JPH06136113A - 光学用成形体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、流動性および溶融安定性などの成
形性に優れ、着色が少なく、透明性に優れ、機械的特性
に優れるとともに、複屈折の少ない共重合ポリカーボネ
ートから形成されている光学用成形体および共重合ポリ
カーボネート組成物から形成されている光学用成形体を
提供することを目的としている。 【構成】 本発明に係る光学成形体は、 ［Ａ］(i) レゾルシンおよび／または置換レゾルシン
と、(ii)レゾルシンおよび置換レゾルシン以外の芳香族
ジヒドロキシ化合物と、(iii) これら芳香族ジヒドロキ
シ化合物(i) および(ii)と反応して炭酸結合を形成しう
る化合物とを共重合させてなる共重合ポリカーボネート
から形成されてなる。また本発明に係る光学成形体は、
上記［Ａ］共重合ポリカーボネートに加えて、［Ｂ］添
加剤を含んでなる共重合ポリカーボネート組成物から形
成されてなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の技術分野】本発明は光学用成形体に関し、さら
に詳しくは、成形時の流動性に優れ、着色が少なく、透
明性に優れた共重合ポリカーボネートから形成されてい
る光学用成形体およびこの共重合ポリカーボネートを含
む組成物から形成されている光学用成形体に関する。

【０００２】

【発明の技術的背景】近年、光ディスクは、大記録容
量、非接触読み出し、高速アクセスが可能であるなどの
利点を生かして広範な用途、例えばデジタルデータ用光
ディスク、ＣＤ−ＲＯＭ、コンパクトディスク、ビデオ
ディスクなどに用いられている。

【０００３】このような光ディスクなどの光学基板、光
ファイバー、レンズ、照明器具用品などには優れた透明
性が要求され、特に光学基板には再生レーザー光の波長
領域で高い光線透過性を有するだけでなく、可視光領域
から近赤外領域にわたる広範囲な波長での光線透過性が
要求される。

【０００４】また光学基板には、低吸水性、耐熱性など
の特性も併せて要求される。従来このような特性を満た
すものとして、ポリカーボネートから形成される光学用
成形体が広く使用されている。

【０００５】ところでこのような光学用成形体は、溶融
されたポリカーボネートから所望形状に成形することに
より得られるが、成形の際、ポリカーボネートは、溶融
粘度が高く、流動性に劣るという問題点があった。もし
ポリカーボネートを溶融時の流動性が不十分なまま光学
基板などに成形すると、複屈折の大きい光学基板が得ら
れてしまう。

【０００６】また一方ポリカーボネートを高温で溶融し
て流動性を上げようとすると、溶融安定性が低下してし
まい、成形時にポリカーボネートが熱分解して、色相お
よび透明性が低下したり、機械的特性が低下するなどし
て、光学用成形体として不適合なものが得られてしまう
ことがあった。

【０００７】このためポリカーボネート系光学成形体が
本来有する優れた光学上の特性を有しているとともに、
しかも成形時の流動性および溶融安定性に優れ、複屈折
が小さく、色相および透明性に優れかつ機械的特性にも
優れた光学用成形体の出現が望まれていた。

【０００８】

【発明の目的】本発明は、上記のような従来技術に鑑み
てなされたものであって、流動性および溶融安定性など
の成形性に優れ、成形時の着色が少なく、透明性に優
れ、機械的特性に優れるとともに、複屈折の少ない共重
合ポリカーボネートから形成されている光学用成形体お
よび共重合ポリカーボネート組成物から形成されている
光学用成形体を提供することを目的としている。

【０００９】

【発明の概要】本発明に係る光学用成形体は、 ［Ａ］(i) レゾルシンおよび／または置換レゾルシン
と、(ii)レゾルシンおよび置換レゾルシン以外の芳香族
ジヒドロキシ化合物と、(iii) これら芳香族ジヒドロキ
シ化合物(i) および(ii)と反応して炭酸結合を形成しう
る化合物とを共重合させてなる共重合ポリカーボネート
から形成されてなる。

【００１０】また本発明に係る光学用成形体は、上記
［Ａ］共重合ポリカーボネートに加えて、［Ｂ］添加剤
を含んでなる共重合ポリカーボネート組成物から形成さ
れてなることが好ましい。

【００１１】この［Ｂ］添加剤は、好ましくは、（イ）
ｐＫａ値が３以下であるイオウ含有酸性化合物および／
または該酸性化合物から形成される誘導体、（ロ）リン
化合物、（ハ）エポキシ化合物、（ニ）フェノール系安
定剤、（ホ）離型剤、（ヘ）ホウ素系化合物からなる群
から選ばれる。

【００１２】また上記のような［Ａ］共重合ポリカーボ
ネートは、芳香族ジヒドロキシ化合物から誘導される構
成単位のうち、(i) レゾルシンおよび／または置換レゾ
ルシンから誘導される構成単位を好ましくは２〜９０モ
ル％の量で、より好ましくは２〜４０モル％の量で含有
している。

【００１３】

【発明の具体的説明】以下、本発明に係る光学用成形体
について説明する。本発明に係る光学用成形体は、透明
性、色相に優れかつ複屈折が小さい。

【００１４】本発明に係る光学用成形体は、光学用途で
あれば特に形状、用途などが限定されることなく用いら
れ、具体的に、デジタルデータ用光ディスク、ＣＤ−Ｒ
ＯＭ、コンパクトディスク、ビデオディスクなどの光デ
ィスク（光学基板）、光ファイバー、レンズ、照明器具
用品などとして好適に用いられる。

【００１５】このような本発明に係る光学用成形体は、
［Ａ］共重合ポリカーボネートから形成されている。ま
た本発明に係る光学用成形体は、［Ａ］共重合ポリカー
ボネートに加えて［Ｂ］添加剤を含んでなるとからなる
共重合ポリカーボネート組成物からなることが好まし
い。

【００１６】この［Ａ］共重合ポリカーボネートは、
(i) レゾルシンおよび／または置換レゾルシンと、(ii)
レゾルシンおよび置換レゾルシン以外の芳香族ジヒドロ
キシ化合物と、(iii) これら芳香族ジヒドロキシ化合物
(i) および(ii)と反応して炭酸結合を形成しうる化合物
とを共重合させてなり、(i) レゾルシンおよび／または
置換レゾルシンから誘導される単位と、(ii)レゾルシン
および置換レゾルシン以外の芳香族ジヒドロキシ化合物
から誘導される単位と、(iii) これら芳香族ジヒドロキ
シ化合物(i) および(ii)と反応して炭酸結合を形成しう
る化合物から誘導される単位とを含有している。

【００１７】［Ａ］共重合ポリカーボネートについて以
下に説明する。このような(i) レゾルシンまたは置換レ
ゾルシンから誘導される構成単位は、以下のような一般
式［Ｉ］で表される。

【００１８】

【化１】

【００１９】上記式［Ｉ］において、Ｒはそれぞれ炭素
数１〜１０の炭化水素基またはそのハロゲン化物、また
はハロゲンであり、同一であっても異なっていてもよ
い。ｎは０〜４の整数である。

【００２０】このような(i) レゾルシンおよび／または
置換レゾルシンとしては、具体的に、レゾルシン、3-メ
チルレゾルシン、3-エチルレゾルシン、3-プロピルレゾ
ルシン、3-ブチルレゾルシン、3-t-ブチルレゾルシン、
3-フェニルレゾルシン、3-クミルレゾルシン、2,3,4,5-
テトラフルオロレゾルシン、2,3,4,5-テトラブロムレゾ
ルシンなどが挙げられる。

【００２１】これらのうち、レゾルシンが特に好まし
い。本発明に係る［Ａ］共重合ポリカーボネートでは、
このような(i) レゾルシンおよび／または置換レゾルシ
ンから誘導される構成単位は、芳香族ジヒドロキシ化合
物から誘導される構成単位を１００モル％とするとき、
１００モル％未満の量で含有されているが、好ましくは
２〜９０モル％、さらに好ましくは２〜４０モル％の量
で含有されている。

【００２２】(ii)レゾルシンおよび／または置換レゾル
シン以外の芳香族ジヒドロキシ化合物から誘導される構
成単位は、特に限定はされず、通常ポリカーボネートを
形成している下記のような芳香族ジヒドロキシ化合物か
ら誘導される構成単位であってよい。

