JPS6287940A - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、液晶表示装置に関する。

（従来の技術） 超ねじれ複屈折効果（５ｕｐｅｒ　　ｔｗｉｓｔｅｄｂ
ｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ　ｅｆｆｅｃｔ）（Ｔ、　Ｊ
、　５ｃｈｅｆｆｅｒａｎｄ　Ｊ、Ｎｅｈｒｉｎｇ、　
Ａｐｐｌ、ｐｈｙｓ、Ｌｅｆｆ、　４５（１０）、１０
２１（１９８４））を利用した５ＩＤＥ方式の液晶表示
装置は、従来のＴＮ方式の液晶表示装置に比べ、コント
ラスト、視覚特性が極めてすぐれている。

これに用いる配向制御膜は、プレチルト角を高くする必
要があるため、酸化珪素等の無機斜方蒸着膜などが主に
用いられていた。

（発明が解決しようとする問題点） しかし、無機斜方蒸着膜は、液晶に対して選択性があり
、全ての液晶組成物の配向を良好に行なうことは困難で
ある。

また１組立て時の高温加熱により配向にムラが生じ歩留
シが低下して生産性が悪くなる欠点を有し、配向制御膜
に必要なコントラストおよび視覚特性を満足することは
できなかった。

本発明は、この欠点を除いた液晶表示装置を提供するも
のである。

（問題点を解決するための手段） 本発明は、液晶挾持基板上の液晶に面する側に電極を設
け、該基板及び電極上に、カルボン酸無水物、ジアミン
およびジアミノモノアミドの少なくとも一つをふっ素原
子を有する成分としてカルボン酸無水物、ジアミンおよ
びジアミノモノアミドを反応させて得られるポリアミド
酸を、脱水閉環して得られるポリイミドイソインドロキ
ナゾリンジオン系高分子被膜を形成した液晶表示装置に
関する。

本発明で用いるポリイミドイソインドロキナゾリンジオ
ン系高分子の前駆体であるポリアミド酸は、カルボン酸
無水物、ジアミンおよびジアミノモノアミドの攪拌反応
により合成される。これらの反応は、無水条件下、好ま
しくは５０℃またはそれ以下の温度で行なわれる。

カルボン酸無水物、ジアミンおよびジアミノモノアミド
の反応割合は、カルボン酸無水物のモル数とジアミンお
よびジアミノモノアミドのモル数とを等モルにすること
が好ましい。ジアミノモノアミドは、ジアミンおよびジ
アミノモノアミドの総量に対して０．１〜５０モル係の
範囲で用いることが好ましい。この反応は、ジメチルア
セトアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の溶剤の存在下で
行なわれる。本発明においては、カルボン酸無水物およ
びジアミンの少なくとも一方をふっ素原子を有する成分
としてカルボン酸無水物、ジアミンおよびジアミノモノ
アミドが反応される。

