JPH06166645A - ２，４−ジアルキル−６−第二−アルキルフェノール - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 酸化、熱または化学線により誘発される分
解に対する有機物質の安定剤として新規２，４−ジアル
キル−６−第二−アルキルフェノールの提供。 【構成】次式： 【化１】 （式中 Ｒ₁ ：Ｃ₁ −Ｃ₄ ｎ−アルキル基、イソプロピ
ル基、ｓ−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基もしくはα−メチルベンジル基、Ｒ₂ ：Ｃ₄−Ｃ₁₈
第三アルキル基もしくはα，α−ジメチルベンジル基、
Ｒ₃ ：Ｃ₁ −Ｃ₂₈アルキル基、Ｒ₄ ：メチル基もしくは
エチル基、但し−ＣＨＲ₃ Ｒ₄ 基は少なくとも４つの炭
素原子を含む。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は新規２，４−ジアルキル
−第二−アルキルフェノール及び熱、酸化及び化学線に
より誘導される分解に対して該化合物で安定化された有
機物質に関する。

【０００２】

【従来の技術】２，６−ジ−第三−ブチル−４−メチル
フェノール（商品名Swanox BHT) を含む多くのトリアル
キルフェノール、及び有機物質の安定化のためのその使
用は公知である。ポリプロピレン樹脂のアルキル−置換
フェノール、例えば２，６−ビス（１−メチルヘプチ
ル）−ｐ−クレゾールによる安定化はＵＳ−Ａ−３５１
１８０２に開示されている。Chemical Abstracts 106:3
2349u には２−（２−クロロエトキシ）エタノールの合
成によって得られた副生成物を分離するための安定剤混
合物中の２−第二−ブチル−４，６−ジ−第三−ブチル
フェノールのような立体阻害フェノールの使用が記載さ
れている。立体阻害フェノールの使用は、例えば塩化ビ
ニル樹脂の安定剤としての２，６−ジイソプロピル−４
−オクタデシルフェノールがDerwent Abstract 75900Y/
43に記載されている。英国特許第1396107 には２，６−
ジイソプロピル−４−第三- アルキルフェノールが２，
６−ジイソプロピルフェノールを製造するための付加物
として開示されている。ＵＳ−Ａ−５０９８９４５には
安定剤としての２，４−ジメチル−６−ｓ−アルキルフ
ェノールが開示されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は特に次式Ｉ （式中、Ｒ₁ は炭素原子数１ないし４のｎ−アルキル
基、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基もしくはα−メチルベンジル基を
表し、Ｒ₂ は炭素原子数４ないし１８の第三アルキル基
もしくはα，α−ジメチルベンジル基を表し、Ｒ₃ は炭
素原子数１ないし２８のアルキル基を表し、及びＲ₄ は
メチル基もしくはエチル基を表す。但し−ＣＨＲ₃ Ｒ₄
基は少なくとも４つの炭素原子を含む。）で表わされる
化合物に関する。炭素原子数１ないし４のｎ−アルキル
基として定義されたＲ₁ はメチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、及びｎ−ブチル基を表す。Ｒ₁ は好ましくは
メチル基、エチル基、ｓ−ブチル基及びシクロヘキシル
基を表す。メチル基が特に好ましい。炭素原子数４ない
し１８の第三−アルキル基と定義されたＲ₂ は−ＣＸＹ
Ｚ基（式中、Ｘ，Ｙ及びＺは各々独立して炭素原子数１
ないし１５のアルキル基を表し、そして全ての３つのア
ルキル基（Ｘ，Ｙ，Ｚ）成分中の炭素原子数の合計は３
ないし１７を表す。）で表わされる基を意味すると解さ
れて良い。従ってＲ₂ は典型的には、第三−ブチル基、
２−メチルブチ−２−イル基、２−メチルペンチ−２−
イル基、２−メチルヘプチ−２−イル基、２−メチルノ
ニ−２−イル基、２−メチルウンデシ−２−イル基、２
−メチルヘプタデシ−２−イル基、３−メチルペンチ−
３−イル基、３−メチルヘプチ−３−イル基、３−メチ
ルロニ−３−イル基、３−メチルウンデシ−３−イル
基、３−メチルヘプタデシ−３−イル基などを表す。好
ましいＲ₂ の意味は第三−ブチル基である。炭素原子数
１ないし２８のアルキル基として定義されたＲ₃ は直鎖
もしくは枝別れでありまた典型的にはメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシ
ル基、オクタデシル基、イソシル基、ドコシル基、ペン
タコシル基、ヘキサコシル基もしくはオクタコシル基を
表す。Ｒ₃ は好ましくは炭素原子数１ないし２２のアル
キル基、典型的には炭素原子数８ないし２２のアルキル
基、より詳細には炭素原子数１０ないし１８のアルキル
基及び、最も好ましくは、炭素原子数１２ないし１８の
アルキル基を表す。Ｒ₃ の好ましい意味は直鎖アルキル
基を表す。Ｒ₄ はメチル基もしくはエチル基を表す。メ
チル基が好ましい。−ＣＨＲ₃ Ｒ₄ 基は４ないし３１、
典型的には６ないし３１、好ましくは１０ないし２５及
び、最も好ましくは１３ないし２１個の炭素原子を含
む。好ましい式Ｉで表わされる化合物は、Ｒ₁ がメチル
基、エチル基、ｓ−ブチル基もしくはシクロヘキシル基
を表す。さらに好ましい、式Ｉで表わされる化合物は、
Ｒ₁ がメチル基もしくはｓ−ブチル基を表し、Ｒ₂ が炭
素原子数４ないし８の第三アルキル基及びＲ₃ が炭素原
子数１ないし２２のｎ−アルキル基を表す。Ｒ₁ がメチ
ル基を表す式Ｉで表わされる化合物が特に好ましい。他
の好ましい式Ｉで表わされる化合物は、Ｒ₄ がメチル基
を表す。他の好ましい式Ｉで表わされる化合物は、Ｒ₃
が炭素原子数８ないし２２のｎ−アルキル基を表す。他
の興味のある式Ｉで表わされる化合物は、Ｒ₂ が炭素原
子数４ないし８の第三−アルキル基、好ましくは第三ブ
チル基を表す。式Ｉで表わされる化合物の好ましい例
は： ４−ｔ−ブチル−２（１−メチルウンデシル）−６−メ
チルフェノール、４−ｔ−ブチル−２（１−メチルトリ
デシル）−６−メチルフェノール、４−ｔ−ブチル−２
（１−メチルペンタデシル）−６−メチルフェノール、
４−ｔ−ブチル−２（１−メチルヘプタデシル）−６−
メチルフェノール、４−ｔ−ブチル−２（１−メチルウ
ンデシル）−６−ｉ−プロピルフェノール、４−ｔ−ブ
チル−２（１−メチルトリデシル）−６−ｉ−プロピル
フェノール、４−ｔ−ブチル−２（１−メチルペンタデ
シル）−６−ｉ−プロピルフェノール、４−ｔ−ブチル
−２（１−メチルヘプタデシル）−６−ｉ−プロピルフ
ェノール、６−ｓ−ブチル−４−ｔ−ブチル−２（１−
メチルウンデシル）フェノール、６−ｓ−ブチル−４−
ｔ−ブチル−２（１−メチルトリデシル）フェノール、
６−ｓ−ブチル−４−ｔ−ブチル−２（１−メチルペン
タデシル）フェノール、６−ｓ−ブチル−４−ｔ−ブチ
ル−２（１−メチルヘプタデシル）フェノール、４−ｔ
−ブチル−６−シクロヘキシル−２（１−メチルウンデ
シル）フェノール、４−ｔ−ブチル−６−シクロヘキシ
ル−２（１−メチルトリデシル）フェノール、４−ｔ−
ブチル−６−シクロヘキシル−２（１−メチルペンタデ
シル）フェノール、４−ｔ−ブチル−６−シクロヘキシ
ル−２（１−メチルヘプタデシル）フェノール、４−ｔ
−ブチル−２（１−メチルウンデシル）−６−α−メチ
ルベンジルフェノール、４−ｔ−ブチル−２（１−メチ
ルトリデシル）−６−α−メチルベンジルフェノール、
４−ｔ−ブチル−２（１−メチルペンタデシル）−６−
α−メチルベンジルフェノール、４−ｔ−ブチル−２
（１−メチルヘプタデシル）−６−α−メチルベンジル
フェノール、６−メチル−４（１，１，３，３−テトラ
メチルブチル）−２（１−メチルウンデシル）フェノー
ル、６−メチル−４（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）−２（１−メチルトリデシル）フェノール、６−
メチル−４（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−
２（１−メチルペンタデシル）フェノール、６−メチル
−４（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−２（１
−メチルヘプタデシル）フェノール、６−イソプロピル
−４（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−２（１
−メチルウンデシル）フェノール、６−イソプロピル−
４（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−２（１−
メチルトリデシル）フェノール、６−イソプロピル−４
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−２（１−メ
チルペンタデシル）フェノール、６−イソプロピル−４
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−２（１−メ
チルヘプタデシル）フェノール、６−ｓ−ブチル−４
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−２（１−メ
チルウンデシル）フェノール、６−ｓ−ブチル−４
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−２（１−メ
チルトリデシル）フェノール、６−ｓ−ブチル−４
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−２（１−メ
チルペンタデシル）フェノール、６−ｓ−ブチル−４
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−２（１−メ
チルヘプタデシル）フェノール、６−シクロヘキシル−
４（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−２（１−
メチルウンデシル）フェノール、６−シクロヘキシル−
４（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−２（１−
メチルトリデシル）フェノール、６−シクロヘキシル−
４（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−２（１−
メチルペンタデシル）フェノール、６−シクロヘキシル
−４（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−２（１
−メチルヘプタデシル）フェノール、６−α−メチルベ
ンジル−４（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−
２（１−メチルウンデシル）フェノール、６−α−メチ
ルベンジル−４（１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル）−２（１−メチルトリデシル）フェノール、６−α
−メチルベンジル−４（１，１，３，３−テトラメチル
ブチル）−２（１−メチルペンタデシル）フェノール、
６−α−メチルベンジル−４（１，１，３，３−テトラ
メチルブチル）−２（１−メチルヘプタデシル）フェノ
ール、４（α，α−ジメチルベンジル）−２（１−メチ
ルウンデシル）−６−メチルフェノール、４（α，α−
ジメチルベンジル）−２（１−メチルトリデシル）−６
−メチルフェノール、４（α，α−ジメチルベンジル）
−２（１−メチルペンタデシル）−６−メチルフェノー
ル、４（α，α−ジメチルベンジル）−２（１−メチル
ヘプタデシル）−６−メチルフェノール、４（α，α−
