JPH0616427A - シリカガラスの製造方法 - Google Patents
シリカガラスの製造方法Info
- Publication number
- JPH0616427A JPH0616427A JP26368291A JP26368291A JPH0616427A JP H0616427 A JPH0616427 A JP H0616427A JP 26368291 A JP26368291 A JP 26368291A JP 26368291 A JP26368291 A JP 26368291A JP H0616427 A JPH0616427 A JP H0616427A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- silica glass
- liq
- silicon dioxide
- pipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 79
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 abstract description 6
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 abstract description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 27
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 27
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 4
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropanal Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C=O IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminum fluoride Inorganic materials F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 Polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 きわめて薄い厚味のシリカガラスをうる
【構成】 二酸化珪素を過飽和に含む珪弗化水素酸の水
溶液に基材を浸漬して、基材表面に二酸化珪素膜を形成
させた後、基材と二酸化珪素膜とを分離して、シリカガ
ラスを得る。
溶液に基材を浸漬して、基材表面に二酸化珪素膜を形成
させた後、基材と二酸化珪素膜とを分離して、シリカガ
ラスを得る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は二酸化珪素からなるガラ
スの製造方法に関し、特に珪弗化水素酸の二酸化珪素過
飽和溶液を含む処理液と基材とを接触させて基材表面に
形成される二酸化珪素被膜を利用したシリカガラスの製
造方法に関する。
スの製造方法に関し、特に珪弗化水素酸の二酸化珪素過
飽和溶液を含む処理液と基材とを接触させて基材表面に
形成される二酸化珪素被膜を利用したシリカガラスの製
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】最近、高純度でかつ厚みが数〜数１０μ
ｍであるシリカガラスが、マイクロエレクトロニクス等
の分野で要求されている。そして、その製造方法として
は例えば溶融法で作製されたシリカガラスを研磨する方
法や、ゾルゲル法を応用する方法等がある。
ｍであるシリカガラスが、マイクロエレクトロニクス等
の分野で要求されている。そして、その製造方法として
は例えば溶融法で作製されたシリカガラスを研磨する方
法や、ゾルゲル法を応用する方法等がある。
【０００３】一方、二酸化珪素被膜の形成法としては珪
弗化水素酸の二酸化珪素の過飽和水溶液に基材を浸漬し
て二酸化珪素被膜を形成する方法（以後析出法と呼ぶ）
が知られている（例えば特公昭６３ー６５６２０号公
報）。この析出法において二酸化珪素の過飽和水溶液を
作製する手段として、珪弗化水素酸の二酸化珪素の略飽
和水溶液にホウ酸水溶液を添加して、二酸化珪素の過飽
和水溶液を作製する方法（特公昭６３ー６５６２０号公
報）、およびその他例えばアルミニウム等の物質を添加
することによって同様に二酸化珪素の過飽和水溶液を作
製する方法（特開昭６２ー２０８７６号公報）が知られ
ている。一方二酸化珪素の珪弗化水素酸溶液への溶解度
の温度依存性を利用した珪弗化水素酸の二酸化珪素飽和
水溶液を含む処理液に基材を浸漬する方法（特開昭６１
ー２８１０４７号公報、特開平３ー１１２８０６号公
報）が知られている。
弗化水素酸の二酸化珪素の過飽和水溶液に基材を浸漬し
て二酸化珪素被膜を形成する方法（以後析出法と呼ぶ）
が知られている（例えば特公昭６３ー６５６２０号公
報）。この析出法において二酸化珪素の過飽和水溶液を
作製する手段として、珪弗化水素酸の二酸化珪素の略飽
和水溶液にホウ酸水溶液を添加して、二酸化珪素の過飽
和水溶液を作製する方法（特公昭６３ー６５６２０号公
報）、およびその他例えばアルミニウム等の物質を添加
することによって同様に二酸化珪素の過飽和水溶液を作
製する方法（特開昭６２ー２０８７６号公報）が知られ
ている。一方二酸化珪素の珪弗化水素酸溶液への溶解度
の温度依存性を利用した珪弗化水素酸の二酸化珪素飽和
水溶液を含む処理液に基材を浸漬する方法（特開昭６１
ー２８１０４７号公報、特開平３ー１１２８０６号公
報）が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】高純度でかつ厚みが数
〜数１０μｍであるシリカガラス製造方法において、例
えば溶融法にて作製されたガラスを研磨する方法ではそ
の製造過程が非常に煩雑で製造コストが高くなる、また
ゾルゲル法においては数μｍの厚さのガラスを作製する
ことは非常に困難で、さらにゾルゲル法にて得られるガ
ラスは緻密性に欠けるため、耐水性や耐薬品性の点にお
いて不利であるという欠点を有する。また、その他の方
法においても低コストでかつ簡便に製造できる方法はな
い。
〜数１０μｍであるシリカガラス製造方法において、例
えば溶融法にて作製されたガラスを研磨する方法ではそ
の製造過程が非常に煩雑で製造コストが高くなる、また
ゾルゲル法においては数μｍの厚さのガラスを作製する
ことは非常に困難で、さらにゾルゲル法にて得られるガ
ラスは緻密性に欠けるため、耐水性や耐薬品性の点にお
いて不利であるという欠点を有する。また、その他の方
法においても低コストでかつ簡便に製造できる方法はな
い。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、二酸化珪素の
過飽和状態である珪弗化水素酸を含む処理液と基材とを
接触させて二酸化珪素被膜を作製する析出法によって、
基材表面に厚さが数〜数１０μｍである二酸化珪素被膜
を作製した後、二酸化珪素被膜を基材から離すことによ
り、厚さが数〜数１０μｍであるシリカガラスを低コス
トでかつ簡便に製造する方法を提供するものである。
過飽和状態である珪弗化水素酸を含む処理液と基材とを
接触させて二酸化珪素被膜を作製する析出法によって、
基材表面に厚さが数〜数１０μｍである二酸化珪素被膜
を作製した後、二酸化珪素被膜を基材から離すことによ
り、厚さが数〜数１０μｍであるシリカガラスを低コス
トでかつ簡便に製造する方法を提供するものである。
【０００６】上記の方法において二酸化珪素の過飽和水
溶液を作製する手段としては、例えば珪弗化水素酸の二
酸化珪素の略飽和水溶液にホウ酸水溶液を添加する方
法、アルミニウムを添加する方法、あるいは二酸化珪素
の珪弗化水素酸溶液への溶解度の温度依存性を利用した
方法等いずれの方法でも構わない。しかし、厚みが数〜
数１０μｍである二酸化珪素被膜を作製するためには長
時間の安定した成膜を維持する必要があり、その観点に
おいて、例えばホウ酸水溶液を添加する方法において
は、連続したホウ酸水溶液の添加を必要とするので時間
と共に処理液の濃度が低下し、ひいては得られる被膜の
膜質、特に緻密性が変化する。またアルミニウムを添加
する場合には、長時間添加しつづけると処理液内におい
てやがて弗化アルミニウムが生成され、その時点で二酸
化珪素被膜の製造は不可能となる。よって、二酸化珪素
の珪弗化水素酸溶液への溶解度の温度依存性を利用した
方法が長時間安定した被膜の製造が行えるので最も好ま
しい。
溶液を作製する手段としては、例えば珪弗化水素酸の二
酸化珪素の略飽和水溶液にホウ酸水溶液を添加する方
法、アルミニウムを添加する方法、あるいは二酸化珪素
の珪弗化水素酸溶液への溶解度の温度依存性を利用した
方法等いずれの方法でも構わない。しかし、厚みが数〜
数１０μｍである二酸化珪素被膜を作製するためには長
時間の安定した成膜を維持する必要があり、その観点に