【００２３】

【化２】

【００２４】であり、Ｒ¹ およびＲ² は水素原子または
１価の炭化水素基であり、Ｒ³ は２価の炭化水素基であ
る。またＲ⁴ 、Ｒ⁵ は、ハロゲンまたは１価の炭化水素
基であり、これらは、同一であっても異なっていてもよ
い。ｐ、ｑは０〜４の整数を表す。）このような(ii)芳
香族ジヒドロキシ化合物としては、たとえば ビス（4-ヒドロキシフェニル）メタン、1,1-ビス（4-ヒ
ドロキシフェニル）エタン、2,2-ビス（4-ヒドロキシフ
ェニル）プロパン、2,2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）
ブタン、2,2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）オクタン、
ビス（4-ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、2,2-ビ
ス（4-ヒドロキシ-1- メチルフェニル）プロパン、1,1-
ビス（4-ヒドロキシ-t-ブチルフェニル）プロパン、2,2
-ビス（4-ヒドロキシ-3-ブロモフェニル）プロパンなど
のビス（ヒドロキシアリール）アルカン類、1,1-ビス
（4-ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、1,1-ビス
（4-ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンなどのビス
（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、4,4'-ジヒ
ドロキシジフェニルエーテル、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'
-ジメチルフェニルエーテルなどのジヒドロキシアリー
ルエーテル類、4,4'-ジヒドロキシジフェニルスルフィ
ド、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジメチルジフェニルスル
フィドなどのジヒドロキシジアリールスルフィド類、4,
4'- ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、4,4'- ジヒ
ドロキシ-3,3'-ジメチルジフェニルスルホキシドなどの
ジヒドロキシジアリールスルホキシド類、4,4'-ジヒド
ロキシジフェニルスルホン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-
ジメチルジフェニルスルホンなどのジヒドロキシジアリ
ールスルホン類などが挙げられる。

【００２５】これらのうちでは、特に2,2-ビス（4-ヒド
ロキシフェニル）プロパンが好ましい。また上記のよう
な 芳香族ジヒドロキシ化合物(i) および(ii)と反応し
て(iii)炭酸結合を導入する化合物としては、具体的に
は、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネー
ト、ビス（クロロフェニル）カーボネート、m-クレジル
カーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェ
ニル）カーボネート、ジエチルカーボネート、ジメチル
カーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシ
ルカーボネートなどの炭酸ジエステル、およびホスゲン
などのハロゲン化カルボニル化合物、などが挙げられ
る。

【００２６】これらのうち特にジフェニルカーボネート
が好ましい。本発明に係る［Ａ］共重合ポリカーボネー
トは、上記のような構成単位以外に、ジカルボン酸、ジ
カルボン酸エステルまたはジカルボン酸ハロゲン化物か
ら誘導される構成単位を含有していてもよい。この構成
単位は、ポリエステルポリカーボネートである。

【００２７】このようなジカルボン酸あるいはジカルボ
ン酸エステル、ジカルボン酸ハロゲン化物としては、テ
レフタル酸、イソフタル酸、セバシン酸、デカン二酸、
ドデカン二酸、セバシン酸ジフェニル、テレフタル酸ジ
フェニル、イソフタル酸ジフェニル、デカン二酸ジフェ
ニル、ドデカン二酸ジフェニル、テレフタル酸クロリ
ド、イソフタル酸クロリド、セバシン酸クロリド、デカ
ン二酸クロリド、ドデカン二酸クロリドなどを挙げるこ
とができる。

【００２８】［Ａ］共重合ポリカーボネート中には、こ
のようなポリエステルポリカーボネート単位が、５０モ
ル％以下、好ましくは３０モル％以下の量で存在してい
てもよい。

【００２９】また［Ａ］共重合ポリカーボネートは、本
発明の目的を損なわない範囲で、１分子中に３個以上の
官能基を有する多官能化合物とから誘導される構成単位
を含有していてもよい。

【００３０】このような多官能化合物としては、フェノ
ール性水酸基またはカルボキシル基を３個以上有する化
合物が好ましく、特にフェノール性水酸基を３個以上有
する化合物が好ましく用いられる。具体的には、たとえ
ば、1,1,1-トリス(4-ヒドロキシフェニル) エタン、2,
2',2"-トリス(4-ヒドロキシフェニル)ジイソプロピルベ
ンゼン、α-メチル-α,α',α'-トリス(4-ヒドロキシフ
ェニル)-1,4-ジエチルベンゼン、α, α',α"-トリス(4
-ヒドロキシフェニル)-1,3,5-トリイソプロピルベンゼ
ン、フロログルシン、4,6-ジメチル-2,4,6-トリ(4-ヒド
ロキシフェニル)-ヘプタン-2、1,3,5-トリ(4-ヒドロキ
シフェニル) ベンゼン、2,2-ビス-［4,4-(4,4'-ジヒド
ロキシフェニル)-シクロヘキシル］-プロパン、トリメ
リット酸、1,3,5-ベンゼントリカルボン酸、ピロメリッ
ト酸などが挙げられる。

【００３１】これらのうち、1,1,1-トリス(4-ヒドロキ
シフェニル) エタン、α, α',α"-トリス(4-ヒドロキ
シフェニル)-1,3,5-トリイソプロピルベンゼンなどが好
ましい。

【００３２】このような構成単位は、共重合ポリカーボ
ネート中の芳香族ジヒドロキシ化合物から誘導される構
成単位を１００モル％としたときに、通常、３モル％以
下好ましくは０．１〜２モル％さらに好ましくは０．１
〜１モル％の量で存在していてもよい。

【００３３】上記のような［Ａ］共重合ポリカーボネー
トは、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、通常、１００〜１５
０℃、好ましくは１１０〜１３５℃である。また熱分解
温度は、通常、３５０〜３８０℃、好ましくは３６０〜
３８０℃である。

【００３４】さらにＪＩＳ Ｋ ７２１０に準拠して、
温度３００℃、荷重１.２Kgの条件で測定したメルトフ
ローレート（ＭＦＲ）は、通常、５〜１００ｇ／10分、
好ましくは８〜５０ｇ／10分である。

【００３５】このような共重合ポリカーボネートから形
成される本発明に係る光学用成形体は、機械的特性、耐
熱性、透明性ならびに色相に優れるとともに、耐薬品性
にも優れ、成形時の流動性、溶融安定性などにも優れて
いる。

【００３６】特に本発明に係る光学用成形体を形成して
いる共重合ポリカーボネートは、レゾルシンおよび／ま
たは置換レゾルシンから誘導される構成単位を含まない
従来のポリカーボネートと比較してＭＦＲ（ｇ／10分）
が大きく、流動性、溶融安定性などの成形性に優れてい
る。このため本発明に係る光学成形体は、成形時の流動
性に優れており、透明性、色相が低下したり、分子量な
どが低下することなく成形される。またこのように成形
される光学成形体は、複屈折が小さい。

【００３７】上記のような［Ａ］共重合ポリカーボネー
トは、(i) レゾルシンおよび／または置換レゾルシン
と、(ii)他の芳香族ジヒドロキシ化合物と、(iii) これ
ら芳香族ジヒドロキシ化合物と反応して炭酸結合を形成
しうる化合物とを用いて製造されるが、製造方法は、特
に限定されない。具体的には、芳香族ジヒドロキシ化合
物と反応して炭酸結合を形成しうる化合物としてホスゲ
ンなどのハロゲン化カルボニルを用いる界面法および溶
液法、炭酸ジエステルを用いる溶融法、固相重合法など
により製造される。

【００３８】本発明では、これらのうち溶融重合法が好
ましく、以下にその詳細を説明する。本発明では、共重
合ポリカーボネートを溶融重合法により製造するに際し
て、(i) レゾルシンおよび／または置換レゾルシンと、
(ii)他の芳香族ジヒドロキシ化合物と、(iii)炭酸ジエ
ステルとが用いられる。

【００３９】本発明で用いられる(i) レゾルシンおよび
置換レゾルシンは、下記一般式［III］で表される。

【００４０】

【化３】

【００４１】上記式［III］において、Ｒはそれぞれ炭
素数１〜１０の炭化水素基またはそのハロゲン化物、ま
たはハロゲンであり、同一であっても異なっていてもよ
い。ｎは０〜４の整数である。

【００４２】このような置換レゾルシンとして、具体的
には、前述の化合物が用いられる。これらのうちでは、
レゾルシンが好ましく用いられる。これらは、単独であ
るいは組み合わせて用いられる。

