JPH06145128A - フルオレノン誘導体及びその製造方法 - Google Patents
フルオレノン誘導体及びその製造方法Info
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- JPH06145128A JPH06145128A JP30006192A JP30006192A JPH06145128A JP H06145128 A JPH06145128 A JP H06145128A JP 30006192 A JP30006192 A JP 30006192A JP 30006192 A JP30006192 A JP 30006192A JP H06145128 A JPH06145128 A JP H06145128A
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- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B29/00—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling
- C09B29/0018—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling from diazotized aminopolycyclic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B43/00—Preparation of azo dyes from other azo compounds
- C09B43/08—Preparation of azo dyes from other azo compounds by reduction
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 2−ニトロ−7−アミノ−9−フルオレノン
のジアゾニウム塩(2)と、保護アニリン誘導体(3)
とを反応させ、次いで保護基を脱離する2−ニトロ−7
−(4−アミノフェニルアゾ)−9−フルオレノン
(1)の製造方法。 【化6】 【効果】 2−ニトロ−7−(4−アミノフェニルア
ゾ)−9−フルオレノン(1)は、アゾ系有機光導電体
材料の原料であるフルオレノンジアミノ誘導体を簡便で
収率よく製造することができる原料である。
のジアゾニウム塩(2)と、保護アニリン誘導体(3)
とを反応させ、次いで保護基を脱離する2−ニトロ−7
−(4−アミノフェニルアゾ)−9−フルオレノン
(1)の製造方法。 【化6】 【効果】 2−ニトロ−7−(4−アミノフェニルア
ゾ)−9−フルオレノン(1)は、アゾ系有機光導電体
材料の原料であるフルオレノンジアミノ誘導体を簡便で
収率よく製造することができる原料である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光導電材料の中間体と
して有用なフルオレノンジアミノ誘導体の原料である新
規なフルオレノン誘導体及びその製造方法に関する。
して有用なフルオレノンジアミノ誘導体の原料である新
規なフルオレノン誘導体及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】アゾ系有機光導電材料は、電子写真感光
体の電荷発生物質として注目され、多くの研究がなされ
ている。その中でもフルオレノン骨格を有するアゾ系有
機光導電材料は、特開平3−24555号公報、特開平
3−29957号公報等に示されるように感光体感度特
性がよく、しかも繰り返し安定性に優れた材料であるこ
とが報告されている。一般にアゾ系有機光導電材料を製
造するには、相当するモノアミノ体又はジアミノ体を原
料としてジアゾカップリング反応により製造される。従
って、いかに簡便に、収率よく中間体のモノアミノ体又
はジアミノ体を製造するかが大きな課題となる。フルオ
レノン骨格を有するアゾ系有機光導電材料については、
特開平3−29957号公報に、フルオレノンジアミノ
