JPH06103172B2 - レジスト膜厚検査装置 - Google Patents

レジスト膜厚検査装置

Info

Publication number
JPH06103172B2
JPH06103172B2 JP63195111A JP19511188A JPH06103172B2 JP H06103172 B2 JPH06103172 B2 JP H06103172B2 JP 63195111 A JP63195111 A JP 63195111A JP 19511188 A JP19511188 A JP 19511188A JP H06103172 B2 JPH06103172 B2 JP H06103172B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
turntable
film thickness
incident
stage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP63195111A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0244206A (ja
Inventor
正夫 種橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP63195111A priority Critical patent/JPH06103172B2/ja
Publication of JPH0244206A publication Critical patent/JPH0244206A/ja
Publication of JPH06103172B2 publication Critical patent/JPH06103172B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はレジスト膜厚検査装置、特に、光ディスク原盤
作成時のレジスト膜厚検査装置に関する。
〔従来の技術〕
従来のレジスト膜厚検査装置は、ターンテーブルと、前
記ターンテーブルを回転するターンテーブル回転駆動部
と、前記ターンテーブルの半径方向へ移動できるステー
ジと、前記ステージを駆動するステージ駆動部と、レー
ザビームを発生するレーザと、前記レーザビームを前記
ターンテーブルへ導く光学系と、前記ターンテーブルへ
入射するレーザビームと反射するレーザビームを検出し
入射信号と反射信号を発生する2つの光検出器と、前記
反射信号を前記入射信号で除算し反射率信号を発生する
除算部とを含んで構成される。
次に従来のレジスト膜厚検査装置について図面を参照し
て詳細に説明する。
第6図は、従来のレジスト膜厚検査装置の一例を示すブ
ロック図である。
第6図に示すレジスト膜厚検査装置は、ターンテーブル
1と、ターンテーブル回転駆動部2と、ステージ4と、
ステージ駆動部5と、レーザ7と、光学系8と、光検出
器9,10と、除算部11とを含んでいる。
ここでターンテーブル1は、被測定物のレジストをコー
ティングした光ディスク原盤を載せる台である。ターン
テーブル回転駆動部2は、ターンテーブル1を回転す
る。ステージ4は、光学系8が固定される。ステージ駆
動部5は、ターンテーブル1の半径方向へステージ4を
移動する。
レーザ7は、レーザビームcを発生する。光学系8は、
レーザビームcを2本のビームに分離し、1本をターン
テーブル1上の被測定物に導く。被測定物に導かれたビ
ームは、被測定物で反射し、反射ビームeになる。もう
一方は、被測定物に入射したビームの光量を検出するた
めに用いられる入射ビームdになる。
光検出器9,10は、入射ビームdと反射ビームeを各々電
気信号に変換し、入射信号fと反射信号gを発生する。
除算部17は、反射信号gを入射信号fで除算し反射率信
号hを発生する。レジスト膜厚によって反射率が変化す
るので反射率信号lを測定することによってレジスト膜
厚を検査することができる。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来のレジスト膜厚検査装置は、測定値が測定
時限りで消えてしまうのでデータの蓄積、分析が困難で
あるという欠点があった。また、膜厚に相当する反射率
信号を生成するとき、ハード的に除算を行っているため
に、除算部の入力信号である反射信号と入射信号が除算
部の入力範囲内であるかどうかチエックできないという
欠点があった。
〔課題を解決するための手段〕
本発明のレジスト膜厚検査装置は、ターンテーブルと、
前記ターンテーブルを回転するターンテーブル回転駆動
部と、前記ターンテーブルの回転角を等角度に分割する
回転信号を発生するエンコーダと、前記ターンテーブル
の半径方向へ移動できるステージと、前記ステージを駆
動するステージ駆動部と、前記ターンテーブルの回転中
心から前記ステージまでの距離を検出し位置信号を発生
する位置検出器と、レーザビームを発生するレーザと、
前記レーザビームを前記ターンテーブルへ導く光学系
と、前記ターンテーブルへ入射するレーザビームと反射
するレーザビームを検出し、入射信号と反射信号を発生
する2つの光検出器と、前記入射信号と前記反射信号の
中から1つを選択する選択器と、前記選択器の出力をデ
ィジタル信号に変換するA/D変換器と、前記ディジタル
信号を記憶する記憶部と、入出力装置を備え位置信号と
回転角信号を記憶し、前記反射信号の前記ディジタル信
号を前記入射信号の前記ディジタル信号で除算し膜厚値
を算出する制御部とを含んで構成される。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例について、図面を参照して詳細に
説明する。
第1図は本発明の一実施例を示すブロック図である。
第1図に示すレジスト膜厚検査装置は、ターンテーブル