ふっ素原子を有するカルボン酸無水物としては。

例えばス２−ビス［４−（３，４−ジカルボキシフェノ
キシ）フェニル〕へキサフルオロプロパン。

２．２−ビス（＆４−ジカルボキシフェニル）へキサフ
ルオロプロパン、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル
）へキサフルオロブロノ（ン、４．４’−ビス［４−（
３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル〕へキサフ
ルオロプロパン、（トリフルオロメチル）ピロメリト酸
、ビス（トリフルオロメチル）ピロメリト酸、５．５’
−ビス（トリフルオロメチル）−３、３：４．４’−テ
トラカルボキシビフェニル、２，２．’５゜５′−テト
ラキス（トリフルオロメチル）　−３，３，’４゜４′
−テトラカルボキシビフェニル、５．５’−ビス（トリ
フルオロメチル）　−３，３？　４．４’−テトラカル
ボキシジフェニルエーテル、５．５’−ビス（トリフル
オロメチル）−３，３：４．４’−テトラカルボキシベ
ンゾフェノン、ビス〔（トリフルオロメチル）ジカルボ
キシフェノキシ〕ベンゼン、ビス〔（トリフルオロメチ
ル）ジカルボキシフェノキシ〕ビフェニル、ビス〔（ト
リフルオロメチル）ジカルボキシフェノキシ〕（トリフ
ルオロメチル）ベンゼン、ビスＣ（トリフルオロメチル
）ジカルボキシフェノキシ〕ビス（トリフルオロメチル
）ビフェニル、ビス〔（トリフルオロメチル）ジカルボ
キシフェノキシクジフェニルエーテル、ビス（ジカルボ
キシフェノキシ）（トリフルオロメチル）ベンゼン、ビ
ス（ジカルボキシフェノキシ）ビス（トリフルオロメチ
ル）ベンゼン、ビス（ジカルボキシフェノキシ）テトラ
キス（トリフルオロメチル）ベンゼン、ビス（ジカルボ
キシフェノキシ）ビス（トリフルオロメチル）ビフェニ
ル、ビス（ジカルボキシフェノキシ）テトラキス（トリ
フルオロメチル）ビスフェニル、　　２．２−ビス（４
−（２，３−ジカルボキシベンゾイルオキシ）フェニル
〕ヘキサフルオロプロパン、２２−ビス〔４−（３，４
−ジカルボキシベンゾイルオキシ）−３−ブロモフェニ
ル〕へキサフルオロプロパン、ｚ２−ビスＣ４−（３，
４−ジカルボキシベンゾイルオキシ）−３，５−ジブロ
モフェニル〕へキサフルオロプロパン、ｚ２−ビス（：
４−（３，４−ジカルボキシベンゾイルオキシ）−３，
！ｌｙ−ジメチルフェニル〕へキサフルオロプロパン、
λ２−ビス〔４−（３，４−ジカルボキシベンソイルオ
キシ）フェニル〕オクタフルオロブタン、Ｚ２−ビス〔
４−（２−）　’Ｊフルオロメチルー３．４−ジカルボ
キシベンソイルオキシ）フェニル〕へキサフルオｏ７’
ロバン、１．３−ビス［：４−（３，４−ジカルボキシ
ベンゾイルオキシ）フェニル〕へキサフルオロプロパン
、１，５−ビス（４−（３，４−ジカルボキシベンソイ
ルオキシ）フェニル〕デカフルオロペンタン、１．６−
ビス〔４−（３，４−ジカルボキシベンゾイルオキシ）
フェニル〕ドデカフルオロヘキサン、１．７−ビス〔４
−（３，４−ジカルボキシベンゾイルオキシ）フェニル
コテトラデカフルオロへブタン、１，５−ビス［４−（
３，４−ジカルボキジベンゾイルオキシ）−３，５−ジ
ブロモフェニル〕デカフルオロペンタン、１，５−ビス
（４−（３，４−ジカルボキシベンゾイルオキシ）−３
，５−ビストリフルオロメチルフェニル〕テカフルオロ
ベンタン、１，５−ビスＣ４−（２−トリフルオロメチ
ル−３，５−ジカルボキシベンゾイルオキシ）フェニル
〕テカフルオロペ／タン、Ｚ２−ビス（４−（３，４−
ジカルボキシフェノキシ）フェニル〕ヘキサフルオロプ
ロパン、ｚ３−ビス（４−（２，３−ジカルボキシフェ
ノキシ）フェニル〕へキサフルオロプロパン、２．２−
ビスＣ４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）−３−
ブロモフェニル〕へキサフルオロプロパ／、Ｚ２−ビス
（４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）　−３，５
−ジブロモフェニル〕へキサフルオロプロＪくン、　　
２．２−ビス（４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ
）−４５−ジメチルフェニル〕へキサフルオロプロパン
。

ｚ２−ビス［４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）
フェニル］オクタフルオロブタン、２．２−ビスＣ４−
（３，４−ジカルボキシ−２−トリフルオロメチルフェ
ノキシ）フェニル〕へキサフルオロプロパン、１，３−
ビス［４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニ
ル〕へキサフルオログロパン、１．５−ビスＣ４−（３
，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル〕デカフルオ
ロペンタン、１，６−ビス［４−（３，４−ジカルボキ
シフェノキシ）フェニル〕トテカフルオロヘキサン、１
．７−ビス（：４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ
）７エ二ル〕テトラデカフルオロペンタン、１，５−ビ
スＣ４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）　−３，
５−シフロモフェニル〕テカフルオロペンタン、１゜５
−ビスＣ４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）−３
，５−ビストリフルオロメチルフェニル〕デカフルオロ
ペンタン、１．５−ビス（４−（３，４−ジカルボキシ
−２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル〕デカ
フルオロペンタンなどが用いラレる。