誘導体とカップラーと称される化合物とをカップリング
反応させることにより製造する方法が開示されている
が、フルオレノンジアミノ誘導体の製造法に関しては具
体的な記述はない。
体の電荷発生物質として注目され、多くの研究がなされ
ている。その中でもフルオレノン骨格を有するアゾ系有
機光導電材料は、特開平3−24555号公報、特開平
3−29957号公報等に示されるように感光体感度特
性がよく、しかも繰り返し安定性に優れた材料であるこ
とが報告されている。一般にアゾ系有機光導電材料を製
造するには、相当するモノアミノ体又はジアミノ体を原
料としてジアゾカップリング反応により製造される。従
って、いかに簡便に、収率よく中間体のモノアミノ体又
はジアミノ体を製造するかが大きな課題となる。フルオ
レノン骨格を有するアゾ系有機光導電材料については、
特開平3−29957号公報に、フルオレノンジアミノ
誘導体とカップラーと称される化合物とをカップリング
反応させることにより製造する方法が開示されている
が、フルオレノンジアミノ誘導体の製造法に関しては具
体的な記述はない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に鑑み、光導電材料の中間体として有用な一般式
(4)で示されるフルオレノンジアミノ誘導体を簡便に
収率よく製造するための原料である新規なフルオレノン
誘導体及びその製造方法を提供することにある。
な事情に鑑み、光導電材料の中間体として有用な一般式
(4)で示されるフルオレノンジアミノ誘導体を簡便に
収率よく製造するための原料である新規なフルオレノン
誘導体及びその製造方法を提供することにある。
【0004】
【化3】
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の新規な一般式
(1)で示されるフルオレノン誘導体は、一般式(2)
で示される2−ニトロ−7−アミノ−9−フルオレノン
のジアゾニウム塩と、一般式(3)で示される保護アニ
リン誘導体とを反応させ、次いで保護基を脱離すること
により製造される。
(1)で示されるフルオレノン誘導体は、一般式(2)
で示される2−ニトロ−7−アミノ−9−フルオレノン
のジアゾニウム塩と、一般式(3)で示される保護アニ
リン誘導体とを反応させ、次いで保護基を脱離すること
により製造される。
【0006】
【化4】
【0007】一般式(1)及び(3)中のRとしては、
水素原子又はメチル、エチル、プロピル、ブチル等のア
ルキル基であり、水素原子及びメチル基が好ましい。本
発明の一般式(1)で示される新規なフルオレノン誘導
体(1)は、下記反応工程1〜4により製造することが
できる。
水素原子又はメチル、エチル、プロピル、ブチル等のア
ルキル基であり、水素原子及びメチル基が好ましい。本
発明の一般式(1)で示される新規なフルオレノン誘導
体(1)は、下記反応工程1〜4により製造することが
できる。
【0008】
【化5】
【0009】すなわち、アニリン誘導体(5)をアミノ
基保護化合物(X´)と反応させて保護アミノベンゼン
誘導体(3)とする(反応工程1)。一方アミノニトロ
フルオレノン(6)を酸性下、亜硝酸ナトリウムでジア
ゾ化してジアゾニウム塩(2)とする(反応工程2)。
次いで保護アミノベンゼン誘導体(3)とジアゾニウム
塩(2)をカップリング反応させて保護フルオレノン誘
導体(7)とし(反応工程3)、保護基を酸性下又はア
ルカリ性下で加熱して脱離させてフルオレノン誘導体
(1)を製造する(反応工程4)。以下、反応工程の詳
細を述べる。
基保護化合物(X´)と反応させて保護アミノベンゼン
誘導体(3)とする(反応工程1)。一方アミノニトロ
フルオレノン(6)を酸性下、亜硝酸ナトリウムでジア
ゾ化してジアゾニウム塩(2)とする(反応工程2)。
次いで保護アミノベンゼン誘導体(3)とジアゾニウム
塩(2)をカップリング反応させて保護フルオレノン誘
導体(7)とし(反応工程3)、保護基を酸性下又はア
ルカリ性下で加熱して脱離させてフルオレノン誘導体
(1)を製造する(反応工程4)。以下、反応工程の詳
細を述べる。