1と、ターンテーブル回転駆動部2と、エンコーダ3
と、ステージ4と、ステージ5と、位置検出器6と、レ
ーザ7と、光学系8と、光検出器9,10と、選択器11と、
A/D変換部12と、記憶部13と、制御部14と、キーボード1
5と、表示出力部16とを含んでいる。
ここでターンテーブル1は、被測定物のレジストをコー
ティングした光ディスク原盤を載せる台である。ターン
テーブル回転駆動部2は、ターンテーブル1を回転す
る。エンコーダ3は、ターンテーブル1回転角を等角度
に分割する回転角信号aを発生する。ステージ4は、光
学系8が固定される。ステージ駆動部5は、ターンテー
ブル1の半径方向へステージ4を移動する。位置検出器
6は、ターンテーブル1の回転中心からステージ4まで
の距離を検出し位置信号bを発生する。
レーザ7は、レーザビームcを発生する。光学系8は、
レーザビームcを2本のビームに分離し、1本をターン
テーブル1上の被測定物に導く。被測定物に導かれたビ
ームは、被測定物で反射し、反射ビームeになる。もう
一方は、被測定物に入射したビームの光量を検出するた
めに用いられる入射ビームdになる。
光検出器9,10は、入射ビームdと反射ビームeを各々電
気信号に変換し入射信号fと反射信号gを発生する。
選択器11は、後記セレクト信号hに従い、入射信号fと
反射信号gの中から1つを選択し出力する。
A/D変換部12は、選択器11の出力を後記タイミング信号
kのタイミングでA/D変換し、A/Dデータiを発生する。
記憶部13はA/Dデータiを記憶する。
制御部14は、入出力装置としてキーボード15と表示出力
部16を備えている。キーボード15によって入力された測
定条件に基づいて回転角信号aと位置信号bからセレク
ト信号hとタイミング信号kを発生する。また測定終了
後、キーボード15によって入力された出力形式に基づい
て測定結果から膜厚値を算出し表示出力部16に出力す
る。
第2図〜第5図は出力形式の例である。
第2図は、被測定物の半径方向における膜厚値変化を折
れ線グラフで表示している。
第3図は、被測定物の円周方向における膜厚値変化を折
れ線グラフで表示している。
第4図は、測定結果が規格外であった位置を分布図とし
て表示している。
第5図は、測定結果が規格外であった位置と膜厚データ
を表示している。
〔発明の効果〕
本発明のレジスト膜厚検査装置は、測定値をディジタル
化し蓄積することにより、データの分析が容易になり、
グラフ、分布図等を作成できるという効果がある。ま
た、膜厚値を反射信号と入射信号から算出しているので
反射信号と入射信号が正常な範囲内であるかどうかチエ
ックできるという効果がある。
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明の一実施例を示すブロック図、第2,3,4,
5図は、測定結果の出力形式例を示すグラフ、第6図は
従来の一例を示すブロック図である。 1……ターンテーブル、2……ターンテーブル回転駆動
部、3……エンコーダ、4……ステージ、5……ステー
ジ駆動部、6……位置検出器、7……レーザ、8……光
学系、9,10……光検出器、11……選択器、12…A/D変換
部、13……記憶部、14……制御部、15……キーボード、
16……表示出力部、17……除算部、 a……回転角信号、b……位置信号、c……レーザビー
ム、d……入射ビーム、e……反射ビーム、f……入射
信号、g……反射信号、h……セレクト信号、i……A/
Dデータ、k……タイミング信号、l……反射率信号。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ターンテーブルと、前記ターンテーブルを
    回転するターンテーブル回転駆動部と、前記ターンテー
    ブルの回転角を等角度に分割する回転角信号を発生する
    エンコーダと、前記ターンテーブルの半径方向へ移動で
    きるステージと、前記ステージを駆動するステージ駆動
    部と、前記ターンテーブルの回転中心から前記ステージ
    までの距離を検出して位置信号を発生する位置検出器
    と、レーザビームを発生するレーザと、前記レーザビー
    ムを前記ターンテーブルへ導く光学系と、前記ターンテ
    ーブルへ入射するレーザビームと反射するレーザビーム
    を検出し、入射信号と反射信号を発生する2つの光検出
    器と、前記入射信号と前記反射信号の中から1つを選択
    する選択器と、前記選択器の出力をディジタル信号に変
    換するA/D変換器と、前記ディジタル信号を記憶する記
    憶部と、入出力装置を備え位置信号と回転角信号を記憶
    し、前記反射信号の前記ディジタル信号を前記入射信号
    の前記ディジタル信号で除算し膜厚値を算出する制御部
    とを含むことを特徴とするレジスト膜厚検査装置。
JP63195111A 1988-08-03 1988-08-03 レジスト膜厚検査装置 Expired - Fee Related JPH06103172B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63195111A JPH06103172B2 (ja) 1988-08-03 1988-08-03 レジスト膜厚検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63195111A JPH06103172B2 (ja) 1988-08-03 1988-08-03 レジスト膜厚検査装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0244206A JPH0244206A (ja) 1990-02-14
JPH06103172B2 true JPH06103172B2 (ja) 1994-12-14

