JPH0617233U - チップボンディング装置におけるワーク吸着部 - Google Patents
チップボンディング装置におけるワーク吸着部Info
- Publication number
- JPH0617233U JPH0617233U JP061048U JP6104892U JPH0617233U JP H0617233 U JPH0617233 U JP H0617233U JP 061048 U JP061048 U JP 061048U JP 6104892 U JP6104892 U JP 6104892U JP H0617233 U JPH0617233 U JP H0617233U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- suction
- work
- chip
- pick
- place
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
- Die Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】本考案は次の構成を有するピックアンドプレー
ス及びチップステージ等に用いられるワーク吸着部であ
る。ワーク吸着部の吸着プレートに、通気性ある焼結
材等の多孔質材を用いている。 吸着プレートのワーク吸着面側が通気性ある超硬質薄
膜にてコーティングされている。 【効果】本考案は如上のように構成されるため次のよう
な効果を発揮する。 吸着穴でのワークの吸着の場合に生ずる吸引の際のワ
ークの位置ずれが生じずボンディング精度を上げること
が可能となった。 吸着プレート全面での吸着が可能であり、ワーク吸着
部に供給されるエアー吸入量に余裕があれば、大から小
までのワークの吸着が可能である。 そのためワーク毎に吸着プレートを取替える必要がな
く専用部品の削減が図れることとなった。 吸着プレートのワーク吸着面を通気性ある超硬質薄膜
にてコーティングしたため、耐磨耗性が向上し、常に高
い面精度を確保することが可能となった。
ス及びチップステージ等に用いられるワーク吸着部であ
る。ワーク吸着部の吸着プレートに、通気性ある焼結
材等の多孔質材を用いている。 吸着プレートのワーク吸着面側が通気性ある超硬質薄
膜にてコーティングされている。 【効果】本考案は如上のように構成されるため次のよう
な効果を発揮する。 吸着穴でのワークの吸着の場合に生ずる吸引の際のワ
ークの位置ずれが生じずボンディング精度を上げること
が可能となった。 吸着プレート全面での吸着が可能であり、ワーク吸着
部に供給されるエアー吸入量に余裕があれば、大から小
までのワークの吸着が可能である。 そのためワーク毎に吸着プレートを取替える必要がな
く専用部品の削減が図れることとなった。 吸着プレートのワーク吸着面を通気性ある超硬質薄膜
にてコーティングしたため、耐磨耗性が向上し、常に高
い面精度を確保することが可能となった。
Description
【0001】
本考案は回路基板にチップをボンディングするチップボンディング装置におけ るピックアンドプレース(チップ供給機構)及びチップステージ(チップ載置台 )等で利用されるバキュームによるワーク保持を目的とするワーク吸着部の改良 に関するものである。
【0002】
チップボンディング装置は、ボンディング時にチップが載置されるチップステ ージと、チップを摘み上げてチップステージ上にチップを移動供給するピックア ンドプレースと、チップを回路基板にボンディングするボンディング部とを主要 部とするものである。そして、チップステージもピックアンドプレースも共にワ ークであるチップを外部吸引装置によるバキュームで吸着保持するためワーク吸 着部を有するものである。
【0003】 従来、ピックアンドプレース及びチップステージにおけるワーク吸着部は、ワ ークが当接し保持されるワーク吸着面に、単数若しくは複数個の吸着穴を、ワー クの大きさや形状に合致させて穿設し、該吸着穴に対し外部吸引装置より与えら れるバキューム力(負圧)により、ワークを吸着するものであった。尚、図3は 従来のピックアンドプレース1のワーク吸着部6とワーク5との関係を示す斜視 図である。
【0004】 しかし、ワーク吸着面3に吸着穴4を設け、該吸着穴4へのバキューム力でワ ーク5を保持する手段では、異なるサイズや形状のワーク5に対して吸着不可能 な場合が生ずる。又、吸着穴4の位置によっては吸引の際、ワーク5が位置ずれ を起こす危険があった。
【0005】 そこで、ワーク5の大きさや形状によりピックアンドプレース1の吸着部6の 取替えが必要とされた。かように従来のピックアンドプレースにおけるワーク吸 着部6は互換性及び兼用性が低いものであった。この事はピックアンドプレース 1の吸着部6だけでなくチップステージ2の吸着部7にもいえることである。
【0006】
そこで本考案は、チップボンディング装置におけるピックアンドプレースやチ ップステージ等のワーク吸着部を改良することにより、ワークの大きさや形状に 左右されることなく吸着保持可能であり、且、優れた耐磨耗性により吸着面の面 精度の向上に役立つチップボンディング装置におけるワーク吸着部を提供するこ とを目的とする。
【0007】
本考案は上記課題を解決するために、チップボンディング装置におけるピック アンドプレース及びチップステージ等に用いられるバキュームによるワーク吸着 部の吸着プレートに、通気性ある焼結材等の多孔質材を用い、該ワーク吸着部の ワーク吸着面側が通気性ある超硬質薄膜にてコーティングされたことを特徴とす るチップボンディング装置におけるワーク吸着部を提供せんとするものである。
【0008】
