JPH06220076A - 有機材料の安定剤としてのフェニルホスフィット - Google Patents

有機材料の安定剤としてのフェニルホスフィット

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JPH06220076A
JPH06220076A JP5285830A JP28583093A JPH06220076A JP H06220076 A JPH06220076 A JP H06220076A JP 5285830 A JP5285830 A JP 5285830A JP 28583093 A JP28583093 A JP 28583093A JP H06220076 A JPH06220076 A JP H06220076A
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tert
butyl
alkyl group
formula
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JP5285830A
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Peter Nesvadba
ネスバドバ ピーター
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Ciba Geigy AG
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 酸化、熱または光により誘発される分解に
対する有機材料の安定剤としてのフェニルホスフィット
の提供。 【構成】次式ＩまたはＩＩ： 【化１】 （式中 Ｒ，Ｒ1 ：水素原子，炭素原子数１ないし４の
アルキル基，または共にそれらが結合する炭素原子と一
緒になって３，４−デヒドロシクロヘキシリデン環を形
成し、Ｒ2 ：水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキ
ル基または、炭素原子数５ないし６のシクロアルキル
基、Ｒ3 ：炭素原子数１ないし８のアルキル基または炭
素原子数５ないし６のシクロアルキル基、Ｒ4 ，Ｒ5 お
よびＲ6 ：水素原子または炭素原子数１ないし４のアル
キル基、Ｒ4 ，Ｒ5 およびＲ6 ：１ないし４の炭素原子
を含む、Ｒ7 ，Ｒ8 ：水素原子，または一緒に付加直接
結合を形成する。）で表わされる化合物。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規フェニルホスフィッ
ト、有機材料好ましくはポリマーからなる組成物、及び
新規フェニルホスフィット、および酸化、熱もしくは光
により誘発される分解に対して、有機材料を安定化する
ための該化合物の使用に関する。
【０００２】
【従来の技術】有機ホスフィットは当業者に補助安定
剤、第二酸化防止剤およびポリオレフィン等のための加
工安定剤として、当業者に公知である；該公知ホスフィ
ット安定剤の例はＲ．Ｇａｃｈｔｅｒ／Ｈ．Ｍｕｌｌｅ
ｒ（ｅｄ），ＰｌａｓｔｉｃｓＡｄｄｉｔｉｖｅｓ Ｈ
ａｎｄｂｏｏｋ，３ｒｄ Ｅｄ．，ｐ．４７，Ｈａｎｓ
ｅｒ，Ｍｕｎｉｃｈ １９９０，および欧州特許３５６
６８８号に開示されている。
【０００３】酸化、熱もしくは光により誘発される分解
に対して、敏感な有機材料の効果的な安定剤が必要とさ
れてきた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明により該ホスフ
ィットの選択された１群が酸化、熱もしくは光により誘
発される分解に対して敏感な有機材料の安定剤としての
使用に驚くほど特に適していることが見出された。合成
ポリマーの加工安定剤として使用する前記の化合物の実
用性が特に注目されるべきである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は次式ＩまたはＩ
Ｉ
【化４】 （式中 ＲおよびＲ1 が各々独立して、水素原子または
炭素原子数１ないし４のアルキル基を表しまたは共にそ
れらが結合する炭素原子と一緒になって３，４−デヒド
ロシクロヘキシリデン環を形成し、Ｒ2 が水素原子、炭
素原子数１ないし８のアルキル基または、炭素原子数５
ないし６のシクロアルキル基を表し、Ｒ3 が炭素原子数
１ないし８のアルキル基または炭素原子数５ないし６の
シクロアルキル基を表し、Ｒ4 ，Ｒ5 およびＲ6 が各々
独立して、水素原子または炭素原子数１ないし４のアル
キル基を表し、Ｒ4 ，Ｒ5 およびＲ6 が合わせて１ない
し４の炭素原子を含み、そしてＲ7 およびＲ8 が水素原
子を表しまたは一緒になって直接結合を形成することを
表す。）で表わされる化合物に関する。
【０００６】最高８の炭素原子を有するアルキル基は枝
別れもしくは直鎖状基であり、例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第
二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、２−エチル
ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチ
ルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシ
ル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘ
プチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１
−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オク
チル基または２−エチルヘキシル基である。ＲおよびＲ
1 は好ましくはメチル基を表し、Ｒ2 およびＲ3 は好ま
しくは第三ブチル基を表す。
【０００７】３，４−デヒドロシクロヘキシリデン環は
次式
【化５】 で表わされる。
【０００８】炭素原子数５ないし６のシクロアルキル基
の例はシクロペンチル基またはシクロヘキシル基であ
る。
【０００９】Ｒ4 ，Ｒ5 およびＲ6 が各々独立して、水
素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し
また、Ｒ4 ，Ｒ5 およびＲ6 が全部で１ないし４個の炭
素原子を有する場合、それらは例えば次式
【化６】 で表わされる一般式ＩまたはＩＩ中のフェニル環上のシ
クロヘキセン−１−イル置換基を表す。
【００１０】Ｒ2 が水素原子、または炭素原子数１ない
し４のアルキル基を表し、Ｒ3 が炭素原子数１ないし４
のアルキル基を表し、Ｒ4 ，Ｒ5 およびＲ6 が水素原子
を表し、またＲ7 およびＲ8 が一緒になって直接結合を
形成する式ＩまたはＩＩの化合物が好ましい。
【００１１】ＲおよびＲ1 がメチル基を表し、Ｒ2 およ
びＲ3 が炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、ま
たＲ4 ，Ｒ5 およびＲ6 が水素原子を表す式ＩまたはＩ
Ｉの化合物が特に好ましい。
【００１２】Ｒ7 およびＲ8 が一緒になって直接結合を
表す式ＩまたはＩＩの化合物が特に興味がある。
【００１３】本発明の式Ｉおよび式ＩＩの化合物はそれ
自身公知の方法により製造される。
【００１４】例えば、次式
【化７】 で表わされる式ＩＩＩのフェノールと、式ＩＶまたはＶ
のクロロホスフィットを、適した有機、イオン化または
非イオン化、中性溶媒中で反応させることが好ましい。
この反応を好ましくは、−２０℃と溶媒の沸点温度の間
の温度に於いて塩基の存在下で実施する。
【００１５】塩基は、使用されるフェノールまたはクロ
ロホスフィットに関して化学量論量から多種多用の過剰
モルといった範囲の異なった量が使用される。幾つかの
場合、反応で形成される塩化水素は塩基により塩素原子
に変換される、それはろ過および／または適した水溶性
または固体相により洗浄することで分離される、その
間、第二水不混和性溶媒がまた使用される。乾燥のため
の濃縮または蒸発の後に、得られた有機相から残渣を再
結晶することにより、生成物の精製が都合良く行なわれ
る。
【００１６】反応を実施するのに適した溶媒は、特に、
炭化水素（例えば、メシチレン、トルエン、キシレン、
ヘキサン、ペンタンまたは他の石油エーテル画分）、ハ
ロゲン化炭化水素（例えば、ジ−またはトリクロロメタ
ン、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロ
エタン）、エーテル（例えば、ジエチルエーテル、ジブ
チルエーテルまたはテトラヒドロフラン）、更にはアセ
トニトリル、ジメチルフォルムアミド、ジメチルスルフ
ォキシドまたはＮ−メチルピロリドンである。
【００１７】適した塩は、特に第三アミン（例えばトリ
メチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン
またはピリジンである。）、水酸化物（例えば、水酸化
リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化リン）またはアル
コレート（例えばナトリウムメトキシド）である。
【００１８】水酸化物（例えば、水酸化ナトリウム、ホ
ウ化水素ナトリウムまたは水酸化リチウムアルミニウ
ム）、アルカリ金属、水酸化アルカリ金属またはナトリ
ウムメトキシドは、また式ＩＩＩのフェノレートをえる
ために使用される；式ＩＶまたはＶのクロロホスフィッ
トとの反応が起きる前に、この反応中に形成される反応
生成物（例えば、水、メタノール）が蒸留される（例え
ば、トルエンとの共沸混合物として）。
【００１９】式ＩＶおよびＶのクロロホスフィットの製
造方法が公知でありまた、例えばＨｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙ
ｌ，ｖｏｌｕｍｅ Ｅ１，ページ３７３−３７６，Ｇｅ
ｏｒｇ Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇ，Ｓｔｕｔｔｇａ
ｒｔ，１９８２，およびＨｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ，２ｎ
ｄ ｅｄｉｔｉｏｎ，ｖｏｌｕｍｅ ＸＩＩ／２，ペー
ジ４８，Ｇｅｏｒｇ Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇ，Ｓ
ｔｕｔｔｇａｒｔ，１９６４，に記載されている。
【００２０】Ｒ7 およびＲ8 が一緒になって直接結合を
形成する本発明の式Ｉおよび式ＩＩの化合物が、例えば
Organikum(Preparative Organic Chemistry), ページ28
8-298,Deutscher Verlag der Wissenschaften Berlin 1
986 に従って触媒加水分解が、例えば0 ないし100 ℃の
温度範囲の有機溶媒中に於いて、所望ならば僅かな圧力
下で、Ｒ7 およびＲ8 が水素原子である本発明の式Ｉお
よびＩＩの化合物を得るために行なわれる触媒加水分解
により反応される。使用される好ましい触媒は、炭素原
子上のパラジウム、プラチナオキサイドまたはラニーニ
ッケルである。水をまた含んでもよい適した有機溶媒
は、特にはアルコール、例えばメタノール、エタノール
またはイソプロパノール、およびテトラヒドロフラン、
ジオキサン、エチルアセテート、トルエンまたはジメチ
ルアセトアミドである。
【００２１】式中 Ｒ7 およびＲ8 が水素原子である本
発明の式Ｉおよび式ＩＩの化合物はまた、式ＩＩＩａ
【化８】 で表わされる水素化フェノールから出発物質として製造
される、例えば、適した有機、イオン化または非イオン
化溶媒中で上記の反応条件を使用した二重結合の触媒加