Family

ID=16335681

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63195111A Expired - Fee Related JPH06103172B2 (ja) 1988-08-03 1988-08-03 レジスト膜厚検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06103172B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
HUE070094T2 (hu) * 2019-08-26 2025-05-28 Sturm Maschinen & Anlagenbau Gmbh Érzékelõkészülék

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0244206A (ja) 1990-02-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5280340A (en) Method and apparatus to calibrate intensity and determine fringe order for interferometric measurement of small spacings
EP0324413B1 (en) Optical instrument for measuring particle sizes
US4850695A (en) Test system for optical disks
JPH06103172B2 (ja) レジスト膜厚検査装置
JPS6128292B2 (ja)
GB1570067A (en) Polarimeter
JPS63159703A (ja) レジスト膜厚検査装置
JPS632323B2 (ja)
EP0046647A2 (en) Digital measuring device
JPS60166808A (ja) 形状測定装置
JP3059714B1 (ja) 相対位置計測装置
JPS59155704A (ja) 穴中心位置検出装置
JPH0244173Y2 (ja)
US6847459B2 (en) Method and apparatus for dynamically measuring the full flying state of a slider
JPS60177239A (ja) 光学系軸ずれ検出装置
JP2767487B2 (ja) 変位計
SU506892A1 (ru) Фотоэлектрический преобразователь угловых перемещений в код
JPS58139032A (ja) レ−ザ光のビ−ム径測定装置
JP2585857B2 (ja) 位置検出装置
US20060114462A1 (en) Apparatus and method for measuring wavelength of an optical light
JPS62208434A (ja) 位置検出装置
SU943803A1 (ru) Устройство дл контрол статоров и роторов вращающихс трансформаторов
JP2501446B2 (ja) 磁気ヘツド浮上隙間測定方法及び装置
SU1631272A1 (ru) Способ измерени линейных размеров
SU821913A1 (ru) Фотоэлектрический датчик перемещений

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees