JPH061384B2

JPH061384B2 - 電子写真正帯電感光体及びその像形成プロセス

Info

Publication number: JPH061384B2
Application number: JP30968986A
Authority: JP
Inventors: 喜代志玉城; 浩一工藤; 嘉彦江藤; 良明武居
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1986-12-24
Filing date: 1986-12-24
Publication date: 1994-01-05
Anticipated expiration: 2009-01-05
Also published as: JPS63159855A

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は電子写真感光体に関し、特に正帯電用感光体に
関する。

〔従来の技術〕

従来、例えば電子写真感光体としては、セレン、酸化亜
鉛、硫化カドミウム等の無機光導電性物質を含有する感
光体層を有する感光体が広く用いられている。

一方、種々の有機光導電性物資を電子写真感光体の感光
体層の材料として利用することが近年活発に研究、開発
されている。

例えば特公昭50-10496号には、ポリ−Ｎ−ビニルカルバ
ゾールと2,4,7−トリニトロ−９−フルオレノンを含有
した感光体層を有する有機感光体について記載されてい
る。しかしこの感光体は、感度及び耐久性において必ず
しも満足できるものではない。このような欠点を改善す
るために、感光体層において、電荷発生機能と電荷輸送
機能とを異なる物質に個別に分担させることにより、感
度が高くて耐久性の大きい有機感光体を開発する試みが
なされている。

このような、いわば機能分離型の電子写真感光体におい
ては、各機能を発揮する物質を広い範囲のものから選択
することができるので、任意の特性を有する電子写真感
光体を比較的容易に作製することが可能である。

こうした機能分離型の電子写真感光体に有効な電荷発生
物質として、従来数多くの物質が提案されている。無機
物質を用いる例としては、特公昭43-16198号に記載され
ているように、無定形セレンがあり、これは有機電荷輸
送物質と組合される。

また、有機染料や有機顔料を電荷発生物質として用いた
電子写真感光体も多数提案されており、例えば、ビスア
ゾ化合物を含有する感光体層を有するものは、特開昭47
-37543号、同55-22834号、同54-79632号、同56-116040
号等により既に知られている。尚これらの有機光導電性
物質は通常負帯電感光体に使用されていて、その理由
は、負帯電使用の場合には、電荷のうちホールの移動度
が大きいことから、光感度等の面で有利なためである。

しかしながら、このような負帯電使用では、帯電器によ
る負帯電時に雰囲気中にオゾンが発生し易くなり、環境
条件を悪くするという問題がある。さらに他の問題は、
負帯電用感光体の現像には正極性のトナーが必要となる
が、正極性のトナーは強磁性体電荷粒子に対する摩擦帯
電系列からみて製造が困難であることである。

そこで、有機光導電性物質を用いる感光体を正帯電で使
用することが提案されている。例えば、電荷発生層上に
電荷輸送層を積層して感光体を形成する際、感光体表面
の正電荷を能率よく打消すため前記電荷輸送層に電子輸
送能の大きい、例えばトリニトロフルオレノン等が使用
される。しかし該物質には発癌性があり、労働衛生上極
めて不適当である等の問題を生ずる。

さらに正帯電感光体として、米国特許3615414号には、
チアピリリウム塩（電荷発生物質）をポリカーボネート
（バインダ樹脂）と共晶錯体を形成するように含有させ
たものが示されている。しかしこの公知の感光体では、
メモリ現象が大きく、ゴーストも発生し易いという欠点
がある。又米国特許3357989号にも、フタロシアニンを
含有せしめた感光体が示されているが、フタロシアニン
は結晶型によって特性が変化する上に、結晶型を厳密に
制御しなければならないという難点があり、かつメモリ
現象が大きく、短波長感度が低いため前記短波長を含む
可視光を光源とする複写機には不適当である。

このように正帯電用感光体を得るための試みが種々行な
われているが、いずれも光感度、メモリ現象又は労働衛
生等の点で改善すべき多くの問題点がある。

そこで光照射時ホール及び電子を発生する電荷発生物質
を含有する電荷発生層を上層（表面層）とし、ホール輸
送機能を有する電荷輸送物質を含む電荷輸送層を下層と
する積層構成の感光体層を有する感光体を正帯電用とし
て使用することが考えられる。さらに又、前記電荷発生
物質と前記電荷輸送物質を含む単層構成の感光体層を有
する感光体も正帯電用として使用可能と考えられる。