ジメチルベンジル）−２（１−メチルウンデシル）−６
−ｉ−プロピルフェノール、４（α，α−ジメチルベン
ジル）−２（１−メチルトリデシル）−６−ｉ−プロピ
ルフェノール、４（α，α−ジメチルベンジル）−２
（１−メチルペンタデシル）−６−ｉ−プロピルフェノ
ール、４（α，α−ジメチルベンジル）−２（１−メチ
ルヘプタデシル）−６−ｉ−プロピルフェノール、６−
ｓ−ブチル−４（α，α−ジメチルベンジル）−２（１
−メチルウンデシル）フェノール、６−ｓ−ブチル−４
（α，α−ジメチルベンジル）−２（１−メチルトリデ
シル）フェノール、６−ｓ−ブチル−４（α，α−ジメ
チルベンジル）−２（１−メチルペンタデシル）フェノ
ール、６−ｓ−ブチル−４（α，α−ジメチルベンジ
ル）−２（１−メチルヘプタデシル）フェノール、６−
シクロヘキシル−４（α，α−ジメチルベンジル）−２
（１−メチルウンデシル）フェノール、６−シクロヘキ
シル−４（α，α−ジメチルベンジル）−２（１−メチ
ルトリデシル）フェノール、６−シクロヘキシル−４
（α，α−ジメチルベンジル）−２（１−メチルペンタ
デシル）フェノール、６−シクロヘキシル−４（α，α
−ジメチルベンジル）−２（１−メチルヘプタデシル）
フェノール、４（α，α−ジメチルベンジル）−６−α
−メチルベンジル−２（１−メチルウンデシル）フェノ
ール、４（α，α−ジメチルベンジル）−６−α−メチ
ルベンジル−２（１−メチルトリデシル）フェノール、
４（α，α−ジメチルベンジル）−６−α−メチルベン
ジル−２（１−メチルペンタデシル）フェノール、４
（α，α−ジメチルベンジル）−６−α−メチルベンジ
ル−２（１−メチルヘプタデシル）フェノール、

【０００４】式Ｉで表わされる化合物は公知の方法と類
似した、通常２，４−ジアルキルフェノールとα−オレ
フィンの接触オルトアルキル化により製造されうる。 （式中、Ｒ₁ ，Ｒ₂ ，Ｒ₃ 及びＲ₄ は請求項１に於いて
定義されたものを表す。）この方法はＵＳ−Ｓ−３７６
６２７６に開示されている方法に従って一般に実施され
る。反応は８０ないし２５０℃の温度範囲、好ましくは
１８０ないし２３０℃の温度範囲に於いて、触媒の存在
下で実施される。適した触媒は典型的にはアルミニュウ
ムフェノレート、好ましくは対応するフェノールのアル
ミニュウムフェノレートである。またアルミニュウム金
属、アルミナ、アルミニュウムアルコレートもしくはト
リアルキルアルミニュウムを使用することも可能であ
る、この場合、対応するアルミニュウムフェノレートは
反応中に形成される。該触媒は通常１ないし１０％モル
の量で使用される。式Ｉで表わされる化合物はまた、最
初にオルトアルキル化により−ＣＲ₃ Ｒ₄基を２−置換
フェノールに導入し、そして続くパラアルキル化により
置換基Ｒ₂を導入することにより製造される。この方法
のオルトアルキル化工程のための適した触媒は典型的に
は： ａ）無機及び有機酸、例えば硫酸もしくはｐ−トルエン
スルホン酸； ｂ）ゼオライト，例えばＺＳＭゼオライト； ｃ）酸性粘土，例えば商品名Fulmont234,Fucat14もしく
はFulmont700; ｄ）例えばKozlikovski Ya.B et al .,Zh.Org.Khim.23,
1918-24(1987);Laan J.A.M.,;Chem.Ind.1,34-35(1987)
及びKurashev M.V.et al.;Izv. Akad.Nauk.SSSR,Ser.Kh
im.8,1843-1846(1986); に記載されるようなフリーデル
−クラフト触媒、 ｅ）ＤＥ−Ｂ−１１４２８７３及びＵＳ−Ａ−３３６７
９８１に記載されるような活性化γ−アルミナである。 この反応経路に対する特に好ましい触媒は活性化γ−ア
ルミナである。第二工程である、パラアルキル化は当業
者に通常使用されている方法、例えばフリーデルクラフ
トアルキル化により実施される。

【０００５】Ｒ₄ がメチル基である式Ｉで表わされる化
合物はフェノールとα−オレフィンとの反応により主に
形成される。しかしながら、Ｒ₄ がメチル基である式Ｉ
で表わされる化合物とＲ₄ がエチル基である式Ｉで表わ
される化合物の混合物の形成もまた可能である。Ｒ₄ が
メチル基である式Ｉで表わされる化合物とＲ₄ がエチル
基である該化合物の割合は主として選択された合成経路
並びに使用された触媒に依存する。該合成法から得られ
る式Ｉで表わされる化合物の混合物はクロマトグラフィ
ー法、好ましくはガスクロマトグラフィー法及び高圧液
体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）により便利に分離さ
れうる。通常該混合物を分離することは必要でない。以
下に記載するような有機物質に対する安定剤として該混
合物を直接使用することが好ましい。本発明はまたＲ₄
がメチル基である式Ｉで表わされる化合物とＲ₄ がエチ
ル基であるの該化合物の混合物に関する。Ｒ₄ がメチル
基である式Ｉで表わされる化合物とＲ₄ がエチル基であ
る式Ｉで表わされる該化合物の重量比は典型的には９
９：１ないし１：９９、好ましくは９９：１ないし９
０：１０、最も好ましくは９５：５ないし７０：３０で
ある。Ｒ₄ がメチル基である式Ｉで表わされる化合物中
のＲ₃ の鎖の長さがＲ₄ がエチル基である式Ｉで表わさ
れる化合物のものより１だけ大きいものの混合物が好ま
しい。これらはフェノールとα−オレフィンを反応させ
ることで直接形成されることができる混合物である。こ
の場合、Ｒ₄ がメチル基である化合物中の置換基Ｒ₃ は
Ｒ₄ がエチル基である化合物のそれよりも１つ多くメチ
レン基を含む必要があるだろう。式Ｉで表わされるフェ
ノール及びその混合物は、熱、酸化もしくは化学線によ
る分解を受けやすい有機物質の安定化に驚くほど適して
いる。それらは特に該物質の酸化−及び熱により誘導さ
れた分解の形成、特には酸化により誘導された分解に適
する。それゆえに、それらは特に優秀な酸化防止剤とし
て有効である。本発明はさらに、酸化、熱もしくは化学
線により誘導される分解を受けやすい有機物質（ａ）及
び少なくとも１つの式Ｉで表わされる化合物もしくは前
記した該化合物の混合物からなる組成物に関する。

【０００６】該有機物質（ａ）の典型的な例は： １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１
−エン、ポリメチルペント−１−エン、ポリイソプレン
またはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィン例え
ばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、（所
望により架橋結合できる）ポリエチレン、例えば高密度
ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤ
ＰＥ）および線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、
枝分れ低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。ポリオレフ
ィン、すなわち先の段落中で例示として言及したような
モノオレフィンのポリマー、特にポリエチレンおよびポ
リプロピレンは種々の方法、特に以下の方法により製造
できる： ａ）フリーラジカル重合（通常、高圧および高温におい
ての） ｂ）触媒を使用して、該触媒は通常IVｂ、Ｖｂ、VIｂま
たはVIII属の金属の１個以上を含む。これらの金属は通
常、π−配位またはσ−配位のどちらか一方が可能な、
例えば酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エステ
ル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび／
またはアリールのような配位子の１つ以上を持つ。これ
ら金属錯体は遊離であるか例えば活性化塩化マグネシウ
ム、塩化チタン（II）、酸化アルミニウムまたは酸化珪
素のような支持体に固定化していてよい。これらの触媒
は重合媒体中に可溶または不溶であってよい。触媒はそ
れ自体重合において活性化でき、または、例えば金属ア
ルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、金属ア
ルキル酸化物または金属アルキルオキサンで、該金属は
Ia、IIa および／またはIIIa属の元素であるような別の
活性剤が使用できる。活性剤は例えば、他のエステル、
エーテル、アミンもしくはシリルエーテル基により改良
され得る。これら触媒系は通常フィリップス(Phillip
s)、スタンダードオイルインディアナ(Standard Oil In
diana)、チグラー（−ナッタ）〔Ziegler-(Natta) 〕、
ＴＮＺ〔デュポン社(Dupont)〕、メタロセンまたはシン
グルサイト触媒（ＳＳＣ）と称されるものである。 ２．１．に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロ
ピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレン
とポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ、Ｐ
Ｐ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの異なるタイプの混
合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。 ３．モノオレフィンおよびジオレフィンの相互もしくは
他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／
プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬ
ＤＰＥ）及びそれ自身と低密度ポリエチレン（ＬＤＰ
Ｅ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマ
ー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／
ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリ
マー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン
／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマ
ー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン
／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレ
ートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコ
ポリマー、エチレン／ビニルアセテートコポリマーおよ
びそれらコポリマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエ
チレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（ア
イオノマー）およびエチレンとプロピレンとジエン例え
ばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデ
ン−ノルボルネンのようなものとのターポリマー；なら
びに前記コポリマー相互の混合物および１．に記載した
ポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン
−プロピレン−コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニ
ルアセテート（ＥＶＡ）コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレ
ンアクリル酸（ＥＡＡ）コポリマー、ＬＬＤＰＥ／ＥＶ
Ａ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよびランダムまたは交互ポリ
アルキレン／一酸化炭素−コポリマー；ならびに他のポ
リマーとこれらの混合物、例えばポリアミド。 ４. それらの水素化変性物（例えば粘着付与剤）および
ポリアルキレンとデンプンの混合物を含む炭化水素樹脂
（例えば炭素原子数５ないし９）。 ５．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ
（α−メチルスチレン）。 ６．スチレンもしくはα−メチルスチレンとジエンもし
くはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／
ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／
エチルメタクリレート、スチレン／エチルメタアクリレ
ート、スチレン／ブタジエン／エチルアクリレート、ス
チレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチ
レンコポリマーと他のポリマー、例えばポリアクリレー
ト、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエ
ンターポリマーとの高衝撃強度の混合物；及びスチレン
のブロックコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン／
スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン
／エチレン／ブチレン／スチレン、又はスチレン／エチ
レン−プロピレン／スチレン。 ７．スチレンのグラフトコポリマー、例えば、ポリブタ
ジエンにスチレン、ポリブタジエンにスチレン及びアク
リロニトリル、ポリブタジエンにスチレンとアルキルア
クリレートもしくはメタアクリレート、エチレン／プロ
ピレン／ジエンターポリマーにスチレンとアクリロニト
リル、アクリレートまたはブタジエンコポリマーにスチ
レンとアクリロニトリル、及びそれらと前記５で挙げた
コポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ，ＭＢＳ，ＡＳＡ
またはＡＥＳポリマーとして知られるコポリマー混合
物。 ８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、
塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホン化ポリエチ
レン、エピクロロヒドリンホモ−及びコポリマー、特に
ハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、及びポ
リ弗化ビニリデン；及びそれらのコポリマー、例えば塩
化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル、
塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマーまたは塩化ビニ
ル／ビニルエーテルコポリマー。 ９．α，β−不飽和酸、及びその誘導体、例えばポリア
クリレート及びポリメタクリレート、ポリアクリルアミ
ド及びポリアクリロニトリル。 10．上記９に挙げたモノマーの相互または他の不飽和モ
ノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル−ブタ
ジエンコポリマー、アクリロニトリル−アルキルアクリ
レートコポリマー、アクリロニトリル−アルコキシアル
キルアクリレートコポリマー、またはアクリロニトリル
−ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル
−アルキルメタクリレート−ブタジエンターポリマー。 11．不飽和アルコール及びアミン、又はアシル誘導体も
しくはアセタールから誘導されたポリマー、例えばポリ
ビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリステアリン酸
ビニル、ポリ安息香酸ビニル、ポリマレイン酸ビニル、
ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレートまたはポ
リアリルメラミン。 12．環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー、例え
ばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、
ポリプロピレンオキシドまたはそれらとビスグリシジル
エーテルとのコポリマー。 13. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン、及び
コモノマーとしてエチレンオキシドを有するポリオキシ
メチレン。 14．ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、及びポリ
フェニレンオキシドとスチレンポリマーの混合物。 15．一方で末端水酸基を有するポリエーテル、ポリエス
テル及びポリブタジエン、他方で脂肪族もしくは芳香族
ポリイソシアネートから誘導されるポリウレタン、及び
その前駆物質（ポリイソシアネート、ポリオールまたは
プレポリマー）。 16．ジアミン及びジカルボン酸から、及び／又はアミノ
カルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリ
アミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリア
ミド６、ポリアミド６／６、ポリアミド６／１０、ポリ
アミド１１、ポリアミド１２、ポリ−２，４，４−トリ
メチルヘキサメチレンテレフタルアミド、ポリ−ｐ−フ
ェニレン−テレフタルアミドもしくは、ポリ−ｍ−フェ
ニレン−イソフタルアミド、同様にポリオレフィンとそ
れらのコポリマー、例えばポリエチレングリコール、ポ
リプロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリ
コールとのコポリマー。 17．ポリウレア、ポリイミド、ポリアミド−イミド及び
ポリイミダゾール。 18．ジカルボン酸及びジアルコールから、及び／又はヒ
ドロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導さ
れるポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメ
チロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリ−〔２，
２−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン〕テレフタ
レート、及びポリヒドロキシベンゾエート、並びに末端
水酸基を有するポリエーテルから誘導されるブロックポ
リエーテルエステル。 19．ポリカーボネート及びポリエステルカーボネート。 20．ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエ
ーテルケトン。 21．一方でアルデヒドから、及び他方でフェノール、尿
素またはメラミンから誘導された架橋ポリマー、例えば
フェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアル
デヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。 22．乾性もしくは非乾性アルキッド樹脂。 23．飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの
コポリエステルから、ビニル化合物を架橋剤として誘導
された不飽和ポリエステル樹脂及びそのハロゲン含有、
難燃変成樹脂。 24．置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレ
ート、ウレタンアクリレートまたはポリエステルアクリ
レートから誘導された熱硬化アクリル樹脂。 25．架橋としてメラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシア
ネートまたはエポキシ樹脂と混合したアルキッド樹脂、
ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。 26．ポリエポキシド、例えばビスグリシジルエーテルか
ら、または脂環式ジエポキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。 27．セルロースのような天然ポリマー、ゴム、ゼラチン
及びそれらをポリマー同族方法で、化学変成したその誘
導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース
及び酪酸セルロース、及びセルロースエーテル、例えば
メチルセルロース、並びにロジン樹脂およびその誘導
体。 28．前述のポリマーの混合物、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、
ポリアミド６／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ，ＰＶＣ／ＥＶ
Ａ，ＰＶＣ／ＡＢＳ，ＰＶＣ／ＭＢＳ，ＰＣ／ＡＢＳ，
ＰＢＴＰ／ＡＢＳ，ＰＣ／ＡＳＡ，ＰＣ／ＰＢＴ，ＰＶ
Ｃ／ＣＰＥ，ＰＶＣ／アクリレート，ＰＯＭ／サーモプ
ラスチックＰＵＲ，ＰＣ／サーモプラスチックＰＵＲ，
ＰＯＭ／アクリレート，ＰＯＭ／ＭＢＳ，ＰＰＯ／ＨＩ
ＰＳ，ＰＰＯ／ＰＡ６．６及びコポリマー，ＰＡ／ＨＤ
ＰＥ，ＰＡ／ＰＰ，ＰＡ／ＰＰＯ。好ましい組成物は、
成分（ａ）がポリスチレン、置換ポリスチレン、ポリス
チレンもしくは置換ポリスチレンのコ−もしくはターポ
リマーである。例は前記の６及び７項に特に示される。
成分（ａ）は好ましくは、衝撃吸収ポリスチレン（ＩＰ
Ｓ）、スチレン−アクリロニトリルコポリマー（ＳＡ
Ｎ）及びアクリロニトリル−ブタジエン−スチレンター
ポリマー（ＡＢＳ）、好ましくはアクリロニトリル−ブ
タジエン−スチレンターポリマー（ＡＢＳ）及びメチル
メタクリレート−ブタジエン−スチレングラフトコポリ
マー（ＭＢＳ）からなる群から選択される。また成分
（ａ）として使用されるものは、ポリカーボネート、ポ
リエステルカーボネート、ポリウレタン、ポリアミド、
コポリアミド、ポリアセタール及びポリフェニレンオキ
サイドからなる群から選択された有機物質である。好ま
しい例は前記１３、１５及び１６項に示される。好まし
い組成物はまた、成分（ａ）がポリオレフィンである。
例は前記の１−３項に見出されるだろう。ポリエチレン
及びポリプロピレンが特に興味がある。新規組成物は都
合良くは、式Ｉで表わされる化合物を少なくとも一種も
しくは式中Ｒ₄ がメチル基を表す式Ｉで表わされる化合
物、及びＲ₄ がエチル基である該化合物の混合物を、
０．０１ないし１０％、好ましくは０．０５ないし５
％、最も好ましくは０．１ないし２％含有する。

【０００７】式Ｉで表わされる化合物の他に、新規組成
物はまた付加通常添加剤を含有しても良い、例えば１．酸化防止剤 1.1.アルキル化モノフェノール 例えば、2,6-ジ−第三ブチル-4- メチルフェノール、2-
