JPH0612343B2 - 表面検査装置 - Google Patents
表面検査装置Info
- Publication number
- JPH0612343B2 JPH0612343B2 JP58053931A JP5393183A JPH0612343B2 JP H0612343 B2 JPH0612343 B2 JP H0612343B2 JP 58053931 A JP58053931 A JP 58053931A JP 5393183 A JP5393183 A JP 5393183A JP H0612343 B2 JPH0612343 B2 JP H0612343B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scanning
- circuit
- mirror
- flaw
- surface inspection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/89—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
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- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は走行する被検体の表面欠陥を光学的に検出する
表面検査装置に関する。
表面検査装置に関する。
例えば圧延機により成形された鋼板あるいはアルミ板な
どの被検体1の表面欠陥としては,第1図(A)に示すよ
うに溶接跡とか折れ等の直線状の疵2,3や、よごれ等
の面積的な疵4があり,また,直線状の疵2,3につい
ては,被検体の走行方向に直交する方向に発生している
疵3とそれ以外の疵2とがある。
どの被検体1の表面欠陥としては,第1図(A)に示すよ
うに溶接跡とか折れ等の直線状の疵2,3や、よごれ等
の面積的な疵4があり,また,直線状の疵2,3につい
ては,被検体の走行方向に直交する方向に発生している
疵3とそれ以外の疵2とがある。
光学的な表面検査装置は,被検体の幅方向に光学的に走
査してその幅方向表面から反射された反射光を検出し,
その検出信号を微分し疵信号を抽出している。
査してその幅方向表面から反射された反射光を検出し,
その検出信号を微分し疵信号を抽出している。
この方法においては,第1図(C),(D)に示すようによ
ごれ等の面積的な疵4あるいは被検体1の走行方向に直
交しない直線状の疵2を識別検出することができるが,
第1図(B)に示す被検体1の走行方向に直交する。すな
わち光走査方向と一致する直線状の疵2の検出は困難で
あつた。
ごれ等の面積的な疵4あるいは被検体1の走行方向に直
交しない直線状の疵2を識別検出することができるが,
第1図(B)に示す被検体1の走行方向に直交する。すな
わち光走査方向と一致する直線状の疵2の検出は困難で
あつた。
つまり,この光走査方向と一致する直線状の疵3は,走
査毎の走査信号レベルの変化として現われるため,単に
その1走査分の信号を微分しても検出は困難である。
査毎の走査信号レベルの変化として現われるため,単に
その1走査分の信号を微分しても検出は困難である。
本発明は光走査方向と一致する直線状の疵を適確に検出
できる表面検査装置を提供するものである。
できる表面検査装置を提供するものである。
本発明は,一走査毎の走査信号を記憶し,1サイクル前
の信号と比較して判定し,その判定信号の被検体の流れ
方向の分布判定を行なう事により,走査方向と一致する
直線状の疵を多の疵と分離検出可能とした表面検査装置
である。
の信号と比較して判定し,その判定信号の被検体の流れ
方向の分布判定を行なう事により,走査方向と一致する
直線状の疵を多の疵と分離検出可能とした表面検査装置
である。
以下,第2図乃至第4図を用いて本発明の一実施例を説
明する。
明する。
10は例えばレーザー光源で,このレーザー光源10か
らのレーザー光線11は,多面鏡回転ミラー12により
走行する被検体13の幅方向表面上に照射されている。
すなわち,被検体13の幅方向をレーザー光線11によ
り走査している。このレーザー光線11は,被検体表面
の反射吸収により光量変化を生じた後検出ヘッド14で
検出される。
らのレーザー光線11は,多面鏡回転ミラー12により
走行する被検体13の幅方向表面上に照射されている。
すなわち,被検体13の幅方向をレーザー光線11によ
り走査している。このレーザー光線11は,被検体表面
の反射吸収により光量変化を生じた後検出ヘッド14で
検出される。
この検出ヘッド14で検出された信号は増幅器15を介
してフイルタ回路16に供給されている。このフイルタ