なおかかる正帯電用とされる感光体においては、構造中
に例えば電子吸引性基を有する電荷発生物質を用いるよ
うにすれば、感光体表面の正電荷を打消すための電子の
移動が早くなり、高感度特性が得られることが考えられ
る。

しかしながら、前記正帯電用感光体はいずれも電荷発生
物質を含む層が表面層として形成されるため、光照射特
に紫外線等の短波光照射、コロナ放電、湿度、機械的摩
擦等の外部作用に脆弱な電荷発生物質が前記表面層近傍
に存在することとなり、感光体の保存中及び像形成の過
程で電子写真性能が劣化し、画質が低下するようにな
る。

従来の電荷輸送層を表面層とする負帯電用感光体におい
ては、前記各種の外部作用の影響は極めて少なく、むし
ろ前記電荷輸送層が下層の電荷発生層を保護する作用を
有している。

そこで、例えば絶縁性かつ透明な樹脂から成る薄い保護
層を設け、前記電荷発生物質を含む層を外部作用から保
護することが考えられるが、光照射時発生する電荷が該
保護層でブロッキングされて光照射効果が失なわれてく
るし、また表面層となる保護層の膜厚が厚い場合には感
度低下を招き、剩え紫外線遮断効果も少いので、外部作
用からの遮蔽、特に紫外線からの保護を単なる保護層だ
けに委ねることはできない。

〔発明の目的〕

本考案の目的は、電荷発生物質（ＣＧＭと標記）及び電
荷輸送物質（ＣＴＭと標記）を含んでなり正帯電性感光
体層を有し、紫外線耐性のよい高感度で耐久性の大きい
電子写真正帯電感光体を提供することにある。

〔発明の構成および作用効果〕

前記した本発明の目的は、導電性支持体上にＣＴＭ及び
ＣＧＭを含んでなる層を有する電子写真感光体に於て、
下記一般式で表される化合物を含有することを特徴とす
る電子写真正帯電感光体によって達成される。

一般式式中、Ａは酸素または硫黄原子を表す。Ｒ及びR₁はアル
キル、アリール、アルケニルまたはアラルキルまたは他
の基を含む有機基の各基を表す。

本発明に係る導電性支持体上に設ける感光体層は、ＣＴ
Ｍ及びＣＧＭを混和した単層構成でもよいし、ＣＴＭを
含む層を下層としＣＧＭを含む層を上層する複層構成で
もよい。また必要に応じて保護層（ＯＣＬと標記）を設
けてもよい。

本発明に係る化合物は前記の少くとも一層に添加される
が感光体層表層に添加されることが好ましい。尚表層に
最も濃密に、内部にゆくに従って逓減させる形態であっ
てもよい。

以下に本発明を詳しく説明する。

カールソンプロセスに基く電子写真プロセスには、一般
に像露光、消去露光、転写前露光、クリーニング露光等
に紫外線を発生する光源が用いられており、該光源から
の光に含まれ、可視光に比べ大きなエネルギを有する紫
外線の繰返し照射は、感光体に用いられている有機化合
物分子を解裂させるに充分である。即ち感光体をなすＣ
ＧＭ、ＣＴＭ或はバインダ等はラジカル解離を起し本来
の分子構造を失って劣化し、従って感光体の劣化を招来
し、具体的には感度低下、残電位上昇等を惹起し、かぶ
りの発生、画質の低下に陥る。

従来の技術でも記述したように有機光導電性物質を用い
た正帯電用感光体においては、電荷発生層（以下、ＣＧ
Ｌと標記）が表面層となるので耐傷性に欠け、耐久性向
上のためにはＣＧＬ膜厚を厚くする必要がある。しかし
ながら、膜厚を厚くすると感度低下を引起こす。この感
度低下を抑制する手段としてＣＧＬ中への電荷輸送物質
（ＣＴＭ）の添加が効果的であるが、このＣＴＭは電荷
発生物質（ＣＧＭ）に比べ紫外線酸化を受け易い構造を
有するので、紫外線により容易に劣化され感光体の耐久
性が損われてしまう。

