JPH06111403A - 遷移金属／貴金属人工格子多層膜記録媒体の成膜方法 - Google Patents
遷移金属／貴金属人工格子多層膜記録媒体の成膜方法Info
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- JPH06111403A JPH06111403A JP28241892A JP28241892A JPH06111403A JP H06111403 A JPH06111403 A JP H06111403A JP 28241892 A JP28241892 A JP 28241892A JP 28241892 A JP28241892 A JP 28241892A JP H06111403 A JPH06111403 A JP H06111403A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐食性，膜構造の劣化を伴わず、高保磁力を
備えた記録媒体用の遷移金属／貴金属人工格子多層膜を
容易かつ安定に成膜し得る方法を確立する。 【構成】 スパッタリングにより光磁気又は垂直磁気記
録媒体用の遷移金属(Co,Fe, Ni等)/貴金属(Pt,Pd等) 人
工格子多層膜を成膜するに当って、図１に例示したよう
に、“貴金属層成膜時のスパッタガス圧”を“遷移金属
層成膜時のスパッタガス圧”よりも高くすることによ
り、保磁力の高い遷移金属／貴金属人工格子多層膜を成
膜する。好ましくは、貴金属層成膜時のスパッタガス圧
を 0.5〜 5.0Paに、そして遷移金属層成膜時のスパッタ
ガス圧を0.01〜1.0 Paに設定したり、“遷移金属層成膜
時のスパッタガス圧”に対する“貴金属層成膜時のスパ
ッタガス圧”の比を 1.2〜 100に設定することによって
多層膜の膜特性や成膜安定性を一段と向上させる。
備えた記録媒体用の遷移金属／貴金属人工格子多層膜を
容易かつ安定に成膜し得る方法を確立する。 【構成】 スパッタリングにより光磁気又は垂直磁気記
録媒体用の遷移金属(Co,Fe, Ni等)/貴金属(Pt,Pd等) 人
工格子多層膜を成膜するに当って、図１に例示したよう
に、“貴金属層成膜時のスパッタガス圧”を“遷移金属
層成膜時のスパッタガス圧”よりも高くすることによ
り、保磁力の高い遷移金属／貴金属人工格子多層膜を成
膜する。好ましくは、貴金属層成膜時のスパッタガス圧
を 0.5〜 5.0Paに、そして遷移金属層成膜時のスパッタ
ガス圧を0.01〜1.0 Paに設定したり、“遷移金属層成膜
時のスパッタガス圧”に対する“貴金属層成膜時のスパ
ッタガス圧”の比を 1.2〜 100に設定することによって
多層膜の膜特性や成膜安定性を一段と向上させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、光磁気記録媒体又は
垂直磁気記録媒体用の遷移金属／貴金属人工格子多層膜
を成膜する方法に関するものである。
垂直磁気記録媒体用の遷移金属／貴金属人工格子多層膜
を成膜する方法に関するものである。
【０００２】
【従来技術とその課題】近年、ＣＤやレ−ザ−ディスク
等の再生専用型光ディスクシステムに代わるものとし
て、“レ−ザ−光を使って書き換えが可能な機能”をも
備えた次世代の光磁気ディスクシステムの開発が行わ
れ、一部商品化されるまでになってきた。
等の再生専用型光ディスクシステムに代わるものとし
て、“レ−ザ−光を使って書き換えが可能な機能”をも
備えた次世代の光磁気ディスクシステムの開発が行わ
れ、一部商品化されるまでになってきた。
【０００３】そして、このような高記録密度と書き換え
可能機能を有した市販の光磁気ディスクの記録媒体に
は、現在、TbFeCoに代表される希土類／遷移金属アモル
ファス合金膜が使用されている。これは、希土類／遷移
金属アモルファス合金膜が、 a) 赤外レ−ザ−ディスク光源の波長に対しカ−回転角
が 0.3°以上と高い， b) 垂直磁気異方性が大きい， c) アモルファス（非晶質）なので表面ノイズが小さ
い， d) 組成比の制御で保磁力等を調節できる， e) スパッタリングで作成できるため量産性が高い， 等の多くの利点を持っているからである。
可能機能を有した市販の光磁気ディスクの記録媒体に
は、現在、TbFeCoに代表される希土類／遷移金属アモル
ファス合金膜が使用されている。これは、希土類／遷移
金属アモルファス合金膜が、 a) 赤外レ−ザ−ディスク光源の波長に対しカ−回転角
が 0.3°以上と高い， b) 垂直磁気異方性が大きい， c) アモルファス（非晶質）なので表面ノイズが小さ
い， d) 組成比の制御で保磁力等を調節できる， e) スパッタリングで作成できるため量産性が高い， 等の多くの利点を持っているからである。
【０００４】しかし、この希土類／遷移金属アモルファ
ス合金膜には、レ−ザ−ディスク光源を高密度化に一段
と有利なように短波長化するとカ−回転角が徐々に小さ
くなり、このため読み出し特性が悪くなるという問題が
あった。
ス合金膜には、レ−ザ−ディスク光源を高密度化に一段
と有利なように短波長化するとカ−回転角が徐々に小さ
くなり、このため読み出し特性が悪くなるという問題が
あった。
【０００５】このようことから、次世代の記録媒体とし
て、短波長域のレ−ザ−ディスク光源に対しても優れた
光磁気特性を示すと共に耐食性も良好な、Co／Pt膜やCo
／Pd膜のような“遷移金属／貴金属人工格子多層膜”が
注目されるようになった。即ち、この遷移金属／貴金属
人工格子多層膜、例えばCo／Pt多層膜は 非磁性層のPt膜厚に対するCo膜厚の比率： 1/1〜 1/4， Co膜厚： 15Å以下， 全層数： 10層以上 が一般的構造であるが、現在市販されている光磁気記録
媒体材料である希土類／遷移金属アモルファス合金膜と
比較して耐食性に優れていることは勿論、最近開発され
た短波長のレ−ザ−を用いた場合でもカ−回転角
（θk ）が大きく、また光の反射率（Ｒ）も高い｛即ち
光磁気性能指数（θk ・ √Ｒ）が高い｝という非常に好
ましい特性を有していることが明らかになったためであ
る。
て、短波長域のレ−ザ−ディスク光源に対しても優れた
光磁気特性を示すと共に耐食性も良好な、Co／Pt膜やCo
／Pd膜のような“遷移金属／貴金属人工格子多層膜”が
注目されるようになった。即ち、この遷移金属／貴金属
人工格子多層膜、例えばCo／Pt多層膜は 非磁性層のPt膜厚に対するCo膜厚の比率： 1/1〜 1/4， Co膜厚： 15Å以下， 全層数： 10層以上 が一般的構造であるが、現在市販されている光磁気記録
媒体材料である希土類／遷移金属アモルファス合金膜と
比較して耐食性に優れていることは勿論、最近開発され
た短波長のレ−ザ−を用いた場合でもカ−回転角
（θk ）が大きく、また光の反射率（Ｒ）も高い｛即ち
光磁気性能指数（θk ・ √Ｒ）が高い｝という非常に好
ましい特性を有していることが明らかになったためであ
る。
【０００６】しかしながら、一方で、上記遷移金属／貴
金属人工格子多層膜には希土類／遷移金属アモルファス
合金膜に比べると保磁力が小さく、きれいなピットを描
くのが難しいという欠点があり、実用化に向けてはまず
この欠点の克服が不可欠な課題となっていた。
金属人工格子多層膜には希土類／遷移金属アモルファス
合金膜に比べると保磁力が小さく、きれいなピットを描
くのが難しいという欠点があり、実用化に向けてはまず
この欠点の克服が不可欠な課題となっていた。
【０００７】もっとも、Co／Pt人工格子多層膜の保磁力
向上策として、これまでにも次のような提案が見られ
る。 (1) Co／Pt人工格子多層膜を形成する際のスパッタガ
スとしてXeガスを使用する〔 「Appl. Phys. Lett.」 56
(1990), 第2345頁ヨリ〕，(2) Co／Pt人工格子多層膜に
保磁力の大きいTbFeCoを結合させる、TbFeCoとの交換結
合化〔 「J. Magn. Soc. Jpn.」 15 (1991), 第49頁ヨ
リ〕，(3) スパッタリングにてCo／Pt人工格子多層膜を
形成する際に、スパッタガス圧 (Arガス圧) を増加させ
る〔 「J.Appl. Phys.」70 (1991), 第6044頁ヨリ〕。
向上策として、これまでにも次のような提案が見られ
る。 (1) Co／Pt人工格子多層膜を形成する際のスパッタガ
スとしてXeガスを使用する〔 「Appl. Phys. Lett.」 56
(1990), 第2345頁ヨリ〕，(2) Co／Pt人工格子多層膜に
保磁力の大きいTbFeCoを結合させる、TbFeCoとの交換結
合化〔 「J. Magn. Soc. Jpn.」 15 (1991), 第49頁ヨ
リ〕，(3) スパッタリングにてCo／Pt人工格子多層膜を
形成する際に、スパッタガス圧 (Arガス圧) を増加させ
る〔 「J.Appl. Phys.」70 (1991), 第6044頁ヨリ〕。
【０００８】しかし、何れの方策にも一長一短があり、
それぞれ下記のような評価がなされていた。 (1) Xeガスでのスパッタ 得られる多層膜の保磁力は高くなり、光磁気ディスク用
としての特性に優れるようにはなるが、Xeが非常に高価
であるため量産には向かない。 (2) TbFeCoとの交換結合化 現用の記録材料であるTbFeCoに保磁力特性を担わせ、短
波長レ−ザ−使用時のカ−回転角特性をCo／Pt人工格子
多層膜に担わせたものであり、これによっても保磁力を
高めることができるが、腐食されやすいTbFeCoが結合し
ているのでCo／Pt多層膜の特徴である高耐食性を生かす
ことができなくなることのほか、膜構造が複雑となるた
め成膜や取り扱いが面倒である。 (3) スパッタガス圧 (Arガス圧) の増加 スパッタリング時のArガス圧を比較的高くしてCo／Pt人
工格子多層膜を成膜すると保磁力を高めることができる
ものの、膜の密度が粗になり、そのためカ−回転角及び
反射率の低下、ひいては光磁気性能指数（θk ・ √Ｒ）
の低下を引き起こす。また、膜構造も凹凸が激しいもの
となってノイズの面からも好ましくない。例えば、図２
は、Co／Pt多層膜の保磁力及びカ−回転角とスパッタガ
ス圧(Arガス圧) との関係について調査した結果を示す
グラフであるが、スパッタガス圧が高くなるに従って保
磁力は上昇するものの、カ−回転角は低下傾向となるこ
とが窺える。また、図３は、Co／Pt多層膜の表面粗さと
スパッタガス圧 (Arガス圧) との関係について調査した
結果を示すグラフであるが、スパッタガス圧が高くなる
と凹凸の激しい膜構造となることが分かる。
それぞれ下記のような評価がなされていた。 (1) Xeガスでのスパッタ 得られる多層膜の保磁力は高くなり、光磁気ディスク用
としての特性に優れるようにはなるが、Xeが非常に高価
であるため量産には向かない。 (2) TbFeCoとの交換結合化 現用の記録材料であるTbFeCoに保磁力特性を担わせ、短
波長レ−ザ−使用時のカ−回転角特性をCo／Pt人工格子
多層膜に担わせたものであり、これによっても保磁力を
高めることができるが、腐食されやすいTbFeCoが結合し
ているのでCo／Pt多層膜の特徴である高耐食性を生かす
ことができなくなることのほか、膜構造が複雑となるた
め成膜や取り扱いが面倒である。 (3) スパッタガス圧 (Arガス圧) の増加 スパッタリング時のArガス圧を比較的高くしてCo／Pt人
工格子多層膜を成膜すると保磁力を高めることができる
ものの、膜の密度が粗になり、そのためカ−回転角及び
反射率の低下、ひいては光磁気性能指数（θk ・ √Ｒ）
の低下を引き起こす。また、膜構造も凹凸が激しいもの
となってノイズの面からも好ましくない。例えば、図２
は、Co／Pt多層膜の保磁力及びカ−回転角とスパッタガ
ス圧(Arガス圧) との関係について調査した結果を示す
グラフであるが、スパッタガス圧が高くなるに従って保
磁力は上昇するものの、カ−回転角は低下傾向となるこ
とが窺える。また、図３は、Co／Pt多層膜の表面粗さと
スパッタガス圧 (Arガス圧) との関係について調査した
結果を示すグラフであるが、スパッタガス圧が高くなる
と凹凸の激しい膜構造となることが分かる。
【０００９】このようなことから、本発明が目的とした
のは、耐食性や膜構造の劣化を伴うことなく、高い保磁
力(Hc)を備えた記録媒体用の遷移金属／貴金属人工格子
多層膜を容易かつ安定に成膜し得る方法を確立すること
であった。
のは、耐食性や膜構造の劣化を伴うことなく、高い保磁
力(Hc)を備えた記録媒体用の遷移金属／貴金属人工格子
多層膜を容易かつ安定に成膜し得る方法を確立すること
であった。
【００１０】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者等は上
記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、次のような
知見を得るに至った。
記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、次のような
知見を得るに至った。
【００１１】即ち、遷移金属／貴金属人工格子多層膜、
例えばCo／Pt人工格子多層膜の成膜には、通常、純Co及
び純Ptのスパッタリングタ−ゲットを使用し、ガス圧が
0.01〜1.0Pa(0.08〜7.52mTorr)のArガス中で基板上に 1) Co（或いはPt）をスパッタリングし、Co（或いはP
t）の薄層を形成する， 2) Pt（或いはCo）をスパッタリングし、Pt（或いはC
o）の薄層を形成する， なる操作を積層回数分だけ繰り返す処理が行われるが、
このスパッタリングによる成膜時のスパッタガス圧を、
Co薄層を形成する際には比較的低く、そしてPt薄層を形
成する際に比較的高目に調整すると、他の特性に格別な
悪影響を及ぼすことなく高保磁力を示すCo／Pt多層膜が
簡単かつ安定に得られることや、このように成膜された
Co／Pt多層膜は、垂直磁気記録媒体として使用しても優
れた性能を有していることを明らかにしたのである。
例えばCo／Pt人工格子多層膜の成膜には、通常、純Co及
び純Ptのスパッタリングタ−ゲットを使用し、ガス圧が
0.01〜1.0Pa(0.08〜7.52mTorr)のArガス中で基板上に 1) Co（或いはPt）をスパッタリングし、Co（或いはP
t）の薄層を形成する， 2) Pt（或いはCo）をスパッタリングし、Pt（或いはC
o）の薄層を形成する， なる操作を積層回数分だけ繰り返す処理が行われるが、
このスパッタリングによる成膜時のスパッタガス圧を、
Co薄層を形成する際には比較的低く、そしてPt薄層を形
成する際に比較的高目に調整すると、他の特性に格別な
悪影響を及ぼすことなく高保磁力を示すCo／Pt多層膜が
簡単かつ安定に得られることや、このように成膜された
Co／Pt多層膜は、垂直磁気記録媒体として使用しても優
れた性能を有していることを明らかにしたのである。
【００１２】本発明は、上記知見事項等に基づく更なる
検討の末に完成されたものであり、「スパッタリングに
よって光磁気又は垂直磁気記録媒体用の遷移金属／貴金
属人工格子多層膜を成膜するに当り、 “貴金属層成膜時
のスパッタガス圧”を“遷移金属層成膜時のスパッタガ
ス圧”よりも高くすることによって、 保磁力の高い遷移
金属／貴金属人工格子多層膜記録媒体の成膜を安定かつ
容易に行えるようにした点」に特徴を有しており、更に
は、「貴金属層成膜時のスパッタガス圧を 0.5〜5.0 Pa
に、 そして遷移金属層成膜時のスパッタガス圧を0.01〜
1.0 Paにそれぞれ設定したり、 “遷移金属層成膜時のス
パッタガス圧”に対する“貴金属層成膜時のスパッタガ
ス圧”の比を 1.2〜100 に設定することによって膜特性
や成膜安定性を一段と向上した点」をも特徴とするもの
である。
検討の末に完成されたものであり、「スパッタリングに
よって光磁気又は垂直磁気記録媒体用の遷移金属／貴金
属人工格子多層膜を成膜するに当り、 “貴金属層成膜時
のスパッタガス圧”を“遷移金属層成膜時のスパッタガ
ス圧”よりも高くすることによって、 保磁力の高い遷移
金属／貴金属人工格子多層膜記録媒体の成膜を安定かつ
容易に行えるようにした点」に特徴を有しており、更に
は、「貴金属層成膜時のスパッタガス圧を 0.5〜5.0 Pa
に、 そして遷移金属層成膜時のスパッタガス圧を0.01〜
1.0 Paにそれぞれ設定したり、 “遷移金属層成膜時のス
パッタガス圧”に対する“貴金属層成膜時のスパッタガ
ス圧”の比を 1.2〜100 に設定することによって膜特性
や成膜安定性を一段と向上した点」をも特徴とするもの
である。
【００１３】ここで、磁性層たる遷移金属層の構成材料
としてはCoが好ましいが、その他の材料としてFe，Ni，
Co−Pt合金等が挙げられる。また、非磁性層たる貴金属
層の構成材料としてはPt又はPdが好ましいが、その他の
白金族金属やパラジウム族金属でも良好な成績が得られ
る。従って、本発明法による成膜対象の遷移金属／貴金
属人工格子多層膜を例示すると、Co／Pt，Fe／Pt, Ni／
Pt, Co／Pd，Fe／Pd, Ni／Pd, Co-Pt/Pt等の各多層膜が
挙げられる。
としてはCoが好ましいが、その他の材料としてFe，Ni，
Co−Pt合金等が挙げられる。また、非磁性層たる貴金属
層の構成材料としてはPt又はPdが好ましいが、その他の
白金族金属やパラジウム族金属でも良好な成績が得られ
る。従って、本発明法による成膜対象の遷移金属／貴金
属人工格子多層膜を例示すると、Co／Pt，Fe／Pt, Ni／
Pt, Co／Pd，Fe／Pd, Ni／Pd, Co-Pt/Pt等の各多層膜が
挙げられる。
【００１４】一方、本発明において適用されるスパッタ
ガスとしては一般的に使用されるArが好ましいが、Ne，
He，Xe，Kr，Ｎ等の不活性ガスは何れも使用することが
できる。
ガスとしては一般的に使用されるArが好ましいが、Ne，
He，Xe，Kr，Ｎ等の不活性ガスは何れも使用することが
できる。
【００１５】なお、本発明での特に好ましいスパッタガ
ス圧として、貴金属層成膜時:0.5〜5.0 Pa，遷移金属層
成膜時：0.01〜1.0 Paなる数値を挙げたのは、以下の理
由による。まず、貴金属の成膜を 0.5Pa未満のガス圧の
下で行うと十分に高い保磁力が得られず、一方、5.0 Pa
を超えた条件で成膜すると逆に保磁力低下の問題が無視
できなくなる。そして、遷移金属の成膜を0.01Pa未満ガ
ス圧の下で行うと連続して安定にスパッタリングを継続
することができず、逆に1.0 Paを超えた条件で成膜する
と反射率ひいては光磁気性能指数低下の問題が無視でき
なくなる。
ス圧として、貴金属層成膜時:0.5〜5.0 Pa，遷移金属層
成膜時：0.01〜1.0 Paなる数値を挙げたのは、以下の理
由による。まず、貴金属の成膜を 0.5Pa未満のガス圧の
下で行うと十分に高い保磁力が得られず、一方、5.0 Pa
を超えた条件で成膜すると逆に保磁力低下の問題が無視
できなくなる。そして、遷移金属の成膜を0.01Pa未満ガ
ス圧の下で行うと連続して安定にスパッタリングを継続
することができず、逆に1.0 Paを超えた条件で成膜する
と反射率ひいては光磁気性能指数低下の問題が無視でき
なくなる。
【００１６】また、“遷移金属層成膜時のスパッタガス
圧”に対する“貴金属層成膜時のスパッタガス圧”の特
に好ましい比率として「 1.2〜１００」なる数値を挙げ
たのは、前記比率が1.2 未満の条件で成膜を行うとガス
圧に差を持たせない従来の方法による膜特性と殆ど変わ
らなくなってしまい、高い光磁気性能指数を得ることが
できず、一方、この比率が１００を超えた条件で成膜す
ると連続して安定にスパッタリングを継続することがで
きなくなったり、反射率ひいては光磁気性能指数の低下
という問題が無視できなくなるためである。
圧”に対する“貴金属層成膜時のスパッタガス圧”の特
に好ましい比率として「 1.2〜１００」なる数値を挙げ
たのは、前記比率が1.2 未満の条件で成膜を行うとガス
圧に差を持たせない従来の方法による膜特性と殆ど変わ
らなくなってしまい、高い光磁気性能指数を得ることが
できず、一方、この比率が１００を超えた条件で成膜す
ると連続して安定にスパッタリングを継続することがで
きなくなったり、反射率ひいては光磁気性能指数の低下
という問題が無視できなくなるためである。
【００１７】ところで、図１は、本発明に係る“遷移金
属(Co)／貴金属(Pt)人工格子多層膜記録媒体”の成膜工
程例の概要説明図である。そして、このような本発明法
によると、貴金属層成膜時のスパッタガス圧を相対的に
高くするだけで保磁力の向上を図ることができるため、 a) 処理・操作が簡単であり、成膜コストも比較的低廉
である， b) 膜構造も一般的な遷移金属／貴金属人工格子多層膜
と変わらず、耐食性が犠牲になることもない， c) 遷移金属層成膜時のスパッタガス圧を低目に取るこ
とで、カ−回転角及び反射率を格別に犠牲にすることな
く保磁力の向上が達成上される， 等の、工業的に極めて好ましい効果が確保できる。
属(Co)／貴金属(Pt)人工格子多層膜記録媒体”の成膜工
程例の概要説明図である。そして、このような本発明法
によると、貴金属層成膜時のスパッタガス圧を相対的に
高くするだけで保磁力の向上を図ることができるため、 a) 処理・操作が簡単であり、成膜コストも比較的低廉
である， b) 膜構造も一般的な遷移金属／貴金属人工格子多層膜
と変わらず、耐食性が犠牲になることもない， c) 遷移金属層成膜時のスパッタガス圧を低目に取るこ
とで、カ−回転角及び反射率を格別に犠牲にすることな
く保磁力の向上が達成上される， 等の、工業的に極めて好ましい効果が確保できる。
【００１８】続いて、本発明の効果を実施例により更に
具体的に説明する。
具体的に説明する。
【実施例】下記の「共通条件」及び「表１」で示す条件
のスパッタリングによって基板上にCo／Pt人工格子多層
膜を成膜した。
のスパッタリングによって基板上にCo／Pt人工格子多層
膜を成膜した。
