JPH0617284Y2 - マイクロ波プラズマ処理装置 - Google Patents
マイクロ波プラズマ処理装置Info
- Publication number
- JPH0617284Y2 JPH0617284Y2 JP14662288U JP14662288U JPH0617284Y2 JP H0617284 Y2 JPH0617284 Y2 JP H0617284Y2 JP 14662288 U JP14662288 U JP 14662288U JP 14662288 U JP14662288 U JP 14662288U JP H0617284 Y2 JPH0617284 Y2 JP H0617284Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circular waveguide
- generation chamber
- microwaves
- plasma
- plasma generation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案はマイクロ波プラズマ処理装置に係り、特に半導
体デバイスや光学用部品等を製造するのに好適なマイク
ロ波プラズマ処理装置に関するものである。
体デバイスや光学用部品等を製造するのに好適なマイク
ロ波プラズマ処理装置に関するものである。
従来の装置は、特開昭６３−７２１２３号公報や、特開
昭６３−７２１２４号公報に記載のようにマイクロ波導
波管内に金属製の移相器を設けたり、導波管の一部を突
起させたりして、処理速度の向上と処理むらの解消を図
っている。
昭６３−７２１２４号公報に記載のようにマイクロ波導
波管内に金属製の移相器を設けたり、導波管の一部を突
起させたりして、処理速度の向上と処理むらの解消を図
っている。
また、特開昭６３−７３６２４号公報に記載のように試
料の被処理面と対応するベルジャーの誘電率分布を調整
することにより、プラズマ密度の均質化を行ない、処理
の均一性を向上していた。
料の被処理面と対応するベルジャーの誘電率分布を調整
することにより、プラズマ密度の均質化を行ない、処理
の均一性を向上していた。
上記従来技術で、特開昭６３−７２１２３号公報や昭６
３−７２１２４号公報に記載される技術はマイクロ波の
伝播の対象性が考慮されておらず、このため処理条件が
変化する毎に、移相器やそれに相当するものを変化させ
ることが必要である。
３−７２１２４号公報に記載される技術はマイクロ波の
伝播の対象性が考慮されておらず、このため処理条件が
変化する毎に、移相器やそれに相当するものを変化させ
ることが必要である。
また特開昭６３−７３６２４号公報では対象性は確保さ
れるものの、ベルジャー自体を加工する必要があり、加
工中におけるベルジャーの消耗による誘電率の変化を保
障し得るようになっていないという問題があった。
れるものの、ベルジャー自体を加工する必要があり、加
工中におけるベルジャーの消耗による誘電率の変化を保
障し得るようになっていないという問題があった。
本考案の目的はガスプラズマの均一化を図り、処理むら
を防止できるマイクロ波プラズマ処理装置を提供するこ
とにある。
を防止できるマイクロ波プラズマ処理装置を提供するこ
とにある。
上記目的は、内部に試料台を有するプラズマ発生室と、
プラズマ発生室にマイクロ波を導入する円形導波管とを
具備し、金属製の対象配置された複数の仕切板と該仕切
板を介して円形導波管内に同心状に配置された金属製の
円筒とから成るマイクロ波の均一なモードを発生させる
移相器を、円形導波管内でマイクロ波の進行方向に対し
てプラズマ発生室の前に設けることにより、達成され
る。
プラズマ発生室にマイクロ波を導入する円形導波管とを
具備し、金属製の対象配置された複数の仕切板と該仕切
板を介して円形導波管内に同心状に配置された金属製の
円筒とから成るマイクロ波の均一なモードを発生させる
移相器を、円形導波管内でマイクロ波の進行方向に対し
てプラズマ発生室の前に設けることにより、達成され
る。
円形導波管内のプラズマ発生室の前に設けた金属製の円
筒および複数の仕切板から成る移相器によって、円形導
波管内にマイクロ波の均一なモードが発生し、試料を処
理するためのプラズマが均一に生成され、試料の処理む
らを防止することができる。
筒および複数の仕切板から成る移相器によって、円形導
波管内にマイクロ波の均一なモードが発生し、試料を処
理するためのプラズマが均一に生成され、試料の処理む
らを防止することができる。
以下、本考案の一実施例を第１図により説明する。マイ
クロ波はマグネトロン１により発生され、矩形導波管
２，交換導波管３，円形導波管４によりプラズマ発生室
を構成するベルジャー５に導入される。ベルジャー５の
下には試料６とそれを保持する試料台７が配置され、試
料台７の周囲の隙間よりプラズマ発生室中の反応生成物
や未反応ガスなどが真空排気される。プラズマ処理用の
ガスはガス供給ノズル８によりプラズマ発生室に導入さ