以下図示の実施例に従い説明する。 図1は、本考案に係るチップボンディング装置のピックアンドプレース1のワ ーク吸着部6とチップステージ2のワーク吸着部7を示す断面図であり、図2は ピックアンドプレースにおけるワーク吸着部6の拡大断面図である。
【0009】 図中1はチップボンディング装置におけるピックアンドプレースで、2はチッ プステージである。ピックアンドプレース1及びチップステージ2の基本的構成 は、吸着部の構成を除き従来の各装置と同様である。
【0010】 ピックアンドプレース1のワーク吸着部6は、ピックアンドプレース本体8内 に吸引流路12が形成され、該本体8の下端部で吸引流路12の端部に吸着プレ ート11が装着されたものである。又、チップステージ2のワーク吸着部7も、 ステージ本体9上部に向かって吸引流路12’が形成され、ステージ本体9上端 部で吸引流路12’の端部に吸着プレート11’が装着されたものである。
【0011】 両吸着プレート11、11’には、通気性ある焼結材等の多孔質材料を用いる 。実施例では、開口部の大きさが100ミクロンで表面積の15パーセントの開 口率を有するステンレスの球状焼結体が用いられている。
【0012】 両吸着プレート11、11’は、ワーク吸着面3(ワーク5が当接する面の 側)に通気性を有する超硬質薄膜10、10’がコーティングされている。実施 例における超硬質薄膜10、10’はダイヤモンドやセラミックを主成分とする 5ミクロン程度の通気性ある薄膜である。
【0013】
本考案では、外部吸引装置により吸引されるとピックアンドプレース1及びチ ップステージ2の吸引流路12、12’内が図中の矢印の方向にバキュームされ る。バキュームによる吸引通路12、12’内の負圧は、吸引プレート11、1 1’の多孔質材の空孔を通りながら吸引プレート11、11’表面へ伝わり、吸 着面全体に均一な吸着力を与えることとなる。尚、吸着面には超硬質薄膜10、 10’が存在するが通気性を有するため吸着力に影響を与えない。
【0014】
本考案は如上のように構成されるため次のような効果を発揮する。 ワーク吸着部6、7の吸着プレート11、11’を通気性のある多孔質材で構 成したため、吸着穴4でのワーク5の吸着の場合に生ずる吸引の際のワークの位 置ずれが生じずボンディング精度を上げることが可能となった。
【0015】 ワーク吸着部6、7の吸着プレート11、11’が多孔質材のため、吸着プレ ート11、11’全面での吸着が可能であり、ワーク吸着部6、7に供給される エアー吸入量に余裕があれば、大から小までのワーク5の吸着が可能である。そ のためワーク5毎に吸着プレート11、11’を取替える必要がなく専用部品の 削減が図れることとなった。
【0016】 ワーク吸着部6、7の吸着プレート11、11’のワーク吸着面3(ワーク当 接面側)を通気性ある超硬質薄膜10にてコーティングしたため、ワーク吸着面 3の耐磨耗性が向上し、常に高い面精度を確保することが可能となった。
【図1】本考案に用いられるワーク吸着部の部分断面図
【図2】ピックアンドプレースのワーク吸着部の断面図
【図3】従来のピックアンドプレースの吸着部の斜視図
1.....ピックアンドプレース 2.....チップステージ 3.....ワーク吸着面 6、7...ワーク吸着部 8.....ピックアンドプレース本体 9.....チップステージ本体 10、10’.超硬質薄膜 11、11’.吸着プレート 12、12’.吸引流路
Claims (1)
- 【請求項1】チップボンディング装置におけるピックア
ンドプレース及びチップステージ等に用いられるバキュ
ームによるワーク吸着部の吸着プレートに、通気性ある
焼結材等の多孔質材を用い、該吸着プレートのワーク吸
着面側が通気性ある超硬質薄膜にてコーティングされた
ことを特徴とするチップボンディング装置におけるワー
ク吸着部。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992061048U JP2585298Y2 (ja) | 1992-08-06 | 1992-08-06 | チップボンディング装置におけるワーク吸着部 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992061048U JP2585298Y2 (ja) | 1992-08-06 | 1992-08-06 | チップボンディング装置におけるワーク吸着部 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0617233U true JPH0617233U (ja) | 1994-03-04 |
| JP2585298Y2 JP2585298Y2 (ja) | 1998-11-18 |
Family
ID=13159958
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1992061048U Expired - Fee Related JP2585298Y2 (ja) | 1992-08-06 | 1992-08-06 | チップボンディング装置におけるワーク吸着部 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2585298Y2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000021952A (ja) * | 1998-04-27 | 2000-01-21 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェ―ハの平面加工装置 |