【００４３】本発明では、共重合ポリカーボネートを製
造するに際して、このような(i) レゾルシンおよび／ま
たは置換レゾルシンは、芳香族ジヒドロキシ化合物中、
１００％未満の量で用いられるが、好ましくは２〜９０
モル％、さらに好ましくは２〜４０モル％の量で用いら
れる。

【００４４】また(ii)レゾルシンおよび／または置換レ
ゾルシン以外の芳香族ジヒドロキシ化合物は、芳香族ジ
ヒドロキシ化合物を１００モル％としたとき、好ましく
は９８〜１０モル％、さらに好ましくは９８〜６０モル
％の量で用いられる。

【００４５】このような(ii)レゾルシンおよび／または
置換レゾルシン以外の芳香族ジヒドロキシ化合物は、特
に限定されないが、通常は、下記式［IV］で示される化
合物、さらに下記［IV］のフェニル基に脂肪族基やハロ
ゲン基が置換された化合物などが挙げられる。

【００４６】

【化４】

【００４７】であり、Ｒ¹ およびＲ² は水素原子または
１価の炭化水素基であり、Ｒ³ は２価の炭化水素基であ
る。またＲ⁴ およびＲ⁵ は、ハロゲンまたはまたは１価
の炭化水素基であり、これらは、同一であっても異なっ
ていてもよい。ｐおよびｑは０〜４の整数である。）こ
のような(ii)芳香族ジヒドロキシ化合物としては、具体
的には上述したような化合物が挙げられる。

【００４８】これらのうちでは、特に2,2-ビス（4-ヒド
ロキシフェニル）プロパンが好ましく用いられる。また
(iii)炭酸ジエステルとしては、具体的には上述したよ
うな化合物が挙げられる。

【００４９】これらのうち特にジフェニルカーボネート
が好ましく用いられる。本発明では、共重合ポリカーボ
ネートを製造するに際して、(iii)炭酸ジエステルを１
００モル％としたとき、炭酸ジエステルは、好ましくは
５０モル％以下、さらに好ましくは３０モル％以下の量
でジカルボン酸あるいはジカルボン酸エステルを含有し
ていてもよい。

【００５０】このようなジカルボン酸あるいはジカルボ
ン酸エステルとしては、具体的には上述したような化合
物が挙げられる。本発明では、ポリカーボネートを製造
するに際して、上記のような炭酸ジエステルは、芳香族
ジヒドロキシ化合物総量１モルに対して、０.９５〜１.
３０モル好ましくは１.０１〜１.２０モルの量で用いら
れることが望ましい。

【００５１】また本発明では、ポリカーボネートを製造
するに際して、上記のような芳香族ジヒドロキシ化合物
と炭酸ジエステルとともに、上述のような１分子中に３
個以上の官能基を有する多官能化合物を用いることもで
きる。

【００５２】多官能化合物が用いられる時は、芳香族ジ
ヒドロキシ化合物総量１モルに対して、通常は０.０３
モル以下好ましくは０.００１〜０.０２モルさらに好ま
しくは０.００１〜０.０１モルの量で用いられる。

【００５３】本発明では、上記のような(i) レゾルシン
および／または置換レゾルシン、(ii)他の芳香族ジヒド
ロキシ化合物および(iii) 炭酸ジエステルとを、(a) ア
ルカリ金属化合物および／またはアルカリ土類金化合物
からなる触媒の存在下に溶融重縮合させることが好まし
い。

【００５４】このようなアルカリ金属化合物およびアル
カリ土類金属化合物(a) としては、具体的には、アルカ
リ金属およびアルカリ土類金属の有機酸塩、無機酸塩、
酸化物、水酸化物、水素化物あるいはアルコラートなど
が好ましく挙げられる。

【００５５】より具体的には、このようなアルカリ金属
化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、炭酸水素リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢
酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カ
リウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化ホウ素リチウム、フェニル化ホウ素ナトリウ
ム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸
リチウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリ
ウム、リン酸水素二リチウム、ビスフェノールＡの二ナ
トリウム塩、二カリウム塩、二リチウム塩、フェノール
のナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩などが用いら
れる。

【００５６】またアルカリ土類金属化合物としては、具
体的には、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化
マグネシウム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カルシ
ウム、炭酸水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸
水素ストロンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、
炭酸マグネシウム、炭酸ストロンチウム、酢酸カルシウ
ム、酢酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸ストロンチ
ウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウ
ム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸ストロン
チウムなどが用いられる。

【００５７】これら化合物は単独あるいは組み合わせて
用いることができる。このようなアルカリ金属化合物お
よび／またはアルカリ土類金属化合物(a) は、芳香族ジ
ヒドロキシ化合物総量１モルに対して、通常、１×１０
^-8〜１×１０ ^-3モル、好ましくは１×１０^-7〜１×１０
^-5モル、特に好ましくは１×１０^-7〜２．５×１０^-6モ
ルの量で用いられる。

【００５８】アルカリ金属化合物またはアルカリ土類金
属化合物(a) の使用量が、芳香族ジヒドロキシ化合物総
量１モルに対して１×１０^-8〜１×１０^-3モルである
と、重合活性を高く維持できるとともに、得られる共重
合ポリカーボネートの性質に悪影響を及ぼさない量で酸
性化合物（後述する）を添加して、これら化合物が示す
塩基性を充分に中和するかあるいは弱めることができ、
色相、耐熱性、耐水性および耐候性に優れ、かつ長時間
の溶融安定性に優れた共重合ポリカーボネートを得るこ
とができる。

【００５９】本発明では、触媒として、上記のような (a) アルカリ金属化合物および／またはアルカリ土類金
属化合物とともに、(b) 塩基性化合物および／または
(c) ホウ酸化合物を用いることができる。

【００６０】このような塩基性化合物(b) としては、た
とえば高温で易分解性あるいは揮発性の含窒素塩基性化
合物が挙げられ、具体的には、以下のような化合物が挙
げられる。

【００６１】テトラメチルアンモニウムヒドロキシド
（Me₄NOH）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド
（Et₄NOH）、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド
（Bu₄NOH）、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキ
シド（φ−CH₂(Me)₃NOH ）などのアルキル、アリール、
アルアリール基などを有するアンモニウムヒドロオキシ
ド類、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジメチル
ベンジルアミン、トリフェニルアミンなどの三級アミン
類、Ｒ₂ＮＨ（式中Ｒはメチル、エチルなどのアルキ
ル、フェニル、トルイルなどのアリール基などである）
で示される二級アミン類、ＲＮＨ₂ （式中Ｒは上記と同
じである）で示される一級アミン類、ピリジン、ジメチ
ルアミノピリジン、ピロリジノピリジンなどのピリジン
類、2-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾールな
どのイミダゾール類、あるいはアンモニア、テトラメチ
ルアンモニウムボロハイドライド（Me₄NBH₄）、テトラ
ブチルアンモニウムボロハイドライド（Bu₄NBH₄ ）、テ
トラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート（Bu₄N
BPh₄）、テトラメチルアンモニウムテトラフェニルボレ
ート（Me₄NBPh₄）などの塩基性塩。

【００６２】これらのうち、テトラアルキルアンモニウ
ムヒドロキシド類、特に金属不純物の少ない電子用テト
ラアルキルアンモニウムヒドロキシド類が好ましく用い
られる。

【００６３】また(c) ホウ酸化合物としては、ホウ酸お
よび下記一般式で示されるホウ酸エステルなどが挙げら
れる。 Ｂ（ＯＲ）_n（ＯＨ）_3-n 式中、Ｒはメチル、エチルなどのアルキル、フェニルな
どのアリールなどであり、ｎは１、２または３である。

【００６４】このようなホウ酸エステルとしては、具体
的には、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリエチル、ホウ酸
トリブチル、ホウ酸トリヘキシル、ホウ酸トリヘプチ
ル、ホウ酸トリフェニル、ホウ酸トリトリル、ホウ酸ト
リナフチルなどが挙げられる。

【００６５】本発明で触媒として用いられる好ましい組
合せとしては、(a) アルカリ金属化合物および／または
アルカリ土類金属化合物と、(b) 含窒素塩基性化合物と
からなる組合せが挙げられる。

