JPH06128501A

JPH06128501A - 樹脂組成物、光ディスク用材料及びその硬化物

Info

Publication number: JPH06128501A
Application number: JP4306225A
Authority: JP
Inventors: Kazuhiko Ishii; 一彦石井; Minoru Yokoshima; 実横島
Original assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Current assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Priority date: 1992-10-20
Filing date: 1992-10-20
Publication date: 1994-05-10

Abstract

(57)【要約】【目的】臭気が少なく、表面抵抗が低く、ゴミの付着が
しにくく、接着性、耐擦傷性に優れ、ブリードが少ない
硬化物を与える樹脂組成物を提供する。【構成】分子中に少なくとも１個の水酸基と少なくとも
１個の不飽和基を有する化合物（Ａ）４０〜９５重量
％、特定の構造を有する化合物（Ｂ）１〜１０重量％、
分子中に少なくとも１個の四級アンモニウムハライドと
少なくとも１個の不飽和基を有する化合物（Ｃ）１〜１
０重量％及び光重合開始剤（Ｄ）０．５〜２０重量％を
含んでなる樹脂組成物、光ディスク材料及びその硬化
物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光信号を高速、高密度に
記録再生する光ディスク記録触体用の帯電防止能を有す
る保護コート剤や、光ディスクの傷つき防止用ハードコ
ート剤として有用な紫外線等により硬化し、記録媒体に
対する接着性、耐湿性の良好な硬度の優れた、光ディス
ク表面にゴミの付着しにくい紫外線硬化型樹脂組成物及
びその硬化物に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、民生用のコンパクトディスク記録
媒体用保護コート剤としては紫外線硬化型オーバーコー
ト剤が使用されている。一方、現在書き込み消去の可能
な光ディスクの開発が行われており、光ディスク用保護
コート剤や傷つき防止用ハードコート剤等の開発も進め
られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】光ディスク用の記録媒
体は水分やヒートショックに弱く、保護コート剤に対す
る特性として、耐湿性、耐ヒートショック性、高い硬
度、ゴミが付着しにくい等の優れた品質が要求されてい
る。従来使用されているコンパクトディスク用保護コー
ト剤は光ディスクの保護コート剤やハードコート剤とし
て使用するには耐湿性が不十分であり、又ゴミの付着の
問題もあり使用できない。又、従来紫外線硬化型樹脂組
成物としては多くの組成物が知られているが、帯電防止
能を有した組成物は今日まで十分に満足するものは見い
出されていないのが実状である。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め本発明者らは鋭意研究の結果、紫外線により硬化が速
く、帯電防止能を有し、ゴミの付着が少なく、硬化面の
アミン臭が少なく、接着性、硬度の優れた光ディスク用
材料を提供することに成功し本発明を完成した。すなわ
ち、本発明は、１．分子中に少なくとも１個の水酸基と少なくとも１個
の不飽和基を有する化合物（Ａ）４０〜９５重量％、式
（１）で表される化合物（Ｂ）１〜１０重量％、

【０００５】

【化３】

【０００６】（式中、Ｒは水素原子、又は、メチル基を
示す。）分子中に少なくとも１個の四級アンモニウムハライドと
少なくとも１個の不飽和基を有する化合物（Ｃ）１〜１
０重量％及び光重合開始剤（Ｄ）０．５〜２０重量％を
含んでなる樹脂組成物又は光ディスク用材料。２．１項記載の樹脂組成物又は、光ディスク用材料の硬
化物に関する。

【０００７】本発明に於いて使用される分子中に少なく
とも１個の水酸基と少なくとも１個の不飽和基を有する
化合物（Ａ）としては、具体的には、例えば２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピル（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレー
ト、フェニルグリシジルエーテルの（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレー
ト、ビスフェノールＡのエポキシ樹脂のジ（メタ）アク
リレート等を挙げることができる。