おいて、例えばホウ酸水溶液を添加する方法において
は、連続したホウ酸水溶液の添加を必要とするので時間
と共に処理液の濃度が低下し、ひいては得られる被膜の
膜質、特に緻密性が変化する。またアルミニウムを添加
する場合には、長時間添加しつづけると処理液内におい
てやがて弗化アルミニウムが生成され、その時点で二酸
化珪素被膜の製造は不可能となる。よって、二酸化珪素
の珪弗化水素酸溶液への溶解度の温度依存性を利用した
方法が長時間安定した被膜の製造が行えるので最も好ま
しい。
【０００７】二酸化珪素被膜製造時の、処理液の温度は
高い方が得られる被膜の応力が小さくなるので、クラッ
クや部分的な膜剥がれが生じにくくなり、より厚い被膜
を得るのに有利であるが、７０℃より高くなると処理液
から四弗化珪素蒸気の発生が激しくなり成膜速度の低下
や作業環境の悪化を導くので好ましくない。
高い方が得られる被膜の応力が小さくなるので、クラッ
クや部分的な膜剥がれが生じにくくなり、より厚い被膜
を得るのに有利であるが、７０℃より高くなると処理液
から四弗化珪素蒸気の発生が激しくなり成膜速度の低下
や作業環境の悪化を導くので好ましくない。
【０００８】基材の種類としてはＳｉウエハー、ガラ
ス、樹脂、金属等いずれでも良いが樹脂や金属の方が被
膜と基材との密着力が弱いので得られた被膜を基材より
離しやすく、より好ましい。また、二酸化珪素被膜を基
材から離す方法としては、機械的に基材を剥す方法のほ
か、被膜の製造後に基材を溶液により溶解する方法、焼
却する方法など特に限定されない。
ス、樹脂、金属等いずれでも良いが樹脂や金属の方が被
膜と基材との密着力が弱いので得られた被膜を基材より
離しやすく、より好ましい。また、二酸化珪素被膜を基
材から離す方法としては、機械的に基材を剥す方法のほ
か、被膜の製造後に基材を溶液により溶解する方法、焼
却する方法など特に限定されない。
【０００９】
【実施例】以下に、実施例により本発明を詳細に説明す
る。図１に示す装置を用いてシリカガラスの製造を行な
った。その手順としてまず、処理液調合槽（１）にてー
３℃の温度で２モル／リットル濃度の珪弗化水素酸に二
酸化珪素（工業用シリカゲル）を飽和溶解して処理液を
調合し、得られた処理液全量を送液ポンプ（１２Ａ）に
て送液管（１１Ａ）を通し処理液保存槽（２）に送液し
た。この際濾過フィルター（１３Ａ）にて、処理液を調
合した際に溶け残った二酸化珪素粒子を濾過した。
る。図１に示す装置を用いてシリカガラスの製造を行な
った。その手順としてまず、処理液調合槽（１）にてー
３℃の温度で２モル／リットル濃度の珪弗化水素酸に二
酸化珪素（工業用シリカゲル）を飽和溶解して処理液を
調合し、得られた処理液全量を送液ポンプ（１２Ａ）に
て送液管（１１Ａ）を通し処理液保存槽（２）に送液し
た。この際濾過フィルター（１３Ａ）にて、処理液を調
合した際に溶け残った二酸化珪素粒子を濾過した。
【００１０】つぎに送液ポンプ（１２Ｂ）にて送液管
（１１Ｂ）を通し処理液保存槽内の処理液を、処理槽
（３）の整流部（９）へ液を送った。送液後、送液ポン
プ（１２Ｄ）にて送液管（１１Ｄ）を通し処理液を処理
槽の添加部（１０）から処理槽の整流部へ１７０ミリリ
ットル／分の速度で循環を開始しその経路途中に設けら
れたフィルター（１３Ｂまたは１３Ｃ）にて処理液を濾
過すると共に、ヒーター（６）にて処理槽内の処理液を
加熱し６０℃に昇温しその温度で保持した。
（１１Ｂ）を通し処理液保存槽内の処理液を、処理槽
（３）の整流部（９）へ液を送った。送液後、送液ポン
プ（１２Ｄ）にて送液管（１１Ｄ）を通し処理液を処理
槽の添加部（１０）から処理槽の整流部へ１７０ミリリ
ットル／分の速度で循環を開始しその経路途中に設けら
れたフィルター（１３Ｂまたは１３Ｃ）にて処理液を濾
過すると共に、ヒーター（６）にて処理槽内の処理液を
加熱し６０℃に昇温しその温度で保持した。
【００１１】また、送液ポンプ（１２Ｄ）による処理液
の循環と同時に送液ポンプ（１２Ｂ）にて処理液を処理
液保存槽から１０ミリリットル／分（これは処理槽内の
処理液量に対し０．６％／分に該当する）の速度で処理
槽の添加部（１０）に添加し、同時に送液ポンプ（１２
Ｃ）にてそれぞれ添加と同じ速度で処理液の浸漬部のオ
ーバーフロー部より処理液を送液管（１１Ｃ）を通し処
理液調合槽へ排出した。排出された処理液を処理液調合
槽にて再度冷却し二酸化硅素を飽和溶解した。処理液調
合槽、処理液保存槽そして処理槽間の処理液の送液は、
以後膜の製造を終了するまで行なった。
の循環と同時に送液ポンプ（１２Ｂ）にて処理液を処理