【００６６】この際、(a) アルカリ金属化合物および／
またはアルカリ土類金属化合物は上記のような量で用い
られ、(b) 含窒素塩基性化合物は、芳香族ジヒドロキシ
化合物総量１モルに対して、１×１０^-6〜１×１０^-1モ
ル、好ましくは１×１０^-5〜１×１０^-2モルの量で用い
られる。(b) 含窒素塩基性化合物の使用量が芳香族ジヒ
ドロキシ化合物総量１モルに対して１×１０^-6〜１×１
０^-1モルであると、エステル交換反応、重合反応が十分
な速度で進行し、さらに色相、耐熱性および耐水性など
に優れた共重合ポリカーボネートが得られる点で好まし
い。

【００６７】このように(a) アルカリ金属化合物および
／またはアルカリ土類金属化合物と、(b) 含窒素塩基性
化合物とを組合せた触媒は、耐熱性および耐水性に優れ
るとともに色調が改良され、透明性に優れた高分子量の
共重合ポリカーボネートを、高い重合活性で生成させる
ことができる。

【００６８】また本発明では、(a) アルカリ金属化合物
および／またはアルカリ土類金属化合物と、(c) ホウ酸
またはホウ酸エステルとの組合せからなる触媒、さら
に、(a) アルカリ金属化合物および／またはアルカリ土
類金属化合物と、(b) 含窒素塩基性化合物と、(c) ホウ
酸またはホウ酸エステルとの組合せからなる触媒が好ま
しく用いられる。

【００６９】このような組合せからなる触媒において、
(a) アルカリ金属化合物またはアルカリ土類金属化合物
および(b) 含窒素塩基性化合物は、上記したような量で
用いられることが好ましい。

【００７０】(c) ホウ酸またはホウ酸エステルは、芳香
族ジヒドロキシ化合物総量１モルに対して、１×１０^-8
〜１×１０^-1モル、好ましくは１×１０^-7〜１×１０^-2
モル、さらに好ましくは１×１０^-6〜１×１０^-4モルの
量で用いられる。

【００７１】(c) ホウ酸またはホウ酸エステルの使用量
が、芳香族ジヒドロキシ化合物総量１モルに対して１×
１０^-8〜１×１０^-1モルであると、熱老化後に分子量の
低下を起こしにくく、さらに色相、耐熱性および耐水性
に優れた共重合ポリカーボネートが得られる点で好まし
い。

【００７２】特に(a) アルカリ金属化合物またはアルカ
リ土類金属化合物と、(b) 含窒素塩基性化合物と、(c)
ホウ酸またはホウ酸エステルとからなる触媒は、透明
性、耐熱性および耐水性に優れるとともに色調も改良さ
れ、高分子量の共重合ポリカーボネートを、高い重合活
性で生成させることができる。

【００７３】このような触媒を用いる(i) レゾルシンお
よび／または置換レゾルシンと(ii)他の芳香族ジヒドロ
キシ化合物と(iii) 炭酸ジエステルとの重縮合反応は、
従来知られている芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエ
ステルとの重縮合反応条件と同様な条件下で行なうこと
ができる。

【００７４】具体的には、８０〜２５０℃、好ましくは
１００〜２３０℃、さらに好ましくは１２０〜１９０℃
の温度で、０〜５時間、好ましくは０〜４時間、さらに
好ましくは０〜３時間、常圧下、芳香族ジヒドロキシ化
合物と炭酸ジエステルとを反応させる。次いで反応系を
減圧にしながら反応温度を高めて、芳香族ジヒドロキシ
化合物と炭酸ジエステルとの反応を行ない、最終的には
５mmＨｇ以下好ましくは１mmＨｇ以下の減圧下で２４０
〜３２０℃の温度で芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジ
エステルとの重縮合反応を行なう。

【００７５】上記のような重縮合反応は、連続式で行な
ってもよく、またバッチ式で行なってもよい。また上記
の反応を行なうに際して用いられる反応装置は、槽型で
あっても管型であっても塔型であってもよい。

【００７６】このようにして得られる共重合ポリカーボ
ネートでは、通常、極限粘度［η］が０．２〜１．２dl
／ｇ、好ましくは０．３〜１．０dl／ｇである。上記の
ような製造方法は、共重合ポリカーボネートの溶融重縮
合に際して、毒性物質であるホスゲンや塩化メチレンな
どを用いないので環境衛生上好ましい。

【００７７】またこの溶融重合法によれば、得られる共
重合ポリカーボネートにおいて、芳香族ジヒドロキシ化
合物から誘導される構成単位１００モル中、(i)レゾル
シンおよび／または置換レゾルシンから誘導される構成
単位が９０モル％を超えるような量で(i)レゾルシンお
よび／または置換レゾルシンを使用しても、他の方法、
たとえば界面重合法等に比べて、色相、耐水性、耐熱性
の優れた共重合ポリカーボネートが得られる。

【００７８】本発明に係る光学用成形体は、上記のよう
な［Ａ］共重合ポリカーボネートに加えて［Ｂ］添加剤
を含んでなる共重合ポリカーボネート組成物から形成さ
れていることが好ましい。

【００７９】このような［Ｂ］添加剤としては、（イ）
ｐＫａ値が３以下であるイオウ含有酸性化合物および／
または該酸性化合物から形成される誘導体、（ロ）リン
化合物、（ハ）エポキシ化合物、（ニ）フェノール系安
定剤、（ホ）離型剤、（ヘ）ホウ素系化合物などが挙げ
られる。

【００８０】これらは、１種であるいは２種以上組合わ
せて用いられる。このような（イ）ｐＫａ値が３以下で
あるイオウ含有酸性化合物および該酸性化合物から形成
される誘導体としては、具体的に、亜硫酸、硫酸、スル
フィン酸系化合物、スルホン酸系化合物およびこれらの
誘導体が挙げられる。

【００８１】亜硫酸誘導体としては、ジメチル亜硫酸、
ジエチル亜硫酸、ジプロピル亜硫酸、ジブチル亜硫酸、
ジフェニル亜硫酸などが挙げられる。硫酸誘導体として
は、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸、ジプロピル硫酸、ジ
ブチル硫酸、ジフェニル硫酸などが挙げられる。

【００８２】スルフィン酸系化合物としては、ベンゼン
スルフィン酸、トルエンスルフィン酸、ナフタレンスル
フィン酸などが挙げられる。またスルホン酸系化合物お
よびこの誘導体としては、下記一般式［Ｖ］で表わされ
る化合物やそれらのアンモニウム塩が挙げられる。

【００８３】

【化５】

【００８４】式中、Ｒ⁷ は炭素数１〜５０の炭化水素基
（水素はハロゲンで置換されていてもよい）であり、Ｒ
⁸ は水素または炭素数１〜５０の炭化水素基（水素はハ
ロゲンで置換されていてもよい）であり、ｎは０〜３の
整数である。

【００８５】このようなスルホン酸系化合物およびこの
誘導体としては、具体的に、ベンゼンスルホン酸、p-ト
ルエンスルホン酸などのスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸メチル、ベンゼンスルホン酸エチル、ベンゼンスルホ
ン酸ブチル、ベンゼンスルホン酸オクチル、ベンゼンス
ルホン酸フェニル、p-トルエンスルホン酸メチル、p-ト
ルエンスルホン酸エチル、p-トルエンスルホン酸ブチ
ル、p-トルエンスルホン酸オクチル、p-トルエンスルホ
ン酸フェニルなどのスルホン酸エステル、p-トルエンス
ルホン酸アンモニウムなどのスルホン酸アンモニウム塩
などが挙げられる。

【００８６】さらに上記一般式［Ｖ］で表されるスルホ
ン酸化合物以外にも、トリフルオロメタンスルホン酸、
ナフタレンスルホン酸、スルホン化ポリスチレン、アク
リル酸メチル−スルホン化スチレン共重合体などのスル
ホン酸化合物が挙げられる。

【００８７】本発明では、（イ）イオウ含有酸性化合物
および該酸性化合物から形成される誘導体として、上記
一般式［Ｖ］で表されるスルホン酸系化合物およびこの
誘導体が好ましい。さらに上記一般式［Ｖ］において、
Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ が炭素数１〜１０の置換脂肪族炭化水素基、
ｎが０〜１の整数である化合物が好ましく用いられ、具
体的には、ベンゼンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸ブ
チル、p-トルエンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸エ
チル、p-トルエンスルホン酸ブチルが好ましい。