れる。
クロ波はマグネトロン１により発生され、矩形導波管
２，交換導波管３，円形導波管４によりプラズマ発生室
を構成するベルジャー５に導入される。ベルジャー５の
下には試料６とそれを保持する試料台７が配置され、試
料台７の周囲の隙間よりプラズマ発生室中の反応生成物
や未反応ガスなどが真空排気される。プラズマ処理用の
ガスはガス供給ノズル８によりプラズマ発生室に導入さ
れる。
この場合、円形導波管４内に試料の最大寸法より大きな
金属製の円筒９を複数の仕切板１０によって互いに締結
して移相器を形成している。仕切板１０は、マイクロ波
の伝播方向と垂直な面内で円筒９および円形導波管４を
含めて対称に設置されており、仕切板１０の数量は、円
形導波管４および円筒９の寸法によりマイクロ波の均一
なモードが発生するように設定される。円形導波管４内
に導入されたマイクロ波は、この移相器により分割さ
れ、均一なモードのマイクロ波となってベルジャー５内
に入射し、プラズマ発生室内で均一なプラズマが形成さ
れ、試料の均一なプラズマ処理が実施できるようにな
る。
金属製の円筒９を複数の仕切板１０によって互いに締結
して移相器を形成している。仕切板１０は、マイクロ波
の伝播方向と垂直な面内で円筒９および円形導波管４を
含めて対称に設置されており、仕切板１０の数量は、円
形導波管４および円筒９の寸法によりマイクロ波の均一
なモードが発生するように設定される。円形導波管４内
に導入されたマイクロ波は、この移相器により分割さ
れ、均一なモードのマイクロ波となってベルジャー５内
に入射し、プラズマ発生室内で均一なプラズマが形成さ
れ、試料の均一なプラズマ処理が実施できるようにな
る。
本考案によれば、均一なプラズマ処理が可能となるガス
プラズマをマイクロ波で生成できるので、プラズマ処理
の生産性を向上できる効果がある。
プラズマをマイクロ波で生成できるので、プラズマ処理
の生産性を向上できる効果がある。
第１図は本考案の一実施例を示すマイクロ波プラズマ処
理装置の縦断面斜視図である。 １……マグネトロン、２……矩形導波管、３……変換導
波管、４……円形導波管、５……ベルジャー、６……試
料、７……試料台、８……ガス供給ノズル、９……円
筒、10……仕切板
理装置の縦断面斜視図である。 １……マグネトロン、２……矩形導波管、３……変換導
波管、４……円形導波管、５……ベルジャー、６……試
料、７……試料台、８……ガス供給ノズル、９……円
筒、10……仕切板
Claims (1)
- 【請求項１】内部に試料台を有するプラズマ発生室と、
前記プラズマ発生室にマイクロ波を導入する円形導波管
とを具備し、 金属製の対象配置された複数の仕切板と前記仕切板を介
して前記円形導波管内に同心状に配置された金属製の円
筒とから成るマイクロ波の均一なモードを発生させる移
相器を、前記円形導波管内で前記マイクロ波の進行方向
に対して前記プラズマ発生室の前に設けたことを特徴と
するマイクロ波プラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14662288U JPH0617284Y2 (ja) | 1988-11-11 | 1988-11-11 | マイクロ波プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14662288U JPH0617284Y2 (ja) | 1988-11-11 | 1988-11-11 | マイクロ波プラズマ処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0267637U JPH0267637U (ja) | 1990-05-22 |
| JPH0617284Y2 true JPH0617284Y2 (ja) | 1994-05-02 |
Family
ID=31416283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14662288U Expired - Lifetime JPH0617284Y2 (ja) | 1988-11-11 | 1988-11-11 | マイクロ波プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0617284Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2607832B2 (ja) * | 1993-12-17 | 1997-05-07 | 株式会社日立製作所 | マイクロ波プラズマ処理方法 |
-
1988
- 1988-11-11 JP JP14662288U patent/JPH0617284Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0267637U (ja) | 1990-05-22 |
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