【０００８】本発明で使用する式（１）で表される化合
物（Ｂ）の具体例としては、例えばＮ−（３−スルホプ
ロピル）−Ｎ−メタクリロイルオキシエチル−Ｎ，Ｎ−
ジメチルアンモニウムベタイン、Ｎ−（３−スルホプロ
ピル）−Ｎ−アクリロイルオキシエチルＮ，Ｎ−ジメチ
ルアンモニウムベタイン等を挙げることができる。

【０００９】分子中に少なくとも１個の四級アンモニウ
ムハライドと少なくとも１個の不飽和基を有する化合物
（Ｃ）の具体例としては、例えばメタクリロイルオキシ
エチルトリメチルアンモニウムクロライド、メタクリル
アミドプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、ア
クリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロラ
イド、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニ
ウムブロマイド、

【００１０】

【化４】

【００１１】等を挙げることができる。

【００１２】本発明の樹脂組成物或は光ディスク用材料
（以後併せて組成物という。）では前記化合物（Ａ）〜
（Ｃ）以外の不飽和基含有化合物を使用することができ
る。その不飽和基含有化合物の具体的な例としては、例
えばイソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデ
カン（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパント
リ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）ア
クリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリ
レート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アク
リレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテ
トラ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。こ
れら不飽和基含有化合物を１種又は２種以上使用するこ
とができる。

【００１３】光重合開始剤（Ｄ）としては公知のどのよ
うな光重合開始剤でも使用することができるが配合後の
貯蔵安定性の良いものが望ましい。この様な光重合開始
剤としては、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインブ
チルエーテル等のベンゾインアルキルエーテル系、２，
２−ジエトキシアセトフェノン、４′−フェノキシ−
２，２−ジクロロアセトフェノン等のアセトフェノン
系、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、
４′−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
ピオフェノン等のプロピオフェノン系、１−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジメチルケト
ン及び２−エチルアントラキノン、２−クロロアントラ
キノン等のアントラキノン系、２−クロロチオキサント
ン、２，４−ジエチルチオキサンサトン等のチオキサン
トン系光重合開始剤等があげられる。特に好ましいもの
としては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン等があげられる。これら光重合開始剤は１種又は２種
以上を任意の割合で混合して使用する事ができる。

【００１４】本発明に使用される化合物（Ａ）の使用量
は組成物中４０〜９５重量％、好ましくは５０〜９５重
量％である。化合物（Ａ）の使用量が４０重量％より少
ない場合には化合物（Ｂ）及び化合物（Ｃ）が組成物中
に完全に溶解せず組成物が白濁する場合があり好ましく
ない。化合物（Ｂ）の使用量は組成物中１〜１０重量
％、好ましくは２〜６重量％である。化合物（Ｂ）の使
用量が１重量％より少ない場合には組成物の硬化物の表
面抵抗が高くなり、帯電防止能が不十分となり好ましく
ない。又、化合物（Ｂ）の使用量が１０重量％より多い
と基材との接着性が悪くなったり、硬化物の硬度が低下
して好ましくない。化合物（Ｃ）の使用量は組成物中１
〜１０重量％、好ましくは２〜６重量％である。化合物
（Ｂ）の使用量が１重量％より少ない場合には組成物の
硬化物の表面抵抗が高くなり、帯電防止能が不十分とな
り好ましくない。又、化合物（Ｃ）の使用量が１０重量
％より多いと基材との接着性が悪くなったり、硬化物の
硬度が低下し、硬化物のアミン臭が強くなり好ましくな
い。光重合開始剤（Ｄ）の使用量は組成物中０．５〜２
０重量％、好ましくは３〜１０重量％である。

【００１５】本発明の組成物は各成分（Ａ）、（Ｂ）、
（Ｃ）及び（Ｄ）成分を均一混合、溶解することにより
得ることができる。本発明の組成物には更にシランカッ
プリング剤、重合禁止剤、レベリング剤、スリップ剤、
光安定剤、酸化防止剤、有機溶剤を使用することができ
る。