【００８８】これらのうちでも、p-トルエンスルホン酸
ブチルが好ましい。本発明では、上記のような（イ）ｐ
Ｋａ値が３以下であるイオウ含有酸性化合物および／ま
たは該酸性化合物から形成される誘導体を、上記［Ａ］
共重合ポリカーボネートに対して、０.１〜１０ppm 、
好ましくは０.１〜８ppm 、特に好ましくは０.１〜５pp
m の量で添加する。

【００８９】（ロ）リン化合物としては、リン酸、亜リ
ン酸、次亜リン酸、ピロリン酸、ポリリン酸、リン酸エ
ステルおよび亜リン酸エステルが挙げられる。このよう
なリン酸エステルとしては、具体的に、たとえば、トリ
メチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブ
チルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリデ
シルホスフェート、トリオクタデシルホスフェート、ジ
ステアリルペンタエリスリチルジホスフェート、トリス
（2-クロロエチル）ホスフェート、トリス（2,3-ジクロ
ロプロピル）ホスフェートなどのトリアルキルホスフェ
ート、トリシクロヘキシルホスフェートなどのトリシク
ロアルキルホスフェート、トリフェニルホスフェート、
トリクレジルホスフェート、トリス（ノニルフェニル）
ホスフェート、2-エチルフェニルジフェニルホスフェー
トなどのトリアリールホスフェートなどが挙げられる。

【００９０】また亜リン酸エステルとしては、下記一般
式で表される化合物が挙げられる。 Ｐ（ＯＲ）₃ （式中、Ｒは脂環族炭化水素基、脂肪族炭化水素基また
は芳香族炭化水素基を表す。これらは同一であっても異
なっていてもよい。）このような式で表される化合物と
して、たとえば、トリメチルホスファイト、トリエチル
ホスファイト、トリブチルホスファイト、トリオクチル
ホスファイト、トリス（2-エチルヘキシル）ホスファイ
ト、トリノニルホスファイト、トリデシルホスファイ
ト、トリオクタデシルホスファイト、トリステアリルホ
スファイト、トリス（2-クロロエチル）ホスファイト、
トリス（2,3-ジクロロプロピル）ホスファイトなどのト
リアルキルホスファイト、トリシクロヘキシルホスファ
イトなどのトリシクロアルキルホスファイト、トリフェ
ニルホスファイト、トリクレジルホスファイト、トリス
（エチルフェニル）ホスファイト、トリス（2,4-ジ-t-
ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニ
ル）ホスファイト、トリス（ヒドロキシフェニル）ホス
ファイトなどのトリアリールホスファイト、フェニルジ
デシルホスファイト、ジフェニルデシルホスファイト、
ジフェニルイソオクチルホスファイト、フェニルイソオ
クチルホスファイト、2-エチルヘキシルジフェニルホス
ファイトなどのアリールアルキルホスファイトなどが挙
げられる。

【００９１】さらに亜リン酸エステルとして、ジステア
リルペンタエリスリチルジホスファイト、ビス（2,4-ジ
-t-ブチルフェニル）ペンタエリスリチルジホスファイ
トなどが挙げられる。

【００９２】これらのうち（ロ）リン化合物として、上
記一般式で表される亜リン酸エステルが好ましく、さら
に芳香族亜リン酸エステルが好ましく、特にトリス（2,
4-ジ-t-ブチルフェニル）ホスファイトが好ましい。

【００９３】本発明では、上記のような（ロ）リン化合
物を、［Ａ］共重合ポリカーボネートに対して、通常１
０〜１０００ppm 、好ましくは５０〜５００ppm の量で
添加する。

【００９４】（ハ）エポキシ化合物としては、１分子中
にエポキシ基を１個以上有する化合物が用いられる。具
体的には、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、フ
ェニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテ
ル、t-ブチルフェニルグリシジルエーテル、3,4-エポキ
シシクロヘキシルメチル-3',4'-エポキシシクロヘキシ
ルカルボキシレート、3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘ
キシルメチル-3',4'-エポキシ-6'-メチルシクロヘキシ
ルカルボキシレート、2,3-エポキシシクロヘキシルメチ
ル-3',4'-エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、4
-（3,4-エポキシ-5-メチルシクロヘキシル）ブチル-3',
4'-エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、3,4-エ
ポキシシクロヘキシルエチレンオキシド、シクロヘキシ
ルメチル3,4-エポキシシクロヘキシルカルボキシレー
ト、3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシルメチル-6'-
メチルシロヘキシルカルボキシレート、ビスフェノール
−Ａジグリシジルエーテル、テトラブロモビスフェノー
ル−Ａグリシジルエーテル、フタル酸のジグリシジルエ
ステル、ヘキサヒドロフタル酸のジグリシジルエステ
ル、ビス-エポキシジシクロペンタジエニルエーテル、
ビス-エポキシエチレングリコール、ビス-エポキシシク
ロヘキシルアジペート、ブタジエンジエポキシド、テト
ラフェニルエチレンエポキシド、オクチルエポキシタレ
ート、エポキシ化ポリブタジエン、3,4-ジメチル-1,2-
エポキシシクロヘキサン、3,5-ジメチル-1,2-エポキシ
シクロヘキサン、3-メチル-5-t-ブチル-1,2-エポキシシ
クロヘキサン、オクタデシル-2,2-ジメチル-3,4-エポキ
シシクロヘキシルカルボキシレート、N-ブチル-2,2-ジ
メチル-3,4-エポキシシクロヘキシルカルボキシレー
ト、シクロヘキシル-2-メチル-3,4-エポキシシクロヘキ
シルカルボキシレート、N-ブチル-2-イソプロピル-3,4-
エポキシ-5-メチルシクロヘキシルカルボキシレート、
オクタデシル-3,4-エポキシシクロヘキシルカルボキシ
レート、2-エチルヘキシル-3',4'-エポキシシクロヘキ
シルカルボキシレート、4,6-ジメチル-2,3-エポキシシ
クロヘキシル-3',4'-エポキシシクロヘキシルカルボキ
シレート、4,5-エポキシ無水テトラヒドロフタル酸、3-
t-ブチル-4,5-エポキシ無水テトラヒドロフタル酸、ジ
エチル4,5-エポキシ-シス-1,2-シクロヘキシルジカルボ
キシレート、ジ-n-ブチル-3-t-ブチル-4,5-エポキシ-シ
ス-1,2-シクロヘキシルジカルボキシレートなどが挙げ
られる。

【００９５】これらのうち、脂環族エポキシ化合物が好
ましく用いられ、特に3,4-エポキシシクロヘキシルメチ
ル-3',4'-エポキシシクロヘキシルカルボキシレートが
好ましい。

【００９６】本発明では、このような（ハ）エポキシ化
合物を、上記［Ａ］共重合ポリカーボネートに対して、
通常１〜２０００ppm の量で、好ましくは１０〜１００
０ppm の量で添加することが好ましい。

【００９７】（ニ）フェノール系安定剤としては、具体
的にたとえば、n-オクタデシル-3-(4-ヒドロキシ-3',5'
-ジ-t-ブチルフェニル）プロピオネート、テトラキス
［メチレン-3-(3',5'-ジ-t- ブチル-4-ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート］メタン、1,1,3-トリス（2-メチ
ル-4-ヒドロキシ-5-t- ブチルフェニル）ブタン、ジス
テアリル（4-ヒドロキシ-3-メチル-5-t-ブチル）ベンジ
ルマロネート、4-ヒドロキシメチル-2,6-ジ-t-ブチルフ
ェノールなどが挙げられる。

【００９８】本発明では、上記のような（ニ）フェノー
ル系安定剤は、［Ａ］共重合ポリカーボネートに対し
て、通常１０〜１０００ppm 、好ましくは５０〜５００
ppm の量で用いられる。

【００９９】（ホ）離型剤としては、一般的な離型剤が
特に限定されずに用いられる。具体的にはたとえば、天
然、合成パラフィン類、ポリエチレンワックス類、フル
オロカーボン類などの炭化水素系離型剤、ステアリン
酸、ヒドロキシステアリン酸などの高級脂肪酸、オキシ
脂肪酸類などの脂肪酸系離型剤、ステアリン酸アミド、
エチレンビスステアロアミドなどの脂肪酸アミド、アル
キレンビス脂肪酸アミド類などの脂肪酸アミド系離型
剤、ステアリルアルコール、セチルアルコールなどの脂
肪族アルコール、多価アルコール、ポリグリコール、ポ
リグリセロール類などのアルコール系離型剤、ブチルス
テアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート
などの脂肪族酸低級アルコールエステル、脂肪酸多価ア
ルコールエステル、脂肪酸ポリグリコールエステル類な
どの脂肪酸エステル系離型剤、シリコーンオイル類など
のシリコーン系離型剤などが挙げられる。