| JP2002231745A (ja) * | 2001-01-30 | 2002-08-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | バンプボンディング装置 |
| JP2003218184A (ja) * | 2002-01-18 | 2003-07-31 | Yokogawa Electric Corp | デバイス搬送方法及びデバイスハンドラ |
| JP2004087677A (ja) * | 2002-08-26 | 2004-03-18 | Nitto Denko Corp | コレットおよびそれを用いてチップ部品をピックアップする方法 |
| JP2007042684A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-15 | Oiles Ind Co Ltd | コレット |
| JP2008085354A (ja) * | 2007-10-22 | 2008-04-10 | Toshiba Corp | 半導体製造装置 |
| KR20210005442A (ko) * | 2019-07-05 | 2021-01-14 | 세메스 주식회사 | 범프 접합부 특성 분석 장치 및 범프 접합부 특성 분석 방법 |
-
1992
- 1992-08-06 JP JP1992061048U patent/JP2585298Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000021952A (ja) * | 1998-04-27 | 2000-01-21 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェ―ハの平面加工装置 |
| JP2002231745A (ja) * | 2001-01-30 | 2002-08-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | バンプボンディング装置 |
| JP2003218184A (ja) * | 2002-01-18 | 2003-07-31 | Yokogawa Electric Corp | デバイス搬送方法及びデバイスハンドラ |
| JP2004087677A (ja) * | 2002-08-26 | 2004-03-18 | Nitto Denko Corp | コレットおよびそれを用いてチップ部品をピックアップする方法 |
| JP2007042684A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-15 | Oiles Ind Co Ltd | コレット |
| JP2008085354A (ja) * | 2007-10-22 | 2008-04-10 | Toshiba Corp | 半導体製造装置 |
| KR20210005442A (ko) * | 2019-07-05 | 2021-01-14 | 세메스 주식회사 | 범프 접합부 특성 분석 장치 및 범프 접합부 특성 분석 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2585298Y2 (ja) | 1998-11-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2001282126A5 (ja) | ||
| CN104137247A (zh) | 非接触吸盘 | |
| JP2534196B2 (ja) | ウエ−ハ貼付方法 | |
| JP2585298Y2 (ja) | チップボンディング装置におけるワーク吸着部 | |
| JP2008227125A (ja) | 真空吸着装置及びそれを用いた吸着方法 | |
| JPS63312035A (ja) | 薄板保持装置 | |
| JP2693720B2 (ja) | 真空チャックにおける被吸着物の吸着方法 | |
| JPH02139148A (ja) | 真空吸着テーブル | |
| JPH08210354A (ja) | ロッド、軸受け、実装機の真空吸着装置 | |
| JP2005028506A (ja) | 真空チャック | |
| JP2021115677A (ja) | パッドユニット、真空チャック装置及びワーク搬送装置 | |
| JP2002144270A (ja) | 吸着ジグ及び被搬送物の搬送方法 | |
| JP2020172013A (ja) | 吸着治具 | |
| JPS63216355A (ja) | ホルダ | |
| JP3878816B2 (ja) | 電子部品吸着用の吸着ヘッドおよび電子部品実装装置 | |
| JP3331283B2 (ja) | 実装機の真空吸着装置及び静圧軸受け | |
| JPS63312036A (ja) | 吸着保持方法 | |
| JP2002158496A (ja) | 部品実装方法、そのために用いて好適な吸着ノズル及び部品実装装置 | |
| JPH04109887U (ja) | 吸着パツド | |
| JPH03232640A (ja) | 吸着装置 | |
| JPS61241088A (ja) | 真空吸着装置 | |
| JP4629218B2 (ja) | 導電性ボールの吸引配列装置及び吸引配列方法 | |
| JP2001088075A (ja) | 電子部品吸着用ノズル | |
| CN223177952U (zh) | 一种网格吸盘 | |
| JPH0221229Y2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |