JPH0610703B2 - 液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置

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JPH0610703B2
JPH0610703B2 JP22823785A JP22823785A JPH0610703B2 JP H0610703 B2 JPH0610703 B2 JP H0610703B2 JP 22823785 A JP22823785 A JP 22823785A JP 22823785 A JP22823785 A JP 22823785A JP H0610703 B2 JPH0610703 B2 JP H0610703B2
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JP
Japan
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bis
liquid crystal
phenyl
hexafluoropropane
dicarboxyphenoxy
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JP22823785A
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JPS6287940A (ja
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浩良 関根
任廷 佐藤
大輔 牧野
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は,液晶表示装置に関する。
(従来の技術) 超ねじれ複屈折効果(super twisted birefringence ef
fect)(T. J. cheffer and J. Nehring, Appl. phys. Le
ff.45(10), 1021(1984))を利用し
たSBE方式の液晶表示装置は,従来のTN方式の液晶
表示装置に比べ,コントラスト,視覚特性が極めてすぐ
れている。
これに用いる配向制御膜は,プレチルト角を高くする必
要があるため,酸化珪素等の無機斜方蒸着膜などが主に
用いられていた。
(発明が解決しようとする問題点) しかし,無機斜方蒸着膜は,液晶に対して選択性があ
り,全ての液晶組成物の配向を良好に行なうことは困難
である。
また,組立て時の高温加熱により配向にムラが生じ歩留
りが低下して生産性が悪くなる欠点を有し,配向制御膜
に必要なコントラストおよび視覚特性を満足することは
できなかつた。
本発明は,この欠点を除いた液晶表示装置を提供するも
のである。
(問題点を解決するための手段) 本発明は,液晶挾持基板上の液晶に面する側に電極を設
け,該基板及び電極上に,カルボン酸無水物,ジアミン
およびジアミノモノアミドの少なとも一つをふつ素原子
を有する成分としてカルボン酸無水物,ジアミンおよび
ジアミノモノアミドを反応させて得られるポリアミド酸
を,脱水閉環して得られるポリイミドイソインドロキナ
ゾリンジオン系高分子被膜を形成した液晶表示装置に関
する。
本発明で用いるポリイミドイソインドロキナゾリンジオ
ン系高分子の前駆体であるポリアミド酸は,カルボン酸
無水物,ジアミンおよびジアミノモノアミドの撹拌反応
により合成される。これらの反応は,無水条件下,好ま
しくは50℃またはそれ以下の温度で行なわれる。
カルボン酸無水物,ジアミンおよびジアミノモノアミド
の反応割合は,カルボン酸無水物のモル数とジアミンお
よびジアミノモノアミドのモル数とを等モルにすること
が好ましい。ジアミノモノアミドは,ジアミンおよびジ
アミノモノアミドの総量に対して0.1〜50モル%の
範囲で用いることが好ましい。この反応は,ジメチルア
セトアミド,ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキ
シド,N−メチル−2−ピロリドン等の溶剤の存在下で
行なわれる。本発明においては,カルボン酸無水物およ
びジアミンの少なくとも一方をふつ素原子を有する成分
としてカルボン酸無水物,ジアミンおよびジアミノモノ
アミドが反応される。
ふつ素原子を有するカルボン酸無水物としては,例えば
2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフエノキ
シ)フエニル〕ヘキサフルオロプロパン,2,2−ビス
(3,4−ジカルボキシフエニル)ヘキサフルオロプロ
パン,ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)ヘキサフ
ルオロプロパン,4,4′−ビス〔4−(3,4−ジカ
ルボキシフエノキシ)フエニル〕ヘキサフルオロプロパ
ン,(トリフルオロメチル)ピロメリト酸,ビス(トリ
フルオロメチル)ピロメリト酸,5,5′−ビス(トリ