【０１００】本発明では、上記のような（ホ）離型剤
は、［Ａ］共重合ポリカーボネート１００重量部に対し
て、通常、０.００１〜５重量部、好ましくは０.００５
〜１重量部、さらに好ましくは０.０１〜０.５重量部の
量で用いることができる。

【０１０１】また（ヘ）ホウ素系化合物としては、上述
したような(c) ホウ酸化合物が挙げられ、具体的に、ホ
ウ酸、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリエチル、ホウ酸ト
リブチル、ホウ酸トリヘキシル、ホウ酸トリヘプチル、
ホウ酸トリフェニル、ホウ酸トリトリル、ホウ酸トリナ
フチルなどが挙げられる。

【０１０２】これらのうち、ホウ酸トリフェニルが好ま
しい。本発明に係る共重合ポリカーボネート組成物で
は、上記のような（ヘ）ホウ素系化合物は、［Ａ］共重
合ポリカーボネート１００重量部あたり、０.００００
１〜０.２重量部、好ましくは０.００００５〜０.０２
重量部の量で用いられることが好ましい。

【０１０３】このような（ヘ）ホウ素系化合物は、上述
したように重合時に触媒の一成分(c) としてあらかじめ
添加して使用することができ、もし重合時に必要量を添
加しておけば重合後に添加する必要は特にない。

【０１０４】このような共重合ポリカーボネート組成物
は、従来公知の方法で各成分を混練して製造することが
できる。たとえば各成分をターンブルミキサーやヘンシ
ェルミキサーで代表される高速ミキサーで分散混合した
後、押出機、バンバリーミキサー、ロール等で溶融混練
する方法が適宜選択される。

【０１０５】共重合ポリカーボネート組成物を製造する
に際しては、重縮合反応が終了して得られる溶融状態に
ある反応器内または押出機内の反応生成物である［Ａ］
共重合ポリカーボネートが溶融状態にある間に、直接、
［Ｂ］添加剤を添加して混練することが好ましい。具体
的には、たとえば、反応器内にある重縮合反応で得られ
た［Ａ］共重合ポリカーボネートに、［Ｂ］添加剤を添
加して共重合ポリカーボネート組成物を形成した後、押
出機を通してペレタイズしてもよいし、また重縮合反応
で得られた［Ａ］共重合ポリカーボネートが反応器から
押出機を通ってペレタイズされる間に、［Ｂ］添加剤を
添加して、これらを混練して共重合ポリカーボネート組
成物としてもよい。

【０１０６】［Ａ］共重合ポリカーボネートに各添加剤
（イ）、（ロ）、（ハ）、（ニ）、（ホ）、（ヘ）を添
加する順序は問わない。上記のようにして得られる共重
合ポリカーボネート組成物は、反応生成物である共重合
ポリカーボネート［Ａ］が溶融状態にある間に、上記
［Ｂ］添加剤を添加し混練しているので、得られる樹脂
組成物の熱履歴を減らすことができ、色相悪化や熱劣化
の少ない共重合ポリカーボネート組成物を得ることがで
きる。

【０１０７】また上記のように［Ｂ］添加剤すなわち
（イ）ｐＫａ値が３以下であるイオウ含有酸性化合物お
よび／または該酸性化合物から形成される誘導体、
（ロ）リン化合物、（ニ）フェノール系安定剤あるいは
（ヘ）ホウ素系化合物を上記の量で添加することによ
り、重合反応で得られた［Ａ］共重合ポリカーボネート
中に残存するアルカリ性触媒が中性化あるいは弱めら
れ、またもし上記（イ）、（ロ）化合物が過剰に残存し
ても、これらが（ハ）エポキシ化合物と反応して中性化
され、溶融時の滞留安定性がより向上された共重合ポリ
カーボネート組成物が得られる。

【０１０８】このような共重合ポリカーボネート組成物
は、光学用成形体に成形するに際して、該組成物からな
るペレットを再溶融しても、上記のように溶融時の熱安
定性が向上されているので、特に熱分解が抑制され、分
子量が低下しにくく、着色しにくい。

【０１０９】本発明に係る光学用成形体は、上記のよう
な共重合ポリカーボネート組成物から、優れた流動性お
よび溶融安定性で成形される。さらに本発明に係る光学
用成形体を形成する共重合ポリカーボネートおよび共重
合ポリカーボネート組成物は、本発明の目的を損なわな
い範囲で、以下に示すような［Ｂ］添加剤以外の通常の
耐熱安定剤、紫外線吸収剤、着色剤、帯電防止剤、スリ
ップ剤、アンチブロッキング剤、滑剤、防曇剤、天然
油、合成油、ワックスなどを含有してもよい。

【０１１０】このような他の添加剤は、上記［Ｂ］とと
もに、溶融状態にある［Ａ］に添加することもできる
し、また一旦ペレタイズされた共重合ポリカーボネート
組成物を再溶融して添加することもできる。本発明では
前者の方法が好ましい。

【０１１１】このような耐熱安定剤としては、具体的に
は、たとえば、有機チオエーテル系安定剤、ヒンダード
アミン系安定剤などが挙げられる。チオエーテル系安定
剤としては、たとえば、ジラウリル・チオジプロピオネ
ート、ジステアリル・チオジプロピオネート、ジミリス
チル-3,3'-チオジプロピオネート、ジトリデシル-3,3'-
チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール-テトラ
キス-(β-ラウリル-チオプロピオネート）などが挙げら
れる。

【０１１２】またヒンダードアミン系安定剤としては、
たとえば、ビス（2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジ
ル）セバケート、ビス（1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピ
ペリジル）セバケート、1-［2-｛3-（3,5-ジ-t-ブチル-
4-ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］
-4-｛3-（3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル）プ
ロピオニルオキシ｝-2,2,6,6-テトラメチルピペリジ
ン、8-ベンジル-7,7,9,9-テトラメチル-3-オクチル-1,
2,3-トリアザスピロ［4,5］ウンデカン-2,4-ジオン、4-
ベンゾイルオキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、2
-（3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル）-2-n-ブチ
ルマロン酸ビス（1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジ
ル）、テトラキス（2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジ
ル）1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシレートなどが挙げ
られる。

【０１１３】これらは単独で用いても２種以上混合して
用いてもよい。これらの耐熱安定剤は、共重合ポリカー
ボネート１００重量部に対して、０.００１〜５重量
部、好ましくは０.００５〜０.５重量部、さらに好まし
くは０.０１〜０.３重量部の量で必要に応じて用いられ
る。

【０１１４】このような耐熱安定剤は、固体状で添加し
てもよく、液体状で添加してもよい。また紫外線吸収剤
としては、一般的な紫外線吸収剤が特に限定されずに用
いられるが、サリチル酸系紫外線吸収剤、ベンゾフェノ
ン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収
剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤などが用いられ
る。

【０１１５】サリチル酸系紫外線吸収剤としては、たと
えば、フェニルサリシレート、p-t-ブチルフェニルサリ
シレートが挙げられる。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤
としては、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロ
キシ-4-メトキシベンゾフェノン、2,2'-ジヒドロキシ-4
- メトキシベンゾフェノン、2,2'-ジヒドロキシ-4,4'-
ジメトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-
2'-カルボキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキ
シ-5-スルホベンゾフェノントリヒドレート、2-ヒドロ
キシ-4-n-オクトキシベンゾフェノン、2,2',4,4'-テト
ラヒドロキシベンゾフェノン、4-ドデシロキシ-2-ヒド
ロキシベンゾフェノン、ビス（5-ベンゾイル-4-ヒドロ
キシ-2-メトキシフェニル）メタン、2-ヒドロキシ-4-メ
トキシベンゾフェノン-5-スルホン酸などが挙げられ
る。

