JPH0616675A - 新規セフェム化合物およびその塩 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 一般式： ［式中、Ｒ^１はアミノ基または保護されたアミノ基、Ｒ
^２は低級アルキル基、低級アルケニル基または低級アル
キルチオ低級アルキル基、Ｒ^３は水素または低級アルケ
ニル基、Ｒ^４は （式中、Ｒ^５は水素または低級アルキル基、Ｒ^６は低級
アルキル基、低級アルコキシ基またはシクロ低級アルコ
キシ基）等］で示されるセフェム化合物およびその塩。 【効果】この化合物は強い抗菌作用を発揮してグラム陽
性菌およびグラム陰性菌を含む広汎な病原菌の発育を阻
止する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は新規セフェム化合物お
よび医薬として許容されるその塩に関する。さらに詳細
にはこの発明は、抗菌作用を有する新規セフェム化合物
および医薬として許容されるその塩に関する。すなわち
この発明の目的は、多くの病原菌に対して有効な新規セ
フェム化合物および医薬として許容されるその塩を提供
することである。

【０００２】

【発明の構成】目的とするセフェム化合物は新規であ
り、下記一般式で示すことができる。式： ［式中、Ｒ^１はアミノ基または保護されたアミノ基、Ｒ
^２は低級アルキル基、低級アルケニル基または低級アル
キルチオ低級アルキル基、Ｒ^３は水素または低級アルケ
ニル基、Ｒ^４は （式中、Ｒ^５は水素または低級アルキル基、Ｒ^６は低級
アルキル基、低級アルコキシ基またはシクロ低級アルコ
キシ基）、または （式中、Ｒ^７は低級アルキル基）、 但し、（ｉ）Ｒ^２がメチル基かつＲ^３が水素の場合、Ｒ
^６はシクロ低級アルコキシ基である。 （ｉｉ）Ｒ^２がメチル基かつＲ^３が低級アルケニル基の
場合、Ｒ^６は低級アルキル基ではない。 （ｉｉｉ）Ｒ^２がエチル基かつＲ^３が低級アルケニル基
の場合、Ｒ^６は第三級ブチル基ではない。］

【０００３】この発明の新規セフェム化合物は下記反応
式で説明される製造法により製造することができる。製造法 （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ前と同
じ意味、Ｘは適当な脱離基を意味する）。目的化合物
（Ｉ）の好適な医薬として許容される塩は、慣用の無毒
性の塩すなわち各種塩基との塩ならびに酸付加塩を挙げ
ることができる。より具体的には、アルカリ金属塩（例
えば、ナトリウム塩、カリウム塩，セシウム塩等）、ア
ルカリ土類金属塩（例えば、カルシウム塩、マグネシウ
ム塩等）、アンモニウム塩のような無機塩基との塩、有
機アミン塩（例えば、トリエチルアミン塩、ピリジン
塩、ピコリン塩、エタノールアミン塩、トリエタノール
アミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ′−ジベ
ンジルエチレンジアミン塩等）のような有機塩基との
塩、無機酸付加塩（例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸
塩、リン酸塩等）、有機カルボン酸付加塩または有機ス
ルホン酸付加塩（例えば、ギ酸塩、酢酸塩、トリフルオ
ロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸
塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩
等）、塩基性アミノ酸または酸性アミノ酸との塩（例え
ば、アルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸等）等
が挙げられる。