フルオロメチル)−3,3′,4,4′−テトラカルボ
キシビフエニル,2,2′,5,5′−テトラキス(ト
リフルオロメチル)−3,3′,4,4′−テトラカル
ボキシビフエニル,5,5′−ビス(トリフルオロメチ
ル)−3,3′,4,4′−テトラカルボキシジフエニ
ルエーテル,5,5′−ビス(トリフルオロメチル)−
3,3′,4,4′−テトラカルボキシベンゾフエノ
ン,ビス〔(トリフルオロメチル)ジカルボキシフエノ
キシ〕ベンゼン,ビス〔(トリフルオロメチル)ジカル
ボキシフエノキシ〕ビフエニル,ビス〔(トリフルオロ
メチル)ジカルボキシフエノキシ〕(トリフルオロメチ
ル)ベンゼン,ビス〔(トリフルオロメチル)ジカルボ
キシフエノキシ〕ビス(トリフルオロメチル)ビフエニ
ル,ビス〔(トリフルオロメチル)ジカルボキシフエノ
キシ〕ジフエニルエーテル,ビス(ジカルボキシフエノ
キシ)(トリフルオロメチル)ベンゼン,ビス(ジカル
ボキシフエノキシ)ビス(トリフルオロメチル)ベンゼ
ン,ビス(ジカルボキシフエノキシ)テトラキス(トリ
フルオロメチル)ベンゼン,ビス(ジカルボキシフエノ
キシ)ビス(トリフルオロメチル)ビフエニル,ビス
(ジカルボキシフエノキシ)テトラキス(トリフルオロ
メチル)ビスフエニル,2,2−ビス〔4−(2,3−
ジカルボキシベンゾイルオキシ)フエニル〕ヘキサフル
オロプロパン,2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボ
キシベンゾイルオキシ)−3−ブロモフエニル〕ヘキサ
フルオロプロパン,2,2−ビス〔4−(3,4−ジカ
ルボキシベンゾイルオキシ)−3,5−ジブロモフエニ
ル〕ヘキサフルオロプロパン,2,2−ビス〔4−
(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)−3,5−
ジメチルフエニル〕ヘキサフルオロプロパン,2,2−
ビス〔4−(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)
フエニル〕オクタフルオロブタン,2,2−ビス〔4−
(2−トリフルオロメチル−3,4−ジカルボキシベン
ゾイルオキシ)フエニル〕ヘキサフルオロプロパン,
1,3−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシベンゾイル
オキシ)フエニル〕ヘキサフルオロプロパン,1,5−
ビス〔4−(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)
フエニル〕デカフルオロペンタン,1,6−ビス〔4−
(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)フエニル〕
ドデカフルオロヘキサン,1,7−ビス〔4−(3,4
−ジカルボキシベンゾイルオキシ)フエニル〕テトラデ
カフルオロヘプタン,1,5−ビス〔4−(3,4−ジ
カルボキシベンゾイルオキシ)−3,5−ジブロモフエ
ニル〕デカフルオロペンタン,1,5−ビス〔4−
(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)−3,5−
ビストリフルオロメチルフエニル〕デカフルオロペンタ
ン,1,5−ビス〔4−(2−トリフルオロメチル−
3,5−ジカルボキシベンゾイルオキシ)フエニル〕デ
カフルオロペンタン,2,2−ビス〔4−(3,4−ジ
カルボキシフエノキシ)フエニル〔ヘキサフルオロプロ
パン,2,3−ビス〔4−(2,3−ジカルボキシフエ
ノキシ)フエニル〕ヘキサフルオロプロパン,2,2−
ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフエノキシ)−3−
ブロモフエニル〕ヘキサフルオロプロパン,2,2−ビ
ス〔4−(3,4−ジカルボキシフエノキシ)−3,5
−ジブロモフエニル〕ヘキサフルオロプロパン,2,2
−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフエノキシ)−
3,5−ジメチルフエニル〕ヘキサフルオロプロパン,
2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフエノキ
シ)フエニル〕オクタフルオロブタン,2,2−ビス
〔4−(3,4−ジカルボキシ−2−トリフルオロメチ
ルフエノキシ)フエニル〕ヘキサフルオロプロパン,
1,3−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフエノキ
シ)フエニル〕ヘキサフルオロプロパン,1,5−ビス
〔4−(3,4−ジカルボキシフエノキシ)フエニル〕
デカフルオロペンタン,1,6−ビス−〔4−(3,4
−ジカルボキシフエノキシ)フエニル〕ドデカフルオロ
ヘキサン,1,7−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシ
フエノキシ)フエニル〕テトラデカフルオロペンタン,