回路16は,検出信号からノイズ成分を(第1図(D)に
おいて符号VNで示す)除去し平滑化するものである。こ
の平滑化された検出信号は,その信号を比例積分し,そ
の積分値を保持した後A/D変換するA/D変換回路1
7に供給されている。このA/D変換回路17の出力
は,後段のレジスタ群20に供給されている。
してフイルタ回路16に供給されている。このフイルタ
回路16は,検出信号からノイズ成分を(第1図(D)に
おいて符号VNで示す)除去し平滑化するものである。こ
の平滑化された検出信号は,その信号を比例積分し,そ
の積分値を保持した後A/D変換するA/D変換回路1
7に供給されている。このA/D変換回路17の出力
は,後段のレジスタ群20に供給されている。
このレジスタ群20は,前記回転ミラ12の鏡面と同数
のレジスタ21を有し,各レジスタ21と前記A/D変
換回路17との間は,前記回転ミラ12の回転に同期し
て切換えられる。
のレジスタ21を有し,各レジスタ21と前記A/D変
換回路17との間は,前記回転ミラ12の回転に同期し
て切換えられる。
すなわち,各レジスタ21には、回転ミラ12の各鏡面
に対応した信号が記憶される。これらのレジスタ21に
は,夫々さらにレジスタ22が接続されている。これら
のレジスタ22は,レジスタ21に供給されたNサイク
ルの信号に先立つて記憶されたN−1サイクルの信号を
記憶保持しておくためのものである。これらのレジスタ
22の出力と前記レジスタ21の出力とは,後続の演算
回路群23に供給されている。
に対応した信号が記憶される。これらのレジスタ21に
は,夫々さらにレジスタ22が接続されている。これら
のレジスタ22は,レジスタ21に供給されたNサイク
ルの信号に先立つて記憶されたN−1サイクルの信号を
記憶保持しておくためのものである。これらのレジスタ
22の出力と前記レジスタ21の出力とは,後続の演算
回路群23に供給されている。
この演算回路群23は,夫々前記レジスタ21あるいは
22の数と同数の演算回路24を有している。これら各
演算回路24は,前記回転ミラー12の各鏡面毎の連続
する2サイクル分の信号の差を求めるものである。
22の数と同数の演算回路24を有している。これら各
演算回路24は,前記回転ミラー12の各鏡面毎の連続
する2サイクル分の信号の差を求めるものである。
このように各鏡面毎の信号を比較するのは,回転ミラー
12の各鏡面での反射率の違いによる誤差を除去するた
めである。もちろん,各鏡面の反射率を全く同一とする
ことが可能であれば,このように鏡面毎比較する必要は
ない。
12の各鏡面での反射率の違いによる誤差を除去するた
めである。もちろん,各鏡面の反射率を全く同一とする
ことが可能であれば,このように鏡面毎比較する必要は
ない。
しかしながら,第3図(A)(B)に示すように,各鏡面で
の反射率は一般に異なり,また同一に製造したとしても
経時的に変化してしまう。第3図(B)は,同図(A)に示
した各鏡面イ,ロ…に対応した反射率を示した波形図で
ある。
の反射率は一般に異なり,また同一に製造したとしても
経時的に変化してしまう。第3図(B)は,同図(A)に示
した各鏡面イ,ロ…に対応した反射率を示した波形図で
ある。
これら各演算回路24の出力は、前記A/D変換器17
とレジスタ21との接続状態と同様に前記回転ミラー1
2に同期して取出される。そして,これら演算回路24
の出力は,比較判定回路25で被検体13と同期しなが
ら設定回路26からの設定値と比較される。この比較判
定結果は,第4図(B)に示すようにトラツキング回路2
7により移動方向にトラツキングされ記憶される。第4
図(A)は,被検体13に一走査毎ではなく,被検体13
の所定移動単位毎に区分して示されており,また同図
(B)はその区分毎のトラツキング回路27の記憶状態を
示し,記憶内容中斜線を付した部分は,疵有を示してい
る。このトラツキング回路27の出力は,後段の判別回
路28に供給され,トラツキング回路27に記憶された
比較判定結果の被検体13の移動方向に対しての分布状
態から疵種が判別される。
とレジスタ21との接続状態と同様に前記回転ミラー1
2に同期して取出される。そして,これら演算回路24
の出力は,比較判定回路25で被検体13と同期しなが
ら設定回路26からの設定値と比較される。この比較判
定結果は,第4図(B)に示すようにトラツキング回路2
7により移動方向にトラツキングされ記憶される。第4
図(A)は,被検体13に一走査毎ではなく,被検体13
の所定移動単位毎に区分して示されており,また同図
(B)はその区分毎のトラツキング回路27の記憶状態を
示し,記憶内容中斜線を付した部分は,疵有を示してい
る。このトラツキング回路27の出力は,後段の判別回
路28に供給され,トラツキング回路27に記憶された
比較判定結果の被検体13の移動方向に対しての分布状
態から疵種が判別される。
すなわち,記憶された判定結果が例えば連続して3つ以
上疵有となつた場合には,面的疵4と判定し,2つ以下
の場合には,前記レーザー光線11の走査方向と一致し
た方向に発生している疵3,3′として判別される。
上疵有となつた場合には,面的疵4と判定し,2つ以下
の場合には,前記レーザー光線11の走査方向と一致し
た方向に発生している疵3,3′として判別される。
本発明は,このように構成したので,光走査方向と一致
した方向に発生した直線的な疵を他の疵と分離検出する
ことができる。
した方向に発生した直線的な疵を他の疵と分離検出する
ことができる。
第1図は被検体表面の状態及び各疵種に対応した検出信
号の波形を示す図,第2図乃至第4図は本発明の一実施
例を説明するもので,第2図は回路構成図,第3図はレ
ーザー光線を走査する回転ミラーの各鏡面の反射率を説
明するための図,第4図は疵種に対応した判定結果の分
布を説明するための図である。 10……レーザー光源 11……レーザー光線 12……多面鏡 13……被検体 14……検出ヘツド 20……レジスタ群 23……演算回路群 25……比較判定回路 26……設定回路 27……トラツキング回路 28……判別回路
号の波形を示す図,第2図乃至第4図は本発明の一実施
例を説明するもので,第2図は回路構成図,第3図はレ
ーザー光線を走査する回転ミラーの各鏡面の反射率を説
明するための図,第4図は疵種に対応した判定結果の分
布を説明するための図である。 10……レーザー光源 11……レーザー光線 12……多面鏡 13……被検体 14……検出ヘツド 20……レジスタ群 23……演算回路群 25……比較判定回路 26……設定回路 27……トラツキング回路 28……判別回路
Claims (1)
- 【請求項1】被検査体表面をその幅方向に走査し前記被
検査体表面からの反射光を検出ヘッドで検出して被検査
体表面を検査する表面検査装置において、 幅方向への複数の走査を1サイクルとする走査手段と、 この走査手段の連続する2サイクル分の走査信号を記憶
する記憶手段と、 この記憶手段に記憶された連続する2サイクル分の走査
信号を比較判定する比較判定手段と、 この比較判定手段により判定された判定結果の移動方向
分布から疵種を検知する検知手段とを具備することを特
徴とする表面検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58053931A JPH0612343B2 (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | 表面検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58053931A JPH0612343B2 (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | 表面検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59180345A JPS59180345A (ja) | 1984-10-13 |
| JPH0612343B2 true JPH0612343B2 (ja) | 1994-02-16 |
Family
ID=12956478
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58053931A Expired - Lifetime JPH0612343B2 (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | 表面検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0612343B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57184956A (en) * | 1981-05-08 | 1982-11-13 | Toshiba Corp | Inspecting device of surface defect |
-
1983
- 1983-03-31 JP JP58053931A patent/JPH0612343B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59180345A (ja) | 1984-10-13 |
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