【０１１６】ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として
は、2-（2'-ヒドロキシ-5'-メチル-フェニル）ベンゾト
リアゾール、2-（2'-ヒドロキシ-3',5'-ジ-t-ブチル-フ
ェニル）ベンゾトリアゾール、2-（2'-ヒドロキシ-3'-t
-ブチル-5'-メチル-フェニル）-5-クロロベンゾトリア
ゾール、2-（2'-ヒドロキシ-3',5'-ジ-t-ブチル-フェニ
ル）-5-クロロベンゾトリアゾール、2-（2'-ヒドロキシ
-5'-t-オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、2-（2'
-ヒドロキシ-3',5'-ジ-t-アミルフェニル）ベンゾトリ
アゾール、2-［2'-ヒドロキシ-3'-(3",4",5",6"-テトラ
ヒドロフタルイミドメチル）-5'-メチルフェニル］ベン
ゾトリアゾール、2,2'-メチレンビス［4-（1,1,3,3-テ
トラメチルブチル）-6-（2H-ベンゾトリアゾール-2-イ
ル）フェノール］などが挙げられる。

【０１１７】シアノアクリレート系紫外線吸収剤として
は、2-エチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリ
レート、エチル-2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリレート
などが挙げられる。これらは、単独であるいは２種以上
組合せて用いられる。

【０１１８】紫外線吸収剤は、［Ａ］１００重量部に対
して、通常０.００１〜５重量部、好ましくは０.００５
〜１.０重量部、さらに好ましくは０.０１〜０.５重量
部の量で必要に応じて用いられる。

【０１１９】着色剤は、顔料であってもよく、染料であ
ってもよく、また無機系であっても有機系であってもよ
い。またこれらを組み合わせて用いてもよい。無機系着
色剤として、具体的には、二酸化チタン、ベンガラなど
の酸化物、アルミナホワイトなどの水酸化物、硫化亜鉛
などの硫化物、セレン化物、紺青などのフェロシアン化
物、ジンククロ メート、モリブデンレッドなどのクロ
ム酸塩、硫酸バリウムなどの硫酸塩、炭酸カルシウムな
どの炭酸塩、群青などの硅酸塩、マンガンバイオレット
などのリン酸塩、カーボンブラックなどの炭素、ブロン
ズ粉やアルミニウム粉などの金属粉着色剤などが挙げら
れる。

【０１２０】有機系着色剤としては、具体的には、ナフ
トールグリーンＢなどのニトロソ系、ナフトールイエロ
−Ｓなどのニトロ系、リソールレッドやボルドー１０
Ｂ、ナフトールレッド、クロモフタールイエローなどの
アゾ系、フタロシアニンブルーやファストスカイブルー
などのフタロシアニン系、インダントロンブルーやキナ
クソドンバイオレット、ジオクサジンバイオレットなど
の縮合多環系着色剤などが挙げられる。

【０１２１】着色剤は、［Ａ］１００重量部に対して、
通常１×１０^-6〜５重量部、好ましくは１×１０^-5〜３
重量部、さらに好ましくは１×１０^-5〜１重量部の量で
必要に応じて用いられる。

【０１２２】本発明に係る光学成形体は、上記のような
共重合ポリカーボネートまたは共重合ポリカーボネート
組成物から、従来公知のポリカーボネートを成形方法に
より、前述したようなコンパクトディスク、光ディス
ク、光ファイバー、ヘッドランプ、テールランプなどの
自動車用レンズ、メガネ、カメラ、望遠鏡などのプラス
チックレンズなどの用途に応じて成形される。

【０１２３】

【発明の効果】上記のような共重合ポリカーボネートま
たは共重合ポリカーボネート組成物から形成されている
本発明に係る光学用成形体は、通常のビスフェノール系
ホモポリカーボネートから形成される光学用成形体に比
較して、特に成形時の流動性、溶融安定性に優れおり、
成形時に熱分解が起こりにくく、分子量が低下しにくい
とともに黄色化しにくく、色相安定性に優れているとと
もに優れた成形サイクルで成形される。

【０１２４】このような本発明に係る光学用成形体は、
透明性および機械的特性に優れるとともに、複屈折も小
さく、広範な光学用途に利用される。以下本発明を実施
例により説明するが、本発明はこれら実施例に限定され
るものではない。

【０１２５】

【実施例】本明細書において、共重合ポリカーボネート
の組成、極限粘度〔ＩＶ〕、末端基の割合および共重合
ポリカーボネート組成物の成形性、外観は、以下のよう
にして測定される。

【０１２６】［ポリカーボネートの組成割合］¹Ｈ−Ｎ
ＭＲにより、樹脂中の芳香族ジヒドロキシ化合物構成単
位の割合を測定した。

【０１２７】［極限粘度〔ＩＶ〕］塩化メチレン中、２
０℃でウベローデ粘度計を用いて測定した。 ［メルトフローレート（ＭＦＲ；ｇ／10分）］ＪＩＳＫ
−７２１０に準拠し、温度２５０℃、荷重１.２Kgで測
定した。

【０１２８】［黄色度（ＹＩ）］３mm厚の射出成形板
を、シリンダー温度２９０℃、射出圧力１０００Kg／cm
²、１サイクル４５秒、金型温度１００℃で成形し、
Ｘ，Ｙ，Ｚ値を、日本電色工業(株)製Colorand Color
Defference Meter ND-1001 DP を用いて透過法で測定
し、黄色度（ＹＩ）を測定した。

【０１２９】ＹＩ＝１００（1.277 Ｘ− 1.060Ｚ）／Ｙ ［光線透過率］ＡＳＴＭ Ｄ １００３の方法に従い、
色相測定用の射出成形板を用いて測定した。

【０１３０】［ヘイズ］日本電色工業（株）のＮＤＨ−
２００を用い、色相測定用の射出成形板のヘイズを測定
した。

【０１３１】［滞留安定性］３２０℃の温度で１５分間
射出成形機のシリンダー内に樹脂を滞留させた後、その
温度で射出成形を行った。この成形板のＹＩ、ＭＦＲ、
光線透過率を測定した。

【０１３２】［耐水性］色相測定用の射出成形板をオー
トクレーブ中の水に浸漬し、１２０℃のオーブン中に５
日間保持する。この試験片を用いてヘイズを測定した。

【０１３３】［成形性］ニッケル製のスタンパーを用い
て、１サイクル５秒、金型温度９０℃で１００ショット
連続して５インチのディスクを、曇りや記録ミスがな
く、製品として合格するレベルで、射出成形できるシリ
ンダー温度を調べた。

【０１３４】［アイゾット衝撃強度］ＡＳＴＭ Ｄ２５
６に準拠して、６３．５×１２．７×２ｍｍ（後ノッ
チ）の射出試験片を用いて測定した。試験片１０本中の
破壊した本数も数えた。

【０１３５】

【実施例１】ビスフェノールＡ（日本ジーイープラスチ
ックス（株）製）０．３３キロモルと、蒸留精製をおこ
なったレゾルシン（三井石油化学工業株式会社製）０.
１１キロモルと、ジフェニルカーボネート（エニィ社
製）０．４６キロモルとを第１の２５０リットル槽型攪
拌槽に仕込み、１４０℃で溶解し、このレベルを保つよ
うにビスフェノールＡを毎時０.１２キロモル、レゾル
シンを毎時０.０４キロモル、ジフェニルカーボネート
を毎時０.１６キロモルずつフィードしながら、この混
合溶液を毎時芳香族ジヒドロキシ化合物換算で０．１６
キロモルずつ第２の５０リットル槽型攪拌槽に送液す
る。この槽型攪拌槽の温度は１８０℃に保つ。

【０１３６】触媒としてテトラメチルアンモニウムヒド
ロキシドを毎時０．０４モルおよび水酸化ナトリウムを
毎時０．０００１６モル（１×１０^-6モル／モル−芳香
族ジヒドロキシ化合物）添加し、滞留時間が３０分とな
るようレベルを調整し攪拌する。

【０１３７】次に、この反応溶液を毎時芳香族ジヒドロ
キシ化合物換算で０．１６キロモルずつ次の第３の温度
２１０℃、圧力２００mmＨｇの５０リットル槽型攪拌槽
に送液する。滞留時間が３０分となるようレベルを調整
しフェノールを留出除去させながら攪拌する。

【０１３８】次に、この反応溶液を毎時芳香族ジヒドロ
キシ化合物換算で０．１６キロモルずつ次の第４の温度
２４０℃、圧力１５mmＨｇの５０リットル槽型攪拌槽に
送液する。滞留時間が３０分となるようレベルを調整し
フェノールを留出除去させながら攪拌する。

【０１３９】次にこの反応物をギヤポンプで昇圧し、毎
時芳香族ジヒドロキシ化合物換算で０．１６キロモルず
つ遠心式薄膜蒸発機に送入し、反応を進めた。薄膜蒸発
機の温度、圧力はそれぞれ２７０℃、２mmＨｇにコント
ロールした。蒸発機下部よりギヤポンプにて２８０℃、
０．２mmＨｇにコントロールされた二軸横型攪拌重合槽
（Ｌ／Ｄ＝３、攪拌翼回転直径２２０mm、内容積８０リ
ットル）に毎時芳香族ジヒドロキシ化合物換算で０．１
６キロモル（約４０kg／時間）ずつ送り込み滞留時間３
０分にて重合させた。

【０１４０】次に、溶融状態のままで、このポリマーを
ギヤポンプにて２軸押出機（Ｌ／Ｄ＝１７．５、バレル
温度２８０℃）に毎時芳香族ジヒドロキシ化合物換算で
０．１６キロモル（約４０kg／時間）ずつ送入し、p-ト
ルエンスルホン酸ブチルを毎時０．０００３２モル（触
媒として使用した水酸化ナトリウムの２倍モル量）連続
して混練し、ダイを通してストランド状とし、カッター
で切断してペレットとした。

【０１４１】結果を表１に示す。

【０１４２】

【実施例２】実施例１において、ビスフェノールＡ（日
本ジーイープラスチックス（株）製）０．２６４キロモ
ルと、レゾルシン（三井石油化学工業株式会社製）０.
１７６キロモルを用いた以外は実施例１と同様の方法で
ペレットを得た。

【０１４３】結果を表１に示す。

【０１４４】

【実施例３】実施例１において、触媒としてテトラメチ
ルアンモニウムヒドロキシドを毎時０．０４モルおよび
水酸化ナトリウムを毎時０．０００１６モル（１×１０
^-6モル／モル−芳香族ジヒドロキシ化合物）添加する時
に、同時にホウ酸トリフェニルを０．００４モル添加し
た以外は実施例１と同様の方法でペレットを得た。結果
を表１に示す。

【０１４５】

【実施例４】実施例３において、重合したポリマーを溶
融状態のままで、ギヤポンプにて２軸押出機（Ｌ／Ｄ＝
１７．５、バレル温度２８５℃）に毎時ビスフェノール
Ａ換算で０．１６キロモル（約４０kg／時間）ずつ送入
し、p-トルエンスルホン酸ブチルを毎時０．０００３２
モル（触媒として使用した水酸化ナトリウムの２倍モル
量）混練する際に、同時に、共重合ポリカーボネートに
対してトリス（2,4-ジ-t- ブチルフェニル）ホスファイ
ト（マーク 2112 ：アデカアーガス社製）３００ppm 、
3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,'4'-エポキシシ
クロヘキシルカルボキシレート（セロキサイド 2021P：
ダイセル化学社製）３００ppm 、ハイテック１６４（炭
化水素系離型剤：エチル−ペトロレアム−アディティブ
ズ社製）１０００ppmを連続して混練した以外は実施例
３と同様の方法でペレットを得た。

【０１４６】結果を表１に示す。

【０１４７】

【実施例５】実施例４において、他の添加剤とともに、
n-オクタデシル-3-（4-ヒドロキシ-3',5'-ジ-t-ブチル
フェニル）プロピオネート（マークＡＯ 50 ：アデカア
ーガス社製）３００ppmを連続して混練した以外は実施
例４と同様の方法でペレットを得た。

【０１４８】結果を表１に示す。

【０１４９】

【実施例６】実施例４において、ビスフェノールＡ（日
本ジーイープラスチックス（株）製）０．２２キロモル
と、レゾルシン（三井石油化学工業株式会社製）０.２
２キロモルを用いた以外は実施例４と同様の方法でペレ
ットを得た。

【０１５０】結果を表１に示す。

【０１５１】

【比較例１】実施例１において、レゾルシンは用いず、
ビスフェノールＡ（日本ジーイープラスチックス（株）
製）０．４４キロモルのみを用いた以外は実施例１と同
様の方法でペレットを得た。

【０１５２】結果を表１に示す。

【０１５３】

【比較例２〜４】実施例５において、レゾルシンは用い
ず、ビスフェノールＡ（日本ジーイープラスチックス
（株）製）０．４４キロモルのみを用い、表１に示す化
合物を表１に示す量用いた以外は実施例５と同様の方法
でペレットを得た。

【０１５４】結果を表１に示す。

【０１５５】

【実施例７，８】実施例４，６において、蒸発機下部よ
りギヤポンプにて２８５℃、０．２mmＨｇにコントロー
ルされた二軸横型攪拌重合槽（Ｌ／Ｄ＝３、攪拌翼回転
直径２２０mm、内容積８０リットル）に毎時芳香族ジヒ
ドロキシ化合物換算で０．１６キロモル（約４０kg／時
間）ずつ送り込み滞留時間３０分にて重合させた以外
は、表１に示すように実施例４，６と同様の方法でペレ
ットを得た。

【０１５６】結果を表１に示す。

【０１５７】

【比較例５】実施例７において、レゾルシンは用いず、
ビスフェノールＡ（日本ジーイープラスチックス（株）
製）０．４４キロモルのみを用い、表１に示す化合物を
表１に示す量用いた以外は実施例７と同様の方法でペレ
ットを得た。

【０１５８】結果を表１に示す。

【０１５９】

【表１】

【０１６０】

【表２】

【０１６１】

【表３】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｋ 5/55 ＫＫＭ 7242−4Ｊ Ｃ０８Ｌ 69/00 ＬＰＵ 9363−4Ｊ Ｇ１１Ｂ 7/24 ５２６ Ｇ 7215−5Ｄ Ｒ 7215−5Ｄ

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】(i) レゾルシンおよび／または置換レゾル
   シンと、 (ii)レゾルシンおよび置換レゾルシン以外の芳香族ジヒ
   ドロキシ化合物と、 (iii) これら芳香族ジヒドロキシ化合物(i) および(ii)
   と反応して炭酸結合を形成しうる化合物とを共重合させ
   てなる共重合ポリカーボネートから形成されていること
   を特徴とする光学用成形体。
2. 【請求項２】前記共重合ポリカーボネートが、芳香族ジ
   ヒドロキシ化合物から誘導される構成単位のうち、(i)
   レゾルシンおよび／または置換レゾルシンから誘導され
   る構成単位を２〜９０モル％の量で含有していることを
   特徴とする請求項１に記載の光学用成形体。
3. 【請求項３】前記共重合ポリカーボネートが、芳香族ジ
   ヒドロキシ化合物から誘導される構成単位のうち、(i)
   レゾルシンおよび／または置換レゾルシンから誘導され
   る構成単位を２〜４０モル％の量で含有していることを
   特徴とする請求項１に記載の光学用成形体。
4. 【請求項４】 ［Ａ］(i) レゾルシンおよび／または置換レゾルシン
   と、(ii)レゾルシンおよび置換レゾルシン以外の芳香族
   ジヒドロキシ化合物と、(iii) これら芳香族ジヒドロキ
   シ化合物(i) および(ii)と反応して炭酸結合を形成しう
   る化合物とを共重合させてなる共重合ポリカーボネート
   と、 ［Ｂ］添加剤とからなる共重合ポリカーボネート組成物
   から形成されていることを特徴とする光学用成形体。
5. 【請求項５】前記［Ａ］共重合ポリカーボネートが、芳
   香族ジヒドロキシ化合物から誘導される構成単位のう
   ち、(i) レゾルシンおよび／または置換レゾルシンから
   誘導される構成単位を２〜９０モル％の量で含有してい
   ることを特徴とする請求項４に記載の光学用成形体。
6. 【請求項６】前記［Ａ］共重合ポリカーボネートが、芳
   香族ジヒドロキシ化合物から誘導される構成単位のう
   ち、(i) レゾルシンおよび／または置換レゾルシンから
   誘導される構成単位を２〜４０モル％の量で含有してい
   ることを特徴とする請求項４に記載の光学用成形体。
7. 【請求項７】［Ｂ］添加剤が、（イ）ｐＫａ値が３以下
   であるイオウ含有酸性化合物および／または該酸性化合
   物から形成される誘導体、（ロ）リン化合物、（ハ）エ
   ポキシ化合物、（ニ）フェノール系安定剤、（ホ）離型
   剤、（ヘ）ホウ素系化合物からなる群から選ばれること
   を特徴とする請求項４に記載の光学用成形体。