1,5−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフエノキ
シ)−3,5−ジプロモフエニル〕デカフルオロペタ
ン,1,5−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフエノ
キシ)−3,5−ビストリフルオロメチルフエニル〕デ
カフルオロペンタン,1,5−ビス〔4−(3,4−ジ
カルボキシ−2−トリフルオロメチルフエノキシ)フエ
ニル〕デカフルオロペンタンなどが用いられる。
また,ふつ素原子を有するジアミンとしては,例えば
2,2−ビス〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニ
ル〕ヘキサフルオロプロパン,2,2−ビス〔4−(3
−アミノフエノキシ)フエニル〕ヘキサフルオロプロパ
ン,2,2−ビス〔4−(2−アミノフエノキシ)フエ
ニル〕ヘキサフルオロプロパン,2,2−ビス〔4−
(2−アミノフエノキシ)−3,5−ジメチルフエニ
ル〕ヘキサフルオロプロパン,p−ビス(4−アミノ−
2−トリフルオロメチルフエノキシ)ベンゼン,4,
4′−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフエ
ノキシ)ビフエニル,4,4′−ビス(4−アミノ−3
−トリフルオロメチルフエノキシ)ビフエニル,4,
4′−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフエ
ノキシ)ジフエニルスルホン,4,4′−ビス(3−ア
ミノ−5−トリフルオロメチルフエノキシ)ジフエニル
スルホン,2,2−ビス〔4−(4−アミノ−2−トリ
フルオロメチルフエノキシ)フエニル〕ヘキサフルオロ
プロパン,2,2−ビス〔4−(4−アミノフエノキ
シ)フエニル〕ヘキサフルオロプロパンなどが用いられ
る。ふつ素原子を有するジアミノモノアミドとしては例
えば2,2−ビス〔4−(4−アミノフエノキシ)フエ
ニル〕ヘキサフルオロプロパン−3−カルボンアミドな
どが用いられる。
ジアミノモノアミドとしては,例えば1,4−ジアミノ
ベンゼン−2−カルボンアミド,4,4′−ジアミノジ
フエニルエーテル−3−カルボンアミドなどが用いられ
る。
カルボン酸無水物としては,例えばピロメリツト酸無水
物,2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸無水
物,3,3′,4,4′−ジフエニルテトラカルボン酸
無水物,1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸
無水物,2,2′,3,3′−ジフエニルテトラカルボ
ン酸無水物,チオフエン−2,3,4,5−テトラカル
ボン酸無水物,2,2−ビス(3,4−ビスカルボキシ
フエニル)プロパン無水物,3,4−ジカルボキシフエ
ニルスルホン無水物,ペリレン−3,4,9,10−テ
トラカルボン酸無水物,ビス(3,4−ジカルボキシフ
エニル)エーテル無水物,3,3′,4,4′−ベンゾ
フエノンテトラカルボン酸無水物などが用いられる。
また,ジアミンとしては,例えばm−フエニレンジアミ
ン,p−フエニレンジアミン,m−キシレンジアミン,
p−キシレンジアミン,4,4′−ジアミノジフエニル
エーテル,4,4′−ジアミノジフエニルメタン,3,
3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフエニルメタ
ン,3,3′,5,5′−テトラメチル−4,4′−ジ
アミノジフエニルメタン,2,2−ビス(4−アミノフ
エニル)プロパン,4,4′−メチレンジアニリン,ベ
ンジジン,4,4′−ジアミノジフエニルスルフイド,
4,4′−ジアミノジフエニルスルホン,1,5−ジア
ミノナフタレン,3,3′−ジメチルベンジジン,3,
3′−ジメトキシベンジジンなどが用いられる。
ふつ素を有するカルボン酸無水物,カルボン酸無水物,
ふつ素を有するジアミン,ジアミンふつ素を有するジア
ミノモノアミド及びジアミノモノアミドは,それぞれ二
種以上併用してもよい。
また,ガラス基板,金属類等との接着性の向上を目的と
して反応成分に一般式 (式中Rは2価の炭化水素基,R1,R2,R3およびR4は
1価の炭化水素基,nは1以上の整数である。) で示されるジアミノシロキサンを併用することも,何ら
さしつかえない。
上記のポリアミド酸の液晶挾持基板及び電極上への塗布
は,このポリアミド酸をジメチルホルムアミド,ジメチ
ルアセトアミド,ジメチルスルホキシド,N−メチル−
2−ピロリドン等の0.01〜40重量%溶液として,
これをデイツプ法,スピナー法,スプレー法,印刷法,
刷毛塗り法などにより該基板及び電極上に塗布して行な
われる。
塗布後100℃〜400℃好ましくは250℃〜350
℃で加熱処理して,上記ポリアミド酸を脱水閉環してポ
リイミドイソインドロキナゾリンジオン系高分子被膜が
得られる。この高分子被膜をラビング処理して液晶配向