【００１９】〔共通のスパッタ条件〕 電力： ５０Ｗ(0.274Ｗ/cm2) ＤＣスパッ
タ， スパッタガス： Ar， スパッタガス流量：１００SCCM， 基板： コ−ニング7059ガラス(0.7mm厚) ， Co膜厚： １層当り５Å， Pt膜厚： １層当り10Å， 全膜厚： 310Å (Ptで始まりPtで終了で、 計
４１層）。
タ， スパッタガス： Ar， スパッタガス流量：１００SCCM， 基板： コ−ニング7059ガラス(0.7mm厚) ， Co膜厚： １層当り５Å， Pt膜厚： １層当り10Å， 全膜厚： 310Å (Ptで始まりPtで終了で、 計
４１層）。
【００２０】
【表１】
【００２１】次に、得られたCo／Pt多層膜の表面観察を
行うと共に、 "磁気特性", "光学特性" 並びに "磁気光
学特性" を調査した。なお、 「反射率」, 「カ−回転角」
及び「光透過率」 については、波長が５００nmの光源を
用いて測定した。これらの結果を「表１」に併せて示
す。
行うと共に、 "磁気特性", "光学特性" 並びに "磁気光
学特性" を調査した。なお、 「反射率」, 「カ−回転角」
及び「光透過率」 については、波長が５００nmの光源を
用いて測定した。これらの結果を「表１」に併せて示
す。
【００２２】「表１」に示される結果からも明らかなよ
うに、本発明法に従って得られたCo／Pt多層膜は表面状
態が平滑で、 "磁気特性", "光学特性", "磁気光学特
性" が共に優れていて、光磁気記録媒体や垂直磁気記録
媒体として優れた特性を有することが分かる。
うに、本発明法に従って得られたCo／Pt多層膜は表面状
態が平滑で、 "磁気特性", "光学特性", "磁気光学特
性" が共に優れていて、光磁気記録媒体や垂直磁気記録
媒体として優れた特性を有することが分かる。
【００２３】
【効果の総括】以上に説明した如く、この発明によれ
ば、高い保磁力を有する上、その他の磁気特性，光学特
性，磁気光学特性並びに耐食性にも優れた光磁気記録媒
体或いは垂直磁気記録媒体用の“遷移金属／貴金属人工
格子多層膜”を簡単にかつ安定して形成することが可能
になるなど、産業上極めて有用な効果がもたらされる。
ば、高い保磁力を有する上、その他の磁気特性，光学特
性，磁気光学特性並びに耐食性にも優れた光磁気記録媒
体或いは垂直磁気記録媒体用の“遷移金属／貴金属人工
格子多層膜”を簡単にかつ安定して形成することが可能
になるなど、産業上極めて有用な効果がもたらされる。
【図１】本発明に係る“遷移金属(Co)／貴金属(Pt)人工
格子多層膜記録媒体”の成膜工程例についての概要説明
図である。
格子多層膜記録媒体”の成膜工程例についての概要説明
図である。
【図２】Co／Pt多層膜の保磁力及びカ−回転角とスパッ
タガス圧 (Arガス圧) との関係について調査した結果を
示すグラフである。
タガス圧 (Arガス圧) との関係について調査した結果を
示すグラフである。
【図３】Co／Pt多層膜の表面粗さとスパッタガス圧 (Ar
ガス圧) との関係について調査した結果を示すグラフで
ある。
ガス圧) との関係について調査した結果を示すグラフで
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大橋 建夫 神奈川県高座郡寒川町倉見三番地 日本鉱 業株式会社倉見工場内
Claims (5)
- 【請求項１】 スパッタリングによって光磁気又は垂直
磁気記録媒体用の遷移金属／貴金属人工格子多層膜を成
膜するに当り、“貴金属層成膜時のスパッタガス圧”を
“遷移金属層成膜時のスパッタガス圧”よりも高くする
ことを特徴とする、保磁力の高い遷移金属／貴金属人工
格子多層膜記録媒体の成膜方法。 - 【請求項２】 貴金属層成膜時のスパッタガス圧を 0.5
〜5.0 Paに、そして遷移金属層成膜時のスパッタガス圧
を0.01〜1.0 Paにそれぞれ設定することを特徴とする、
請求項１に記載の保磁力の高い遷移金属／貴金属人工格
子多層膜記録媒体の成膜方法。 - 【請求項３】 “遷移金属層成膜時のスパッタガス圧”
に対する“貴金属層成膜時のスパッタガス圧”の比を
1.2〜100 に設定することを特徴とする、請求項１又は
２に記載の保磁力の高い遷移金属／貴金属人工格子多層
膜記録媒体の成膜方法。 - 【請求項４】 遷移金属がCoである、請求項１乃至３の
何れかに記載の保磁力の高い遷移金属／貴金属人工格子
多層膜記録媒体の成膜方法。 - 【請求項５】 貴金属がPt又はPdである、請求項１乃至
４の何れかに記載の保磁力の高い遷移金属／貴金属人工
格子多層膜記録媒体の成膜方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28241892A JPH06111403A (ja) | 1992-09-28 | 1992-09-28 | 遷移金属／貴金属人工格子多層膜記録媒体の成膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28241892A JPH06111403A (ja) | 1992-09-28 | 1992-09-28 | 遷移金属／貴金属人工格子多層膜記録媒体の成膜方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06111403A true JPH06111403A (ja) | 1994-04-22 |
Family
ID=17652156
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28241892A Pending JPH06111403A (ja) | 1992-09-28 | 1992-09-28 | 遷移金属／貴金属人工格子多層膜記録媒体の成膜方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06111403A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4014976C1 (en) * | 1990-05-10 | 1991-07-25 | Mtu Friedrichshafen Gmbh | Exhaust turbocharger with two-stage axial exhaust turbine - has duct section, adjacent to first turbine stage, as part of axially displaceable ring slider |
| US7029772B2 (en) | 2000-09-11 | 2006-04-18 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Magnetic recording medium, production process thereof, and magnetic recording and reproducing apparatus |
| US8089829B2 (en) | 2008-10-31 | 2012-01-03 | Hitachi, Ltd. | Thermally assisted recording media and system |
-
1992
- 1992-09-28 JP JP28241892A patent/JPH06111403A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4014976C1 (en) * | 1990-05-10 | 1991-07-25 | Mtu Friedrichshafen Gmbh | Exhaust turbocharger with two-stage axial exhaust turbine - has duct section, adjacent to first turbine stage, as part of axially displaceable ring slider |
| US7029772B2 (en) | 2000-09-11 | 2006-04-18 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Magnetic recording medium, production process thereof, and magnetic recording and reproducing apparatus |
| US8089829B2 (en) | 2008-10-31 | 2012-01-03 | Hitachi, Ltd. | Thermally assisted recording media and system |
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