi−Cr合金であるが故に耐食性が良く、且
つ皮膜中に分散した金属炭化物粒子により高耐摩耗性の
電気めっきライン用コンダクタロ−ルが得られ、従来ロ
−ルの10倍以上に寿命が延び、所期の目的は充分に達成
された。然し乍ら、なお金属炭化物粒子が脱落するとい
う点で改善すべき余地が残されていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、電
気めっきライン用コンダクタロ−ルとしての一般的性能
に優れることは勿論、更に金属炭化物粒子の脱落の少な
い溶射皮膜を形成した電気めっきライン用コンダクタロ
−ル及びその製造方法を提供することを、課題とするも
のである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
することを目的としてなされたもので、そのロ−ルの構
成は、電気めっきライン用コンダクタロ−ルにおいて、
該ロ−ルの胴部表面に、WC20〜80重量%、残部がNi−Cr
系自溶合金から成る混合粉末を溶射して被覆すると共
に、形成された皮膜層中に混在するWC粒子が楕円状に変
形し且つこのWC粒子の長径を皮膜層と平行に配列させた
ことを特徴とするものであり、また、その製造方法の構
成は、ロ−ルの胴部表面に、WC20〜80重量%、残部がNi
−Cr系自溶合金から成る混合粉末をWC粒子を半溶融状態
にして溶射した後、再溶融処理を施し、皮膜層中に混在
するWC粒子が楕円状に変形し且つこのWC粒子の長径が皮
膜層と平行になるように配列させることを特徴とするも
のである。
【0007】即ち、本発明は、上記の課題を解決するこ
とを目的として鋭意研究の結果、溶射材料として、金属
炭化物粉末とNi−Cr合金粉末から成る混合粉末の中か
ら、特に耐食性,耐摩耗性及び密着性に優れるNi−Cr系
自溶合金粉末にWCを20〜80重量%の範囲で混合したもの
を用い、この溶射材料を、適切な溶融温度でWC粒子を半
溶融状態に加熱し、溶融粒子を適切な流速で溶射するこ
とにより、WC粒子が楕円状に変形し且つ該WC粒子の長径
が皮膜層と平行に配列され、更に、これを適切な加熱温
度で所定温度を適切な時間保持させる条件で再溶融処理
することにより、ロ−ルの胴部に気孔の少ない密着した
皮膜層が形成されることを知得し、本発明を完成したの
である。
【0008】而して、上記の粉末溶融温度は3000〜6000
℃、溶融粒子の流速は300〜800m/s、再溶融処理におけ
る加熱温度は1100〜1170℃、所定温度保持時間は60秒以
内が好ましく、再溶融処理は高周波移動加熱によると好
結果を得られる。
【0009】電気めっきライン用コンダクタロ−ルの胴
部表面に上記のような皮膜層を形成することより、前記
の課題を解決し、耐食性,耐摩耗性及び密着性が良好
で、寿命の長いコンダクタロ−ルを得られるのである。
【0010】次に、本発明における溶射材料及び製造方
法を想定するに到った背景について詳述すると共に、本
発明製造方法の具体的内容について説明する。従来の溶
射法では、図1に示すように、溶射されてロ−ルの胴部
11に形成された皮膜層A1中の金属炭化物粒子12は、形状
が不規則で方向性もなく、Ni−Cr合金13中に混在された
組織となっており、このため、皮膜層A1表面に現れた金
属炭化物粒子12の一部がNi−Cr合金13との接触面積が少
ないので、接着力が弱く脱落することがわかった。
【0011】そこで、図2に示すように、金属炭化物WC
粒子2の形状を楕円形にし、且つ皮膜層Aと平行に配列
することが接着力を高めるのに有効であることを見出し
た。即ち、従来の溶射法では金属炭化物粒子12は変形す
ることなく溶射及び再溶融処理され、Ni−Cr合金13中に
混在している状態であるが、本発明の製造方法では、金
属炭化物粒子2を半溶融状態にして高速で溶射すること
によって、金属炭化物粒子2を変形させ、更に所定の再
溶融温度の保持時間を60秒以内で処理することにより、
上記の皮膜状態にすることが可能となったのである。こ
の場合、WC粒子2の混合量が20%以下では耐摩耗性が低