【0010】(反応工程1)保護基(X)は、合目的的
なものであればいかなるものでもよいが、例えばホルミ
ル、ベンゾイル等のアシル基;t−ブチルオキシカルボ
ニル、2−(p−ビフェニル)イソプロピルオキシカル
ボニル等のカルボニル基;アリル基;スルホメチル、ス
ルホエチル、それらのナトリウム塩等のスルホン酸誘導
体が挙げられるが、アシル基、スルホン酸誘導体が好ま
しい。アミノ基保護化合物(X´)としては、上記保護
基にプロトン、ハロゲン原子、水酸基等が結合したもの
を用いうるが、例えばギ酸、塩化ベンゾイル、t−ブチ
ルクロロホルマート、2−(p−ビフェニル)イソプロ
ピルアジドホルマ−ト、ヒドロキシメタンスルホン酸ナ
トリウム等が挙げられる。これらの保護基(X)を導入
する方法は、公知の方法、例えば新実験化学講座14
(V)、Journal of Organic Chemistry 22巻、10
96〜1100ページ(1957)に記載の方法に準じ
て実施することができる。
なものであればいかなるものでもよいが、例えばホルミ
ル、ベンゾイル等のアシル基;t−ブチルオキシカルボ
ニル、2−(p−ビフェニル)イソプロピルオキシカル
ボニル等のカルボニル基;アリル基;スルホメチル、ス
ルホエチル、それらのナトリウム塩等のスルホン酸誘導
体が挙げられるが、アシル基、スルホン酸誘導体が好ま
しい。アミノ基保護化合物(X´)としては、上記保護
基にプロトン、ハロゲン原子、水酸基等が結合したもの
を用いうるが、例えばギ酸、塩化ベンゾイル、t−ブチ
ルクロロホルマート、2−(p−ビフェニル)イソプロ
ピルアジドホルマ−ト、ヒドロキシメタンスルホン酸ナ
トリウム等が挙げられる。これらの保護基(X)を導入
する方法は、公知の方法、例えば新実験化学講座14
(V)、Journal of Organic Chemistry 22巻、10
96〜1100ページ(1957)に記載の方法に準じ
て実施することができる。
【0011】(反応工程2)反応モル比は、アミノニト
ロフルオレノン(6)1モルに対し、亜硝酸ナトリウム
を通常1.5〜8モル用いて反応させるが、2〜5モル
が好ましい。反応溶媒は、濃硫酸、塩酸水溶液等が用い
られ、特に濃硫酸が好ましい。溶媒の量は、アミノニト
ロフルオレノン(6)1重量部に対し、5〜30重量部
が好ましく、特に10〜20重量部が好ましい。反応温
度は、−10〜20℃が好ましく、特に−5〜10℃が
好ましい。反応時間は、0.5〜5時間が好ましく、特
に1〜3時間が好ましい。ジアゾ化反応終了後、安定な
ジアゾニウム塩(2)とするために更に酸(Y)を添加
するが、そのような酸(Y)としては、四フッ化ホウ素
酸、六フッ化リン酸が好ましい。得られた安定ジアゾニ
ウム塩(2)は、洗液のpHが3〜6、好ましくは4〜5
になるまで水で十分洗浄し、単離する。
ロフルオレノン(6)1モルに対し、亜硝酸ナトリウム
を通常1.5〜8モル用いて反応させるが、2〜5モル
が好ましい。反応溶媒は、濃硫酸、塩酸水溶液等が用い
られ、特に濃硫酸が好ましい。溶媒の量は、アミノニト
ロフルオレノン(6)1重量部に対し、5〜30重量部
が好ましく、特に10〜20重量部が好ましい。反応温
度は、−10〜20℃が好ましく、特に−5〜10℃が
好ましい。反応時間は、0.5〜5時間が好ましく、特
に1〜3時間が好ましい。ジアゾ化反応終了後、安定な
ジアゾニウム塩(2)とするために更に酸(Y)を添加
するが、そのような酸(Y)としては、四フッ化ホウ素
酸、六フッ化リン酸が好ましい。得られた安定ジアゾニ
ウム塩(2)は、洗液のpHが3〜6、好ましくは4〜5
になるまで水で十分洗浄し、単離する。
【0012】(反応工程3)反応モル比は、ジアゾニウ
ム塩(2)1モルに対し保護アニリン誘導体(3)1〜
5モルを用いるのが好ましく、特に2〜3モルが好まし
い。反応溶媒は、水、エタノールが好ましく、特に水が
好ましい。溶媒の量は、ジアゾニウム塩1g に対し10
〜100倍量が好ましく、特に20〜50倍量が好まし
い。反応温度は、−10〜20℃が好ましく、特に−5
〜10℃が好ましい。反応時間は、1〜8時間が好まし
く、特に2〜5時間が好ましい。得られた保護フルオレ