第三ブチル-4,6- ジメチルフェノール、2,6-ジ−第三ブ
チル-4- エチルフェノール、2,6-ジ−第三ブチル-4-n-
ブチルフェノール、2,6-ジ−第三ブチル-4- イソブチル
フェノール、2,6-ジシクロペンチル-4- メチルフェノー
ル、2-( α−メチルシクロヘキシル）-4,6- ジメチルフ
ェノール、2,6-ジオクタデシル-4- メチルフェノール、
2,4,6-トリシクロヘキシルフェノール、2,6-ジ−第三ブ
チル-4- メトキシメチルフェノール、2,6-ジ−ノニル-4
- メチルフェノール、2,4-ジメチル-6-(1'- メチルウン
デシ-1'-イル) フェノール、2,4-ジメチル-6-(1'- メチ
ルヘプタデシ-1'-イル) フェノール、2,4-ジメチル-6-
(1'- メチルトリデシ-1'-イル) フェノール及びその混
合物。1.2.アルキルチオメチルフェノール 例えば、2,4-ジオクチルチオメチル-6- 第三- ブチルフ
ェノール、2,4-ジオクチルチオメチル-6- メチルフェノ
ール、2,4-ジオクチルチオメチル-6- エチルフェノー
ル、2,6-ジ- ドデシルチオメチル-4- ノニルフェノー
ル。1.3.ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン 例えば、2,6-ジ- 第三- ブチル-4- メトキシフェノー
ル、2,5-ジ- 第三ブチル-ヒドロキノン、2,5-ジ- 第三
アミル- ヒドロキノン、2,6-ジフェニル-4- オクタデシ
ロキシ- フェノール、2,6-ジ- 第三- ブチルヒドロキノ
ン、2,5-ジ- 第三-ブチル-4- ヒドロキシアニゾール、
3,5-ジ- 第三- ブチル-4- ヒドロキシアニゾール、3,5-
ジ- 第三- ブチル-4- ヒドロキシフェニルステアレー
ト、ビス-(3,5-ジ- 第三- ブチル-4- ヒドロキシフェニ
ル) アジペート。1.4 ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 例えば、2,2'- チオビス(6- 第三ブチル-4- メチルフェ
ノール) 、2,2'- チオビス(4- オクチルフェノール) 、
4,4'- チオビス(6- 第三ブチル-3- メチルフェノール)
、4,4'- チオビス(6- 第三ブチル-2- メチルフェノー
ル) 、 4,4'-チオビス(3,6- ジ- 第二- アミルフェノー
ル) 、 4,4'-ビス(2,6- ジメチル- 4-ヒドロキシフェニ
ル) ジスルフィド。1.5.アルキリデンビスフェノール 例えば、2,2'- メチレンビス（6-第三ブチル-4- メチル
フェノール）、2,2'- メチレンビス（6-第三ブチル-4-
エチルフェノール）、2,2'- メチレンビス〔4-メチル-6
-(α−メチルシクロヘキシル）フェノール〕、2,2'- メ
チレンビス（4-メチル-6- シクロヘキシルフェノー
ル）、2,2'- メチレンビス（6-ノニル-4- メチルフェノ
ール）、2,2'- メチレンビス（4,6-ジ- 第三- ブチルフ
ェノール）、2,2'- エチレンビス（4,6-ジ- 第三- ブチ
ルフェノール）、2,2'- エチレンビス（6-第三- ブチル
-4- イソブチルフェノール）、2,2'- メチレンビス〔6-
( α−メチルベンジル）-4- ノニルフェノール〕、2,2'
- メチレンビス〔6-( α，α−ジメチルベンジル）-4-
ノニルフェノール〕、4,4'- メチレンビス（2,６−ジ-
第三ブチルフェノール）、4,4'- メチレンビス（６−第
三ブチル-2- メチルフェノール）、1,1-ビス（5-第三ブ
チル-4- ヒドロキシ-2- メチルフェニル）ブタン、2,6-
ビス−(3- 第三ブチル-5- メチル-2- ヒドロキシベンジ
ル）-4- メチルフェノール、1,1,3-トリス（5-第三ブチ
ル-4- ヒドロキシ-2- メチルフェニル）ブタン、1,1-ビ
ス（5-第三ブチル-4- ヒドロキシ-2- メチルフェニル）
-3-n- ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール
ビス〔3,3-ビス（3'−第三ブチル-4'-ヒドロキシフェニ
ル）ブチレート〕、ビス（3-第三ブチル-4- ヒドロキシ
-5- メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス−
〔2-(3'-第三ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-メチルベンジ
ル）-6- 第三ブチル-4- メチルフェニル〕テレフタレー
ト、1,1-ビス-(3,5-ジメチル-2- ヒドロキシフェニル)
ブタン、2,2-ビス-(3,5-ジ-第三- ブチル-4- ヒドロキ
シフェニル) プロパン、2,2-ビス-(5-第三- ブチル-4-
ヒドロキシ-2- メチルフェニル)-4-ｎ−ドデシルメルカ
プトブタン、1,1,5,5-テトラ-(5-第三- ブチル-4- ヒド
ロキシ-2- メチルフェニル) ペンタン。１．６． Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物、 例え
ば３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチル−４，４′
−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４
−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル−メルカプト
アセテート、トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）−アミン、ビス（４−第三ブチル
−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−ジチ
オテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）−スルフィド、イソオクチル−
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−メ
ルカプトアセテート。１．７．ヒドロキシベンジル化マロネート、 例えばジオ
クタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−
２−ヒドロキシベンジル）−マロネート、ジ−オクタデ
シル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メ
チルベンジル）−マロネート、ジ−ドデシルメルカプト
エチル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）−マロネート、ビス−［４−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］
−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）−マロネート。１．８． ヒドロキシベンジル芳香族化合物、 例えば、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼ
ン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベン
ゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。１．９． トリアジン化合物、 例えば、２，４−ビス−
オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−
トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキ
シ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキ
シ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
−イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブ
チル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−
イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，
３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）
−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５
−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシ
ベンジル）−イソシアヌレート。１．１０． べンジルホスホネート、 例えばジメチル−
２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，
５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネ
ート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキ
シ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチ
ルエステルのＣａ塩。1.11. アシルアミノフェノール 例えば、ラウリル酸4-ヒドロキシアニリド、ステアリン
酸4-ヒドロキシアニリド、N-(3,5- ジ−第三ブチル-4-
ヒドロキシフェニル）−カルバミン酸オクチルエステ
ル。1.12. 以下のような一価または多価アルコールとβ−
（3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシフェニル）プロピ
オン酸とのエステル アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタデカ
ノール、1,6-ヘキサンジオール、1,9-ノナンジオール、
エチレングリコール、1,2-プロパンジオール、ネオペン
チルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリト
リトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレー
ト、N,N'- ビス( ヒドロキシエチル) オキサミド、3-チ
アウンデカノール、3-チアペンタデカノール、トリメチ
ルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4-ヒド
ロキシメチル-1- フォスファ-2,6,7- チオキサビシクロ
[2.2.2] オクタン。1.13. 以下のような一価または多価アルコールとβ−
（3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシフェニルアセチル
酸エステル アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタデカ
ノール、1,6-ヘキサンジオール、1,9-ノナンジオール、
エチレングリコール、1,2-プロパンジオール、ネオペン
チルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリチ
リトール、トリス( ヒドロキシエチル) イソシアヌレー
ト、N,N'- ビス-(ヒドロキシエチル) オキサミド、3-チ
アウンデカノール、3-チアペンタデカノール、トリメチ
ルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4-ヒド