また、ふっ素原子を有するジアミンとしては。

例、ｔＪｌ！、２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ
）フェニル〕へキサフルオロプロパン、２に２−ビス［
４−（３−アミノフェノキシ）フェニル〕へキサフルオ
ロプロパン、　２．２−ビス［：４−（２−アミノフェ
ノキシ）フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、Ｚ２−ビ
ス（４−（２−アミノフェノキシ）−３，５−ジメチル
フェニル〕へキサフルオロプロパ７、ｐ−ビス（４−ア
ミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）ベンゼン、
４．４’−ビス（４−アミノ−２−トリフルオロメチル
フェノキシ）ビフェニル、４．４’−ビス（４−アミノ
−３−トリフルオロメチルフェノキ７）ビフェニル、４
．４’−ヒス（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフ
ェノキン）ジフェニルスルホン、４．４’−ビス（３−
アミノ−５−トリフルオロメチルフェノキシ）ジフェニ
ルスルホン、　　２．２−ビス（：４−（４−アミノ−
２−）　リフルオロメチルフェノキシ）フェニル〕へキ
サフルオロプロパ７　、　４４’−ビス〔（４−７ミノ
フエノキシ）フェニル〕へキサフルオロプロパンなどが
用いられる。ふっ素原子を有するジアミノモノアミドと
しては例えば４，４′−ビス〔（４−アミノフェノキシ
）フェニル〕へキサフルオロプロパン−３−カルボンア
ミドなどが用いらノする。

ジアミノモノアミドとしては１例えば１，４−ジアミノ
ベンゼン−２−カルボンアミド、４．４’−ジ・アミノ
ジフェニルエーテル−３−カルボンアミドなどが用いら
ｎる。

カルボン酸無水物としては９例えばピロメリット酸無水
物、λ３．６．７−ナフタレンテトラカルボン酸無水物
、　　３．３：４．４’−ジフェニルテトラカルボン酸
無水物、１，２，５．６−ナフタレンテトラカルボン酸
無水物、２．２：３．３’−ジフェニルテトラカルボン
酸無水物、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボ
ン酸無水物、２．２−ビス（３，４−ビスカルボキシフ
ェニル）フロパン無水物、３．４−ジカルボキシフェニ
ルスルホ７ｍ水物、ペリレン−３，４，９，１０−テト
ラカルボン酸無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェ
ニル）エーテルｆＪｆＦ、水物、　３．３：　４．４’
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物などが用いら
れる。

また、ジアミンとしては１例えばｍ−フェニレンジアミ
ン、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−キシレンジアミン、
ｐ−キシレンジアミン、４．４’−ジアミノジフェニル
エーテル、４．４’−ジアミノジフェニルメタン、３．
３’−ジメチル−４，４′−ジアミノジフェニルメタン
、　３，３．’５．５’−テトラメチルー４゜４′−ジ
アミノジフェニルメタン、　２．２’−ビス（４−アミ
ノフェニル）プロパン、４．４’−メチレンジアニリン
、ベンジジン、４．４’−ジアミノジフェニルスルフィ
ド、４．４’−ジアミノジフェニルスルホン、１，５−
ジアミノナフタレン、３．３’−ジメチルベンジジン、
３．３’−ジメトキシベンジジンなどが用いられる。

ふっ素を有するカルボン酸無水物、カルボン酸無水物、
ふっ素を有するジアミン、ジアミンふっ素を有するジア
ミノモノアミド及びジアミノモノアミドは、それぞれ二
種以上併用してもよい。

また、ガラス基板、金属類等との接着性の向上全目的と
して１反応成分に一般式 （式中ＲＶｉ２価の炭化水素基＋　ＩＬ、　Ｔ　ｆ’Ｌ
２　＋　Ｒ３お工びＲ４は１価の炭化水素基、ｎは１以
上の整数である。） で示されるジアミノシロキサンを併用することも。

何らさしつかえない。

上記のポリアミド酸の液晶挾持基板及び電極上への塗布
は、このポリアミド酸をジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−
２−ピロリドン等ノ０．Ｏ１〜４０重ｉｔ％鹸液として
、これをデインブ法、スピナー法、スプレー法、印刷法
、刷毛塗り法などにより該基板及び電極上に塗布して行
なわれる。