下し、80%以を超えると耐食性の低下及びWC粒子2とNi
−Cr合金3との接着力が弱くなる。
【0012】次に、WC粒子を半溶融状態にするための溶
融温度と粒子速度の関係は、図3に示すようになる。こ
の表で溶融温度が低い場合は、WC粒子は変形せず、ま
た、粒子速度が遅い場合は、WC粒子の方向性が失われ、
300mm/s以上であれば、成形可能であるが、再溶融処理
での皮膜の割れ等を考慮すれば、800mm/s以内が好まし
い。また、溶融温度が高い場合は、WC粒子は大部分が分
解消失し、皮膜性能が低下する。
【0013】更に、再溶融処理における所定温度の保持
時間を60秒以上とした場合は、WC粒子は分解,酸化して
消失する。
【0014】
【実施例】次に本発明の実施例について説明する。尚、
実施例は本発明の効果を確認するためのものであり、本
発明は実施例に限定されるものではない。
【0015】
【実施例1】下表の溶射条件により、ロ−ルの表面に皮
膜を形成し、皮膜断面の観察によって、WC粒子の状態の
比較を行なったところ、表1に示す通りであった。
【0016】
【表1】
【0017】
【実施例2】この実施例は、ハロゲン法による電気めっ
きラインのコンダクタロ−ルに本発明を適用し、従来技
術と比較するため、表2に示す条件で製造した。
【0018】
【表2】
【0019】而して、上記ロ−ルを、使用条件を、ライ
ンスピ−ド250m/min〜480m/min、めっき電流250アンペ
ア〜400アンペアとして、比較したところ、従来技術ロ
−ルは6週目にWC粒子が脱落し、ストリップに押疵が発
生したのに対して、本発明ロ−ルはストリップの品質を
損なうことなく、従来技術ロ−ルの2倍以上の寿命で連
続使用が可能であった。
【0020】
【発明の効果】本発明は上述の通りであるから、耐食
性,耐摩耗性に優れたものであり、電気めっきライン用
のコンダクタロ−ルとして好適である。
【図面の簡単な説明】
【図1a】従来の溶射法により形成された皮膜層の周方
向断面図。
【図1b】同じく軸方向断面図。
【図2a】本発明による皮膜層の周方向断面図。
【図2b】同じく軸方向断面図。
【図3】溶射時における溶融温度と粒子速度の最適範囲
を示す図表。
【符号の説明】
1 ロ−ルの胴部 2 WC粒子 3 Ni−Cr自溶合金
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 笠 井 聡 千葉県千葉市川崎町1番地 川崎製鉄株式 会社千葉製鉄所内 (72)発明者 曽 地 義 信 神奈川県川崎市川崎区殿町2丁目8番3号 第一高周波工業株式会社技術部内 (72)発明者 高 岸 正 章 神奈川県川崎市川崎区殿町2丁目8番3号 第一高周波工業株式会社技術部内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電気めっきライン用コンダクタロ−ルに
    おいて、該ロ−ルの胴部表面に、WC20〜80重量%、残部
    がNi−Cr系自溶合金から成る混合粉末を溶射して被覆す
    ると共に、形成された皮膜層中に混在するWC粒子が楕円
    状に変形し且つこのWC粒子の長径を皮膜層と平行に配列
    させたことを特徴とする電気めっきライン用コンダクタ
    ロ−ル。
  2. 【請求項2】 ロ−ルの胴部表面に、WC20〜80重量%、
    残部がNi−Cr系自溶合金から成る混合粉末をWC粒子を半
    溶融状態にして溶射した後、再溶融処理を施し、皮膜層
    中に混在するWC粒子が楕円状に変形し且つこのWC粒子の
    長径が皮膜層と平行になるように配列させることを特徴
    とする電気めっきライン用コンダクタロ−ルの製造方
    法。
  3. 【請求項3】 混合粉末の溶融温度を3000〜6000℃、且
    つ粒子速度を300m/s以上で溶射した後、再溶融処理を施
    す請求項2に記載の方法。
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