ロキシメチル-1- フォスファ-2,6,7- チオキサビシクロ
[2.2.2] オクタン。１．１４． β−（３，５−ジ−シクロヘキシル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一価または
多価アルコールとのエステル、 例えばメタノール、エタ
ノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、
１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス
（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビ
ス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウ
ンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチル
ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒド
ロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサ
ビシクロ［２．２．２］オクタン。１．１５． ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル酢酸の下記の一価または多価アルコールとのエ
ステル、 例えば、メタノール、エタノール、オクタデカ
ノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジ
オール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）
シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チア
ペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリ
メチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホス
ファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］
オクタン。1.16. β−（3,5-ジ第三ブチル-4- ヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸のアミド 例えばN,N'- ビス（3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、N,N'
- ビス- （3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシフェニル
プロピオニル）トリメチレンジアミン、N,N'- ビス-
（3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシフェニルプロピオ
ニル）ヒドラジン。２．紫外線吸収剤および光安定剤 2.1. 2-（2'- ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル 例えば2-(2’- ヒドロキシ-5'-メチルフェニル)-ベンゾ
トリアゾール、2-(3’,5'-ジ- 第三- ブチル-2'-ヒドロ
キシ-5'-メチルフェニル)-ベンゾトリアゾール、2-(5'-
第三- ブチル-2'-ヒドロキシフェニル)-ベンゾトリアゾ
ール、2-(2'-ヒドロキシ-5'-(1,1,3,3- テトラメチルブ
チル) フェニル)-ベンゾトリアゾール、2-(3’,5'-ジ-
第三- ブチル-2'-ヒドロキシフェニル)-5-クロロベンゾ
トリアゾール、2-(3’- 第三- ブチル-2'-ヒドロキシ-
5'-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-
(3’- 第二- ブチル-5'-第三- ブチル- 2'- ヒドロキシ
フェニル) ベンゾトリアゾール、2-(2’- ヒドロキシ-
4'-オクチルオキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-
(3’,5'-ジ- 第三- アミル-2'-ヒドロキシフェニル)-5-
クロロベンゾトリアゾール、2-(3’,5'-ビス-(α, α-
ジメチル- ベンジル)-2'- ヒドロキシフェニル) ベンゾ
トリアゾール、2-(3’- 第三- ブチル-2'-ヒドロキシ-
5'-(2- オクチロキシカルボニルエチル) フェニル)-5-
クロロベンゾトリアゾール、2-(3’- 第三- ブチル-5'-
[2-(2-エチルヘコキシ)-カルボニルエチル] -2'-ヒドロ
キシフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(3’-
第三- ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-(2- メトキシカルボニ
ルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(3’- 第
三-ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-(2- メトキシカルボニル
エチル) フェニル) ベンゾトリアゾール、2-(3’- 第三
- ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-(2- オクチロキシカルボニ
ルエチル) フェニル) ベンゾトリアゾール、2-(3’- 第
三- ブチル-5'-[2-(2-エチルヘコキシ) カルボニルエチ
ル]-2'- ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾール、2-
(3’- ドデシル-2'-ヒドロキシ-5'-メチルフェニル) ベ
ンゾトリアゾール、及び2-(3’- 第三- ブチル-2'-ヒド
ロキシ-5'-(2- イソオクチルオキシカルボニルエチル)
フェニルベンゾトリアゾール、2,2'- メチレン- ビス[4
-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)-6-ベンゾトリアゾール
-2- イルフェノール]; 2-[3 ’- 第三- ブチル-5'-(2-
メトキシカルボニルエチル) -2'-ヒドロキシフェニル]-
2H- ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール300
とのエステル交換生成物;[R-CH₂ CH₂ -COO(CH₂ ) ₃ ] ₂
-、( 式中Ｒは3'- 第三- ブチル-4'-ヒドロキシ-5'-2H
- ベンゾトリアゾリ-2- イルフェニルを表す。) 。2.2. 2-ヒドロキシベンゾフェノン 例えば4-ヒドロキシ、4-メトキシ、4-オクチルオキシ、
4-デシルオキシ、4-ドデシルオキシ、4-ベンジルオキ
シ、4,2',4'-トリヒドロキシおよび2'−ヒドロキシ-4,
4'-ジメトキシ誘導体。2.3.未置換及び置換された安息香酸のエステル 例えば4-第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサ
リチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾ
イルレゾルシノール、ビス-(4-第三ブチルベンゾイル）
レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4-ジ−
第三ブチルフェニル3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシ
安息香酸エステル、3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシ
安息香酸ヘキサデシルエステル、3,5-ジ−第三ブチル-4
- ヒドロキシ安息香酸オクタデシルエステル、2-メチル
-4,6- ジ−第三ブチルフェニル3,5-ジ−第三ブチル-4-
ヒドロキシ安息香酸エステル。2.4.アクリレート 例えばエチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレ
ート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルア
クリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、
α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシケイ皮酸のメチ
ルエステルおよびα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキ
シケイ皮酸のブチルエステル、メチルα−カルボメトキ
シ−ｐ−メトキシシンナメート、及びN-（β−カルボメ
トキシ−β−シアノビニル）-2- メチルインドリン。2.5.ニッケル化合物 例えば2,2'- チオ−ビス〔4-(1,1,3,3- テトラメチルブ
チル）フェノール〕のニッケル錯体、例えば、１：１ま
たは１：２錯体、場合により付加配位子、例えばn-ブチ
ルアミン、トリエタノールアミンまたはN-シクロヘキシ
ルジエタノールアミンを有してよいニッケル錯体、ニッ
ケルジブチルジチオカルバメート、4-ヒドロキシ-3,5−
ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエステ
ル、例えばメチル、又はエチルエステル及び4-ヒドロキ
シ-3,5−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキ
ルエステルのニッケル塩、ケトオキシム、例えば2-ヒド
ロキシ-4- メチルフェニルウンデシルケトオキシムのニ
ッケル錯体、および場合により、付加配位子を含んでよ
い1-フェニル-4- ラウロイル-5- ヒドロキシピラゾール
のニッケル錯体。2.6.立体障害性アミン 例えばビス（2,2,6,6-テトラメチル−ピペリジル）セバ
ケート、ビス（2,2,6,6-テトラメチル−ピペリジル）コ
ハク酸エステル、ビス（1,2,2,6,6-ペンタメチルピペリ
ジル）セバケート、ビス-(1,2,2,6,6-ペンタメチルピペ
リジル) ｎ−ブチル-3,5- ジ−第三ブチル-4- ヒドロキ
シベンジル−マロン酸エステル、1-(2- ヒドロキシエチ
ル-2,2,6,6- テトラメチル-4- ヒドロキシピペリジンと
コハク酸との縮合物、N,N'- ビス（2,2,6,6-テトラメチ
ル-4- ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと4-第三オ
クチルアミノ-2,6- ジクロロ-1,3,5- トリアジンとの縮
合物、トリス（2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル）
ニトリロトリアセテート、テトラキス（2,2,6,6-テトラ
メチル-4- ピペリジル)-1,2,3,4-ブタン- テトラカルボ
ン酸エステル、1,1'-(1,2-エタンジイル) ビス(3,3,5,5
- テトラメチルピペラジノン) 、4-ベンゾイル-2,2,6,6
- テトラメチルピペリジン、4-ステアリルオキシ-2,2,
6,6- テトラメチルピペリジン、ビス-(1,2,2,6,6-ペン
タメチルピペリジル)-2-n-ブチル-2-(2-ヒドロキシ-3,5
- ジ- 第三ブチル- ベンジル) マロネート、3-n-オクチ
ル-7,7,9,9- テトラメチル-1,3,8- トリアザスプリ[4.