塗布波１００℃〜４００°Ｃ好ましくは２５０℃〜３５
０℃で加熱処理して、上記ポリアミド酸を脱水閉環して
ポリイミドイソインドロキナゾリンジオン系高分子被膜
が得られる。この向分子被膜をラビング処理して液晶配
向膜とされる。液晶配向膜と液晶間のチルト角は、従来
の高分子ポリイミド被膜では２〜３０であったが。本発
明における高分子被膜を液晶配向膜として用いた場合に
はチルト角は２０重位までが可能となり９本発明におけ
る筒分子被膜はＳＢＥ方式の液晶表示装置に特に適して
いる。

（実施例） 実施例を用いて説明する。

実施例においてチルト角の測定は、ジャーナル・オブ・
アプライド・フィジツクス（Ｊｐｎ、　Ｊ。

Ａｐｐｌ、　Ｐｈｙｓ、　）第１９巻２０１３貞（１９
８０）に記載されている方法によって行なった。

実施例Ｉ Ｎ−メチル−２−ピロリドン中で、２．２−ビス［４−
（４−アミノフェノキシ）フェニル〕へキサフルオロプ
ロパン０．９モル、４．４’−ジアミノジフェニルエー
テル−３−カルボンアミド０．１モル及び２．２−ビス
Ｃ４−Ｃ５，４−ジカルボキ７フエノキシ）フェニル」
ヘキサフルオロプロパンニ無水物１．０モルを２５℃で
５時間ついで８０℃で５時間幅合して得られるポリイミ
ドイソインドロキナゾリンジオン系高分子の前駆体でめ
るポリアミド酸の５重量％Ｎ−メチル−２−ピロリドン
溶液をスピンナを用いて、酸化インジウムの電極が形成
されたガラス基板（３ｃｍＸ３ｃｍ、厚み２＋ｎ＋ｎ）
に塗布した。塗布波、２５０℃で１時間加熱して脱水閉
環させポリイミドイソインドロキナゾリンジオン系高分
子被膜を６００〜８００Ａの厚さに形成した。

ついで、該被膜がガーゼで一定方向にラビング処理し九
基板の一対を用いて液晶（ＺＬＩ−２２９３（メルク社
製）、右旋向カイラル剤ＣＢ１５　（ＢＤＨ社！Ｒ）會
ＺＬＩ−２２９３に対して３．０７重−ｉ％および左旋
向カイラル剤８８１１（メルク社製）をＺＬＩ−２２９
３に対して３．３３重量％の混合物）を封入し、液晶表
示装置（厚み約６．３μｍ）を作製した。

チルト角を測定したところ４．９０であった。

本装置に電圧を印加し、立ち上がり特性及びコントラス
トを観察したところ極めて良好であった。

実施例２ Ｎ−メチル−２−ピロリドン中で、ス２−ビス（４−（
４−アミノフェノキ７）フェニル〕へキサフルオロプロ
パン０．８モル、４．４’−シアミノジフエニルエーテ
ル−３−カルボンアミド０２モル及ヒ３．３．’　４．
４　’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物１．０モ
ルを２５℃で６時間ついで８０℃で６時間組合して得ら
れるポリアミド酸の５重量％のＮ−メチル−２−ピロリ
ドン浴液を用いて実施例１と同様な特性を示す液晶表示
装置を得た。チルト角を測定したところ５．３°であっ
た。

（発明の効果） 本発明におけるポリイミドイノインドロキナリシンジオ
ン系の高分子被膜を配向制御膜に用いることによシ９歩
留９を低下することなくコントラストおよび視覚特性の
優れた液晶表示装置を得ることができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、液晶挾持基板上の液晶に面する側に電極を設け、該
   基板及び電極上に、カルボン酸無水物、ジアミンおよび
   ジアミノモノアミドの少なくとも一つをふつ素原子を有
   する成分としてカルボン酸無水物、ジアミンおよびジア
   ミノモノアミドを反応させて得られるポリアミド酸を脱
   水閉環して得られるポリイミドイソインドロキナゾリン
   ジオン系高分子被膜を形成した液晶表示装置。