液保存槽から１０ミリリットル／分（これは処理槽内の
処理液量に対し０．６％／分に該当する）の速度で処理
槽の添加部（１０）に添加し、同時に送液ポンプ（１２
Ｃ）にてそれぞれ添加と同じ速度で処理液の浸漬部のオ
ーバーフロー部より処理液を送液管（１１Ｃ）を通し処
理液調合槽へ排出した。排出された処理液を処理液調合
槽にて再度冷却し二酸化硅素を飽和溶解した。処理液調
合槽、処理液保存槽そして処理槽間の処理液の送液は、
以後膜の製造を終了するまで行なった。
【００１２】基材には、縦１００ｍｍ、横１００ｍｍ、
厚さ約２０μｍのポリエチレンテレフタレートを用い
た。ただし、二酸化珪素被膜の基材への成膜性を向上さ
せるために、あらかじめ、テトラエチルシリケートを主
成分とする加水分解物溶液（商品名：ＣＳＧ、チッソ株
式会社製）をアルコールにて約１００倍に希釈した液を
ディッピング法にて塗布、およびその後の、大気中にて
８０℃での乾燥を前処理として行った。
厚さ約２０μｍのポリエチレンテレフタレートを用い
た。ただし、二酸化珪素被膜の基材への成膜性を向上さ
せるために、あらかじめ、テトラエチルシリケートを主
成分とする加水分解物溶液（商品名：ＣＳＧ、チッソ株
式会社製）をアルコールにて約１００倍に希釈した液を
ディッピング法にて塗布、およびその後の、大気中にて
８０℃での乾燥を前処理として行った。
【００１３】基材は処理液の温度が６０℃になってから
浸漬した。また、それと同時に縦２５ｍｍ、横２５ｍ
ｍ、厚さ０．５ｍｍのＳｉウエハーを1時間毎に浸漬
し、その上に析出した被膜の厚みから成膜速度を見積も
った。その結果、平均の成膜速度は４６０オングストロ
ーム／時であった。基材は１８０時間の浸漬の後、洗
浄、乾燥し、そして得られた被膜つき基材から基材のみ
を機械的に剥してシリカガラスを得た。
浸漬した。また、それと同時に縦２５ｍｍ、横２５ｍ
ｍ、厚さ０．５ｍｍのＳｉウエハーを1時間毎に浸漬
し、その上に析出した被膜の厚みから成膜速度を見積も
った。その結果、平均の成膜速度は４６０オングストロ
ーム／時であった。基材は１８０時間の浸漬の後、洗
浄、乾燥し、そして得られた被膜つき基材から基材のみ
を機械的に剥してシリカガラスを得た。
【００１４】操作型電子顕微鏡によるシリカガラス断面
の観察の結果、その厚みは約８μｍであった。また、１
９０ｎｍから８５０ｎｍの波長域における可視、紫外透
過吸収スペクトルの測定の結果、図２に示すようにいず
れの波長においても透過率は９０％以上であった。
の観察の結果、その厚みは約８μｍであった。また、１
９０ｎｍから８５０ｎｍの波長域における可視、紫外透
過吸収スペクトルの測定の結果、図２に示すようにいず
れの波長においても透過率は９０％以上であった。
【００１５】以上の結果、厚さが約８μｍの透明なシリ
カガラスが得られた。
カガラスが得られた。
【００１６】
【発明の効果】本発明によれば、安価な製造コストでし
かも簡単な操作にて厚みが数〜数１０μｍであるシリカ
ガラスを得ることができる。
かも簡単な操作にて厚みが数〜数１０μｍであるシリカ
ガラスを得ることができる。
【図１】本発明のシリカガラス製造装置を示す概略系統
図である
図である
【図２】本発明により得られたシリカガラスの可視、紫
外透過吸収スペクトルの測定結果を示す図である
外透過吸収スペクトルの測定結果を示す図である
１ 処理液調合槽 ２ 処理液保存槽 ３ 処理槽 ４ 冷却器 ５ スターラー ６ ヒーター ７ 浸漬部 ８ 整流板 ９ 整流部 １０ 添加部 １１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄ 送液管 １２Ａ、１２Ｂ、１２Ｃ、１２Ｄ 送液ポンプ １３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃ 濾過フィルター １４ 基材 １５Ａ、１５Ｂ、１５Ｃ、１５Ｄ、１５Ｅ ３方コック １６ 洗浄液槽
Claims (1)
- 【請求項１】 過飽和状態の二酸化珪素を含む珪弗化水
素酸からなる処理液と基材とを接触させて、基材表面に
シリカガラスを析出させる方法において、シリカガラス
を基材表面に析出させた後、シリカガラスを基材から離