本発明者らは、感光体の紫外線劣化防止に関し鋭意検討
の結果、正帯電感光体の表面層であるＣＧＬ中に前記一
般式に示される化合物を含有させることにより、上記劣
化を著しく軽減できることを見い出した。

前記した化合物即ち紫外線吸収財の有機化合物安定化機
構としては、紫外線（ＵＶと標記することがある）の保
有する分解エネルギがＵＶ吸収剤内で振動のエネルギに
変化することによると思われる。この振動のエネルギは
熱エネルギとして該ＵＶ吸収剤から放出されるが、熱エ
ネルギは既に有機化合物を劣化させるには不充分であっ
て、感光体が紫外線繰返し照射の害から保護されるもの
と思われる。

次に具体的化合物を例示する。

本発明の化合物の添加量は、ＣＧＬ中に用いられる場
合、ＣＧＬ中のＣＴＭに対して0.1〜100重量％、好まし
くは１〜50重量％、特に好ましくは５〜25重量％であ
る。また、ＯＣＬ中に用いられる場合、ＯＣＬ中のバイ
ンダ樹脂に対して0.1〜100重量％、好ましくは１〜50重
量％である。

次に本発明の感光体の構成を図面によって説明する。感
光体としては例えば第１図に示すように支持体１（導電
性支持体またはシート上に導電層を設けたもの）上にＣ
ＴＭと必要に応じてバインダ樹脂を含有する電荷輸送層
（ＣＴＬと標記）２を下層とし、ＣＧＭ、ＣＴＭと必要
に応じてバインダ樹脂を含有するＣＧＬ３を上層とする
積層構成の感光体層４を設けたもの、第２図に示すよう
に第１図の感光体層の上に保護層（ＯＣＬ）４を設けた
もの及び第３図に示すように支持体上にＣＧＭとＣＴＭ
と必要に応じてバインダ樹脂を含有する単層構成の感光
体層４を設けたもの、等が挙げられるが、第３図の単層
構成の感光体層上にＯＣＬが設けられてもよく、また支
持体と感光体層の間に中間層が設けられてもよい。

次に本発明に適するＣＧＭとしては、可視光を吸収して
フリー電荷を発生するものであれば、無機顔料及び有機
顔料の何れをも用いることができる。無定形セレン、三
方晶糸セレン、セレン−砒素合金、セレン−テルル合
金、硫化カドミウム、セレン化カドミウム、硫セレン化
カドミウム、硫化水銀、酸化鉛、酸化鉛等の無機顔料の
外、次の代表例で示されるような有機顔料が用いられ
る。

(1)モノアゾ顔料、ポリアゾ顔料、金属錯塩アゾ顔料、
ピラゾロンアゾ顔料、スチルベンアゾ及びチアゾールア
ゾ顔料等のアゾ系顔料。

(2)ペリレン酸無水物及びペリレン酸イミド等のペリレ
ン系顔料。

(3)アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体、
ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導体、ビ
オラントロン誘導体及びイソビオラントロン誘導体等の
アントラキノン系又は多環キノン系顔料 (4)インジゴ誘導体及びチオインジゴ誘導体等のインジ
ゴイド系顔料 (5)金属フタロシアニン及び無金属フタロシアニン等の
フタロシアニン系顔料 (6)ジフェニルメタン系顔料、トリフェニルメタン顔
料、キサンテン顔料及びアクリジン顔料等のカルボニウ
ム系顔料 (7)アジン顔料、オキサジン顔料及びチアジン顔料等の
キノンイミン系顔料 (8)シアニン顔料及びアゾメチル顔料等のメチル系顔料 (9)キノリン系顔料 (10)ニトロ系顔料 (11)ニトロソ系顔料 (12)ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料 (13)ナフタルイミド系顔料 (14)ビスベンズイミダゾール誘導体等のペリノン系顔料前記本発明に用いられるアゾ系顔料としては、例えば次
の例示構造化合物群〔I〕〜〔V〕で示されるものがあ
り、該例示構造化合物群の中の個々の好ましい具体的化
合物の数例を併せ掲げる。