5] デカン-2,4- ジオン、ビス-(1-オクチルオキシ-2,2,
6,6- テトラメチルピペリジルセバケート、ビス-(1-オ
クチルオキシ-2,2,6,6- テトラメチルピペリジル) コハ
ク酸、N,N'-ビス（2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジ
ル）ヘキサメチレンジアミンと4-モルフォリノ-2,6- ジ
クロロ-1,3,5- トリアジンとの縮合物、2-クロロ-4,6-
ビス(4- ｎ−ブチル- アミノ- 2,2,6,6-テトラメチルピ
ペリジル）-1,3,5- トリアジンと1,2-ビス-(3-アミノプ
ロピルアミノ)-エタンとの縮合物、2-クロロ-4,6- ジ-
(4- ｎ−ブチルアミノ- 1,2,2,6,6-ペンタメチルピペリ
ジル）-1,3,5- トリアジンと1,2-ビス-(3-アミノプロピ
ルアミノ)-エタンとの縮合物、8-アセチル-3- ドデシル
-7,7,9,9- テトラメチル-1,3,8- トリアザスピロ[4.5]
デカン-2,4- ジオン、3-ドデシル-1-(2,2,6,6-テトラメ
チル-4- ピペリジル）ピロリジン-2,5- ジオン、3-ドデ
シル-1-(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4- ピペリジル）ピロ
リジン-2,5- ジオン。2.7.オキサミド 例えば4,4'- ジオクチルオキシオキサニリド、2,2'- ジ
オクチルオキシ-5,5'-ジ第三ブトキシアニリド、2,2'-
ジドデシルオキシ-5,5'-ジ第三ブチルオキサニリド、2-
エトキシ-2'-エチルオサニリド、N,N'- ビス(3- ジメチ
ルアミノプロピル) オキサルアミド、2-エトキシ-5- 第
三ブチル-2'-エチルオキサニリドおよび、2-エトキシ-
2'-エチル-5,4'-ジ第三ブチルオキサニリドとの混合
物、及びオルト- 並びにパラ- メトキシ- 二置換オキサ
ニリドの混合物、及びo-並びにp-エトキシ二置換オキサ
ニリドの混合物。2.8. 2-(2- ヒドロキシフェニル)-1,3,5-トリアジン 例えば2,4,6-トリス(2- ヒドロキシ-4- オクチルオキシ
フェニル)-1,3,5-トリアジン、2-(2- ヒドロキシ-4- オ
クチルオキシフェニル-4,6- ビス(2,4- ジメチルフェニ
ル)-1,3,5-トリアジン、2-(2,4- ジヒドロキシフェニ
ル)-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジ
ン、2,4-ビス(2- ヒドロキシ-4- プロピルオキシフェニ
ル)-6-(2,4- ジメチルフェニル) -1,3,5- トリアジン、
2-(2- ヒドロキシ-4- オクチルオキシフェニル)-4,6-ビ
ス(4- メチルフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-(2- ヒド
ロキシ-4- ドデシルオキシフェニル)-4,6-ビス(2,4- ジ
メチルフェニル) -1,3,5- トリアジン、2-[2- ヒドロキ
シ-4-(2-ヒドロキシ-3- ブチルオキシ- プロピルオキ
シ) フェニル]-4,6-ビス(2,4- ジメチルフェニル) -1,
3,5- トリアジン、2-[2- ヒドロキシ-4-(2-ヒドロキシ-
3- オクチルオキシ- プロピルオキシ) フェニル]-4,6-
ビス(2,4- ジメチルフェニル) -1,3,5- トリアジン。３．金属不活性化剤 例えばN,N'−ジフェニルオキサジアミド、N-サリチラル
-N'-サリチロイルヒドラジン、N,N'- ビス（サリチロイ
ル）ヒドラジン、N,N'- ビス（3,5-ジ−第三ブチル-4-
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、3-サリ
チロイルアミノ-1,2,4- トリアゾール、ビス（ベンジリ
デン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフ
タル酸ジヒドラジド、セバシン酸ビスフェニルヒドラジ
ド、N,N'-ジアセチル- アジピン酸ジヒドラジド、N,N'-
ビス( サリチロイル)-オキサリルジヒドラジド、N,N'-
ビス( サリチロイル) チオプロピオン酸ジヒドラジ
ド。４．他のホスフィットおよびホスホニット 例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキ
ルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、ト
リス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホ
スフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステア
リルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（2,
4-ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（2,4-ジ
−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフ
ィット、ビス（2,6-ジ−第三ブチル-4メチルフェニル）
ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオ
キシペンタエリトリトールジフォスフィット、ビス(2,4
- ジ- 第三- ブチル-6- メチルフェニル) ペンタエリト
リトールジフォスフィット、トリステアリル−ソルビト
ールトリホスフィット、テトラキス- （2,4-ジ−第三ブ
チルフェニル）4,4'- ジフェニレンジホスフォナイト、
6-イソオクチロキシ-2,4,8,10-テトラ- 第三- ブチル-1
2H- ジベンゾ[d,g]-1,3,2-ジオキサフォスフォシン、6-
フルオロ-2,4,8,10 テトラ- 第三ブチル-12-メチル- ジ
ベンゾ[d,g]-1,3,2-ジオキサフォスフォシン、ビス(2,4
- ジ- 第三ブチル-6- メチルフェニル)メチルフォスフ
ィット、ビス(2,4- ジ- 第三ブチル-6- メチルフェニ
ル) エチルフォスフィット。5. 過酸化物除去剤 β- チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、
ステアリル、ミリスチルもしくはトリデシルエステル、
メルカプト- ベンジミダゾールもしくは2-メルカプト-
ベンジミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチル- ジチオカル
バメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリチ
リトールテトラキス-(β- ドデシルメルカプト)-プロピ
オネート。6 ．ポリアミド安定剤 例えば、ヨウ素及び／又はリン化合物及び二価マグネシ
ウムの塩と組み合わせた銅塩。7 ．塩基性補助安定剤 例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジ
アミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラ
ジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級
脂肪酸のアルカリ金属およびアルカリ土類金属塩、例え
ば、カルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグ
ネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナト
リウムリシノレート及びカリウムパルミテート、アンチ
モンピロカテコレート、または亜鉛ピロカテコレート。8 . 核剤 例えば、4-第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニ
ル酢酸。9 . 充填剤および強化剤 例えば、炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、アスベ
スト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸
化物および金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。10. その他の添加物 例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃
剤、静電防止剤、および発泡剤。11. ベンゾフラノン及びインドリノン 例えば、ＵＳ−Ａ−４３２５８６３もしくはＵＳ−Ａ−
４３３８２４４に開示されている。

【０００８】本発明はさらに熱、酸化もしくは化学線に
より誘発される分解を受けやすい有機物質の安定化のた
めの、式Ｉで表わされる化合物、もしくは上記の式Ｉで
表わされる化合物の混合物もしくはフェノールとα−オ