すことを特徴とするシリカガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26368291A JPH0616427A (ja) | 1991-10-11 | 1991-10-11 | シリカガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26368291A JPH0616427A (ja) | 1991-10-11 | 1991-10-11 | シリカガラスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0616427A true JPH0616427A (ja) | 1994-01-25 |
Family
ID=17392880
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26368291A Pending JPH0616427A (ja) | 1991-10-11 | 1991-10-11 | シリカガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0616427A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016528149A (ja) * | 2013-07-29 | 2016-09-15 | エージェンシー フォー サイエンス，テクノロジー アンド リサーチ | 超親水性コーティング |
-
1991
- 1991-10-11 JP JP26368291A patent/JPH0616427A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016528149A (ja) * | 2013-07-29 | 2016-09-15 | エージェンシー フォー サイエンス，テクノロジー アンド リサーチ | 超親水性コーティング |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6277205B1 (en) | Method and apparatus for cleaning photomask | |
| US5132140A (en) | Process for depositing silicon dioxide films | |
| JPH08187475A (ja) | スクラバ中の金属を除去する方法 | |
| GB2144733A (en) | Methods of making silicon dioxide coatings | |
| JP2001511107A (ja) | 高屈折率と機械的耐磨耗性を有する酸化タンタルベースの無機ポリマー材料、その製法、および当該ポリマーを含む光学材料 | |
| CN1020582C (zh) | 无眩光涂层玻璃 | |
| US5131977A (en) | Base plate for recording disc and a method for its manufacture | |
| JPH0616427A (ja) | シリカガラスの製造方法 | |
| JPH11171599A (ja) | ガラス表面の脱アルカリ処理方法 | |
| US6099911A (en) | Process for forming silica film | |
| SE465921B (sv) | Pyrolytiskt belagt glas och saett att tillverka detsamma | |
| JPH06227842A (ja) | フロート板ガラス物品の表面スズ除去方法 | |
| JPH07196342A (ja) | シリカ系被膜の製造方法 | |
| JP2001300454A (ja) | 基板の表面処理方法 | |
| JP3372435B2 (ja) | 酸化チタン被膜の製造方法 | |
| JPH04310514A (ja) | 酸化珪素被覆基材の製造方法 | |
| JPH09249673A (ja) | シリカ被膜形成用水溶液及びシリカ被膜の形成方法 | |
| JPS62197332A (ja) | ガラス基板素材の処理方法 | |
| JPH04280812A (ja) | 基材上への多孔質シリカ被膜の形成法 | |
| JPH06271310A (ja) | 二酸化珪素膜形成方法 | |
| JP3531576B2 (ja) | 二酸化珪素被膜の形成方法 | |
| JPH02275631A (ja) | 基板の洗浄処理方法及びその装置 | |
| JPH062155A (ja) | 金属体への二酸化珪素被膜形成方法 | |
| RU2119462C1 (ru) | Травильный раствор | |
| JPS6365620B2 (ja) |