その好ましい具体的化合物の全容については特願昭61-1
95881号が参照される。

また、以下の多環キノン顔料から成る例示構造化合物群
〔VI〕〜〔VIII〕はＣＧＭとして最も好ましく使用でき
る。

次に本発明で使用可能なＣＴＭとしては、特に制限はな
いが、例えばオキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘
導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリ
アゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘
導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導
体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘
導体、オキサゾロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、
ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾ
フラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、
アミノスチルベン誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、ポリ−１−ビニルピレン、ポリ−９−ビニルアント
ラセン等であってよい。

しかしながら光照射時発生するホールの支持体側への輸
送能力が優れている外、前記ＣＧＭとの組合せに好適な
ものが好ましく用いられ、かかるＣＴＭとしては、例え
ば下記例示構造化合群〔IX〕又は〔Ｘ〕で示されるスチ
ル化合物が使用される。該例示構造化合物群中の個々の
具体的化合物の数例を併せ掲げるが、その全貌について
は特願昭61-195881号が参照される。

また、ＣＴＭとして下記例示構造化合物群〔XI〕〜〔X
V〕で示されるヒドラゾン化合物も使用可能である。尚
個々の具体的化合物の全容については特願昭61-195881
号が参照される。

また、ＣＴＭとして下記例示構造化合物群〔XVII〕で示
されるアミン誘導体も使用可能である。

尚詳しくは特願昭61-195881号が参照される。

次に本発明のＯＣＬに用いられてよいバインダは、体積
抵抗10⁸Ωcm以上、好ましくは10¹⁰Ωcm以上、より好ま
しくは10¹³Ωcm以上の透明樹脂が用いられる。又前記バ
インダは光又は熱により硬化する樹脂を少なくとも50重
量％以上含有するものとされる。

かかる光又は熱により硬化する樹脂としては、例えば熱
硬化性アクリル樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、ウ
レタン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル
樹脂、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、光硬化性の桂皮
酸樹脂等又はこれらの共重合もしくは共縮合樹脂があ
り、その外電子写真材料に供される光又は熱硬化性樹脂
の全てが利用される。又前記ＯＣＬ中には加工性及び物
性の改良（亀裂防止、柔軟性付与等）を目的として必要
により熱可塑性樹脂を50重量％未満含有せしめることが
できる。かかる熱可塑性樹脂としては、例えばポリプロ
ピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、
ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、又はこれらの共
重合樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体
樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の高分子有機半
導体、その他電子写真材料に供される熱可塑性樹脂の全
て利用される。

また前記ＯＣＬは、電子受容性物質を含有してもよく、
その他、必要によりＯＧＭを保護する目的でオゾン酸化
防止剤等を含有してもよく、前記バインダと共に溶剤に
溶解され、例えばディップ塗布、スプレー塗布、ブレー
ド塗布、ロール塗布等により・塗布乾燥されて２μm以
下、好ましくは１μm以下の層厚に形成される。

本発明の感光体層の層構成は前記のように積層構成と単
層構成とがあるが、ＣＴＬ、ＣＧＬまたはＯＣＬには感
度の向上、残留電位ないし反復使用時の疲労低減等を目
的として、１種または２種以上の電子受容性物質を含有
せしめることができる。

本発明に使用可能な電子受容性物質としては、例えば無
水こはく酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン
酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、テトラ
ブロム無水フタル酸、3-ニトロ無水フタル酸、4-ニトロ
無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無視メリット酸、
テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、o-
ジニトロベンゼン、m-ジニトロベンゼン、1,3,5−トリ
ニトロベンゼン、パラニトロベンゾニトリル、ピクリル
クロライド、キノンクロルイミド、クロラニル、ブルマ
ニル、2-メチルナフトキノン、ジクロロジシアノパラベ
ンゾキノン、アントラキノン、ジニトロアントラキノ
ン、トリニトロフルオレノン、9-フルオレニリデン〔ジ
シアノメチレンマロノジニトリル〕、ポリニトロ−9-フ
ルオレニリデン−〔ジシアノメチレンマロノジニトリ
ル〕、ピクリン酸、フタル酸等が挙げられる。