レフィンを反応させることで得られる生成物の使用方法
に関する。

【０００９】本発明はまた、式Ｉで表わされる少なくと
も１つの化合物、上記の式Ｉで表わされる化合物の混合
物もしくはフェノールとα−オレフィンを反応させるこ
とで得られる生成物を有機物質に混入または適用するこ
とからなる熱、酸化もしくは化学線により誘発される分
解を受けやすい有機物質の安定化のための製造方法に関
する。有機物質中に、式Ｉで表わされる化合物もしくは
その混合物、並びに他の添加物を混合することは当業者
に公知である方法により、便利良くは成形前もしくは成
形中に、もしくはまた化合物の溶液もしくは懸濁液を有
機物質に加え、次いで溶媒の蒸発することにより実施さ
れる。式Ｉで表わされる化合物はまた安定化される物質
に対して、典型的には２．５ないし２５重量％の濃度
で、該化合物を含有するマスターバッチの形態に加えら
れる。新規化合物はまた重合前もしくは重合中もしくは
架橋前に加えられうる。新規化合物は安定化される物質
に純粋の形態で溶液もしくは懸濁液として、又はワック
ス、オイルもしくはポリマー中に封入された形態で混合
されうる。そのようにして得られた安定化された物質
は、広範囲の形態で、典型的にはシート、フィラメン
ト、リボン、成形物品、形材として、もしくは塗料及び
ワニスのためのバインダー、接着材もしくはパテとして
使用されうる。新規化合物はまた好ましくは１，３−ジ
エンのアニオン重合の連鎖停止剤として使用される。

【００１０】本発明は以下に示される実施例により、よ
り詳細に説明される。また特に記載しない限り、部及び
％は重量当たりである。実施例１： ４−第三−ブチル−２−（１−メチルペンタ
デシル）−６−メチルフェノールの製造 ４−第三−ブチル−２−メチルフェノール６１９ｇ
（３．８ｍｏｌ）、線状−α−ヘキサデセン８９６ｇ
（４ｍｏｌ）及び触媒としてアルミニュウムトリス（４
−第三−ブチル−２−メチルフェノレート）３８．５ｇ
の混合物を２．５Ｌのスルホン化フラスコに充填し、６
ないし８時間２１５℃に加熱する。次いで反応混合物を
７０℃に冷却し、３２％のアンモニア溶液３０ｍｌを添
加しそしてバッチを７０℃に於いて３０分間攪拌する。
沈澱した水酸化アルミニュウムをろ過により分離する。
高い減圧（１９０−２１０℃／０．００１ｍｂａｒ）に
於ける液状残留物の蒸留により、無色の液体である４−
第三−ブチル−２−（１−メチルペンタデシル）−６メ
チルフェノール１．１３ｋｇ（理論値７７％）を得る。 元素分析： 計算値 Ｃ：８３．４４％ 実験値 Ｃ：８３．４７％ Ｈ：１２．４５％ Ｈ：１２．６６％実施例２−１０ 実施例２−１０の化合物が、実施例１の化合物を得るた
めの一般の操作に従って、出発物質として相当するフェ
ノール及びα−オレフィンを使用して製造される。それ
らの構造及び物理的データは表に示される。 表１： Ex R₁ R₂ R₃ C% H% 計算値 実験値 計算値 実験値 2 CH₃ t-C₈H₁₇ ^* n-C₁₄H₂₉ 83.71 83.74 12.69 12.65 3 CH₃ t-C₄H₉ n-C₁₂H₂₅ 83.26 83.34 12.30 12.48 4 CH₃ t-C₄H₉ n-C₁₀H₂₁ 83.07 83.15 12.12 12.18 5 CH₃ t-C₄H₉ n-C₁₆H₃₃ 83.58 83.51 12.58 12.98 6 CH₃ t-C₄H₉ n-C₆H₁₃ 82.55 82.76 11.67 11.79 7 CH₃ t-C₅H₁₁ ^*1 n-C₁₄H₂₉ 83.51 83.6 12.52 12.73 8 s-C₄H₉ t-C₄H₉ n-C₁₄H₂₉ 83.65 83.74 12.64 12.67 9 CH₃ t-C₄H₉ n-C₁₈H₃₇-n-C₂₂H₄₅ ^*2 83.83 83.74 12.79 13.09 10 CH₃ t-C₄H₉ n-C₁₂H₂₅-n-C₁₆H₃₁ ^*3 83.44 83.20 12.5 12.45 ^* ： t-C₈H₁₇は２−メチルヘプチ−２−イルを表す。^* １： t-C₅H₁₁は２−メチルブチ−２−イルを表す。^* ２：C₁₈,C₂₀ 及びC₂₂ （比は1 ：1 ：1 である）を有
するα−オレフィンの混合物が使用される。^* 3 ：C₁₂,C₁₄ 及びC₁₆ （比は1 ：1 ：1 である）を有
するα−オレフィンの混合物が使用される。表１（続き）： Ex H-NMR(300MHz)Hα( δppm) 2 2.985(sextuplet;J=7.1Hz) 3 2.981(sextuplet;J=6.987Hz) 4 2.982(sextuplet;J=6.969Hz) 5 2.979(sextuplet;J=6.99Hz) 6 2.982(sextuplet;J=6.999Hz) 7 2.979(sextuplet;J=6.63Hz) 8 2.875(sextuplet;J=6.87Hz) 9 2.978(sextuplet;J=6.996Hz)10 2.978(sextuplet;J=7.02Hz) 実施例11： アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンタ
ーポリマー（ＡＢＳ）の安定化 表２に記載された添加剤をヘキサン／イソプロパノール
の混合物４０ｍｌに溶解する。十分に攪拌し、溶液を水
６００ｇ中のＡＢＳ１００ｇの分散液に添加する。そし
て溶液は短時間（約１分）でＡＢＳにより完全に吸収さ
れる。ＡＢＳ粉末を吸引ろ過し４０℃に於いて４０時間
真空乾燥する。次いで乾燥粉末にチタニウムジオキシド
（ピグメント）２％及びエチレンビス（ステアラミド）
（滑剤）１％を添加する。混合物を１８０℃に於いて２
本ロールミル上で４分間調合する。ロールされたシート
を１７５℃に於いて０．８８ｍｍのシートに加圧し、そ
れを４５×１７ｍｍ² の試験片として打ち抜く。ポリマ
ー内に混入された添加剤の効果を１８０℃に於ける再循
環空気炉中で加熱老化することで試験する。４５分後の
色の発生が添加剤の効果を評価する基準となる。色の純
度をＡＳＴＭＤ１９２５−７０の黄色度指数により測定
する。高い数値ほど、より強い黄変を示す。実験により
黄変がポリマーに混入された新規化合物により効果的に
抑制されたことが示される。表２ 添加剤 １８０℃に於ける４５分後の黄色度指数 − ７８ ０．５％ＤＬＴＤＰ ７５ ０．５％ＤＬＴＤＰ ＋実施例化合物０．２５％ １８０℃に於ける４５分後の黄色度指数 １ ３０ ２ ３０ ３ ３０ ４ ３０ ５ ２８ ６ ３０ ７ ２９ ８ ２９ ９ ３０ １０ ３１ ＤＬＴＤＰ＝ジラウリルチオジプロピオネート実施例１２： ポリプロピレンの安定化 商標名Statoil MF 4 (ノルウェーのPetrokjemi Stanoil
により販売されているポリプロピレン; ＭＦ〔２３０℃
／２．１６ｋｇ〕４．３）のポリマー１００部、実施例
１のフェノール０．１０％及びカルシウムステアレート
０．０５％をブラベンダープラストグラフ中で２００℃
で１０分間、５０回転／分で混練する。混合物を２００
℃に於いて６分間２ｍｍシートに加圧し、それから直径
２６ｍｍのディスクを試験片として打ち抜く。そしてこ
れらの試験片の黄色度指数を決定する（フォトメータ
ー：Datacolor 3890、 aperture 27 紫外線なしで、光
沢なし、標準光Ｃ，２℃デテクター）。結果を表３に示
す。実施例１３： 高密度ポリエチレンの安定化 商標名Statoil MF 4 (ノルウェーのPetrokjemi Stanoil
により販売されている高密度ポリエチレン; ＭＦ〔１９
０℃／５．０ｋｇ〕２．９）のポリマー１００部、実施
例１のフェノール０．１０％及びカルシウムステアレー
ト０．０５％をブラベンダープラストグラフ中で２００
℃で１０分間、５０回転／分で混練する。混合物を１８
０℃に於いて６分間２ｍｍシートに加圧し、それから直
径２６ｍｍのディスクを試験片として打ち抜く。そして
これらの試験片の黄色度指数を決定する（フォトメータ
ー：Datacolor 3890、 aperture 27 紫外線なしで、光
沢なし、標準光Ｃ，２℃デテクター）。結果を表３に示
す。表３ ポリマー 黄色度指数 実施例１２ ８．３実施例１３ ８．２ 実施例１４： ポリプロピレンの安定化 商標名Profax6501( アメリカのHilmont により販売され
ているポリプロピレン; ＭＦ〔２３０℃／２．１６ｋ
ｇ〕３．２）のポリマー１００部、実施例１のフェノー
ル０．０５％及びカルシウムステアレート０．０５％を
最高温度２８０℃に於いて４０回転／分で繰り返し押し
出す。各押出の後、混合物の一部を取り、そして２ｍｍ
シートに加圧する、その加圧条件は表４に記載されてい
る。該シートから直径２６ｍｍのディスクを試験片とし
て打ち抜く。そしてこれらの試験片の黄色度指数を決定
する（フォトメーター：Datacolor 3890、 aperture 27
紫外線なしで、光沢なし、標準光Ｃ：２℃デテクタ
ー）。結果を表４に示す。表４ 加圧 黄色度指数℃／分 １時間後 ３時間後 ５時間後 ２６０／６ ３．５ ３．９ ４．３３００／６ ３．４ ３．６ ４．２ 実施例１５： Ｘ−ＳＢＲラテックス（カルボキシル化Ｓ