水分解により、上記の反応条件を使用した式ＩＶまたは
Ｖのクロロホスフィットとの反応により製造される。
【００２２】式ＩＩＩのフェノールは文献上ではほとん
ど未公知である。唯一、式ＶＩの化合物が、Ｗ．Ｄ．Ｗ
ｕｌｆｆ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．１０６，１１３２（１９８４）により複雑な方法に
より調整される。
【００２３】本発明はまた、次式ＩＩＩ
【化９】 （式中 Ｒ2 が水素原子、炭素原子数１ないし８のアル
キル基または、炭素原子数５ないし６のシクロアルキル
基を表し、Ｒ3 が炭素原子数１ないし８のアルキル基ま
たは炭素原子数５ないし６のシクロアルキル基を表し、
Ｒ4 ，Ｒ5 およびＲ6 が各々独立して、水素原子または
炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、Ｒ4 ，Ｒ5
およびＲ6 は合わせて１ないし４の炭素原子を含む。）
で表わされる化合物（但し、式中 式ＶＩ
【化１０】 で表わされる化合物を除く。）を提供する。
【００２４】式中 Ｒ2 が水素原子または炭素原子数１
ないし４のアルキル基を表し、Ｒ3 が炭素原子数１ない
し４のアルキル基を表し、およびＲ4 ，Ｒ5 およびＲ6
が、水素原子を表す式ＩＩＩの化合物が好ましい。
【００２５】Ｒ2 が第三ブチル基である式ＩＩＩの化合
物が特に好ましい。
【００２６】
【化１１】 式ＩＩＩの化合物が、例えば好ましくは少なくとも１つ
のオルト位が未置換である式ＶＩＩのフェノールと式Ｖ
ＩＩＩのシクロヘキサノンの濃縮により調製される。反
応は上昇した温度に於いて、特には２０ないし１００℃
に於いて、溶融体または溶媒中で、好ましくは僅かに低
い圧力に於いて実施される。反応は好ましくは２０ない
し８０℃、特には４０ないし６０℃の温度範囲の溶融体
または溶媒中に於いて実施される。反応は塩、例えば塩
酸、スルホン酸またはメタスルホン酸の添加により触媒
される。好ましくは、塩化水素ガスが使用される。
【００２７】本発明の式Ｉおよび式ＩＩの化合物は酸
化、熱もしくは光により誘導された分解に対する有機材
料の安定化に非常に適する。式ＩＩＩの化合物はまた、
酸化、熱もしくは光により誘導された分解に対する有機
材料の安定化にもまた適する。
【００２８】それらの材料の例は以下のものである： １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１
−エン、ポリ−４−メチルペント−１−エン、ポリイソ
プレンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィ
ン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマ
ー、ポリエチレン（所望により架橋結合できる）、例え
ば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、低密度ポリエチレ
ン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰ
Ｅ）、枝分れ低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。ポリ
オレフィン、すなわち先の段落中で例示として言及した
ようなモノオレフィンのポリマー、特にポリエチレンお
よびポリプロピレンは種々の方法、特に以下の方法によ
り製造できる： ａ）ラジカル重合（通常、高圧および高温においての） ｂ）普通表のIVｂ、Ｖｂ、VIｂまたはVIII属の金属の１
個以上を含む触媒を使用する触媒重合。これらの金属は
通常、π−配位またはσ−配位のどちらか一方が可能
な、典型的には酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、
エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルお
よび／またはアリールのような配位子の１つ以上を持
つ。これら金属錯体は遊離であるか典型的には活性化塩
化マグネシウム、塩化チタン（III ）、酸化アルミニウ
ムまたは酸化珪素のような支持体に固定化していてよ
い。これらの触媒は重合媒体中に可溶または不溶であっ
てよい。触媒はそれ自体重合において活性化でき、また
は、典型的には金属アルキル、金属水素化物、金属アル
キルハライド、金属アルキル酸化物または金属アルキル
オキサンで、該金属は周期表のIa、IIa および／または
IIIa属の元素であるような別の活性剤が使用できる。活
性剤は都合良くは、他のエステル、エーテル、アミンも
しくはシリルエーテル基により改良され得る。これら触
媒系は通常フィリップス(Phillips)、スタンダードオイ
ルインディアナ(Standard Oil Indiana)、チグラー（−
ナッタ）〔Ziegler-(Natta) 〕、ＴＮＺ〔デュポン社(D
upont)〕、メタロセンまたはシングルサイト触媒（ＳＳ
Ｃ）と称されるものである。
【００２９】２． １．に記載したポリマーの混合物、
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ
／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの異
なるタイプの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。 ３．モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニ
ルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレ
ンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）
およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合
物、プロピレン／ブト−１−エンコポリマー、プロピレ
ン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブト−１−エ
ンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレ
ン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコ
ポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン
／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコ
ポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマ
ー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エ
チレン／ビニルアセテートコポリマーおよびそれらコポ
リマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエチレン／アク
リル酸コポリマーおよびそれらの塩類（アイオノマー）
およびエチレンとプロピレンと例えばヘキサジエン、ジ
シクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンの
ようなジエンとのターポリマー；ならびに前記コポリマ
ー相互の混合物および１．に記載したポリマーとの混合
物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレン−コ
ポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニルアセテート（Ｅ
ＶＡ）コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレンアクリル酸（Ｅ
ＡＡ）コポリマー、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／
ＥＡＡおよび交互またはランダムポリアルキレン／一酸
化炭素−コポリマー；ならびに他のポリマーとこれらの
混合物、例えばポリアミド。 ４. それらの水素化変性物（例えば、粘着付与剤）およ
びポリアルキレンとデンプンの混合物を含む炭化水素樹
脂（例えば炭素原子数５ないし９）。 ５．ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）、ポ
リ−（α−メチルスチレン）。 ６．スチレンまたは、α−メチルスチレンとジエンもし
くはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／
ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／
アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アル
キルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメ
タクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／
アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポ
リマーと他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエ
ンポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポ
リマーとの高衝撃強度の混合物；およびスチレンのブロ
ックコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン／スチレ
ン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチ
レン／ブチレン／スチレン、又はスチレン／エチレン／
プロピレン／スチレン。
【００３０】７．スチレンまたはα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルコポリマーにスチレン；ポリブタジエ
ンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタアク
リロニトリル）；ポリブタジエンにスチレンおよびマレ
インイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキル
アクリレートまたはメタクリレート；エチレン／プロピ
レン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニ
トリル；ポリアルキルアクリレートまたはポリアクリル
メタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリル、ア
クリレート／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびア
クリロニトリル、並びにこれらと６）に列挙したコポリ
マーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡまたは
ＡＥＳポリマーとして知られているコポリマー混合物。 ８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、
塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホン化ポリエチ
レン、エチレンおよび塩素化エチレンのコポリマー、エ
ピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、特にハロゲ