本発明において感光体層に使用可能なバインダ樹脂とし
ては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹
脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合型
樹脂、重付加型樹脂、重縮合型樹脂、並びにこれらの樹
脂の繰返し単位のうちの２つ以上を含む共重合体樹脂、
例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂等の絶縁
性樹脂の他の、ポリ−N-ビニルカルバゾール等の高分子
有機半導体が挙げられる。

次に前記感光体層を支持する導電性支持体としては、ア
ンモニウム、ニッケルなどの金属板、金属ドラム又は金
属箔、アルミニウム、酸化錫、酸化インジウムなどを蒸
着したプラスチックフィルムあるいは導電性物質を塗布
した紙、プラスチックなどのフイルム又はドラムを使用
することができる。

ＣＴＬは既述のＣＴＭを適当な溶媒に単独もしくは適当
なバインダ樹脂と共に溶解もしくは分散せしめたものを
塗布して乾燥させる方法により設ける。

ＣＴＬの形成に用いられる溶媒としては、例えばN,N−
ジメチルホルムアミド、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、モノクロルベンゼン、1,2−ジクロロエタン、ジク
ロロメタン、1,1,2−トリクロロエタン、テトラヒドロ
フラン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル
等を挙げることができる。

本発明に係る感光体層をＣＴＬとＣＧＬの複層構成で形
成する場合は、ＣＴＬの膜厚は、好ましくは５〜50μ
ｍ、特に好ましくは５〜30μｍである。

ＣＴＬ中のバインダ樹脂100重量部当りＣＴＭが20〜200
重量部、好ましくは30〜150重量部とされる。

ＣＴＭの含有割合がこれより少ないと光感度が悪く、残
留電位が高くなり易く、これより多いと溶媒溶解性が悪
くなる。

ＣＧＬは、既述のＣＧＭとＣＴＭを別々に、あるいは一
緒に適当な溶剤に単独もしくは適当なバインダ樹脂と共
に溶解もしくは分散せしめたものを塗布、乾燥してＣＴ
Ｌの場合と同様に形成することができる。

上記ＣＧＭを分散せしめてＣＧＬを形成する場合、当該
ＣＧＭは２μｍ以下、好ましくは１μｍ以下の平均粒径
の粉粒体とされるのが好ましい。即ち、粒径があまり大
きいと層中への分散が悪くなると共に、粒子が表面に一
部突出して表面の平滑性が悪くなり、場合によっては粒
子の突出部分で放電が生じたり或いはそこにトナー粒子
が付着してトナーフィルミング現象が生じ易い。

ただし、上記粒径があまり小さいと却つて凝集し易く、
層の抵抗が上昇したり、結晶欠陥が増えて感度及び繰返
し特性が低下したり、或いは微細化する上で限界がある
から、平均粒径の下限を0.01μｍとするのが望ましい。

ＣＧＬは、次の如き方法によって設けることができる。
即ち、記述のＣＧＭをボールミル、ホモモキサ等によっ
て分散媒中で微細粒子とし、バインダ樹脂およびＣＴＭ
を加えて混合分散して得られる分散液を塗布する方法で
ある。この方法において超音波の作用下に粒子を分散さ
せると、均一分散が可能である。

ＣＧＬ中のバインダ樹脂100重量当りＣＧＭが２〜200重
量部、好ましくは25〜100重量部とされ、ＣＴＭが20〜
２００重量部、好ましくは30〜150重量部とされる。

ＣＧＭがこれより少ないと光感度が低く、残留電位の増
加を招き、又これより多いと暗減衰が増大し、かつ受容
電位が低下する。

以上のようにして形成されるＣＧＬの膜厚は、好ましく
は１〜10μｍ、特に好ましくは２〜７μｍである。

積層構成の場合、ＣＧＬとＣＴＬの膜厚比は1:（１〜3
0）であるのが好ましい。

次に本発明の感光体を単層で構成する場合、ＣＧＭがバ
インダ樹脂に含有される割合は、バインダ樹脂100重量
部に対して20〜200重量部、好ましくは25〜100重量部と
される。

ＣＧＭの含有割合がこれより少ないと光感度が低く、残
留電位の増加を招き、又これより多いと暗減衰及び受容
電位が低下する。

次にＣＴＭがバインダ樹脂に対して含有される割合は、
バインダ樹脂100重量部に対して20〜200重量部、好まし
くは30〜150重量部とされる。

ＣＴＭの含有割合がこれより少ないと光感度が悪く残留
電位が高くなり易く、又これより多いと溶媒溶解性が悪
くなる。

前記単層構成の感光体層中のＣＧＭに対するＣＴＭの量
比は重量比で1:3〜1:2とするのが好ましい。

また単層構成の感光体層の膜厚は７〜50μｍ、更に好ま
しくは10〜30μｍである。

また、前記中間層は接着層又はバリヤ層等として機能す
るもので、上記バインダ樹脂の外に、例えばポリビニル
アルコール、エチルセルロール、カルボキシメチルセル
ロール、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル
−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、カゼイン、Ｎ
−アルコキシメチル化ナイロン、澱粉等が用いられる。

次に本発明の正帯電感光体を用いる像形成プロセスを第
４図を用いて説明する。

第４図は静電潜像につづいてトナー像を担持する本発明
の感光体ドラムを取囲む、本発明の像形成プロセスに関
与する諸機能部材の配置の１例を示す。

本発明の正帯電感光体20は、導電性支持体によりアース
されており、正に整流されて正電荷を与えるコロナ放電
極等の帯電器21（例えばスコロトロン等）によって、予
め正帯電され時計方向（図に於てＡの方向）に回転す
る。

また原稿載置台上の原稿からの反射光Ｅは、ミラー、レ
ンズ等からなる光学系を経て感光体20（ドラム）上へス
リットＳを介して入射される。

感光体ドラム20は予め帯電器21により電荷を与えられて
いるので、前記光学系からの光入射に従って該感光体ド
ラム20上には原稿に対応した静電潜像が順次形成され、
回転する感光体ドラム20上の前記静電潜像は、現像器22
によって可視のトナー像となる。

一方、転写紙は給紙装置より繰出されて、ガイド板によ
り案内されて給紙ローラ32に到り、感光体ドラム20上の
前記トナー像の先端と転写紙との先端が一致するように
タイミング信号に基づいて給紙される。

その後、転写極23の作用により感光体ドラム20上のトナ
ー像は転写紙上に転写される。そして分離極24により、
感光体ドラム20上から分離された転写紙は転写紙搬送手
段35を経て定着装置へ送られ、熱定着ローラおよび圧着
ローラによって熔融定着されたのち、排紙ローラにより
排紙皿上へ排出される。

一方、転写工程終了後、前記感光体ドラム20は、ドラム
上に残留するトナーのクリーニング装置26による除去を
容易にするため、交流のコロナ放電を行なうクリーニン
グ除電極25によって、ドラム表面が電気的に中和され
る。次いで転写しきれずにドラム上に残ったトナーブレ
ード等のクリーニング装置26により掻き落される。

これによりドラムは次のコピーへの準備ができる。

以上が複写を行なう基本のプロセスであるが、画質を高
めるため、複写機には前露光といわれる工程が用いられ
る。第１の前露光装置27は前記クリーニング装置26と帯
電器21との間に配設され、蛍光燈等の光源等から成る。
クリーニング装置26で表面のトナーを除去された感光体
ドラム20は、この前露光装置27によるクリーニング露光
によって、ドラム表面の残留電荷は除かれ電位はゼロに
なる。

第２の前露光装置28は、現像器22と転写極23、分離極24
との間、第３の前露光装置29は分離極その他の分離部の
後にあってクリーニング除電極25の上流をなす位置に配
設され、蛍光燈等の光源等から成る。この第２及び第３
の前露光装置による光照射、即ち転写前露光及び消去露
光によって、感光体ドラム20の表面電荷が低減・均一化
され、これによって転写・分離時の効率が向上し、更に
は感光体ドラム20上の残像のクリーニングを容易にす
る。

〔実施例〕

以下本発明を実施例により説明するが、これにより本発
明の実施の態様が限定されるものではない。

実施例１アンモニウム箔をラミネートしたポリエステルフィルム
及びアンモニウムドラムより成る導電性支持体上に、塩
化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体（エス
レックスＭＦ−10、積水化学工業社製）よりなる厚さ0.
1μｍの中間層を形成した。