膜とされる。液晶配向膜と液晶間のチルト角は,従来の
高分子ポリイミド被膜では2〜3゜であつたが。本発明
における高分子被膜を液晶配向膜として用いた場合には
チルト角は20゜位までが可能となり,本発明における
高分子被膜はSBE方式の液晶表示装置に特に適してい
る。
(実施例) 実施例を用いて説明する。
実施例においてチルト角の測定は,ジヤーナル・オブ・
アブライド・フイジツクス(Jpn. J. Appl. Phys.)第
19巻2013頁(1980)に記載されている方法に
よつて行なつた。
実施例1 N−メチル−2−ピロリドン中で,2,2−ビス〔4−
(4−アミノフエノキシ)フエニル〕ヘキサフルオロプ
ロパン0.9モル,4,4′−ジアミノジフエニルエー
テル−3−カルボンアミド0.1モル及び2,2−ビス
〔4−(3,4−ジカルボキシフエノキシ)フエニル〕
ヘキサフルオロプロパン二無水物1.0モルを25℃で
5時間ついで80℃で5時間縮合して得られるポリイミ
ドイソインドロキナゾリンジオン系高分子の前駆体であ
るポリアミド酸の5重量%N−メチル−2−ピロリドン
溶液をスピンナを用いて,酸化インジウムの電極が形成
されたガラス基板(3cm×3cm,厚み2mm)塗布した。
塗布後,250℃で1時間加熱して脱水閉環させポリイ
ミドイソインドロキナゾリンジオン系高分子被膜を60
0〜800Åの厚さに形成した。
ついで,該被膜がガーゼで一定方向にラビング処理した
基板の一対を用いて液晶(ZLI-2293(メルク社製),右
旋向カイラル剤CB15(BDH社製)をZLI-2293に対して
3.07重量%および左旋向カイラル剤S811(メル
ク社製)をZLI-2293に対して3.33重量%の混合物)
を封入し,液晶表示装置(厚み約6.3μm)を作製し
た。チルト角を測定したところ4.9゜であつた。
本装置に電圧を印加し,立ち上がり特性及びコントラス
トを観察したところ極めて良好であつた。
実施例2 N−メチル−2−ピロリドン中で,2,2−ビス〔4−
(4−アミノフエノキシ)フエニル〕ヘキサフルオロプ
ロパン0.8モル,4,4′−ジアミノジフエニルエー
テル−3−カルボンアミド0.2モル及び3,3′,4,4′
−ビフエニルテトラカルボン酸二無水物1.0モルを2
5℃で6時間ついで80℃で6時間縮合して得られるポ
リアミド酸の5重量%のN−メチル−2−ピロリドン溶
液を用いて実施例1と同様な特性を示す液晶表示装置を
得た。チルト角を測定したところ5.3゜であつた。
(発明の効果) 本発明におけるポリイミドイソインドロキナリゾンジオ
ン系の高分子被膜を配向制御膜に用いることにより,歩
留りを低下することなくコントラストおよび視覚特性の
優れた液晶表示装置を得ることができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】液晶挾持基板上の液晶に面する側に電極を
    設け,該基板及び電極上に,カルボン酸無水物,ジアミ
    ンおよびジアミノモノアミドの少なくとも一つをふつ素
    原子を有する成分としてカルボン酸無水物,ジアミンお
    よびジアミノモノアミドを反応させて得られるポリアミ
    ド酸を脱水閉環して得られるポリイミドイソインドロキ
    ナゾリンジオン系高分子被膜を形成した液晶表示装置。
JP22823785A 1985-10-14 1985-10-14 液晶表示装置 Expired - Lifetime JPH0610703B2 (ja)

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JP22823785A JPH0610703B2 (ja) 1985-10-14 1985-10-14 液晶表示装置
DE86307907T DE3688726T2 (de) 1985-10-14 1986-10-13 Schicht zur Steuerung der Flüssigkristallorientierung und ihre Anwendung in einer Flüssigkristallvorrichtung.
EP86307907A EP0219336B1 (en) 1985-10-14 1986-10-13 Liquid crystal orientation controlling film and liquid crystal device using the same
US06/918,494 US4735492A (en) 1985-10-14 1986-10-14 Liquid crystal orientation controlling film and liquid crystal device using the same

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JPS6287940A JPS6287940A (ja) 1987-04-22
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