ン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフ
ッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化
ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまた
は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。 ９．α，β−不飽和酸、およびその誘導体から誘導され
たポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタク
リレート；ブチルアクリレートとの耐衝撃性改良ポリメ
チルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリア
クリロニトリル。 10．上記９に挙げたモノマーの相互または他の不飽和モ
ノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタ
ジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリ
レートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアル
キルアクリレートまたはアクリロニトリル／ハロゲン化
ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル／アルキルメ
タクリレート／ブタジエンターポリマー。 11．不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシ
ル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポリ
マー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、
ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポ
リビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリ
ルフタレートまたはポリアリルメラミン；ならびにそれ
らと上記１．に記載したオレフィンとのコポリマー。 12．環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例
えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらとビスグリシ
ジルエーテルとのコポリマー。
【００３１】13. ポリアセタール、例えばポリオキシメ
チレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含む
ポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレ
ートまたはＭＢＳで変性させたポリアセタール。 14．ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、ならび
にポリフェニレンオキシドとポリスチレンまたはポリア
ミドとの混合物。 15. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエー
テル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成分
として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから誘
導されたポリウレタンならびにその前駆物質（ポリイソ
シアネート、ポリオールまたはプレポリマー）。 16. ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミノ
カルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリ
アミドおよびコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリ
アミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／
１２、４／６および１２／１２、ポリアミド１１、ポリ
アミド１２、ｍ−キシレン、ジアミン、およびアジピン
酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミド；ヘキサメ
チレンジアミンおよびイソフタル酸または／およびテレ
フタル酸および変性剤としてのエラストマーから製造さ
れるポリアミド、例えはポリ−２，４，４（トリメチル
ヘキサメチレン）テレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フ
ェニレンイソフタルアミド；更に、前記ポリアミドとポ
リオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマーま
たは化学的に結合またはグラフトしたエラストマーとの
ブロックコポリマー；またはこれらとポリエーテル、例
えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ルまたはポリテトラメチレングリコールとのコポリマ
ー。ＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性させたポリアミドまた
はコポリアミド；加工の間に縮合されたポリアミド（Ｒ
ＩＭ−ポリアミド系）。 17. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミドおよび
ポリベンジミダゾール。 18. ジカルボン酸およびジオールから、および/ または
ヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導
されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１, ４−ジメ
チロール−シクロヘキサンテレフタレート、およびポリ
ヒドロキシベンゾエートならびにヒドロキシ末端基を含
有するポリエーテルから誘導されたブロック−コポリエ
ーテル−エステル；およびまたポリカーボネートまたは
ＭＢＳにより改良されたポリエステル。 19. ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボネー
ト。 20. ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエ
ーテルケトン。 21．一方でアルデヒドから、および他方でフェノール、
尿素およびメラミンから誘導された架橋ポリマー、例え
ばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムア
ルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
【００３２】22．乾性もしくは非乾性アルキッド樹脂。 23．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールお
よび架橋剤としてビニル化合物とのコポリエステルから
誘導された不飽和ポリエステル樹脂および燃焼性の低い
それらのハロゲン含有変成物。 24．置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレ
ート、ウレタンアクリレートまたはポリエステル−アク
リレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。 25．メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートまた
はエポキシ樹脂により架橋されたアルキッド樹脂、ポリ
エステル樹脂およびアクリレート樹脂。 26．ポリエポ
キシド、例えばビスグリシジルエーテルから、または環
状脂肪族ジエポキシドから誘導された架橋エポキシ樹
脂。 27．天然ポリマー、例えば、セルロース、ゴム、ゼラチ
ンおよびそれらを化学変成した同族誘導体、例えば酢酸
セルロース、プロピオン酸セルロースおよび酪酸セルロ
ース、またはセルロースエーテル、例えばメチルセルロ
ース；同様にロジンおよびそれらの誘導体。 28．前述のポリマーの混合物（ポリブレンド）、例えば
ＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、
ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、Ｐ
Ｃ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／
ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯ
Ｍ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／
アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、Ｐ
ＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ。 29．純粋なモノマー化合物またはそれらの化合物の混合
物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、動物
または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エス
テル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェートま
たはトリメリテート）に基づいたオイル、脂肪およびワ
ックス、ならびにポリマー用可塑剤として、または紡糸
製剤油として用いられているいかなる重量比での合成エ
ステルと鉱油との混合物、ならびにそれら材料の水性エ
マルジョン。 30．天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えば天
然ラテックス、またはカルボキシル化スチレン−ブタジ
エンコポリマーのラテックス。
【００３３】本発明はまた、（ａ）酸化、熱もしくは光
により誘発される分解を受けやすい有機材料、及び
（ｂ）少なくとも１個の式Ｉまたは式ＩＩの化合物から
なる化合物に関する。
【００３４】本発明はまた、（ａ）酸化、熱もしくは光
により誘発される分解を受けやすい有機材料、及び
（ｂ）少なくとも１個の式ＩＩＩの化合物からなる組成
物に関する。
【００３５】好ましくは、保護されるべき有機材料は天
然、半合成または好ましくは合成有機材料である。特に
好ましくは、熱硬化性ポリマー、特にはＰＶＣまたはポ
リオレフィン、特にはポリエチレンおよびポリプロピレ
ンである。
【００３６】熱硬化の加工の間に起きる熱の作用下で
の、熱および光により誘発される分解に対する本発明の
化合物の効果が特に注目される。従って、本発明の化合
物は加工安定剤としての使用に非常に最適である。
【００３７】好ましくは、安定化される有機材料の重量
に対して、０．０１ないし１０％、例えば０．０１ない
し５％、好ましくは０．０５ないし３％、典型的には
０．０５ないし１％の式Ｉまたは式ＩＩの化合物が安定
化される有機材料に加えられる。
【００３８】本発明の組成物は式Ｉで表わされる化合物
に加えて、更に補助安定材を含むことができる、例を以
下に示す。１．酸化防止剤 １．１ アルキル化モノフェノール 、例えば２，６−ジ
−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル
−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチ
ル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−イソブチルフェノール、２，６−ジ−シクロペンチ
ル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘ
キシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオ
クタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリ
シクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジノニル−４
−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−
メチル−ウンデカ−１′−イル）−フェノール、２，４
−ジメチル−６−（１′−メチル−ヘプタデカ−１′−
イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−
メチル−トリデカ−１′−イル）−フェノールおよびそ
れらの混合物。１．２．アルキルチオメチルフェノール、 例えば２，４
−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノー
ル、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−メチルフェ
ノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−エチル
フェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノ
ニルフェノール。１．３ ハイドロキノンとアルキル化ハイドロキノン 、
例えば２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノー
ル、２，５−ジ−第三ブチル−ハイドロキノン、２，５
−ジ−第三−アミル−ハイドロキノン、２，６−ジフェ
ニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ
−第三ブチル−ハイドロキノン、２，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，
５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペ
ート。１．４ ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 、例え
ば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフ
ェノール）、２，２′−チオビス（４−オクチルフェノ
ール）、４，４′−チオビス（６−第三ブチル−３−メ
チルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブチ
ル−２−メチルフェノール）、４，４′−チオ−ビス
（３，６−ジ−第二−アミルフェノール）、４，４′−
ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−
ジスルフィド。 １．５ アルキリデンビスフェノール 、例えば２，２′
−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノ
ール）、２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−
４−エチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス
［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェ
ノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−メチル−６
−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−メチレン−
ビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２′
−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、２，２′−エチリデン−ビス（４，６−ジ−第三
ブチルフェノール）、２，２′−エチリデン−ビス（６
−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２′
−メチレン−ビス [６−（α−メチルベンジル）−４−
ノニルフェノール] 、２，２′−メチレン−ビス [６−
（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノー
ル] 、４，４′−メチレン−ビス（２，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、４，４′−メチレン−ビス（６−第
三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５
−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）
ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−
２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、
１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ
−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３
−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール
ビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−４′−ヒドロ
キシフェニル）ブチレート] 、ビス（３−第三ブチル−
４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタ
ジエン、ビス［２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロ
キシ−５′−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−
メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，
５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，
２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４
−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシ
ルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ−（５−
第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペ
ンタン。
【００３９】１．６． Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル
化合物、例えば３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチ
ル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル
−メルカプトアセテート、トリス−（３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−アミン、ビス（４
−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベン
ジル）−ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−スルフィド、イ
ソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル−メルカプトアセテート。１．７．ヒドロキシベンジル化マロネート、 例えばジオ
クタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−
２−ヒドロキシベンジル）−マロネート、ジ−オクタデ
シル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メ
チルベンジル）−マロネート、ジ−ドデシルメルカプト
エチル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）−マロネート、ビス−［４−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］
−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）−マロネート。１．８． ヒドロキシベンジル芳香族化合物、 例えば、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼ
ン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベン
ゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。１．９． トリアジン化合物、 例えば、２，４−ビス−
オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−
トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキ
シ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキ
シ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
−イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブ
チル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−
イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，
３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）
−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５
−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシ
ベンジル）−イソシアヌレート。１．１０． べンジルホスホネート、 例えばジメチル−
２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，
５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネ
ート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキ
シ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチ
ルエステルのカルシウム塩。１．１１． アシルアミノフェノール 、例えばラウリン
酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸４−ヒドロキ
シアニリド、カルバミン酸Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）オクチルエステル。１．１２． β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価
アルコールとのエステル、 例えば、メタノール、エタノ
ール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒ
ドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノー
ル、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチ
ル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ
［２．２．２］オクタン。
【００４０】１．１３． β−（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メ
タノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘ
キサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレング
リコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−
チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリ
メチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４
−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリ
オキサビシクロ［２．２．２］オクタン。１．１４． β−（３，５−ジ−シクロヘキシル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一価または
多価アルコールとのエステル、 例えばメタノール、エタ
ノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、
１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス
（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビ
ス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。１．１５． ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル酢酸の下記の一価または多価アルコールとのエ
ステル、 例えば、メタノール、エタノール、オクタデカ
ノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジ
オール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）
オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタ
デカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロ
ールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−
２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタ
ン。１．１６． β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオン酸のアミド 、例えばＮ，
Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，
Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ，
Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）ヒドラジン。２． 紫外線吸収剤および光安定剤 ２．１． ２−( ２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾト
リアゾール 、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−
ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル) フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−
５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチ
ル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−
５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチ
ロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−
ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒド
ロキシ−５’−（２’−オクチルオキシルボニルエチ
ル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシ
ルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−
第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシ
カルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ
−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−
ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエ
チル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第
三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）
カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロ
キシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、お
よび２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’
−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニ
ルベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレン−
ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−
６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−
［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニル
エチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾ
トリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエス
テル交換生成物；［Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯ（Ｃ
Ｈ2 ）3 −］2 −（式中，Ｒ＝３’−第三ブチル−４’
−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−べンゾトリアゾール−２−
イル−フェニルである。）。
【００４１】２．２． ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノ
ン、例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オ
クトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ
−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒド
ロキシ−および２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキ
シ誘導体。２．３． 置換されたおよび非置換安息香酸のエステ
ル 、例えば４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェ
ニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジ
ベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベン
ゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、
２，４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オク
タデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ゾエート、２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル
−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト。２．４． アクリレート 、例えばエチルα−シアノ−
β, β−ジフェニル−アクリレート、イソオクチルα−
シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、メチルα
−カルボメトキシ−シンナメート、メチルα−シアノ−
β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、ブチルα−
シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、メ
チルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート、
およびＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル)
−２−メチルインドリン。２．５． ニッケル化合物 ，例えば２，２′−チオビス
−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル) −フ
ェノール］のニッケル錯体，例えば１：１または１：２
錯体であって，所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタ
ノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ−エタノ
ールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジ
ブチルジチオカルバメート、例えば４−ヒドロキシ−
３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のメチルも
しくはエチルエステルのニッケル塩のようなモノアルキ
ルエステル、例えば、２−ヒドロキシ−４−メチル−フ
ェニルウンデシルケトキシムのようなケトキシム錯体ニ
ッケル錯体、所望により他の配位子を伴う１−フェニル
−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケ
ル錯体。２．６． 立体障害アミン 、例えばビス（２，２，６，
６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（２，
２，６，６−テトラメチルピペリジル）サクシネート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）
セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル
ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキ
シエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒド
ロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ′
−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ
−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合
生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−
１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，
１′−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，
５−テトラメチルピペラジノン），４−ベンゾイル−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステア
リルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５
−ジ−第三ブチル−ベンジル）マロネート、３−ｎ−オ
クチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−
トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビ
ス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ
−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）サクシネ
ート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジアミンと４−モ
ルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン
との縮合生成物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−
ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−ア
ミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、２−クロロ
−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，
６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリ
アジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エ
タンとの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル−
７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザ
スピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシ
ル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１
−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）−ピロリジン−２，５−ジオン。
【００４２】２．７． オキサミド、例えば４，４′−
ジ−オクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジ−オク
チルオキシ−５，５′−ジ−第三ブトキサニリド、２，
２′−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−第三ブトキ
サニリド、２−エトキシ−２′−エトキサニリド、Ｎ，
Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミ
ド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エトキサニ
リドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル−
５，４′−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物，および
ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物
およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの
混合物。２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，
５−トリアジン 、例えば２，４，６−トリス（２−ヒド
ロキシ−４−オクチルオキシフェニル) −１，３，５−
トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキ
シフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒド
ロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフ
ェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２
−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニ
ル) −４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，
５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシル
オキシフェニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフ
ェニル）−１，３，５−トリアジン。２−［２−ヒドロ
キシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロ
ピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメ
チル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキ
シ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロ
ピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメ
チル）−１，３，５−トリアジン。３． 金属不活性化剤 ，例えばＮ，Ｎ′−ジフェニルオ
キサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリチロイルヒドラ
ジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロ
イルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジ
リデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソ
フタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビス−フェニルヒ
ドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアミンジヒドラジド、
Ｎ，Ｎ’−ビス−（サリチロイル）−シュウ酸ジヒドラ
ジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−（サリチロイル）−チオプロピ
オン酸ジヒドラジド。４． ホスフィットおよびホスホナイト 、例えばトリフ
ェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィッ
ト、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニル
フェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、
トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエ
リトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第
三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタ
エリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第
三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィ
ット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェ
ニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、ジ−イ
ソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニ
ル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス
（２，４，６−トリス−第三ブチルフェニル）−ペンタ
エリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビ
トールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第
三ブチルフェニル）４，４′−ビフェニレンジホスホナ
イト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テ
トラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，
３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，
８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベン
ズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス
（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）メチル
ホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチ
ルフェニル）エチルホスフィット。