次いでポリカーボネート樹脂（パンライトＬ−1250、帝
人化成社製）／ＣＴＭ（IX-75）＝100/75（重量比）を1
6.5重量％含有する1,2−ジクロルエタン溶液を中間層上
にディップ塗布し、15μm厚のＣＴＬを形成した。次
に、ＣＧＭとして昇華した4,10−ジブロムアンスアンス
ロン（VI-3）／パンライトＬ−1250＝1/2（重量比）が9
重量％になるように1,2−ジクロルエタン中ボールミル
で24時間粉砕し、更に24時間分散した液にＣＴＭ（IX-7
5）をパンライトＬ−1250に対して７５重量％およびＣ
ＴＭに対して10重量％の例示化合物(2)を加えた。

この溶液にモノクロルベンゼンを加えて1,2−ジクロル
ベンゼン／モノクロルベンゼン＝7/3（体積比）になる
よう調製した分散液を前記ＣＴＬ上にスプレー塗布し、
乾燥して5μmのＣＧＬを形成し、積層構成の感光体層を
有する本発明の感光体試料１を得た。

比較例(1) 実施例１において、例示化合物(2)を除いた以外は実施
例１と全く同様にして比較の感光体試料(1)を得た。

実施例２実施例１において、例示化合物(2)に代えて例示化合物
(6)を用いた以外は全く同様にして感光体試料２を得
た。

実施例３実施例１の例示化合物(2)を除いた感光体層（比較例１
の感光体に同じ）上に、熱硬化性アクリル−メラミン−
エポキシ（1:1:1）樹脂1:55重量部および例示化合物(2)
0.155重量部をモノクロルベンゼン／1,1,2−トリクロル
エタン混合溶媒に溶解させた塗布液をスプレー塗布し、
乾燥して１μｍ厚のＯＣＬを有する感光体試料３を得
た。

実施例４実施例１の例示化合物(2)を除いた感光体層上に、シリ
コンハードコート用プライマPH91（東芝シリコン社製）
を0.1μｍとなるようにスプレー塗布し、更にその上に
シリコンハードコートトスガード510（東芝シリコン社
製）及び例示化合物(2)を樹脂100重量部に対して10重量
部となるよう添加した溶液をスプレー塗布し、乾燥して
１μｍ厚のＯＣＬを形成し感光体試料４を得た。

実施例５アルミニウム箔をラミネートしたポリエステルフィルム
及びアンモニウムドラムより成る導電性支持体上に、塩
化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体（エス
レックＭＦ−10、前出）よりなる厚さ約0.1μｍの中間
層を形成した。

次いでＣＴＬ用塗布液としてブチラール樹脂（エスレッ
クＢＸ−１、積水化学社製）８重量％とＣＴＭ（IX-7
5）６重量％をメチルエチルケトンに溶解して得られる
塗布液を前記中間層上に塗布・乾燥して10μｍ厚のＣＴ
Ｌを形成した。

次いでＣＧＭ（IV-7）0.2gをペイントコンデショナー
（Paint Conditioner、 Red Devil社製）で30分粉砕し、
これにポリカーボネート樹脂（パンライトＬ−1250、前
出）を1,2−ジクロルエタン／1,1,2−トリクロルエタン
混合溶媒に0.5重量％となるよう溶解させた溶液を8.3g
加えて３分間分散し、次いでこれにポリカーボネート樹
脂、ＣＴＭ（IX-75）および例示化合物(2)をそれぞれ3.
3重量％、2.6重量％および0.26重量％となるよう1,2−
ジクロルエタン／1,1,2−トリクロルエタン混合溶媒に
溶解して得られる溶液19.1gを加えてさらに30分間分散
した。かくして得られた分散液を前記ＣＴＬ上にスプレ
ー塗布し、かつ乾燥して5μm厚のＯＧＬを形成し、積層
構成の感光体層を有する感光体試料５を得た。

比較例(2) 実施例５において例示化合物(2)を除いた以外は実施例
５と全く同様にして比較の感光体試料(2)を得た。

実施例６実施例５において、例示化合物(2)に代えて例示化合物
(6)を用いた以外は全く同様にして感光体試料６を得
た。

実施例７実施例５の例示化合物(2)を除いた感光体層（比較例２
の感光体に同じ）上に、実施例３と同様の例示化合物
(2)を含有する保護層を設置し、感光体試料７を得た。