ノン誘導体(7)は、洗液のpHが6〜8、好ましくは7
になるまで水で十分洗浄し、単離する。
ム塩(2)1モルに対し保護アニリン誘導体(3)1〜
5モルを用いるのが好ましく、特に2〜3モルが好まし
い。反応溶媒は、水、エタノールが好ましく、特に水が
好ましい。溶媒の量は、ジアゾニウム塩1g に対し10
〜100倍量が好ましく、特に20〜50倍量が好まし
い。反応温度は、−10〜20℃が好ましく、特に−5
〜10℃が好ましい。反応時間は、1〜8時間が好まし
く、特に2〜5時間が好ましい。得られた保護フルオレ
ノン誘導体(7)は、洗液のpHが6〜8、好ましくは7
になるまで水で十分洗浄し、単離する。
【0013】(反応工程4)脱保護は、保護フルオレノ
ン誘導体(7)1重量部に対して1N塩酸水溶液又は1
N水酸化ナトリウム水溶液10〜200重量部、特に5
0〜100重量部を添加して加熱する。反応温度は、5
0〜100℃が好ましく、特に70〜90℃が好まし
い。反応時間は、0.25時間以上、好ましくは0.5
〜3時間である。得られたフルオレノン誘導体(1)
は、洗液のpHが6〜8、好ましくは7になるまで水で十
分洗浄し、単離する。
ン誘導体(7)1重量部に対して1N塩酸水溶液又は1
N水酸化ナトリウム水溶液10〜200重量部、特に5
0〜100重量部を添加して加熱する。反応温度は、5
0〜100℃が好ましく、特に70〜90℃が好まし
い。反応時間は、0.25時間以上、好ましくは0.5
〜3時間である。得られたフルオレノン誘導体(1)
は、洗液のpHが6〜8、好ましくは7になるまで水で十
分洗浄し、単離する。
【0014】得られた一般式(1)の新規なフルオレノ
ン誘導体は、これを還元することにより簡便に、収率よ
く、高純度のフルオレノンジアミノ誘導体(4)を製造
することができる。
ン誘導体は、これを還元することにより簡便に、収率よ
く、高純度のフルオレノンジアミノ誘導体(4)を製造
することができる。
【0015】還元反応は、錫もしくはその塩化物、亜鉛
もしくはその塩化物、鉄もしくはその塩化物等と塩酸と
による酸性条件下での還元;硫化ナトリウム、ナトリウ
ムヒドルスルフィド、硫化アンモニウム、亜二チオン酸
ナトリウム等の硫化物を用いるアルカリ条件下での還元
が挙げられるが、硫化物を用いる還元反応が好ましい。
硫化物としては、硫化ナトリウム、ナトリウムヒドロス
ルフィドが好ましく、特に硫化ナトリウムが好ましい。
反応モル比は、フルオレノン誘導体(1)1モルに対し
て、還元試薬1〜10モルが好ましく、特に1〜5モル
が好ましい。反応溶媒は、水、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール、ヘプタノール等のアル
コール又はこれらの混合溶媒が好ましく、特に水とアル
コールの混合溶液が好ましい。水とアルコールとの混合
比は、容積比で30/70から70/30が好ましく、
特に40/60から60/40が好ましい。溶媒の量
は、フルオレノン誘導体(1)1重量部に対して10〜
100重量部が好ましく、特に10〜50重量部が好ま
しい。反応温度としては、40〜100℃が好ましく、
特に50〜80℃が好ましい。反応時間は、0.5〜1
0時間、好ましくは1〜5時間である。
もしくはその塩化物、鉄もしくはその塩化物等と塩酸と
による酸性条件下での還元;硫化ナトリウム、ナトリウ
ムヒドルスルフィド、硫化アンモニウム、亜二チオン酸
ナトリウム等の硫化物を用いるアルカリ条件下での還元
が挙げられるが、硫化物を用いる還元反応が好ましい。
硫化物としては、硫化ナトリウム、ナトリウムヒドロス
ルフィドが好ましく、特に硫化ナトリウムが好ましい。
反応モル比は、フルオレノン誘導体(1)1モルに対し
て、還元試薬1〜10モルが好ましく、特に1〜5モル
が好ましい。反応溶媒は、水、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール、ヘプタノール等のアル
コール又はこれらの混合溶媒が好ましく、特に水とアル
コールの混合溶液が好ましい。水とアルコールとの混合
