JPH0612384B2 - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
液晶表示素子の製造方法Info
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- JPH0612384B2 JPH0612384B2 JP57081594A JP8159482A JPH0612384B2 JP H0612384 B2 JPH0612384 B2 JP H0612384B2 JP 57081594 A JP57081594 A JP 57081594A JP 8159482 A JP8159482 A JP 8159482A JP H0612384 B2 JPH0612384 B2 JP H0612384B2
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Landscapes
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- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は液晶表示素子の製造方法に係り、製造装置並び
に製造工程が共に簡単で且つ貴金属の使用量の少い安価
な液晶表示素子を提供せんとするものである。
に製造工程が共に簡単で且つ貴金属の使用量の少い安価
な液晶表示素子を提供せんとするものである。
通常液晶表示素子に用いられる透明電極、配線部等の透
明導電薄膜は数十Ω／□〜数百Ω／□程度の面積抵抗値
であり、特に幅のせまい配線部では、その両端間の抵抗
値は数百ＫΩとなる場合がある。
明導電薄膜は数十Ω／□〜数百Ω／□程度の面積抵抗値
であり、特に幅のせまい配線部では、その両端間の抵抗
値は数百ＫΩとなる場合がある。
特に多量マトリックス表示等、表示セグメント間を幅の
せまい配線部にて導通させねばならない制約の下では、
抵抗値を下げるため金、銀等の金属被膜を使い目立たな
い程度の細い幅による配線が行われている。
せまい配線部にて導通させねばならない制約の下では、
抵抗値を下げるため金、銀等の金属被膜を使い目立たな
い程度の細い幅による配線が行われている。
通常このようにガラス基板上に透明導電薄膜を形成する
場合、ニクロムを下地として蒸着し、その上に金や銀等
の貴金属を蒸着してエッチングする場合が多い。
場合、ニクロムを下地として蒸着し、その上に金や銀等
の貴金属を蒸着してエッチングする場合が多い。
然し、高価な金や銀の貴金属をガラス基板上に全面蒸着
することは、貴金属の使用量が大であり、更に蒸着装置
自体は勿論のこと、その作業工程も複雑で、液晶セルの
コストアップの要因となっていた。
することは、貴金属の使用量が大であり、更に蒸着装置
自体は勿論のこと、その作業工程も複雑で、液晶セルの
コストアップの要因となっていた。
本発明は上記従来の欠点を改良せんとするものであり、
ガラス基板上に透明導電薄膜を形成し、更に該透明導電
薄膜上に有機貴金属を主成分とするペーストを印刷焼成
して膜厚４０００オングストロームの貴金属薄膜を形成
し、該貴金属薄膜及び透明導電薄膜をホトエッチングし
て所望形状の導電薄膜を形成し、更に該導電薄膜を覆っ
て有機金属を主成分とするペーストを印刷焼成して透明
酸化物被膜を形成し、該透明酸化物被膜形成後に配向膜
を形成してラビングを施すことを特徴とするものであ
る。
ガラス基板上に透明導電薄膜を形成し、更に該透明導電
薄膜上に有機貴金属を主成分とするペーストを印刷焼成
して膜厚４０００オングストロームの貴金属薄膜を形成
し、該貴金属薄膜及び透明導電薄膜をホトエッチングし
て所望形状の導電薄膜を形成し、更に該導電薄膜を覆っ
て有機金属を主成分とするペーストを印刷焼成して透明
酸化物被膜を形成し、該透明酸化物被膜形成後に配向膜
を形成してラビングを施すことを特徴とするものであ
る。
以下、本発明の実施例について説明すると、先づソーダ
ガラス基板上にインジューム−スズ透明導電膜を真空蒸
着にて形成し、その上にENGELHARD社製Ａ−3725有機金
ペーストをスクリーン印刷法により基板全面に印刷し、
550℃、２０分間にて焼成した。
ガラス基板上にインジューム−スズ透明導電膜を真空蒸
着にて形成し、その上にENGELHARD社製Ａ−3725有機金