【０００４】この明細書の以上および以下の記載におい
て、この発明の範囲内に包含される種々の定義の適切な
例と説明とを以下詳細に説明する。「低級アルキル基」
とは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、ネオペンチ
ル、ヘキシルのような直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数
１ないし６のアルカンの残基を意味し、その好ましい例
としてはＣ_１−Ｃ_４アルキル基が挙げられる。「保護さ
れたアミノ基」の好適な「アミノ保護基」としては、例
えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ピバロイル、
ヘキサノイル等の低級アルカノイル基、例えばクロロア
セチル、ブロモアセチル、ジクロロアセチル、トリフル
オロアセチル等のモノ（もしくはジもしくはトリ）ハロ
（低級）アルカノイル基、例えばメトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、第三級ブ
トキシカルボニル、第三級ペンチルオキシカルボニル、
ヘキシルオキシカルボニル等の低級アルコキシカルボニ
ル基、例えばアリルオキシカルボニル等の低級アルケニ
ルオキシカルボニル基、カルバモイル基、例えばベンゾ
イル、トルオイル、ナフトイル等のアロイル基、例えば
フェニルアセチル、フェニルプロピオニル等のアル（低
級）アルカノイル基、例えばフェノキシカルボニル、ナ
フチルオキシカルボニル等のアリールオキシカルボニル
基、例えばフェノキシアセチル、フェノキシプロピオニ
ル等のアリールオキシ（低級）アルカノイル基、例えば
フェニルグリオキシロイル、ナフチルグリオキシロイル
等のアリールグリオキシロイル基、例えばベンジルオキ
シカルボニル、フェネチルオキシカルボニル、ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル等の、適当な置換基を有し
てもよいアル（低級）アルコキシカルボニル基、等のア
シル基、例えばベンジリデン、ヒドロキシベンジリデン
等の置換されたまたは非置換アル（低級）アルキリデン
基、例えばベンジル、フェネチル、ベンズヒドリル、ト
リチル等のモノ（またはジまたはトリ）フェニル（低
級）アルキル基のようなアル（低級）アルキル基等が挙
げられ、それらの中でより好ましい例としては、Ｃ_１−
Ｃ_４アルコキシカルボニル基、Ｃ_２−Ｃ_４アルケニルオ
キシカルボニル基、ニトロ基を有していてもよいアル
（Ｃ_{１ −Ｃ４}）アルコキシカルボニル基があげられ、最
も好ましい例としてはメトキシカルボニル基、アリルオ
キシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基が挙げ
られる。

【０００５】好適な「低級アルキルチオ低級アルキル
基」の好適な「低級アルキル」部分としては、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第三級ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル等が挙げられる。適当な「脱離
基」としては、ハロゲン等が挙げられる。好適な「ハロ
ゲン」としては、塩素、臭素、フッ素および沃素が挙げ
られる。好適な「低級アルケニル基」としては、ビニル
基、アリル基、１−プロペニル基、１（または２または
３）−ブテニル基、１（または２または３または４）−
ペンテニル基、１（または２または３または４または
５）−ヘキセニル基等が挙げられる。好適な「低級アル
コキシ基」としては、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ブトキシ、第三級ブトキシ、ペン
チルオキシ、ヘキシルオキシなどのような直鎖または分
岐鎖アルコキシ基が挙げられる。好適な「シクロ低級ア
ルコキシ基」としては、シクロプロピルオキシ基、シク
ロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘ
キシルオキシ基等が挙げられる。

【０００６】この発明の，目的化合物（Ｉ）の製造法を
以下詳細に説明する。製造法 化合物（Ｉ）またはその塩は、化合物（ＩＩ）もしくは
カルボキシ基におけるその反応性誘導体またはその塩
を、化合物（ＩＩＩ）と反応させることにより製造する
ことができる。化合物（ＩＩ）のカルボキシ基における
好適な反応性誘導体としては、例えば酸塩化物、酸臭化
物等の酸ハロゲン化物等のようなカルボキシ基のエステ
ル化に適用され得る常用のものが挙げられる。化合物
（ＩＩ）の好適な塩は化合物（Ｉ）について例示したも
のを参照すればよく、例えば、ナトリウム塩、カリウム
塩，セシウム塩等のアルカリ金属塩、例えば、カルシウ
ム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩のような
金属塩、アンモニウム塩等；有機塩、その例として、例
えば、トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリ
ジン塩、プロカイン塩、ピコリン塩、ジエタノールアミ
ン塩、トリエタノールアミン塩、ジシクロヘキシルアミ
ン塩、Ｎ，Ｎ′−ジベンジルエチレンジアミン塩、Ｎ−
メチルグルカミン塩、トリス（ヒドロキシメチルアミ
ノ）メタン塩、フェニルエチルベンジルアミン塩、ジベ
ンジルエチレンジアミン塩、１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］ウンデカ−７−エン等の有機アミン塩
等；および例えば、アルギニン、リジン等の塩基性アミ
ノ酸との塩等が挙げられる。この発明は通常、例えばリ
チウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、例え
ばカルシウム等のアルカリ土類金属、例えば水素化ナト
リウム等のアルカリ金属水素化物、例えば水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、例え
ば水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、例
えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭
酸塩、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等
のアルカリ金属炭酸水素塩、例えばナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウム第三級ブトキシド
等のアルカリ金属アルコキシド、例えば酢酸ナトリウム
等のアルカリ金属アルカン酸塩、例えばトリエチルアミ
ン等のトリアルキルアミン、例えばピリジン、ルチジ
ン、ピコリン等のピリジン類、キノリン、１，８−ジア
ザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン等のよう
な無機塩基および有機塩基の存在下に行われる。反応は
通常、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロ
ホルム、四塩化炭素、塩化メチレン、塩化エチレン、テ
トラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセ
トアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシドのような慣用の溶媒中またはこれらの混合物
中で行われるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれ
ばその他いかなる有機溶媒中でも反応を行うことができ
る。反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ない
し加温下に反応が行われる。上記製造法によって得られ
る化合物は、抽出、沈殿、分別結晶、再結晶、クロマト
グラフィーといった常法により、分離、または精製され
る。このようにして得られる化合物（Ｉ）は定法にした
がって医薬として許容されるその塩に変化させることが
できる。

【０００７】この発明の目的化合物（Ｉ）および医薬と
して許容されるその塩は新規化合物であり、強い抗菌作
用を発揮してグラム陽性菌およびグラム陰性菌を含む広
汎な病原菌の生育を阻止し、さらにまた経口投与によっ
て高吸収性および高排出性を示す。したがってこれら
は、とりわけ経口投与用の抗菌薬として有用である。治
療または予防のためには、この発明の目的化合物（Ｉ）
は、経口投与、非経口投与および外用投与に適した有機
もしくは無機固体状もしくは液状のような医薬として許
容される担体とともに前記化合物を有効成分として含有
する慣用の医薬製剤の形で使用される。医薬製剤は錠
剤、糖衣錠、軟膏、カプセルまたは坐剤のような固体状
であってもよく、また溶液、懸濁液またはエマルジョン
のような液状であってもよい。必要に応じて上記製剤中
に助剤、安定剤、湿潤剤、もしくは乳化剤、緩衝液およ
びその他、乳糖、フマル酸、クエン酸、酒石酸、ステア
リン酸、マレイン酸、コハク酸、リンゴ酸、ステアリン
酸マグネシウム、白土、ショ糖、コーンスターチ、タル
ク、ゼラチン、寒天、ペクチン、落花生油、オリーブ
油、カカオ脂、エチレングリコールなどのような慣用添
加剤が含まれていてもよい。化合物（Ｉ）の投与量は、
患者の年齢、条件、疾患の種類、使用する化合物（Ｉ）
の種類などによって変化するが、この発明による化合物
は平均１回投与量約１０ｍｇ、５０ｍｇ、１００ｍｇ、
２５０ｍｇ、５００ｍｇおよび１０００ｍｇの投与で病
原菌感染症治療に有効である。一般的には１日あたり１
ｍｇ／個体と約６０００ｍｇ／個体との間の量またはそ
れ以上の量を患者に投与すればよい。

【０００８】以下、製造例および実施例に従ってこの発
明をさらに詳細に説明する。製造例１−（１） Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３．９５ｍｌ）および
オキシ塩化燐（４．７２ｍｌ）のテトラヒドロフラン
（７０ｍｌ）中から調整したビルスマイヤー試薬に、２
−（２−ホルミルアミノチアゾール−４−イル）−２−
プロポキシイミノ酢酸（１２．０ｇ）を０℃で加え、混
合物を０〜５℃で１時間攪拌する。７−アミノ−３−ビ
ニル−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル塩酸塩（１８．２ｇ）とＮ−（トリメチルシリ
ル）アセトアミド（３３．４ｇ）の酢酸エチル（１５０
ｍｌ）溶液に活性酸溶液を−３０℃で加え、混合物を−
３０〜−１０℃で３０分間攪拌する。混合物を冷水、酢
酸エチルおよびテトラヒドロフランの混合物中に注ぎ、
炭酸水素ナトリウム飽和水溶液でｐＨ７に調整する。分
取した有機層を水および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去する。残渣を酢酸エ
チルで粉砕して、７−［２−（２−ホルミルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−（プロポキシイミノ）アセト
アミド］−３−ビニル−３−セフェム−４−カルボン酸
ジフェニルメチルエステル（シン異性体）（１８．８
ｇ）を得る。

【０００９】製造例１−（１）と同様にして下記の製造
例１−（２）〜製造例１−（４）の化合物を得る。製造例１−（２） ７−［２−（２−ホルミルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（イソプロポキシイミノ）アセトアミド］−
３−ビニル−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニル
メチルエステル（シン異性体） 製造例１−（３） ７−［２−（２−ホルミルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（イソブトキシイミノ）アセトアミド］−３
−ビニル−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステル（シン異性体） 製造例１−（４） ７−［２−（２−ホルミルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（メチルチオメチルオキシイミノ）アセトア
ミド］−３−ビニル−３−セフェム−４−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステル（シン異性体）

【００１０】製造例２−（１） ７−［２−（２−ホルミルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（プロポキシイミノ）アセトアミド］−３−
ビニル−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチ
ルエステル（シン異性体）（１８．５ｇ）のメタノール
（１１８ｍｌ）およびテトラヒドロフラン（５５ｍｌ）
の混合物溶液に、濃塩酸（６．１０ｍｌ）を２５℃で滴
下する。混合物を３３℃に加温し、３０〜３５℃で１．
５時間攪拌する。混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液中
に注ぐ。得られた沈殿を濾取し、水で洗浄し、減圧下で
乾燥し、７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（プロポキシイミノ）アセトアミド］−３−
ビニル−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチ
ルエステル（シン異性体）（１６．９ｇ）を得る。 製造例２−（１）と同様にして下記の製造例２−（２）
〜２−（４）の化合物を得る。製造例２−（２） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（イソプロポキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル
−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエス
テル（シン異性体） 製造例２−（３） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（イソブトキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−
３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステ
ル（シン異性体）

【００１１】製造例２−（４） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（メチルチオメチルオキシイミノ）アセトアミド］−３
−ビニル−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステル（シン異性体） 製造例３−（１） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（プロポキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−３
−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル
（シン異性体）（１６．７ｇ）の塩化メチレン（５１ｍ
ｌ）およびアニソール（１７ｍｌ）の混合物溶液に、ト
リフルオロ酢酸（３４ｍｌ）を５℃で加え、混合物を２
〜５℃で１時間攪拌する。混合物をジイソプロピルエー
テル（５００ｍｌ）中に注ぐ。得られた沈殿を濾取し、
ジイソプロピルエーテルで洗浄し、乾燥する。混合物を
炭酸水素ナトリウム飽和水溶液でｐＨ７に調整し、冷
水、酢酸エチルおよびテトラヒドロフランの混合物に溶
解する。分取した水層の有機溶媒を減圧下に留去する。
水溶液を６Ｎ塩酸でｐＨ３．８に調整し、得られた沈殿
を瀘取し、水で洗浄し、乾燥して、７−［２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−２−（プロポキシイミ
ノ）アセトアミド］−３−ビニル−３−セフェム−４−
カルボン酸（シン異性体）（５．４３ｇ）を得る。 製造例３−（１）と同様にして下記の製造例３−（２）
〜３−（４）の化合物を得る。

【００１２】製造例３−（２） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（イソプロポキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル
−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体 製造例３−（３） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（イソブトキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−
３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体） 製造例３−（４） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（メチルチオメチルオキシイミノ）アセトアミド］−３
−ビニル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性
体）

【００１３】実施例１−（１） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（アリルオキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−
３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）（５００
ｍｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（５ｍｌ）溶液
に炭酸カリウム（８４ｍｇ）を加え、得られた混合物を
室温で３０分間攪拌し、透明な液を得る。その溶液にピ
バル酸ヨードメチル（３２０ｍｇ）を氷冷下で加え、混
合物を氷冷下で４０分間攪拌する。混合物を氷水中に注
ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水（３回）および
飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
下で濃縮し、ジイソプロピルエーテルで粉砕して、７−
［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（ア
リルオキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−３−
セフェム−４−カルボン酸ピバロイルオキシメチルエス
テル（シン異性体）を得る。 実施例１−（１）と同様にして下記の実施例１−（２）
〜１−（１９）の化合物を得る。実施例１−（２） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（エトキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−３−
セフェム−４−カルボン酸１−メチルカルボニルオキシ
エチルエステル（シン異性体） Ｈ，ｂｓ），９．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）

【００１４】実施例１−（３） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（エトキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−３−
セフェム−４−カルボン酸１−イソプロポキシカルボニ
ルオキシエチルエステル（シン異性体） 実施例１−（４） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（エトキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−３−
セフェム−４−カルボン酸１−エトキシカルボニルオキ
シエチルエステル（シン異性体） 実施例１−（５） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（エトキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−３−
セフェム−４−カルボン酸１−シクロヘキシルオキシカ
ルボニルオキシエチルエステル（シン異性体）

【００１５】実施例１−（６） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（エトキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−３−
セフェム−４−カルボン酸（５−メチル−２−オキソ−
１，３−ジオキソール−４−イル）メチルエステル（シ
ン異性体） 実施例１−（７） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（アリルオキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−
３−セフェム−４−カルボン酸１−メチルカルボニルオ
キシエチルエステル（シン異性体） 実施例１−（８） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（アリルオキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−
３−セフェム−４−カルボン酸１−イソプロポキシカル
ボニルオキシエチルエステル（シン異性体）

【００１６】実施例１−（９） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（アリルオキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−
３−セフェム−４−カルボン酸１−エトキシカルボニル
オキシエチルエステル（シン異性体） 実施例１−（１０） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（アリルオキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−
３−セフェム−４−カルボン酸１−シクロヘキシルオキ
シカルボニルオキシエチルエステル（シン異性体） 実施例１−（１１） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（アリルオキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−
３−セフェム−４−カルボン酸（５−メチル−２−オキ
ソ−１，３−ジオキソール−４−イル）メチルエステル
（シン異性体）

【００１７】実施例１−（１２） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（プロポキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−３
−セフェム−４−カルボン酸１−メチルカルボニルオキ
シエチルエステル（シン異性体） 実施例１−（１３） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（プロポキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−３
−セフェム−４−カルボン酸１−エトキシカルボニルオ
キシエチルエステル（シン異性体） 実施例１−（１４） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（イソプロポキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル
−３−セフェム−４−カルボン酸第三級ブチルカルボニ
ルオキシメチルエステル（シン異性体）

【００１８】実施例１−（１５） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（イソブトキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−
３−セフェム−４−カルボン酸第三級ブチルカルボニル
オキシメチルエステル（シン異性体） 実施例１−（１６） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（メチルチオメチルオキシイミノ）アセトアミド］−３
−ビニル−３−セフェム−４−カルボン酸第三級ブチル
カルボニルオキシメチルエステル（シン異性体） 実施例１−（１７） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（プロポキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−３
−セフェム−４−カルボン酸第三級ブチルカルボニルオ
キシメチルエステル（シン異性体） 実施例１−（１８） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（アリルオキシイミノ）アセトアミド］−３−セフェム
−４−カルボン酸第三級ブチルカルボニルオキシメチル
エステル（シン異性体）

【００１９】実施例１−（１９） ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（プロポキシイミノ）アセトアミド］−３−セフェム−
４−カルボン酸第三級ブチルカルボニルオキシメチルエ
ステル（シン異性体）

【００２０】実施例２ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（アリルオキシイミノ）アセトアミド］−３−ビニル−
３−セフェム−４−カルボン酸第三級ブチルカルボニル
オキシメチルエステル（シン異性体）（４７４ｍｇ）を
４Ｎ塩酸で処理して、７−［２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−２−（アリルオキシイミノ）アセトア
ミド］−３−ビニル−３−セフェム−４−カルボン酸第
三級ブチルカルボニルオキシメチルエステル塩酸塩（シ
ン異性体）（４４１ｍｇ）を得る。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】式： ［式中、Ｒ^１はアミノ基または保護されたアミノ基、Ｒ
   ^２は低級アルキル基、低級アルケニル基または低級アル
   キルチオ低級アルキル基、Ｒ^３は水素または低級アルケ
   ニル基、Ｒ^４は （式中、Ｒ^５は水素または低級アルキル基、Ｒ^６は低級
   アルキル基、低級アルコキシ基またはシクロ低級アルコ
   キシ基）、または （式中、Ｒ^７は低級アルキル基）、 但し、（ｉ）Ｒ^２がメチル基かつＲ^３が水素の場合、Ｒ
   ^６はシクロ低級アルコキシ基である。（ｉｉ）Ｒ^２がメ
   チル基かつＲ^３が低級アルケニル基の場合、Ｒ^６は低級
   アルキル基ではない。 （ｉｉｉ）Ｒ^２がエチル基かつＲ^３が低級アルケニル基
   の場合、Ｒ^６は第三級ブチル基ではない。］で示される
   新規セフェム化合物およびその塩。