比は、容積比で30/70から70/30が好ましく、
特に40/60から60/40が好ましい。溶媒の量
は、フルオレノン誘導体(1)1重量部に対して10〜
100重量部が好ましく、特に10〜50重量部が好ま
しい。反応温度としては、40〜100℃が好ましく、
特に50〜80℃が好ましい。反応時間は、0.5〜1
0時間、好ましくは1〜5時間である。
【0016】得られたフルオレノンジアミノ誘導体
(4)は、洗液のpHが6〜8、好ましくは7になるまで
水で十分洗浄し、その後乾燥する。上記の製造法によっ
て得られたフルオレノンジアミノ誘導体(4)は、特開
平3−29957号公報に示されるカップラーとのカッ
プリング反応により、高感度、高安定性に優れたアゾ系
有機光導電材料を製造することができる。
(4)は、洗液のpHが6〜8、好ましくは7になるまで
水で十分洗浄し、その後乾燥する。上記の製造法によっ
て得られたフルオレノンジアミノ誘導体(4)は、特開
平3−29957号公報に示されるカップラーとのカッ
プリング反応により、高感度、高安定性に優れたアゾ系
有機光導電材料を製造することができる。
【0017】
【発明の効果】感光特性、安定性の優れたフルオレノン
骨格を有するアゾ系有機光導電材料を安価で収率よく製
造するために、原料であるフルオレノン誘導体を簡便で
収率よく製造する。
骨格を有するアゾ系有機光導電材料を安価で収率よく製
造するために、原料であるフルオレノン誘導体を簡便で
収率よく製造する。
【0018】
【実施例】以下、本発明のフルオレノン誘導体(1)及
びフルオレノンジアミノ誘導体(4)の製造例を挙げ、
本発明を具体的に説明する。
びフルオレノンジアミノ誘導体(4)の製造例を挙げ、
本発明を具体的に説明する。
【0019】原料の合成例 2−メチルアニリンメタンスルホン酸ナトリウム(3)
の製造 ヒドロキシメタンスルホン酸ナトリウム80.4g
(0.6mol )を水100mlに溶解し、この溶液にo−
トルイジン(5)42.8g (0.4mol )を加えた。
還流下、2時間撹拌し反応させた。その後0℃に冷却
し、析出した結晶をろ過した。結晶を少量の水で洗浄
し、ついでアセトン800mlで懸洗しろ過した。60℃
で10時間乾燥し、2−メチルアニリンメタンスルホン
酸ナトリウム(3)53.5g (60.0%)を得た。
の製造 ヒドロキシメタンスルホン酸ナトリウム80.4g
(0.6mol )を水100mlに溶解し、この溶液にo−
トルイジン(5)42.8g (0.4mol )を加えた。
還流下、2時間撹拌し反応させた。その後0℃に冷却
し、析出した結晶をろ過した。結晶を少量の水で洗浄
し、ついでアセトン800mlで懸洗しろ過した。60℃
で10時間乾燥し、2−メチルアニリンメタンスルホン
酸ナトリウム(3)53.5g (60.0%)を得た。
【0020】実施例 2−ニトロ−7−(3−メチル−4−アミノフェニルア
ゾ)−9−フルオレノン(1)の製造 2−ニトロ−7−アミノ−9−フルオレノン(6)15
g (62.5mmol)を、0℃に冷却した濃硫酸150ml
に溶解し、この溶液に亜硝酸ナトリウム13g(0.1
9mol )を固体のまま加え、0℃で2時間撹拌した。そ
の後、1kgの氷に反応液を注ぎ、ろ過し、ろ液に42%
四フッ化ホウ素酸水溶液40g を加えた。析出した結晶
をろ過し、洗液のpHが4〜5になるまで水洗を繰り返し
た。次に、この結晶(ジアゾニウム塩)(2)を400
mlの冷水に分散させ、この液に2−メチルアニリンメタ
ンスルホン酸ナトリウム(3)20.9g (93.8mm
ol)の水溶液100mlを0〜5℃で滴下した。0〜5℃
で3時間撹拌した後、反応混合物をろ過し、洗液が中性
になるまで十分に水洗を繰り返し、保護フルオレノン誘
導体(7)を得た。更に保護基を脱離するため、この結
晶に1N塩酸水溶液500mlを加え、80℃で1時間加
熱撹拌した。ろ過、水洗、3%水酸化ナトリウム水溶液
での中和、水洗を行い、60℃で10時間乾燥し、目的
の2−ニトロ−7−(3−メチル−4−アミノフェニル
アゾ)−9−フルオレノン(1)18.4g (82.3
%)を得た。