【００１６】本発明の組成物の硬化物は常法により紫外
線照射により得ることができる。具体的には、例えば低
圧又は、高圧水銀灯、キセノン灯等を用いて紫外線を照
射して得ることができる。本発明の組成物は特に光ディ
スク用保護コーティング剤及び光ディスク用ハードコー
ト剤として有用であるが、その他にも金属、プラスチッ
ク、ゴム、紙、木材及びセラミック用塗料等を使用でき
る。本発明の光ディスク用材料は特に光ディスクの記録
膜の保護剤として、光ディスクの傷つき防止剤として有
用である。

【００１７】本発明の光ディスク用材料を用いた光ディ
スクの傷つき防止膜の形成は光ディスクの基板（例え
ば、ポリカーボネート等）上に光ディスク用材料を、例
えばスピンコート法等により塗布し、紫外線を照射して
硬化することによって傷つき防止剤を形成される。光デ
ィスクの基板上の光ディスク用材料を塗布する場合、そ
の厚さは通常２〜１０μ程度とするのが好ましい。

【００１８】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。実施例１〜４、比較例１表１に示す配合組成比（数値は重量部を示す。）に従っ
て光ディスク用材料を得た。これを光ディスク基板上に
スピンコートにより５μｍの膜厚で塗布した後、紫外線
を照射し硬化し傷つき防止膜を形成された光ディスク基
板を得た。（以後、これを供試体という。）供試体を用
いて各種の性能試験を行った。それらの結果を表１に示
す。

【００１９】（密着性）供試体を８０℃、１００％ＲＨ
の条件で１００時間放置後、塗膜に切目を入れて１×１
ｍｍの大きさのゴバン目を１００個刻み、セロハンテー
プで剥離した後の密着性を評価した。（表面抵抗値（Ω／口））供試体を２３℃、５０％ＲＨ
の条件で２４時間放置した後、測定を行った。値が小さ
いほどよい。（拭き取り試験）供試体の塗膜面をエタノールを含ませ
た脱脂綿で１０００回拭き取った後、表面抵抗を測定し
た。

【００２０】（耐擦傷性）供試体の塗膜面をスチールウ
ール（日本スチールウール社製＃００００）で擦り、表
面状態を観察した。 ◎・・・・強く擦っても傷つかない ○・・・・強く擦ると少し傷つく △・・・・軽く擦ると少し傷つく ×・・・・軽く擦っても非常に傷つく（タバコ吸着テスト）供試体の塗膜面をテトロン布で１
５回強く摩擦した後タバコの灰をふりかけ、吸着してな
い灰を光ディスク基板をふって落とし、灰の付着の程度
を目視で観察した。 ○・・・・全く付着していない △・・・・わずかに付着している ×・・・・全面に付着している

【００２１】（ブリード試験）供試体を８０℃、１００
％ＲＨの条件で１００時間放置後塗膜面を目視し、ブリ
ードの状態を観察した。 ○・・・・全く異常なし △・・・・ややブリード発生 ×・・・・全面にブリード発生（臭気試験）供試体の塗膜面の臭気の程度を評価した。 ○・・・・全く臭気がない △・・・・わずかに臭気がある ×・・・・臭気が強い

【００２２】

【表１】表１（１）実施例１２３４（Ａ）成分ペンタエリスリトールトリアクリレート60 50 40 60 ２−ヒドロキシエチルアクリレート 30 10 20 30 ジペンタエリスリトールペンタアクリレート 20 エポキシアクリレート＊１ 10 （Ｂ）成分ＳＰＥ＊２ 5 5 5 5 （Ｃ）成分ＱＢｍ＊３ 5 4 3 2 メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロライド（Ｄ）成分イルガキュアー１８４＊４ 10 10 10 10 その他 1, 6−ヘキサンジオールジアクリレート20 20 10 20 ペンタエリスリトールテトラアクリレート 20 光ディスク用材料の液の状態透明透明透明透明密着性 100/100 100/100 100/100 100/100 表面抵抗値（Ω／口） 2×10¹² 4×10¹² 8×10¹² 2.5×10¹³ 拭き取り試験（Ω／口） 2.1×10¹² 4.3×10¹² 7.9×10¹² 2.6×10¹³ 耐擦傷性 ○ ◎ ○ ○ タバコ吸着テスト ○ ○ ○ ○ ブリード試験 ○ ○ ○ ○ 臭気試験 ○ ○ ○ ○

【表２】表１（２）比較例１２３（Ａ）成分ペンタエリスリトールトリアクリレート 60 60 ２−ヒドロキシエチルアクリレート 30 30 ジペンタエリスリトールペンタアクリレートエポキシアクリレート＊１（Ｂ）成分ＳＰＥ＊２ 5 （Ｃ）成分ＱＢｍ＊３ 5 12 メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロライド（Ｄ）成分イルガキュアー１８４＊４ 10 10 10 その他 1, 6−ヘキサンジオールジアクリレート 20 40 20 ペンタエリスリトールテトラアクリレート 70 光ディスク用材料の液の状態透明白濁透明密着性 100/100 − 30/100 表面抵抗値（Ω／口） 4.1×10¹⁶ − 1.5×10¹² 拭き取り試験（Ω／口） 4.0×10¹⁶ − 1.6×10¹² 耐擦傷性 ○ − △ タバコ吸着テスト × − ○ ブリード試験 ○ − ○ 臭気試験 ○ − ×

【００２４】注＊１エポキシアクリレート：
エピコート８２８（油化シェルエポキシ（株）製ビス
フェノールＡ型エポキシ樹脂）をアクリル酸でエステル
化したもの＊２ＳＰＥ：ナガセ化成工業（株）製Ｎ−（３
−スルホプロピル）−Ｎ−メタクリロイルオキシエチル
−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニウムベタイン＊３ＱＢｍ：セイワケミカル（株）製トリメチ
ル（ビニルベンジル）アンモニウムクロライド＊４イルガキュアー１８４：チバ・ガイギー社製
光重合開始剤

【００２５】表１から明らかなように本発明の光ディス
ク用材料は透明で、その硬化物は臭気がなく、密着性、
耐擦傷性に優れ、表面抵抗値が低く、帯電防止能を有
し、ゴミの付着が少ない。又拭き取り試験後の表面抵抗
値も変化が少ない。

【００２６】

【発明の効果】本発明の樹脂組成物及び光ディスク用材
料は透明でその硬化物は帯電防止性能を有しており、ゴ
ミが付着しにくく、密着性、耐擦傷性に優れ、臭気が少
なくエタノール等の有機溶剤で塗布面を拭き取っても表
面抵抗に変化がなく、特に光ディスク用ハードコート剤
（傷つき防止膜）、光ディスク用保護コート剤として有
用である。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】分子中に少なくとも１個の水酸基と少なく
とも１個の不飽和基を有する化合物（Ａ）４０〜95重量
％、式（１）で表される化合物（Ｂ）１〜１０重量％、【化１】（式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示す。）分子中に少なくとも１個の四級アンモニウムハライドと
少なくとも１個の不飽和基を有する化合物（Ｃ）１〜１
０重量％及び光重合開始剤（Ｄ）０．５〜２０重量％を
含んでなる樹脂組成物。
【請求項２】分子中に少なくとも１個の水酸基と少なく
とも１個の不飽和基を有する化合物（Ａ）４０〜９５重
量％、式（１）で表される化合物（Ｂ）１〜１０重量
％、【化２】（式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示す。）分子中に少なくとも１個の四級アンモニウムハライドと
少なくとも１個の不飽和基を有する化合物（Ｃ）１〜１
０重量％及び光重合開始剤（Ｄ）０．５〜２０重量％を
含んでなる光ディスク用材料。
【請求項３】請求項１記載の樹脂組成物の硬化物。
【請求項４】請求項２記載の光ディスク用材料の硬化
物。