【００４３】５． 過酸化物スカベンジャー、例えばβ
−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸
亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト
ールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネ
ート。６． ポリアミド安定剤 、例えばヨウ化物および／また
はリン化合物と組合せた銅塩、および二価マンガンの
塩。 ７． 塩基性補助安定剤 、例えばメラミン、ポリビニル
ピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレー
ト、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミ
ド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩および
アルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸カルシュウム
塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸マグネシュウム塩、
ステアリン酸マグネシュウム塩、リシノール酸ナトリウ
ム塩およびパルミチン酸カルシュウム塩、カテコールア
ンチモン塩およびカテコール錫塩。８． 核剤 、例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン
酸、ジフェニル酢酸。９． 充填剤および強化剤 、例えば炭酸カルシウム、ケ
イ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タルク、カオリン、
雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カー
ボンブラック、グラファイト。10. その他の添加剤 、例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、
顔料、光沢剤、増白剤、難燃剤、静電防止剤および液体
発泡剤。11. ベンゾフラノンおよびインドリノン 、例えば米国特
許第４３２５８６３号、米国特許第４３３８２４４号ま
たは米国特許第５１７５３１２号、もしくは3-[4-(2-ア
セトキシエトキシ) フェニル]-5,7-ジ- 第三ブチル- ベ
ンゾフラン-2- オン5,7-ジ- 第三ブチル-[4-(2- ステア
ロイルオキシエトキシ) フェニル] ベンゾフラン-2- オ
ン、3,3'- ビス[5,7- ジ- 第三ブチル-3-(4[2-ヒドロキ
シエトキシ] フェニル) ベンゾフラン-2- オン] 、5,7-
ジ-第三ブチル-3-(4-エトキシフェニル) ベンゾフラン-
2- オン、 3-(4-アセトキシ-3,5- ジメチルフェニル)-
5,7-ジ- 第三ブチル- ベンゾフラン-2- オン、3-(3,5-
ジメチル-4- ピバロキシフェニル)-5,7-ジ- 第三ブチル
- ベンゾフラン-2- オン。
【００４４】補助安定剤は、表１１に記載されたベンゾ
フランを除いて、例えば、安定化される材料の総重量に
対して、０．０１ないし１０％の濃度で添加される。
【００４５】他の好ましい組成物は更に、成分（ａ）お
よび式Ｉまたは式ＩＩの化合物に加えて、他の添加剤、
特にはフェノール性酸化防止剤、光安定剤または加工安
定剤からなる。
【００４６】特に好ましい添加剤はフェノール性酸化防
止剤（表の項目１）、立体障害アミン（表の項目２．
６）、ホスフィットおよびホスホナイト（表の項目４）
および過酸化物駆除化合物（表の項目５）である。
【００４７】また特に好ましい補助添加剤（安定剤）
は、例えば、米国特許第４３２５８６３号、米国特許第
４３３８２４４号または米国特許第５１７５３１２号に
開示されているベンゾフラン−２−オンである。
【００４８】該ベンソフラン−２−オンの例は次式
【化１２】 〔式中 Ｒ11はフェニル基または全部で多くとも１８の
炭素原子を有する１ないし３のアルキル基により置換さ
れたフェニル基、１ないし１２の炭素原子を有するアル
コキシ基、２ないし１８の炭素原子または塩素原子を有
するアルコキシカルボニル基を表し；Ｒ1 2 は水素原子
を表し；Ｒ1 4 は水素原子、１ないし１２の炭素原子を
有するアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基または塩素原子を表し；Ｒ1 3 はＲ1 2 またはＲ1 4
の意味を有し、または次式
【化１３】 （式中 Ｒ1 6 は水素原子、炭素原子数１ないし１８の
アルキル基、酸素原子または硫黄により中断された炭素
原子数２ないし１８のアルキル基、炭素原子を合計で３
ないし１６有するジアルキルアミノアルキル基、シクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基または全部
で最高でも１８の炭素原子を有する１ないし３のアルキ
ル基により置換されたフェニル基を表し；ｎは０，１ま
たは２を表し；置換基Ｒ1 7 は、各々独立して水素原
子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基、フェニル基、全部で最高で
も１６炭素原子を有する１または２のアルキル基により
置換されたフェニル基、式
【化１４】 で表わされる基を表しまたは結合する窒素原子と一緒に
なってピペリジンまたはモルヒリン基を表す。）で表わ
される基を表し；ｍは１ないし１８を表し；Ｒ2 0 は水
素原子、炭素原子数１ないし２２のアルキル基または５
ないし１２の炭素原子を有するシクロアルキル基を表
し；Ａは窒素原子、酸素原子または硫黄により中断され
た炭素原子数２ないし２２のアルキレン基を表し；Ｒ
1 8 は水素原子、１ないし１８の炭素原子を有するアル
キル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニ
ル基、全部で最高でも１６の炭素原子を有する炭素原子
数１ないし２のアルキル基、またはベンジル基を表す；
Ｒ1 9 は１ないし１８の炭素原子を有するアルキル基を
表し；Ｄは−Ｏ−，−Ｓ−，−ＳＯ−，−ＳＯ2 −また
は−Ｃ（Ｒ2 1 ）2 −を表し；置換基Ｒ2 1 は各々独立
して、水素原子、炭素原子数１ないし１６のアルキル
基、全部で１ないし１６の炭素原子を有する２つのＲ
2 1 を表し、Ｒ2 1 は更にフェニル基または次式
【化１５】 （式中 ｎ、Ｒ1 6 およびＲ1 7 は前に定義されたもの
を表す。）で表わされる基を表し、Ｅは次式
【化１６】 （式中 Ｒ11，Ｒ1 2 およびＲ1 4 は前に定義されたも
のを表す。）で表わされる基を表し；およびＲ1 5 は水
素原子、１ないし２０の炭素原子を有するアルキル基、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、塩素原子または
次式
【化１７】 （式中 Ｒ1 6 およびＲ1 7 は前に定義されたものを表
す。）で表わされる基を表し、またはＲ1 5 はＲ1 4 と
一緒にテトラメチリデン基を表す。〕で表わされる化合
物である。
【００４９】好ましい例は、Ｒ1 3 が水素原子、１ない
し１２の炭素原子を有するアルキル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、塩素原子または次式
【化１８】 （式中 ｎ、Ｒ1 6 、Ｒ1 7 、ＤおよびＥは前に定義さ
れたものを表し、Ｒ1 6は特に水素原子、１ないし１８
の炭素原子を有するアルキル基、シクロペンチル基また
はシクロヘキシル基を表す。）で表わされる基を表すベ
ンゾフラン−２−オンである。
【００５０】好ましい例は更には、Ｒ11がフェニル基ま
たは全部で最高でも１２の炭素原子を有する１もしくは
２のアルキル基により置換されたフェニル基を表し；Ｒ
1 2が水素原子を表し；Ｒ1 4 が水素原子または１ない
し１２の炭素原子を有するアルキル基を表し；Ｒ1 3 が
水素原子、１ないし１２の炭素原子を有するアルキル
基、次式
【化１９】 で表わされる基を表し；Ｒ1 5 は水素原子、１ないし２
０の炭素原子数を有するアルキル基、次式
【化２０】 で表わされる基を表し、またはＲ1 5 はＲ1 4 と一緒に
テトラメチレン基を形成し、ｎ，Ｒ1 6 ，Ｒ1 7 ，Ｄお
よびＥが前に定義されたものを表すベンゾフラン−２−
オンである。
【００５１】特に興味のあるものはまた、Ｒ11がフェニ
ル基を表し；Ｒ1 3 が水素原子、１ないし１２の炭素原
子を有するアルキル基または−Ｄ−Ｅを表し；Ｒ1 2 お
よびＲ1 4 が各々独立して、水素原子または１ないし４
の炭素原子を有するアルキル基を表し；およびＲ1 5 が
１ないし２０の炭素原子を有するアルキル基を表し、Ｄ
およびＥが前に定義されたものを表すベンゾフラン−２
−オンである。
【００５２】特に興味のあるものはまた、Ｒ11がフェニ
ル基を表し；Ｒ1 3 が１ないし４の炭素原子を有するア
ルキル基または−Ｄ−Ｅ−を表し；Ｒ1 2 およびＲ1 4
が水素原子を表し；およびＲ1 5 が１ないし４の炭素原
子を有するアルキル基、シクロペンチル基またはシクロ
ヘキシルを表し、Ｄが−Ｃ（Ｒ2 1 ）2 −の基を表しお
よびＥは次式
【化２１】で表わされる基を表し、置換基Ｒ2 1 は他と
は同一かもしくは異なることを表し、また各々は１ない
し４の炭素原子を有するアルキル基を表し、またＲ11，
Ｒ12 ，Ｒ1 4 およびＲ1 5 は前に定義されたものを表
すベンゾフラン−２−オンである。
【００５３】補助添加剤、特には安定剤、例えば前記さ
れたベンゾフラン−２−オンの量は幅広い範囲で変化し
うる。例えば、本発明の組成物の重量％に対して０．０
００５ないし１０，好ましくは０．００１ないし５，特
には０．０１ないし２重量％存在する。
【００５４】重合性、有機材料中への式Ｉまたは式ＩＩ
の化合物、および所望ならば、他の添加剤の混合は、公
知の方法によって、例えば成形前または成形中にまた
は、溶解または分散された化合物を重合性、有機材料に
適用し、適当ならば続いて溶媒をゆっくり蒸発させるこ
とにより、行われる。式Ｉまたは式ＩＩの化合物はまた
それらを含むマスターバッチの形態で安定化される材料
に、例えば２．５ないし２５重量％の濃度で添加され
る。
【００５５】式Ｉまたは式ＩＩの化合物はまた重合の前
もしくは最中に、または架橋の前に添加することも可能
である。
【００５６】式Ｉまたは式ＩＩの化合物は純粋な形態ま
たはワックス状、油状もしくはポリマー封入の形態で材
料中に混合できる。
【００５７】式Ｉまたは式ＩＩの化合物は安定化される
ポリマー上に噴霧することもできる。それらは他の添加
剤（代表的には上述した慣用の添加剤）またはそれらの
融解物を希釈できるので、これらはまたこれらの添加剤
と一緒に安定化されるポリマーに噴霧できる。重合触媒
の失活の間の噴射は特に、有効である、その場合噴射は
失活に対して使用される蒸気に効果がある。
【００５８】粒状重合ポリオレフィンの場合には、例え
ば、適当ならば他の添加剤と一緒に、式Ｉまたは式ＩＩ
の化合物を噴霧により適用することは、有利である。
【００５９】従って、材料は幅広い形態で、例えば、フ
ィルム、繊維、テープ、成形材料、形材としてまたはペ
イントのバインダー、接着材またはセメントとして使用
される。
【００６０】既に前記したように、保護される有機材料
は好ましくは、有機、特には合成、ポリマーである。こ
れらの中で、保護されている材料は特に都合良くは、熱
硬化性材料、特にはポリオレフィンである。加工安定剤
（熱安定剤）としての式Ｉまたは式ＩＩの化合物の優秀
な有効性は特に注目すべきである。終りに向かい、それ
らは都合良くは、その加工の前または間にポリマーに添
加される。しかしながら、また他のポリマー（例えばエ
ラストマー）または分解、例えば光により誘発されるま
たは熱−酸化分解といった分解に対する潤滑剤または作
動液を安定化するこが可能である。エラストマーは、上
記の可能な有機材料の表を参照せよ
【００６１】適した潤滑剤および作動液は例えば、鉱油
または合成オイルまたはそれらの混合物に基ずいてい
る。潤滑剤は当業者に公知でありまた関連した技術文献
に記載されている、例えばDieter Klamann,■■Schmier
stoffe und verwandte Produke''(Verlag Chemie,Weinh
eim 1982),Schewe-Kobeck 、■■Das Schmiermittel-Ta
schenbuch''(Dr.Alfred Huthig-Verlag,Heidelberg,197
4)および■■Ullmanns Enzyklopadie der technischen
Chemie''vol.13, ページ85-94(Verlag Chemie,Weinheim
1977)である。
【００６２】従って、本発明の好ましい具体例は酸化、
熱もしくは光により誘発される分解に対する有機材料の
安定化のための式Ｉまたは式ＩＩの化合物の使用であ
る。
【００６３】本発明の式Ｉまたは式ＩＩの化合物は好ま
しくは熱硬化性ポリマーの加工安定剤（熱安定剤）とし
て使用される。
【００６４】本発明はまた、酸化、熱または光により誘
発される分解に対する有機材料の安定化の方法であっ
て、式Ｉまたは式ＩＩの化合物の少なくとも１つを材料
に混合または材料に適用することからなる方法を提供す
ることである。
【００６５】次の実施例がより詳細に本発明を示す。部
もしくは％は重量部を示す。
【００６６】実施例１：２，４−ジ−第三ブチル−６−
（シクロヘキセン−１−イル）フェノール（化合物（１
０１）、表１） ２，４−ジ−第三−ブチルフェノール２４．７５ｇ（１
２０ｍｍｏｌ）およびシクロヘキサノン２．９５ｇ（３
０．０ｍｍｏｌ）を６０℃に於いて溶融する。そして溶
融体を４５℃に冷却し、塩化水素ガスで飽和し、そして
溶融体を４５℃において２４時間攪拌する。メタノール
５０ｍｌが添加され、そして反応生成物が氷／水で冷却
される。結晶化生成物がろ過されそして少量の冷たいメ
タノールにより洗浄され４．５５ｇの生成物を得る。ろ
過物は真空ロータリーエバポレーターにより濃縮され、
そして過剰の２，４−ジ−第三−ブチルフェノールが高
真空中で蒸留される。メタノール１０ｍｌからの残渣の
結晶化から他の生成物１．７５ｇを得る。従って、２，
４−ジ−第三−ブチル−６−（シクロヘキセン−１−イ
ル）フェノール６．３ｇ（７３％），融点１０２−１０
４℃（化合物（１０１），表１）が得られる。実施例１
に類似して、６−（シクロヘキセン−１−イル）−２−
第三−ブチル−４−メチルフェノール（１０２）が出発
物質として２−第三−ブチル−４−メチルフェノールか
ら調製される。化合物（１０２）の精製が希釈系として
1:9 のジクロロメタン／ヘキサンを使用したシリカゲル
上のクロマトグラフィーにより達成される。 表１
【表１】
【００６７】実施例２：２−〔６−（シクロヘキセン−
１−イル）−２−第三−ブチル−４−メチル−フェノキ
シ〕−５，５−ジメチル−１，３，２−ジオキサホスホ
リナン（化合物（２０１），表２） ２−クロロ−５，５−ジメチル−１，３，２−ジオキサ
ホスホリナン４．８５ｇ（２９．０ｍｍｏｌ）が約１５
分間以上６−（シクロヘキセン−１−イル）−２−第三
−ブチル−４−メチルフェノール（化合物（１０２），
実施例１）６．６ｇ（２７．０ｍｍｏｌ）およびメスチ
レン（１，３，５−トリメチルベンゼン）２５ｍｌ中の
トリエチルアミン４．０ｍｌ（２９．０ｍｍｏｌ）の溶
液に滴下される。そして反応混合物が１８時間還流、冷
却、ろ過され、そしてろ過物が真空ロータリーエバポレ
ータ上で濃縮される。乾燥アセトニトリルからの残渣の
結晶化より２−〔６−（シクロヘキセン−１−イル）−
２−第三−ブチル−４−メチル−フェノキシ〕−５，５
−ジメチル−１，３，２−ジオキサホスホリナン５．８
ｇ（５７％），融点９７−１０２℃（化合物（２０
１），表２）が得られる。実施例２に類似して、化合物
（２０２）（表２）が出発物質としての２，４−ジ−第
三−ブチル−６−（シクロヘキセン−１−イル）フェノ
ール（化合物（１０１），実施例１）から得られる。化
合物（２０３）（表２）が２−クロロ−５，５−ジメチ
ル−１，３，２−ジオキサホスホリナンに代わって２当
量の２，４−ジ−第三−ブチル−６−（シクロヘキセン
−１−イル）フェノールおよび，３，９−ジクロロ−
２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジフォスフ
ァスピロ〔５．５〕ウンデカンから得られる。 表２
【表２】
【００６８】実施例３：多重押出におけるポリプロピレ
ンの安定化 登録商標イルガノックス１０７６（Irganox)ｎ−オクタ
デシル（３−［３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル］プロピオネート）、０．０１５％で予め安
定化されたポリプロピレン粉末（登録商標モプレン（Mo
plen)FL S20)（２３０℃および２．１６ｋｇで測定され
たメルトインデックス３．２）１．３ｋｇを、登録商標
イルガノックス１０１０（Irganox)〔ペンタエリトリト
ールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕０．０５％、ス
テアリン酸カルシウム０．０５％、〔登録商標ＤＨＴ
４Ａ、共和化学工業（株）［Ｍｇ4.5 Ａｌ2 （ＯＨ）13
ＣＯ3 ・３．５Ｈ2 Ｏ］〕０．０３％および表２の化合
物０．０５％と混合する。そして混合物を直径２０ｍ
ｍ、および長さ４００ｍｍのシリンダーの押出機で、１
００回転／分に於いて、以下の温度にセットされた３加
熱帯：２６０℃、２７０℃および２８０℃で押し出す。
押出物を水浴を通過させることにより冷却し、次に粉砕
する。粉砕物を繰り返し押し出す。３回の押出の後メル
トインデックスを測定する（２３０℃，２．１６ｋｇに
おいて）。メルトインデックスの増加は著しい連鎖崩
壊、即ち乏しい安定化を示す。結果を表３にまとめる。
【００６９】実施例４：加工中のポリエチレンの安定化 ポリエチレン粉末〔登録商標ルポレン５２６０Ｚ（Lupo
len)〕１００部をペンタエリトリトールテトラキス［３
−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート］０．０５部、および表２からの安
定剤０．１部と混合し、混合物をブラベンダープラスト
グラフを用いて２２０℃および５０回転／分で混練す
る。この期間中、混練に対する抵抗を連続的にトルクと
して記録する。混練時間中、長期間に対して定常に保持
した後、ポリマーは架橋を開始し、それはトルクの急激
な増加により測定できる。表４に、観察されたトルクの
実質的増加までの時間が安定剤の効果の尺度として示さ
れている。より長い時間が、より良好な安定剤の効果を
示す。

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 次式ＩまたはＩＩ 【化１】 （式中 ＲおよびＲ1 は各々独立して、水素原子または
    炭素原子数１ないし４のアルキル基を表しまたは共にそ
    れらが結合する炭素原子と一緒になって３，４−デヒド
    ロシクロヘキシリデン環を形成し、Ｒ2 は水素原子、炭
    素原子数１ないし８のアルキル基または、炭素原子数５
    ないし６のシクロアルキル基を表し、Ｒ3 は炭素原子数
    １ないし８のアルキル基または炭素原子数５ないし６の
    シクロアルキル基を表し、Ｒ4 ，Ｒ5 およびＲ6 は各々
    独立して、水素原子または炭素原子数１ないし４のアル
    キル基を表し、Ｒ4 ，Ｒ5 およびＲ6 は合わせて１ない
    し４の炭素原子を含むことを表し、およびＲ7 およびＲ
    8 は水素原子を表しまたは一緒になって直接結合を形成
    する。）で表わされる化合物。
  2. 【請求項２】Ｒ2 が水素原子、または炭素原子数１ない
    し４のアルキル基を表し、Ｒ3 が炭素原子数１ないし４
    のアルキル基を表し、Ｒ4 ，Ｒ5 およびＲ6 が水素原子
    を表し、およびＲ7 およびＲ8 が一緒になって直接結合
    を形成する請求項１記載の化合物。
  3. 【請求項３】ＲおよびＲ1 がメチル基を表し、Ｒ2 およ
    びＲ3 が炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、お
    よびＲ4 ，Ｒ5 およびＲ6 が水素原子を表す請求項１記
    載の化合物。
  4. 【請求項４】 Ｒ7 およびＲ8 が一緒になって直接結合
    を形成する請求項１記載の化合物。
  5. 【請求項５】ａ）酸化、熱もしくは光により誘発される
    分解を受ける有機材料、及び ｂ）少なくとも１個の請求項１記載の式Ｉまたは式ＩＩ
    の化合物からなる組成物。
  6. 【請求項６】 成分（ａ）および（ｂ）の外に、付加的
    に他の添加剤を含有する請求項５記載の組成物。
  7. 【請求項７】 他の添加剤として、フェノール性酸化防
    止剤、光安定剤または加工安定剤からなる請求項６記載
    の組成物。
  8. 【請求項８】 他の添加剤として、少なくとも１個のベ
    ンゾフラン−２−オンタイプの化合物を含む請求項６記
    載の組成物。
  9. 【請求項９】 成分（ａ）として、天然、半合成または
    合成ポリマーを含む請求項５記載の組成物。
  10. 【請求項１０】 成分（ａ）として、熱可塑プラスチッ
    クポリマーを含む請求項５記載の組成物。
  11. 【請求項１１】 成分（ａ）として、ポリオレフィンを
    含む請求項５記載の組成物。
  12. 【請求項１２】 成分（ａ）として、ポリエチレンまた
    はポリオレフィンを含む請求項５記載の組成物。
  13. 【請求項１３】 次式ＩＩＩ 【化２】 （式中 Ｒ2 は水素原子、炭素原子数１ないし８のアル
    キル基または、炭素原子数５ないし６のシクロアルキル
    基を表し、Ｒ3 は炭素原子数１ないし８のアルキル基ま
    たは炭素原子数５ないし６のシクロアルキル基を表し、
    Ｒ4 ，Ｒ5 およびＲ6 は各々独立して、水素原子または
    炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、Ｒ4 ，Ｒ5
    およびＲ6 は合わせて１ないし４の炭素原子を含む。）
    で表わされる化合物。但し、式中 式ＶＩ 【化３】 で表わされる化合物を除く。
  14. 【請求項１４】 式中 Ｒ2 は水素原子または炭素原子
    数１ないし４のアルキル基を表し、Ｒ3 が炭素原子数１
    ないし４のアルキル基を表し、およびＲ4 ，Ｒ5 および
    Ｒ6 が、水素原子を表す請求項１３記載の化合物。
  15. 【請求項１５】 Ｒ2 が第三ブチル基を表す請求項１３
    記載の化合物。
  16. 【請求項１６】ａ）酸化、熱もしくは光により誘発され
    る分解を受ける有機材料、及び ｂ）少なくとも１個の請求項１３記載の式ＩＩＩの化合
    物からなる組成物。
  17. 【請求項１７】 成分（ａ）として、天然、半合成また
    は合成ポリマーを含む請求項１６記載の組成物。
JP5285830A 1992-10-21 1993-10-21 有機材料の安定剤としてのフェニルホスフィット Pending JPH06220076A (ja)

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