ゾ)−9−フルオレノン(1)の製造 2−ニトロ−7−アミノ−9−フルオレノン(6)15
g (62.5mmol)を、0℃に冷却した濃硫酸150ml
に溶解し、この溶液に亜硝酸ナトリウム13g(0.1
9mol )を固体のまま加え、0℃で2時間撹拌した。そ
の後、1kgの氷に反応液を注ぎ、ろ過し、ろ液に42%
四フッ化ホウ素酸水溶液40g を加えた。析出した結晶
をろ過し、洗液のpHが4〜5になるまで水洗を繰り返し
た。次に、この結晶(ジアゾニウム塩)(2)を400
mlの冷水に分散させ、この液に2−メチルアニリンメタ
ンスルホン酸ナトリウム(3)20.9g (93.8mm
ol)の水溶液100mlを0〜5℃で滴下した。0〜5℃
で3時間撹拌した後、反応混合物をろ過し、洗液が中性
になるまで十分に水洗を繰り返し、保護フルオレノン誘
導体(7)を得た。更に保護基を脱離するため、この結
晶に1N塩酸水溶液500mlを加え、80℃で1時間加
熱撹拌した。ろ過、水洗、3%水酸化ナトリウム水溶液
での中和、水洗を行い、60℃で10時間乾燥し、目的
の2−ニトロ−7−(3−メチル−4−アミノフェニル
アゾ)−9−フルオレノン(1)18.4g (82.3
%)を得た。
【0021】得られたフルオレノン誘導体(1)の 1H
−NMR(DMSO)は図1に示すように、メチル基に
由来するシングルピークが2.15ppm に、アミノ基に
由来するシングルピークが5.8ppm に、ベンゼン環及
びフルオレノン環に由来するマルチプレットピークが
6.7〜7.9ppm にそれぞれプロトン積分比3:2:
9で現れている。また、マススペクトル、元素分析では m/e=358 (分子量358) 元素分析値(%) 測定値 C:67.38、 H:3.81、 N:15.95 計算値 C:67.04、 H:3.91、 N:15.64 のとおり非常によく一致していることから、目的物の構
造であることが確認された。
−NMR(DMSO)は図1に示すように、メチル基に
由来するシングルピークが2.15ppm に、アミノ基に
由来するシングルピークが5.8ppm に、ベンゼン環及
びフルオレノン環に由来するマルチプレットピークが
6.7〜7.9ppm にそれぞれプロトン積分比3:2:
9で現れている。また、マススペクトル、元素分析では m/e=358 (分子量358) 元素分析値(%) 測定値 C:67.38、 H:3.81、 N:15.95 計算値 C:67.04、 H:3.91、 N:15.64 のとおり非常によく一致していることから、目的物の構
造であることが確認された。
【0022】参考例 2−アミノー7−(3−メチル−4−アミノフェニルア
ゾ)−9−フルオレノン(4)の製造 実施例で得た2−ニトロ−7−(3−メチル−4−アミ
ノフェニルアゾ)−9−フルオレノン(1)15g (4
1.9mmol)をエタノール120mlに分散した。この分
散液に硫化ナトリウム9水和物30.2g (0.126
mol )を水120mlに溶解した溶液を加え、撹拌下、3
時間還流した。反応終了後、室温まで冷却し、ろ過し、
洗液がpH7になるまで結晶を十分水で洗浄した。60℃
で10時間乾燥し、2−アミノ−7−(3−メチル−4
−アミノフェニルアゾ)−9−フルオレノン(4)1
0.9g (79.5%)を得た。
ゾ)−9−フルオレノン(4)の製造 実施例で得た2−ニトロ−7−(3−メチル−4−アミ
ノフェニルアゾ)−9−フルオレノン(1)15g (4
1.9mmol)をエタノール120mlに分散した。この分
散液に硫化ナトリウム9水和物30.2g (0.126
mol )を水120mlに溶解した溶液を加え、撹拌下、3
時間還流した。反応終了後、室温まで冷却し、ろ過し、
洗液がpH7になるまで結晶を十分水で洗浄した。60℃
で10時間乾燥し、2−アミノ−7−(3−メチル−4
−アミノフェニルアゾ)−9−フルオレノン(4)1
0.9g (79.5%)を得た。
【0023】得られたフルオレノンジアミノ誘導体
(4)の 1H−NMR(DMSO)はメチル基に由来す
るシングルピークが2.15ppm に、アミノ基に由来す
るシングルピークが5.8ppm と5.9ppm に、ベンゼ
ン環及びフルオレノン環に由来するマルチプレットピー
クが6.7〜7.9ppm にそれぞれプロトン積分比3:
4:9で現れている。また、マススペクトル、元素分析
では m/e=328 (分子量328) 元素分析値(%) 測定値 C:73.43、 H:4.71、 N:17.56 計算値 C:73.17、 H:4.88、 N:17.07 のとおり非常によく一致していることから、目的物の構
造であることが確認された。
(4)の 1H−NMR(DMSO)はメチル基に由来す
るシングルピークが2.15ppm に、アミノ基に由来す
るシングルピークが5.8ppm と5.9ppm に、ベンゼ
ン環及びフルオレノン環に由来するマルチプレットピー
クが6.7〜7.9ppm にそれぞれプロトン積分比3:
4:9で現れている。また、マススペクトル、元素分析
では m/e=328 (分子量328) 元素分析値(%) 測定値 C:73.43、 H:4.71、 N:17.56 計算値 C:73.17、 H:4.88、 N:17.07 のとおり非常によく一致していることから、目的物の構
造であることが確認された。
【図1】2−ニトロ−7−(3−メチル−4−アミノフ
ェニルアゾ)−9−フルオレノンの 1H−NMRスペク
トル図を示す。
ェニルアゾ)−9−フルオレノンの 1H−NMRスペク
トル図を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 万里子 茨城県稲敷郡阿見町中央8丁目3番1号 三菱油化株式会社筑波総合研究所内 (72)発明者 谷山 英二 茨城県稲敷郡阿見町中央8丁目3番1号 三菱油化株式会社筑波総合研究所内 (72)発明者 上田 隆正 大阪府大阪市中央区安土町二丁目3番13号 大阪国際ビル ミノルタカメラ株式会社 内 (72)発明者 植田 秀昭 大阪府大阪市中央区安土町二丁目3番13号 大阪国際ビル ミノルタカメラ株式会社 内
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式(1)で示されるフルオレノン誘
導体。 【化1】 - 【請求項2】 一般式(2)で示される2−ニトロ−7
−アミノ−9−フルオレノンのジアゾニウム塩と、一般
式(3)で示される保護アニリン誘導体とを反応させ、
次いで保護基を脱離することを特徴とする一般式(1)
で示されるフルオレノン誘導体の製造方法。 【化2】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30006192A JPH06145128A (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | フルオレノン誘導体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30006192A JPH06145128A (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | フルオレノン誘導体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06145128A true JPH06145128A (ja) | 1994-05-24 |
Family
ID=17880230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30006192A Pending JPH06145128A (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | フルオレノン誘導体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06145128A (ja) |
-
1992
- 1992-11-10 JP JP30006192A patent/JPH06145128A/ja active Pending
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