実施例８実施例５の例示化合物(2)を除いた感光体層上に、実施
例４と同様の例示化合物(2)を含有するＯＣＬを設置
し、感光体試料８を得た。

前記実施例試料１〜８及び比較例試料(1)，(2)について
ＵＶ耐性について、帯電性に対する２万回の実写テスト
及びＵＶ曝射による感度変化の定量的測定を行った。

帯電性実写テストは、本発明の像形成プロセスを行うＵ
−Bix 2812 ＭＲ（小西六写真工業（株）製）の改造実
験機に試料感光体ドラムを装着し、正帯電させ、前記感
光体に対する像露光をはじめとする各工程及び定着から
なる単位サイクルを２万回繰返し、実写テスト初期の正
帯電電位を＋Ｖ_０、２万回終了後の正帯電電位を＋Ｖ_１
とする。

またＵＶ曝射による感度変化は、既知強度の紫外線を試
料フィルムを裁断した感光体シートに照射し、その照射
前後に於て、＋600Ｖに帯電させた該感光体の電位を＋1
00Ｖまです露光量▲Ｅ⁶⁰⁰ ₁₀₀▼を用いて求めた。

感光体の感度Ｓは▲Ｅ⁶⁰⁰ ₁₀₀▼∝1/Sの関係として定義
され、▲Ｅ⁶⁰⁰ ₁₀₀▼が小さいほど感度Ｓは大きく硬調な
画像がえられる。

ＵＶ曝射前後の感度を夫々S₀，S₁とすれば、その逆数比
R_s；（１／S₁）／（１／S₀）＝S₀／S₁はＵＶ耐性を表
し、R_sが大きいほどＵＶ耐性があることになる。

ＵＶ照射は理化学用水銀ランプＳＨＬ−100ＵＶ−２
（（株）東芝製）を用い試料フィルムを断裁した感光体
シートを30cmの距離に置き他の電磁波を遮断し、ＵＶ強
度1500cd/cm²で100分間照射を行い、感度測定は静電試
験機（川口電機製作所；ＳＰ−428型）によった。

これらの結果を第１表に示す。

第１表から本発明の感光体はいずれも紫外線耐性および
電子写真特性共にすぐれているのに対し、比較用感光体
は紫外線劣化が著しく電子写真特性も良くないことが判
る。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第３図は本発明の正帯電感光体の断面図で
ある。第４図は像形成プロセスの説明図である。１…支持体２…電荷輸送層（ＣＴＬ）３…電荷発生層（ＣＧＬ）４…感光体層５…電荷輸送物質（ＣＴＭ）６…電荷発生物質（ＣＧＭ）７…保護層（ＯＣＬ） 20…感光体 21…帯電器 22…現像器 26…クリーニング装置 27,28及び29…前露光装置

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】導電性支持体上に電荷輸送物質及び電荷発
生物質を含んでなる層を有する電子写真感光体に於い
て、下記一般式で表される化合物を含有することを特徴
とする電子写真正帯電感光体。一般式〔式中、Ａは酸素または硫黄原子を表す。Ｒ及びR₁はア
ルキル、アリール、アルケニルまたはアラルキルまたは
他の基を含む有機基の各基を表す。〕
【請求項２】前記電子写真正帯電感光体に於いて、導電
性支持体上に電荷輸送層、電荷発生層の順に少くとも積
層し、電荷発生層中に電荷輸送物質を含有し、且つ最表
面層に前記一般式で示される化合物を含有することを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の電子写真正帯電感
光体。
【請求項３】導電性支持体上に電荷輸送物質及び電荷発
生物質を含んでなる層を有する電子写真正電感光体に於
いて、下記一般式で表される化合物を含有することを特
徴とする電子写真感光体を用いて、該感光体上に正電荷
を付与し、像露光を行って正の静電潜像を形成し、トナ
ー現像を施すことを特徴とする像形成プロセス。一般式〔式中、Ａは酸素または硫黄原子を表す。Ｒ及びR₁はア
ルキル、アリール、アルケニルまたはアラルキルまたは
他の基を含む有機基の各基を表す。〕