ＢＲラテックス）の安定化 表５に示される新規化合物のそれぞれ０．２５重量部
を、少量のメタノールに溶解する、そして溶液をＸ−Ｓ
ＢＲラテックス（スチレン−ブタジエンコポリマー）の
１００重量部に攪拌しながら加える。秤量したラテック
スをペトリ皿に充填し、そして８０℃に於いて乾燥キャ
ビネット中で乾燥し、約０．２ｍｍの層厚を持った透明
なフィルムを得る。安定剤を含まない試料を比較のため
に作成する。ラテックスに混入した添加剤の効果を１５
０℃の再循環空気炉中で熱老化する。試験片の変色をＡ
ＳＴＭＤ１９２５−７０の黄色度指数に従って決定す
る。より高い値ほど、より強力な黄変を意味する。表５ 実施例の安定剤 １５０℃に於ける老化後の黄色度指数 ２時間後 ４時間後 ６時間後 − ９３ ＊ ＊ １ ３２ ５８ ７１ ２ ３０ ５６ ７１ ３ ３２ ５６ ７０ ４ ３６ ５６ ７４ ５ ３７ ６１ ７５ ７ ３３ ５９ ７４ ８ ３８ ６２ ７７ ９ ３３ ５８ ７４ １０ ３３ ５９ ７０ ＊黒色、測定不能実施例１６： ポリオールの安定化 該当する安定剤の０．３％を商標名Lupranol 2045 ( 未
安定化ポリオール) ２０ｇ中に於いて、無色透明の溶液
を得るまで攪拌する。そしてその溶液の各々１０００ｍ
ｇにMetrohm により提供される商標名Rancimat Oxidise
r による酸化試験を適用する。上昇した温度でポリオー
ル上の酸素の通過は酸化反応を引き起こす。形成された
酸化生成物は容易に蒸発し、加えると酸性であり、その
ため。水中に集めることにより、それらが溶液の導電性
（μｓ／ｃｍで測定される）を上昇させるので、反応は
容易に検出することができる。安定剤の添加は安定剤の
消費が完全に終了するまで定量的にこの酸化反応を妨げ
る。導電性が時間の函数として測定される場合、酸化の
開始は曲線を描くこと（直線的増加）により示される。
試験の開始から曲線中の上昇するまでかかった時間は、
安定剤の効果のための標線である。結果を表６に示す。表６ 実施例の安定剤化合物 Ｏ₂ 中の１５０℃に於ける２５μＳ／ｃｍの 導電性に達するのにかかった時間（分） ＊ ３７ ３ ４０ ４ ４４ ６ ４０ ＊２，６−ジ−第三−ブチル−ｐ−クレゾール実施例１７： 沈着物及び酸化パネル試験（ＤＯＰ
Ｔ） 沈着物及び酸化パネル試験（ＤＯＰＴ）はエンジンオイ
ル、特にディ ーゼルエンジンオイルの試験方法の一変法
である。それはG.Abellaneda et al IIIe Symposium CE
C,1989,61,New Cavendish Street,London WIM8AR,Engla
ndに記載されている。それは、ピストン上に沈着するこ
とを防ぐための安定剤を含有しているオイルの安定性を
試験するために使用される。NO₂ を260ppm及びSO₂ を26
ppm に高めた湿気のある大気中で、試験オイルを加熱さ
れた金属プレート( パネル) 上に点滴する。試験時間は
20秒であり、パネル温度は２６０℃、及びオイルフロウ
は１ｍｌ／秒である。試験後、オイルを点滴したパネル
上の沈着物の重量を測定する。２回目の評価は目測で行
なう。目測による評価に於いて、低い値ほど良好な結果
を示す。潤滑オイルは商業的に入手可能であるＳＴＡＮ
ＣＯ １５０ベースオイルにより希釈されたＣＤオイル
である。安定剤はオイルに基づいて０．６重量％、この
オイル中に混合される。そしてＤＯＰＴ試験に使用され
る。結果を表７に示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ１０Ｍ 129/10 9159−4Ｈ // Ｃ１０Ｎ 30:08 30:10

Claims (21)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 次式Ｉ （式中、Ｒ₁ は炭素原子数１ないし４のｎ−アルキル
   基、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、シクロペンチル
   基、シクロヘキシル基もしくはα−メチルベンジル基を
   表し、Ｒ₂ は炭素原子数４ないし１８の第三アルキル基
   もしくはα，α−ジメチルベンジル基を表し、Ｒ₃ は炭
   素原子数１ないし２８のアルキル基を表し、及びＲ₄ は
   メチル基もしくはエチル基を表す。但し−ＣＨＲ₃ Ｒ₄
   基は少なくとも４つの炭素原子を含む。）で表わされる
   化合物。
2. 【請求項２】 Ｒ₁ がメチル基、エチル基、ｓ−ブチル
   基もしくはシクロヘキシル基を表す請求項１記載の式Ｉ
   で表わされる化合物。
3. 【請求項３】 Ｒ₁ がメチル基もしくはｓ−ブチル基を
   表し、Ｒ₂ が炭素原子数４ないし８の第三アルキル基及
   びＲ₃ が炭素原子数１ないし２２のｎ−アルキル基を表
   す請求項１記載の式Ｉで表わされる化合物。
4. 【請求項４】 Ｒ₁ がメチル基を表す請求項１記載の式
   Ｉで表わされる化合物。
5. 【請求項５】 Ｒ₄ がメチル基を表す請求項１記載の式
   Ｉで表わされる化合物。
6. 【請求項６】 Ｒ₃ が炭素原子数８ないし２２のｎ−ア
   ルキル基を表す請求項１記載の式Ｉで表わされる化合
   物。
7. 【請求項７】 Ｒ₂ が炭素原子数４ないし８の第三−ア
   ルキル基を表す請求項１記載の式Ｉで表わされる化合
   物。
8. 【請求項８】 Ｒ₂ が第三−ブチル基を表す請求項１記
   載の式Ｉで表わされる化合物。
9. 【請求項９】 Ｒ₄ がメチル基を表す式Ｉで表わされる
   化合物とＲ₄ がエチル基を表す式Ｉで表わされる化合物
   の混合物。
10. 【請求項１０】 Ｒ₄ がメチル基を表す式Ｉで表わされ
    る化合物と、Ｒ₄ がエチル基を表す式Ｉで表わされる化
    合物の比が９９：１ないし９０：１０である請求項９記
    載の混合物。
11. 【請求項１１】 Ｒ₄ がメチル基を表す式Ｉで表わされ
    る化合物中、Ｒ₃ の鎖の長さがＲ₄ がエチル基を表す式
    Ｉで表わされる化合物のものよりも１だけ大きい請求項
    ９記載の混合物。
12. 【請求項１２】 次式 で表わされるフェノールと式ＣＨ₂ ＝ＣＨ−Ｒ₃ （式
    中、Ｒ₁ ，Ｒ₂ ，Ｒ₃ は請求項１に於いて定義されたも
    のを表す。）で表わされるα−オレフィンを反応させる
    ことにより得られる生成物。
13. 【請求項１３】 （ａ）酸化、熱もしくは化学線により
    誘導される分解を受けやすい有機物質、及び（ｂ）少な
    くとも１つの式Ｉで表わされる化合物、請求項９記載の
    混合物、もしくは請求項１２記載の生成物からなる組成
    物。
14. 【請求項１４】 成分（ａ）がポリスチレン、置換ポリ
    スチレン、ポリスチレンもしくは置換ポリスチレンのコ
    −もしくはターポリマー、ポリカーボネート、ポリエス
    テルカーボネート、ポリウレタン、ポリアミド、コポリ
    アミド、ポリアセタール、ポリフェニレンオキサイド、
    ポリオレフィン、鉱油、植物油もしくは動物油及び脂肪
    からなる群から選択される、請求項１３記載の組成物。
15. 【請求項１５】 成分（ａ）がポリスチレン、置換ポリ
    スチレン、スチレン又は置換スチレンのコ−もしくはタ
    ーポリマーからなる群から選択された基である請求項１
    ３記載の組成物。
16. 【請求項１６】 成分（ａ）が耐衝撃性ポリスチレン
    （ＩＰＳ）、スチレン−アクリロニトリルコポリマー
    （ＳＡＮ）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン
    ターポリマー（ＡＢＳ）、及びメチルメタクリレート−
    ブタジエン−スチレングラフトコポリマー（ＭＢＳ）か
    らなる群から選択された請求項１３記載の組成物。
17. 【請求項１７】 成分（ａ）がアクリロニトリル−ブタ
    ジエン−スチレンターポリマー（ＡＢＳ）である請求項
    １３記載の組成物。
18. 【請求項１８】 成分（ａ）がポリカーボネート、ポリ
    エステルカーボネート、ポリウレタン、ポリアミド、コ
    ポリアミド、ポリアセタール及びポリフェニレンオキサ
    イドからなる群から選択された請求項１３記載の組成
    物。
19. 【請求項１９】 成分（ａ）がポリオレフィンである請
    求項１３記載の組成物。
20. 【請求項２０】 熱、酸化もしくは化学線により誘導さ
    れる分解を受けやすい有機物質の安定化のために、式Ｉ
    で表わされる化合物又は請求項９記載の混合物もしくは
    請求項１２記載の生成物を使用する方法。
21. 【請求項２１】 少なくとも１種の式Ｉで表わされる化
    合物、請求項９記載の式Ｉで表わされる化合物の混合物
    もしくは請求項１２記載の生成物を、熱、酸化もしくは
    化学線により誘導される分解を受けやすい有機物質に配
    合又は適用することからなる、該物質の安定化方法。