ペーストをスクリーン印刷法により基板全面に印刷し、
550℃、２０分間にて焼成した。
これにより膜圧4000オングストロームの金の被膜が形成
された。
された。
このガラス基板上にOFPR-TYPE2ポジタイプフォトレジス
ト（東京応化（株）製）をＲＣＰ−141、ロールコータ
ー（大日本印刷（株）製）にて塗布し、乾燥後、Ｍ−3L
Dマスクアライナー（ミカサ（株）製）にて、ホトマス
クを重ね合わせて露光し、露光後金膜をエッチングし、
配線部、透明電極等の透明導電薄膜を形成した。
ト（東京応化（株）製）をＲＣＰ−141、ロールコータ
ー（大日本印刷（株）製）にて塗布し、乾燥後、Ｍ−3L
Dマスクアライナー（ミカサ（株）製）にて、ホトマス
クを重ね合わせて露光し、露光後金膜をエッチングし、
配線部、透明電極等の透明導電薄膜を形成した。
次に、金からなる透明導電薄膜のガラス基板との密着強
度に万全を期すため前記ガラス基板の上にアルミ、シリ
コン、インジューム等の有機金属を主成分とするペース
トをスクリーン印刷法にて端子部を除くガラス基板の表
示全体に塗布し、550℃、15分焼成して、上記金属の酸
化物からなる透明絶縁膜にて全面を覆った。そして、Ｓ
Ｈ6020シランカップリング剤（東レシリコーン社製）を
表面にコーティングした後、脱脂綿にてガラス基板表面
を強くこすっても、配線部を含む透明電極の金の薄膜は
全くはがれることはなかった。このガラス基板を用いて
セルを組立て、液晶を注入し液晶表示素子を作成したと
ころ良好な配向が得られた。このように比較的簡単な工
程により、金配線を用いたドットマトリックスの液晶表
示素子を製造することが出来るようになった。
度に万全を期すため前記ガラス基板の上にアルミ、シリ
コン、インジューム等の有機金属を主成分とするペース
トをスクリーン印刷法にて端子部を除くガラス基板の表
示全体に塗布し、550℃、15分焼成して、上記金属の酸
化物からなる透明絶縁膜にて全面を覆った。そして、Ｓ
Ｈ6020シランカップリング剤（東レシリコーン社製）を
表面にコーティングした後、脱脂綿にてガラス基板表面
を強くこすっても、配線部を含む透明電極の金の薄膜は
全くはがれることはなかった。このガラス基板を用いて
セルを組立て、液晶を注入し液晶表示素子を作成したと
ころ良好な配向が得られた。このように比較的簡単な工
程により、金配線を用いたドットマトリックスの液晶表
示素子を製造することが出来るようになった。
なお、前記の金属酸化物のコーティングの代りにポリア
ミック酸溶液（東レ（株）製高純度トレニース）をＮ−
メチルピロリドンにて５倍に希釈し、ロールコーターに
てガラス基板全面に塗布し150℃、２０分間乾燥後、350
℃、３０分間の熱処理でポリアミック酸を架橋重合さ
せ、ポリイミッドの透明絶縁膜を形成し、脱脂綿にてラ
ビングしたが細幅の金膜の配線のはがれる事はなかっ
た。このガラス基板を用いてセルを組立て液晶を注入し
液晶表示素子の製造したところ良好な配向が得られた。
ミック酸溶液（東レ（株）製高純度トレニース）をＮ−
メチルピロリドンにて５倍に希釈し、ロールコーターに
てガラス基板全面に塗布し150℃、２０分間乾燥後、350
℃、３０分間の熱処理でポリアミック酸を架橋重合さ
せ、ポリイミッドの透明絶縁膜を形成し、脱脂綿にてラ
ビングしたが細幅の金膜の配線のはがれる事はなかっ
た。このガラス基板を用いてセルを組立て液晶を注入し
液晶表示素子の製造したところ良好な配向が得られた。
上記実施例は透明絶縁膜である有機ポリマー被膜として
ポリイミッド被膜に例をとり説明したが、これに限定さ
れるものではなく、PVA等の被膜も用いられる。
ポリイミッド被膜に例をとり説明したが、これに限定さ
れるものではなく、PVA等の被膜も用いられる。
以上説明したように、本発明によれば、透明導電薄膜上
に有機貴金属を主成分とするペーストを印刷焼成して貴
金属薄膜を形成する。４０００オングストロームという
膜厚は有機貴金属ペースト、を印刷焼成することにより
実現できるものであり、単なる貴金属ペーストを印刷焼
成したのでは得られないものであり、かつ、高価な金や
銀の貴金属をガラス基板上に全面蒸着する必要がなく、
液晶セルのコストアップの要因を取り除くことができ
る。また、透明酸化物被膜を形成する際、印刷が可能と
なるので、作業性が向上し、また、均一なラビングがで
きるので、配向特性の良い液晶表示素子を得ることがで
きる。また、透明酸化物被膜形成後に配向膜を形成して
ラビングしたので、ラビング時に貴金属膜がはがれるこ
ともなく安定した製造が可能となる。
に有機貴金属を主成分とするペーストを印刷焼成して貴
金属薄膜を形成する。４０００オングストロームという
膜厚は有機貴金属ペースト、を印刷焼成することにより
実現できるものであり、単なる貴金属ペーストを印刷焼
成したのでは得られないものであり、かつ、高価な金や
銀の貴金属をガラス基板上に全面蒸着する必要がなく、
液晶セルのコストアップの要因を取り除くことができ
る。また、透明酸化物被膜を形成する際、印刷が可能と
なるので、作業性が向上し、また、均一なラビングがで
きるので、配向特性の良い液晶表示素子を得ることがで
きる。また、透明酸化物被膜形成後に配向膜を形成して
ラビングしたので、ラビング時に貴金属膜がはがれるこ
ともなく安定した製造が可能となる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田代 美三 東京都大田区雪谷大塚町１番７号 アルプ ス電気株式会社内 (56)参考文献 特開 昭55−21141（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−112658（ＪＰ，Ａ) 特公 昭46−18225（ＪＰ，Ｂ１)
Claims (1)
- 【請求項１】ガラス基板上に透明導電薄膜を形成し、更
に該透明導電薄膜上に有機貴金属を主成分とするペース
トを印刷焼成して膜厚４０００オングストロームの貴金
属薄膜を形成し、該貴金属薄膜及び透明導電薄膜をホト
エッチングして所望形状の導電薄膜を形成し、更に該導
電薄膜を覆って有機金属を主成分とするペーストを印刷
焼成して透明酸化物被膜を形成し、該透明酸化物被膜形
成後に配向膜を形成してラビングを施すことを特徴とす
る液晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57081594A JPH0612384B2 (ja) | 1982-05-17 | 1982-05-17 | 液晶表示素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57081594A JPH0612384B2 (ja) | 1982-05-17 | 1982-05-17 | 液晶表示素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58199381A JPS58199381A (ja) | 1983-11-19 |
| JPH0612384B2 true JPH0612384B2 (ja) | 1994-02-16 |
Family
ID=13750638
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57081594A Expired - Lifetime JPH0612384B2 (ja) | 1982-05-17 | 1982-05-17 | 液晶表示素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0612384B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54112658A (en) * | 1978-02-22 | 1979-09-03 | Seiko Epson Corp | Liquid crystal display panel and production of the same |
| JPS5521141A (en) * | 1978-08-01 | 1980-02-15 | Tokyo Shibaura Electric Co | Method of forming conductor pattern of thick film circuit board |
-
1982
- 1982-05-17 JP JP57081594A patent/JPH0612384B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58199381A (ja) | 1983-11-19 |
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